JP2001047362A - 両面研磨装置及び両面研磨システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 量産性と研磨精度の向上を図ることができ、
しかも、下定盤及び上定盤の偏摩耗を防止することがで
きる両面研磨装置を提供する。 【解決手段】 下定盤１と上定盤２とキャリア３と第１
のキャリア揺動機構４とを具備している。下定盤１及び
上定盤２は、それぞれ独立駆動回転可能な分割下定盤部
１０，１１及び分割上定盤部２０，２１で構成され、キ
ャリア３は、外周部に位置する１０個のワーク保持孔３
１と内周部に位置する５個のワーク保持孔３１とを有し
たキャリア本体３０と、これを保持するキャリア保持枠
３７とで構成されている。第１のキャリア揺動機構４は
クランク機構４−１，４−２を有し、キャリア保持枠３
７を保持してキャリア本体３０を８の字状に揺動させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、複数のワークの
両面を同時に精密研磨するための両面研磨装置及び両面
研磨システムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図３６は、従来の両面研磨装置の一例を
示す概略断面図であり、この両面研磨装置は、ワークＷ
の研磨（ラッピング）精度の向上を図った両面ラッピン
グ装置である。この両面研磨装置は、モータ３０１，４
０１で独立駆動回転する下定盤３００及び上定盤４００
と、ワークＷを保持したキャリア５００を揺動させるキ
ャリア揺動機構５１０とを具備している。これにより、
キャリア揺動機構５１０の揺動アーム５１１を回転させ
ることで、図３７の二点鎖線で示すように、連結部材５
１２で保持したキャリア５００の中心Ｏを８の字状に揺
動させながら、ワークＷを挟んで図３６に示す回転して
いる下定盤３００及び上定盤４００でワークＷの両面を
同時に研磨することができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の両面研磨装置では、キャリア５００の中心を大きく８
の字状に揺動させる構成であるため、次のような問題が
あった。キャリア５００を８の字状に揺動させること
で、図３８に示すように、キャリア５００に保持された
複数のワークＷも大きく８の字状に移動する。このと
き、８の字方向に位置するワークＷ１，Ｗ２は下定盤３
００及び上定盤４００の外周部から内周部を８の字状に
移動し、周速度が異なる部分によって研磨される。これ
に対して、８の字方向と略垂直方向に位置するワークＷ
３，Ｗ４は、下定盤３００及び上定盤４００の外周部の
みを移動するので、略同一周速度の部分によって研磨さ
れることになる。このため、ワークＷ１，Ｗ２の研磨レ
ートとワークＷ３，Ｗ４の研磨レートとが異なってしま
うという問題がある。また、従来の両面研磨装置では、
一度に研磨することができるワークＷの数が限定され、
量産性に劣っている。即ち、図３７に一点鎖線で示すよ
うに、ワークＷを収納するためのワーク保持孔５０１を
リング状に穿設してなるワーク保持孔群５０２をキャリ
ア５００に一つしか設けていないので、研磨可能なワー
クＷの数が少ない。これに対して、下定盤及び上定盤の
各中心部分の無駄を無くして量産性を高めるために、図
３９に示すように、二つのワーク保持孔群５０２，５０
３を設けることも考えられるが、下定盤３００及び上定
盤４００の内周部の周速度の方が外周部の周速度よりも
小さいので、ワーク保持孔群５０３に収納されているワ
ークＷの研磨レートがワーク保持孔群５０２に収納され
ているワークＷの研磨レートよりも劣ってしまう。この
ため、ワーク保持孔群５０２，５０３に収納したワーク
Ｗを同時に研磨することができない。さらに、図３６〜
図３８及び図３９に示す構造の両面研磨装置では、下定
盤３００及び上定盤４００の外周部と内周部とで、単位
時間当たりの摩耗量が異なるので、いわゆる偏摩耗が下
定盤３００及び上定盤４００に短時間で発生する。な
お、上記図３６〜図３８及び図３９に記載の両面研磨装
置と類似する技術が特公平７−２５０２４号公報，特許
公報第２５６２６４号，特開平４−１９０６３号公報及
び同１０−２０２５１１号公報に記載されているが、こ
れらの技術も、上記問題を解決するものではない。

【０００４】この発明は上述した課題を解決するために
なされたもので、量産性と研磨精度の向上を図ることが
でき、しかも、下定盤及び上定盤の偏摩耗を防止するこ
とができる両面研磨装置及び両面研磨システムを提供す
ることを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１の発明に係る両面研磨装置は、周方向にリ
ング状に穿設されたＮ（２以上の整数）数のワーク保持
孔でなるワーク保持孔群が、同心状にＭ（２以上の整
数）重に配設されたキャリア本体、及びこのキャリア本
体の外縁部を保持したキャリア保持枠を有してなるキャ
リアと、Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワーク保持孔
群の下側に配され且つ各々が独立に駆動回転可能なＭ重
の分割下定盤部を有してなる下定盤と、Ｍ重のワーク保
持孔群に対応してワーク保持孔群の上側に配され且つ各
々が独立に駆動回転可能なＭ重の分割上定盤部を有して
なる上定盤と、キャリアのキャリア保持枠を保持して、
ワーク保持孔内の各ワークが当該ワークを上下から挟む
分割上定盤部及び分割下定盤部の範囲内において略８の
字状に揺動するように、キャリア本体を揺動させる第１
のキャリア揺動機構とを具備する構成とした。かかる構
成により、キャリアで保持されたワークを下定盤と上定
盤とで挟み、下定盤と上定盤とを回転させることで、下
定盤及び上定盤の外周部だけに位置するワークだけでな
く、内周部側に位置する多数のワークを一度に研磨する
ことができる。このとき、下定盤のＭ重の分割下定盤部
の周速度が全て同一になるように、Ｍ重の分割下定盤部
を独立駆動回転させると共に、上定盤のＭ重の分割上定
盤部の周速度も全て同一になるように、Ｍ重の分割上定
盤部を独立駆動回転させることで、Ｍ重のワーク保持孔
群に保持されたワークの研磨レートを全て同一にするこ
とができる。さらに、第１のキャリア揺動機構を用い
て、各ワークが当該ワークを上下から挟む分割上定盤部
及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に揺動す
るように、キャリア本体を揺動させることができ、これ
により、全てのワークを同一周速度の分割下定盤部及び
分割上定盤部によって研磨することができる。さらに、
ワーク保持孔群に保持されたワークと分割下定盤部及び
分割上定盤部との摺接時間がＭ重の分割下定盤部及び分
割上定盤部のすべてにおいて同一になるように、Ｍ重の
分割下定盤部及び分割上定盤部の周速度を設定すること
で、Ｍ重の分割下定盤部及び分割上定盤部に全てにおい
て単位時間当たりの摩耗量を同一にすることができる。

【０００６】また、請求項２の発明は、請求項１に記載
の両面研磨装置において、キャリアのキャリア保持枠
を、キャリア本体が回転できるようにキャリア本体の外
縁部を保持する構造にすると共に、キャリア本体を回転
させるキャリア回転機構を設けた構成としてある。かか
る構成により、キャリア回転機構によってキャリアを回
転させると、ワークもキャリアと一体に回転させること
ができるので、一つのワーク保持孔群に保持された全て
のワークの研磨レートをほぼ均一にすることができる。

【０００７】さらに、請求項３の発明は、請求項１また
は請求項２に記載の両面研磨装置において、ワーク保持
孔内の各ワークを、当該ワークを上下から挟む分割上定
盤部及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に揺
動させ、且つ当該略８の字状の揺動を第１のキャリア揺
動機構による略８の字状の揺動に対して略垂直に行う第
２のキャリア揺動機構を設けた構成としてある。かかる
構成により、第２のキャリア揺動機構によって、ワーク
の略８の字状の揺動方向を第１のキャリア揺動機構によ
る略８の字状の揺動方向に対して略垂直にすることがで
きるので、一つのワーク保持孔群に保持された全てのワ
ークの研磨レートをほぼ均一にすることができると共
に、ワークの位置決めを容易に行うことができる。

【０００８】ところで、キャリア本体のワーク保持孔群
の重なり数Ｍ及び各ワーク保持孔群をなすワーク保持孔
の数Ｎは、適宜設定することができる。そこで、その一
例として、請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３
のいずれかに記載の両面研磨装置において、キャリア本
体のワーク保持孔群の重なり数Ｍを２に設定し、当該２
つのワーク保持孔群のうちの外周側のワーク保持孔群を
なすワーク保持孔の数Ｎと内周側のワーク保持孔群をな
すワーク保持孔の数Ｎとの比を、略２：１に設定した構
成としてある。

【０００９】また、請求項５の発明は、請求項１ないし
請求項４のいずれかに記載の両面研磨装置において、上
定盤のＭ重の分割上定盤部をそれぞれ独立に下定盤側に
押圧可能なＭ重の押圧機構を設けた構成としてある。

【００１０】また、上記両面研磨装置を利用して、ワー
クの搬入，研磨，搬出を自動化したシステムも発明とし
て成立しうる。そこで、請求項６の発明は、周方向にリ
ング状に穿設されたＮ（２以上の整数）数のワーク保持
孔でなるワーク保持孔群が同心状にＭ（２以上の整数）
重に配設されたキャリア本体、及びこのキャリア本体の
外縁部を保持したキャリア保持枠を有してなるキャリア
と、Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワーク保持孔群の
下側に配され且つ各々が独立に駆動回転可能なＭ重の分
割下定盤部を有してなる下定盤と、Ｍ重のワーク保持孔
群に対応してワーク保持孔群の上側に配され且つ各々が
独立に駆動回転可能なＭ重の分割上定盤部を有してなる
上定盤と、キャリアのキャリア保持枠を保持して、ワー
ク保持孔内の各ワークが当該ワークを上下から挟む分割
上定盤部及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状
に揺動するように、キャリア本体を揺動させる第１のキ
ャリア揺動機構とを有した両面研磨装置を具備する両面
研磨システムであって、キャリア本体のワーク保持孔に
対応して周方向にリング状に配設されたＮ数のチャック
でなるチャック群をＭ重に有し、チャックで保持した未
研磨のワークをキャリア本体のワーク保持孔内に搬入す
るためのローダと、キャリア本体のワーク保持孔に対応
して周方向にリング状に配設されたＮ数のチャックでな
るチャック群をＭ重に有し、チャックでキャリア本体の
ワーク保持孔内の既研磨ワークを保持して搬出するアン
ローダと、両面研磨装置の研磨作業終了時に、第１のキ
ャリア揺動機構を制御して、キャリア本体を研磨作業開
始時の位置にリセットする制御装置とを備える構成とし
た。かかる構成により、両面研磨装置によるワークの研
磨作業が終了すると、制御装置によって、キャリア本体
が研磨作業開始時の位置にリセットされ、既研磨ワーク
を保持したワーク保持孔に位置が研磨作業開始時の位置
に戻る。この結果、アンローダが、チャックの位置を調
整することなく、そのチャックによってワーク保持孔内
の既研磨ワークを保持して搬出することができ、また、
ローダも、チャックの位置を調整することなく、そのチ
ャックで保持した未研磨のワークをキャリア本体のワー
ク保持孔に搬入することができる。

【００１１】特に、請求項７の発明は、請求項６に記載
の両面研磨システムにおいて、制御装置は、第１のキャ
リア揺動機構を制御することにより、研磨作業残り時間
が略８の字状揺動の一周期時間よりも短くなった時点
で、残り時間の半分の時間だけ継続してキャリア本体を
揺動させた後、キャリア本体を略８の字状の軌跡に沿っ
て研磨作業開始時の位置に戻すものである構成とした。

【００１２】また、上記両面研磨システムにおいて、請
求項３に記載の両面研磨装置をも適用することができ
る。そこで、請求項８の発明は、請求項６に記載の両面
研磨システムにおいて、両面研磨装置は、ワーク保持孔
内の各ワークを、当該ワークを上下から挟む分割上定盤
部及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に揺動
させ、且つ当該略８の字状の揺動を第１のキャリア揺動
機構による略８の字状の揺動に対して略垂直に行う第２
のキャリア揺動機構を有し、制御装置は、両面研磨装置
の研磨作業終了時に、第１及び第２のキャリア揺動機構
のいずれかを制御して、キャリア本体を研磨作業開始時
の位置にリセットするものである構成とした。

【００１３】さらに、上記両面研磨システムに、請求項
２に記載の両面研磨装置を適用することができる。そこ
で、請求項９の発明は、請求項６に記載の両面研磨シス
テムにおいて、両面研磨装置におけるキャリア本体の各
ワーク保持孔群を構成するＮ数のワーク保持孔を、キャ
リア本体の中心に関して点対称に配し、キャリア保持枠
を、キャリア本体が回転できるようにキャリア本体の外
縁部を保持する構造にすると共に、キャリア本体を回転
させるキャリア回転機構を設け、制御装置を、両面研磨
装置の研磨作業終了時に、第１のキャリア揺動機構を制
御して、キャリア本体を研磨作業開始時の位置にリセッ
トさせると共に、最内周のワーク保持孔群を構成するワ
ーク保持孔の数Ｎで３６０゜を除した角度の整数倍であ
って且つキャリア本体の回転角度に最も近い角度までキ
ャリア本体を回転させることができる構成とした。かか
る構成の場合にも、制御装置によって、両面研磨装置の
研磨作業終了時に、キャリア本体が研磨作業開始時の位
置にリセットされるが、キャリア回転機構によってキャ
リア本体のキャリア保持孔の位置が研磨作業開始時の位
置から周方向にずれている可能性が高い。しかし、制御
装置が、研磨作業終了時に、最内周のワーク保持孔群を
構成するワーク保持孔の数Ｎで３６０゜を除した角度の
整数倍であって且つキャリア本体の回転角度に最も近い
角度までキャリア本体を回転させる。そして、キャリア
本体の各ワーク保持孔群を構成するＮ数のワーク保持孔
が、キャリア本体の中心に関して点対称に配されている
ので、研磨終了時のワーク保持孔の位置が研磨開始時の
位置と対応することとなる。この結果、アンローダが、
チャックの位置を調整することなく、そのチャックによ
ってワーク保持孔内の既研磨ワークを保持して搬出する
ことができ、また、ローダも、チャックの位置を調整す
ることなく、そのチャックで保持した未研磨のワークを
キャリア本体のワーク保持孔に搬入することができるこ
ととなる。

【００１４】また、かかるシステムにおいても、請求項
３の両面研磨装置を適用することができる。そこで、請
求項１０の発明は、請求項８に記載の両面研磨システム
において、両面研磨装置におけるキャリア本体の各ワー
ク保持孔群を構成するＮ数のワーク保持孔を、キャリア
本体の中心に関して点対称に配し、キャリア保持枠を、
キャリア本体が回転できるようにキャリア本体の外縁部
を保持する構造にすると共に、キャリア本体を回転させ
るキャリア回転機構を設け、制御装置を、両面研磨装置
の研磨作業終了時に、第１及び第２のキャリア揺動機構
のいずれかを制御して、キャリア本体を研磨作業開始時
の位置にリセットさせると共に、最内周のワーク保持孔
群を構成するワーク保持孔の数Ｎで３６０゜を除した角
度の整数倍であって且つキャリア本体の回転角度に最も
近い角度までキャリア本体を回転させることができる構
成とした。

【００１５】上記両面研磨システムでは、研磨作業終了
時のキャリア本体のワーク保持孔の位置を開始時の位置
の対応させることができる構成としてが、研磨終了時に
おけるワーク保持孔の位置は調整せずに、ローダ及びア
ンローダのチャックの位置をワーク保持孔の位置に対応
させる構成とした技術も発明として成立し得る。そこ
で、請求項１１の発明は、周方向にリング状に穿設され
たＮ（２以上の整数）数のワーク保持孔でなるワーク保
持孔群が同心状にＭ（２以上の整数）重に配設されたキ
ャリア本体、及びこのキャリア本体の外縁部を保持した
キャリア保持枠を有してなるキャリアと、Ｍ重のワーク
保持孔群に対応してワーク保持孔群の下側に配され且つ
各々が独立に駆動回転可能なＭ重の分割下定盤部を有し
てなる下定盤と、Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワー
ク保持孔群の上側に配され且つ各々が独立に駆動回転可
能なＭ重の分割上定盤部を有してなる上定盤と、キャリ
アのキャリア保持枠を保持して、ワーク保持孔内の各ワ
ークが当該ワークを上下から挟む分割上定盤部及び分割
下定盤部の範囲内において略８の字状に揺動するよう
に、キャリア本体を揺動させる第１のキャリア揺動機構
とを有した両面研磨装置を具備する両面研磨システムで
あって、キャリア本体のワーク保持孔に対応して周方向
にリング状に配設されたＮ数のチャックでなるチャック
群をＭ重に有し、チャックで保持した未研磨のワークを
キャリア本体のワーク保持孔内に搬入するためのローダ
と、キャリア本体のワーク保持孔に対応して周方向にリ
ング状に配設されたＮ数のチャックでなるチャック群を
Ｍ重に有し、チャックでキャリア本体のワーク保持孔内
の既研磨ワークを保持して搬出するアンローダと、ロー
ダを両面研磨装置のキャリア本体と平行な面内で移動さ
せることができる第１のＸ−Ｙ移動機構と、アンローダ
を両面研磨装置のキャリア本体と平行な面内で移動させ
ることができる第２のＸ−Ｙ移動機構と、両面研磨装置
の研磨作業終了時に、第１のＸ−Ｙ移動機構を制御し
て、ローダのＭ重のチャック群の中心位置が両面研磨装
置のキャリア本体の中心位置に略一致するように、ロー
ダを移動させると共に、第２のＸ−Ｙ移動機構を制御し
て、アンローダのＭ重のチャック群の中心位置がキャリ
ア本体の中心位置に略一致するように、アンローダを移
動させる制御装置とを備える構成とした。かかる構成に
より、両面研磨装置による研磨作業が終了すると、制御
装置が、アンローダのＭ重のチャック群の中心位置がキ
ャリア本体の中心位置に略一致するように、アンローダ
を移動させるので、アンローダは、チャックの位置を周
方向に調整することなく、そのチャックによって、ワー
ク保持孔内の既研磨のワークを保持して搬出することが
できる。また、ローダにおいても、Ｍ重のチャック群の
中心位置がキャリア本体の中心位置に略一致するよう
に、ローダを移動させるので、ローダも、チャックの位
置を周方向に調整することなく、そのチャックで保持し
た未研磨のワークをワーク保持孔内に収納することがで
きる。

【００１６】また、上記のような両面研磨システムにお
いても、請求項３に記載の両面研磨装置をも適用するこ
とができる。そこで、請求項１２の発明は、請求項１１
に記載の両面研磨システムにおいて、両面研磨装置のキ
ャリア本体に形成されたワーク保持孔内の各ワークを、
当該ワークを上下から挟む分割上定盤部及び分割下定盤
部の範囲内において略８の字状に揺動させ、且つ当該略
８の字状の揺動を第１のキャリア揺動機構による略８の
字状の揺動に対して略垂直に行う第２のキャリア揺動機
構を設けた構成としてある。

【００１７】さらに、上記両面研磨システムに、請求項
２に記載の両面研磨装置を適用することができる。そこ
で、請求項１３の発明は、請求項１１または請求項１２
に記載の両面研磨システムにおいて、両面研磨装置にお
けるキャリア保持枠を、キャリア本体が回転できるよう
にキャリア本体の外縁部を保持する構造にすると共に、
キャリア本体を回転させるキャリア回転機構を設け、ロ
ーダ及びアンローダに、Ｍ重のチャック群をその中心周
りで一体に回転させることができるチャック回転機構を
それぞれ設け、制御装置を、両面研磨装置の研磨作業終
了時に、第１及び第２のＸ−Ｙ移動機構を制御して、ロ
ーダ及びアンローダのそれぞれに設けられたＭ重のチャ
ック群の中心位置が両面研磨装置のキャリア本体の中心
位置に略一致するように、ローダ及びアンローダをそれ
ぞれ移動させると共に、これらローダ及びアンローダの
各チャック回転機構を制御して、各装置のチャック群を
キャリア本体の回転角度に対応した角度まで回転させる
構成とした。かかる構成の場合にも、制御装置によっ
て、両面研磨装置の研磨作業終了時に、ローダ及びアン
ローダのチャックの中心位置がキャリア本体の中心位置
に略一致するように、ローダ及びアンローダが移動させ
られるが、キャリア本体のキャリア保持孔の位置がキャ
リア回転機構によって研磨作業開始時の位置から周方向
にずれている可能性が高い。しかし、制御装置が、ロー
ダ及びアンローダのチャック群をキャリア本体の回転角
度に対応した角度まで回転させるので、チャックの位置
が研磨終了時のワーク保持孔の位置と対応することとな
る。この結果、アンローダが、そのチャックによってワ
ーク保持孔内の既研磨ワークを保持して搬出することが
でき、また、ローダも、そのチャックで保持した未研磨
のワークをキャリア本体のワーク保持孔に搬入すること
ができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。 （第１の実施形態）図１は、この発明の第１の実施形態
に係る両面研磨装置を示す概略断面図である。この両面
研磨装置は、両面ラッピング装置であり、図１に示すよ
うに、下定盤１と上定盤２とキャリア３と第１のキャリ
ア揺動機構４とを具備している。

【００１９】下定盤１は、キャリア３で保持されたワー
クＷを載置するための盤体であり、各々が独立駆動回転
可能な２つの分割下定盤部１０，１１で構成されてい
る。具体的には、回転軸１３の周囲にベアリング１４
ａ，１５ａを介して回転自在に取り付けられた回転体１
４，１５の上面に、リング状の分割下定盤部１０，１１
が取り付けられている。そして、回転体１４，１５のギ
ア部１４ｂ，１５ｂがモータ１６，１７の回転軸に固着
されたギア１６ａ，１７ａに噛合されている。これによ
り、モータ１６，１７を独立に駆動することで、分割下
定盤部１０，１１を異なった速度で回転させることがで
きる。

【００２０】一方、上定盤２は、キャリア３で保持され
たワークＷを押圧するための盤体であり、この上定盤２
も、下定盤１と同様に、各々が独立駆動回転可能な２つ
の分割上定盤部２０，２１で構成されている。すなわ
ち、回転軸２３の周囲にベアリング２４ａ，２５ａを介
して回転自在に取り付けられた回転体２４，２５の下面
に、リング状の分割上定盤部２０，２１が取り付けら
れ、回転体２４，２５のギア部２４ｂ，２５ｂがモータ
２６，２７のギア２６ａ，２７ａに噛合されている。ま
た、分割上定盤部２０，２１の径及び幅は分割下定盤部
１０，１１の径及び幅に略等しく設定され、分割上定盤
部２０が分割下定盤部１０に対向し、分割上定盤部２１
が分割下定盤部１１に対向している。これにより、モー
タ２６，２７を独立に駆動させることで、分割上定盤部
２０，２１を異なった速度で回転させることができる。

【００２１】また、符号７，８は、上記上定盤２の分割
上定盤部２０，２１を下定盤１の分割下定盤部１０，１
１側に押圧するための第１，第２の押圧機構である。第
１の押圧機構７は、外側の分割上定盤部２０を押圧する
ための機構であり、シリンダ７０と、回転体２４を保持
した筐体７１とを有している。具体的には、シリンダ固
定板７２にシリンダ７０が固定され、シリンダ７０のピ
ストンロッド７０ａに筐体７１が吊り下げられている。
そして、モータ２６が筐体７１内に固定され、モータ２
６で回転駆動可能な回転体２４がベアリング７１ａを介
して筐体７１に回転自在に連結されている。一方、第２
の押圧機構８は、内側の分割上定盤部２１を押圧するた
めの機構であり、シリンダ８０と、後述するスライド機
構とを有している。具体的には、シリンダ固定板７２の
下面に固定され且つ筐体７１の孔７１ｂを貫通した支柱
８１の下端に、取付板８２が固着され、この取付体８２
の下面に、シリンダ８０が固定されている。そして、シ
リンダ８０のピストンロッド８０ａが回転軸２３に連結
され、モータ２７が連結部材８０ｂを介してピストンロ
ッド８０ａに固定されている。また、回転体２５を回転
体２４に対してスライドできるようにするため、スライ
ド機構が設けられている。図２は、スライド機構を示す
部分拡大断面図である。図２に示すように、スライド機
構は、ベアリング２４ａと、回転体２５に設けられたガ
イド溝８３とで構成されている。ガイド溝８３は、回転
体２５の外周面に刻設され、ベアリング２４ａは、回転
体２４の内周面に固定されている。このベアリング２４
ａの内周面には、係合部２４ｃが突設され、係合部２４
ｃがガイド溝８３内にスライド可能に嵌められている。
これにより、図１に示すシリンダ８０のピストンロッド
８０ａを伸縮させることで、回転体２４を静止させた状
態で、回転体２５を下降，上昇させることができる。そ
して、シリンダ７０のピストンロッド７０ａを伸縮させ
ることで、回転体２５を静止させた状態で、回転体２４
をベアリング２４ａと一体に下降，上昇させることがで
きる。また、図１に示すモータ２７を駆動させると、そ
の回転力が回転体２５に伝わり、係合部２４ｃがガイド
溝８３に係合して、ベアリング２４ａの内周リング２４
ｄがボール２４ｅの作用によって回転する。このとき、
回転体２４に固定されたベアリング２４ａの外周リング
２４ｆは静止状態を維持する。そして、この状態で、モ
ータ２６を駆動させると、その回転力が回転体２４に伝
わり、ボール２４ｅの作用によって、外周リング２４ｆ
が回転体２４と一体に回転する。

【００２２】また、図１において、符号９はスラリ供給
器であり、スラリＳを下定盤１と上定盤２との間に供給
するための機器である。図３はスラリ供給器９を示す部
分拡大断面図である。図３に示すように、パイプ９０が
スラリ供給器９から延出され、このパイプ９０から２つ
の供給口部９０ａ，９０ｂが分岐されている。そして、
上定盤２の回転体２４の上面であって且つ供給口部９０
ａ，９０ｂに対応した箇所に、２つのリング状の樋９
１，９２が設けられている。これら樋９１，９２内に
は、複数の孔９３，９４が穿設され、樋９１の孔９３は
上定盤２の分割上定盤部２０の下面に開口し、樋９２の
孔９４は回転体２５の上面に向かって開口している。さ
らに、回転体２５の上面であって且つ孔９４に対応する
箇所には、リング状の凹部９５が刻設されている。そし
て、凹部９５内にも複数の孔９６が穿設され、これらの
孔９６が分割上定盤部２１の下面に開口している。これ
により、スラリ供給器９から供給されたスラリＳは、パ
イプ９０の供給口部９０ａ，９０ｂから流出し、回転体
２４の樋９１，９２で受けられる。そして、樋９１内の
スラリＳは、孔９３を介して下定盤１の外周部側に供給
される。一方、樋９２内のスラリＳは、孔９４を介して
回転体２５の凹部９５内に流出し、凹部９５の孔９６を
介して下定盤１の内周部側に供給される。

【００２３】図１において、キャリア３は、キャリア本
体３０とキャリア保持枠３７とで構成されている。図４
は、キャリア３の構造を示す平面図である。キャリア本
体３０は、図４に示すように、下定盤１よりも大きめに
設定されており、その外周部には、１０個のワーク保持
孔３１でなる外周ワーク保持孔群３２（一点鎖線）を有
し、内周部には５個のワーク保持孔３１でなる内周ワー
ク保持孔群３３（二点鎖線）を有している。外周の１０
個のワーク保持孔３１はキャリア本体３０の周方向に点
対称状態でリング状に穿設されており、これらのワーク
保持孔３１で形成された外周ワーク保持孔群３２は、分
割下定盤部１０及び分割上定盤部２０と対応した位置に
ある。また、内周の５個のワーク保持孔３１も、キャリ
ア本体３０の周方向に点対称状態でリング状に穿設され
ており、これらのワーク保持孔３１で形成された内周ワ
ーク保持孔群３３は、分割下定盤部１１及び分割上定盤
部２１に対応した位置にある。一方、キャリア保持枠３
７は、このようなキャリア本体３０を保持するための部
材であり、図５に示すように、その内周面に沿って凹設
された嵌合部３７ａに、キャリア本体３０の外周縁３０
ａが嵌め込まれ、ビス３７ｂにて固定されている。

【００２４】図１に示す第１のキャリア揺動機構４は、
上記のようなキャリア保持枠３７を保持してキャリア本
体３０を揺動させる周知の機構であり、一対のクランク
機構４−１，４−２でなる。クランク機構４−１，４−
２は、図４及び図５に示すように、キャリア保持枠３７
の直径方向の外側に対称に配されており、連結部材４
０，４０の先端が、キャリア保持枠３７の外周面に固着
されている。そして、連結部材４０，４０が揺動アーム
４１，４１の先端部にピン４２，４２によって回転自在
に連結されている。揺動アーム４１，４１は、図示しな
いセレーション機構を介してトルクアクチュエータ等の
揺動源４３，４３の出力軸４３ａ，４３ａに連結されて
いる。これらクランク機構４−１，４−２の動作タイミ
ングは揺動源４３，４３を制御するコントローラ４９に
よって若干ずらされた状態で同期するように設定されて
おり、キャリア本体３０の中心が小さな８の字状を描く
ように揺動させられる。すなわち、図６に示すように、
クランク機構４−１，４−２の揺動アーム４１，４１が
揺動源４３，４３により若干のタイミングずれを保った
状態で回動され、ピン４２がａ→ｂ→ｃ→ｄ→ｅ→ｆ→
ｇ→ｈ→ａの順に移動すると、それに従って、キャリア
本体３０が揺動し、その中心点Ｏの軌跡が一点鎖線で示
すように８の字状を描くようになっている。キャリア本
体３０の揺動に伴って、図４に示す外周ワーク保持孔群
３２，内周ワーク保持孔群３３に保持されたワークＷも
８の字状に揺動することとなる。なお、図６は理解を容
易にするため、キャリア本体３０の中心Ｏが描く軌跡を
拡大して示したが、本実施形態では、ピン４２が短く設
定されており、実際には、図７に示すように、キャリア
本体３０の中心及びワークＷは所定範囲内で小さな８の
字状に揺動する。具体的には、外周ワーク保持孔群３２
に保持された１０枚のワークＷは、これらのワークＷを
上下から挟む分割下定盤部１０及び分割上定盤部２０の
幅内で揺動し、内周ワーク保持孔群３３に保持された５
枚のワークＷは、これらのワークＷを挟む分割下定盤部
１１及び分割上定盤部２１の幅内で揺動する。

【００２５】次に、この実施形態の両面研磨装置を示す
研磨動作について説明する。図４に示すように、１０枚
のワークＷをキャリア３の外周ワーク保持孔群３２を形
成する１０個のワーク保持孔３１内に収納すると共に、
５枚のワークＷを内周ワーク保持孔群３３を形成する５
個のワーク保持孔３１内に収納した状態で、図１に示す
シリンダ７０，８０のピストンロッド７０ａ，８０ａを
伸ばして、上定盤２を下降させ、上定盤２をワークＷに
接触させて、分割上定盤２０，２１をシリンダ７０，８
０によって所定圧力で押圧する。すると、外周ワーク保
持孔群３２内の１０枚のワークＷが上定盤２の分割上定
盤部２０と下定盤１の分割下定盤部１０とに挟まれ、内
周ワーク保持孔群３３内の５枚のワークＷが上定盤２の
分割上定盤部２１と下定盤１の分割下定盤部１１とに挟
まれた状態になる。この状態でモータ１６，１７とモー
タ２６，２７を駆動させ、下定盤１と上定盤２とを逆方
向に回転させ、下定盤１の分割下定盤部１０と上定盤２
の分割上定盤部２０との周速度Ｖ１を分割下定盤部１１
と分割上定盤部２１との周速度Ｖ２に等しく設定する。
具体的には、外周ワーク保持孔群３２内のワークＷの枚
数と内周ワーク保持孔群３３内のワークＷの枚数との比
が１０：５＝２：１であるので、分割下定盤部１１及び
分割上定盤部２１の回転数を分割下定盤部１０及び分割
上定盤部２０の回転数の約２倍に設定する。これによ
り、外周ワーク保持孔群３２内のワークＷの両面が互い
に逆回転している分割下定盤部１０と分割上定盤部２０
とによって同時に研磨され、内周ワーク保持孔群３３内
のワークＷの両面が互いに逆回転している分割下定盤部
１１と分割上定盤部２１とによって同時に研磨される。
しかも、分割下定盤部１１及び分割上定盤部２１の周速
度Ｖ２が分割下定盤部１０及び分割上定盤部２０の周速
度Ｖ１と等しく設定されているので、外周ワーク保持孔
群３２内の１０枚のワークＷにおける研磨レートと内周
ワーク保持孔群３３内の５枚のワークＷにおける研磨レ
ートとが略等しくなる。

【００２６】このような研磨動作と並行して第１のキャ
リア揺動機構４を駆動することで、外周ワーク保持孔群
３２内のワークＷが分割下定盤部１０及び分割上定盤部
２０の幅の範囲内で８の字状に揺動され、内周ワーク保
持孔群３３内のワークＷが分割下定盤部１１及び分割上
定盤部２１の幅の範囲内で８の字状に揺動される。とこ
ろで、図８に示すように、分割下定盤部１０（分割下定
盤部１１，分割上定盤部２０，２１）は幅Ｌを有してい
るので、分割下定盤部１０の内側と外側とでその周速度
が多少異なる。このため、ワークＷを分割下定盤部１０
に対して静止させておくと、ワークＷの図８における外
半部Ａと内半部Ｂとの研磨レートが若干異なることとな
る。これに対して、この実施形態のように、ワークＷを
分割下定盤部１０の範囲内で８の字状に揺動させること
で、ワークＷの略全面が分割下定盤部１０の幅方向にま
んべんなく接触し、ワークＷの研磨レートをさらに向上
させる。

【００２７】このように、この実施形態の両面研磨装置
によれば、下定盤１及び上定盤２の全面を利用すること
ができ、この結果、１５枚という多量のワークＷを同一
の研磨レートで同時に両面研磨することができることと
なり、量産性に優れている。また、下定盤１及び上定盤
２の外側部分である分割下定盤部１０及び分割上定盤部
２０の周速度と、内側部分である分割下定盤部１１及び
分割上定盤部２１の周速度とを同一にしているので、外
周ワーク保持孔群３２内の１０枚のワークＷが分割下定
盤部１０及び分割上定盤部２０に接触している時間即ち
摺接時間と内周ワーク保持孔群３３内の５枚のワークＷ
が分割下定盤部１１及び分割上定盤部２１に接触してい
る摺接時間とが等しくなる。この結果、分割下定盤部１
０及び分割上定盤部２０の単位時間当たりの摩耗量と分
割下定盤部１１及び分割上定盤部２１の単位時間当たり
の摩耗量とが等しくなり、下定盤１及び上定盤２全体が
略均一に摩耗する。

【００２８】（第２の実施形態）図９は、この発明の第
２の実施形態に係る両面研磨装置を示す平面図である。
この実施形態の両面研磨装置は、図９に示すように、キ
ャリア保持枠３７′にキャリア回転機構５を組み付け
て、キャリア本体３０′を中心Ｏの周りで回転できるよ
うにした点が、上記第１の実施形態と異なる。

【００２９】かかる目的を達成するため、キャリア保持
枠３７′は、キャリア本体３０′が回転できるように、
キャリア本体３０′の外縁部を保持する構造となってい
る。すなわち、図１０に示すように、キャリア保持枠３
７′の嵌合部３７ａ′に嵌め込められたキャリア本体３
０′の外周縁３０ａ′の上面，下面と嵌合部３７ａ′の
上面，下面との間に、ボールベアリング３８ａ，３８ｂ
がそれぞれ介設されている。また、キャリア回転機構５
は、上記のように、キャリア保持枠３７′で回転自在に
保持されたキャリア本体３０′を駆動回転させるための
機構であり、図１１に示すように、モータ５０と、この
モータ５０の回転軸５１に取り付けられたギア５２とで
構成されている。具体的には、図９に示すように、キャ
リア本体３０′の径方向に突設されたギア室５３の上
に、モータ５０が下向きに固定されている。そして、図
１１に示すように、モータ５０の回転軸５１がギア室５
３の上壁に穿設された孔５３ａを介してギア室５３内に
挿入され、その下端部に取り付けられたギア５１が、キ
ャリア本体３０′の外縁に形成されたギア部３０ｂ′に
噛合されている。これにより、モータ５０を駆動させ
て、ギア５２を回転させると、ギア５２の回転力がギア
部３０ｂ′に伝達され、ボールベアリング３８ａ，３８
ｂの作用によって、キャリア本体３０′がその中心Ｏの
周りで滑らかに回転する。

【００３０】かかる構成により、上記第１の実施形態と
同様に、下定盤１及び上定盤２を回転させ、第１のキャ
リア揺動機構４によって、各ワークＷを８の字状に揺動
させると共に、さらに、キャリア回転機構５によって、
キャリア本体３０′を中心Ｏの周りで回転させることが
できる。ところで、上記第１の実施形態の両面研磨装置
のように、キャリア本体３０′が静止した状態でワーク
Ｗを８の字状に揺動させると、図１２に示すように、ク
ランク機構４−１，４−２を通る直線Ｍに垂直な直線Ｎ
上に位置するワークＷ１は分割下定盤部１０（１１）の
幅方向に８の字状に揺動するが、直線Ｍ上に位置するワ
ークＷ２は、分割下定盤部１０（１１）の周方向に８の
字状に揺動する。したがって、かかる８の字揺動方向の
相違によってワークＷ１の研磨レートとワークＷ２の研
磨レートとが異なるおそれがある場合には、上記のよう
に、キャリア本体３０′を回転させることにより、ワー
クＷをキャリア本体３０′の中心Ｏの周りで回転させる
ことによって、すべてのワークＷの揺動方向を同一にす
ることができる。この結果、すべてのワークＷの研磨レ
ートをほぼ完全に同一にすることができる。

【００３１】このように、この実施形態の両面研磨装置
によれば、全てのワークＷの研磨レートをほぼ完全に同
一にすることができるので、ワークＷの研磨レートの均
一性をさらに向上させることができる。その他の構成，
作用効果は上記第１の実施形態と同様であるので、その
記載は省略する。

【００３２】（第３の実施形態）図１３は、この発明の
第３の実施形態に係る両面研磨装置を示す平面図であ
る。この実施形態の両面研磨装置は、第１のキャリア揺
動機構４によるワークＷの揺動方向と略垂直な方向にも
ワークＷを揺動させることができる第２のキャリア揺動
機構６を設けた点が上記第１及び第２の実施形態と異な
る。

【００３３】第２のキャリア揺動機構６は、第１のキャ
リア揺動機構４ど同様に、連結部材４０と揺動アーム４
１と揺動源４３を有した一対のクランク機構６−１，６
−２で構成されているが、クランク機構６−１，６−２
の連結部材４０，４０は、４−１，４−２を通る直線Ｍ
に垂直な直線Ｎ上に位置するキャリア保持枠３７の外側
に固着されている。なお、符号４９′はコントローラで
あり、第１の実施形態に適応されたコントローラ４９と
同機能を有しているが、第１のキャリア揺動機構４のク
ランク機構４−１，４−２を所定時間作動させた後、ク
ランク機構６−１，６−２を一定時間作動させるよう
に、制御対象を切り換える機能を有している。また、一
方のクランク機構、例えばクランク機構６−１，６−２
を駆動している状態では、他方のクランク機構４−１，
４−２は従動状態になる。つまり、クランク機構４−
１，４−２の揺動源４３の出力軸４３ａはフリー回転状
態にあり、連結部材４０と揺動アーム４１とが、抵抗す
ることなく、キャリア本体３０の動きに従って動く。

【００３４】かかる構成により、第１のキャリア揺動機
構４によって、ワークＷが直線Ｎ方向に８の字状に所定
時間揺動された後、第２のキャリア揺動機構６によって
直線Ｍ方向に８の字状に揺動されるので、上記第２の実
施形態と同様に、全てのワークＷの研磨レートを略同一
にすることができ、研磨レートの均一性をさらに向上さ
せることができる。その他の構成，作用効果は上記第１
の実施形態と同様であるので、その記載は省略する。

【００３５】（第４の実施形態）図１４は、この発明の
第４の実施形態に係る両面研磨システムを示す概略断面
図である。図１４に示すように、この両面研磨システム
は、上記した第１の実施形態の両面研磨装置１００と、
搬入装置１１０と、搬出装置１２０と、制御装置として
のシステムコントローラ１３０−１とを具備している。

【００３６】両面研磨装置１００は、後述するシステム
コントローラ１３０−１の研磨制御部１３３−１からの
スタート信号Ｓsを入力すると、上定盤２を下降させ、
モータ１６等を駆動させて、下定盤１と上定盤２とを回
転させると共に、上記コントローラ４９を介して第１の
キャリア揺動機構４を駆動させる機能を有している。ま
た、この両面研磨装置１００は上定盤２の分割上定盤部
２０に渦電流センサ等の厚さ検出器１０１を有してお
り、この厚さ検出器１０１により研磨作業時のワークＷ
の厚さを測定して、測定信号Ｓd を上記研磨制御部１３
３−１に出力するようになっている。さらに、両面研磨
装置１００は、後述するエンド信号Ｓeを上記研磨制御
部１３３−１から入力すると、下定盤１，上定盤２及び
第１のキャリア揺動機構４の駆動を停止させた後、上定
盤２を初期位置迄上昇させるようになっている。また、
第１のキャリア揺動機構４は、研磨制御部１３３−１か
らのリセット信号Ｒを入力すると、キャリア本体３０を
初期状態にリセットする機能を有している。これによ
り、下定盤１及び上定盤２の中心と一致するように初期
設定されたキャリア本体３０の中心が研磨終了時にずれ
た場合においても、第１のキャリア揺動機構４のリセッ
ト機能により、キャリア本体３０の中心が下定盤１及び
上定盤２の中心と一致するようにキャリア本体３０が戻
されることとなる。

【００３７】搬入装置１１０は、未研磨のワークＷを両
面研磨装置１００に搬入するための装置であり、テーブ
ル１１１とローダ１１２とを有している。ローダ１１２
は、レール１４０に沿って駆動走行すると共に、内部の
図示しないシリンダでローダ１１２を昇降させることが
できる駆動部１４１に吊り下げられている。このような
ローダ１１２の下面には、ワークＷを保持するための１
５本のチャック１１３が突設されている。図１５は、チ
ャック１１３の配置状態を示すローダ１１２の下面図で
ある。図１５に示すように、１５本のチャック１１３
は、図４に示したキャリア本体３０のワーク保持孔３１
に対応して配置されている。つまり、ローダ１１２の下
面外周部に周方向にリング状に突設された１０本のチャ
ック１１３により一点鎖線で示すチャック群１１４が形
成され、５本のチャック１１３でなる二点鎖線で示すチ
ャック群１１５がチャック群１１４の内側に形成されて
いる。そして、これらチャック群１１４，１１５はキャ
リア本体３０の外周ワーク保持孔群３２，内周ワーク保
持孔群３３に対応している。一方、図１４に示すテーブ
ル１１１は未研磨のワークＷを配置するためのものであ
る。ワークＷのテーブル１１１上への配置は、図示しな
いロボットによってローダ１１２のチャック１１３の取
付位置に対応するように行われる。このような搬入装置
１１０は、後述するシステムコントローラ１３０−１の
搬入制御部１３１からの搬入信号Ｓinを入力すると、テ
ーブル１１１真上のローダ１１２を下降させ、１５本の
チャック１１３で１５枚のワークＷを保持した後、ロー
ダ１１２を上昇させる。そして、ローダ１１２をレール
１４０に沿って両面研磨装置１００側に移動させ、キャ
リア本体３０の真上で下降させて、ローダ１１２が保持
している１５枚のワークＷをワーク保持孔３１内に収納
させる。しかる後、ローダ１１２を上昇させ、レール１
４０に沿ってテーブル１１１側に移動させた後、ローダ
１１２をテーブル１１１の真上で待機させると共に、研
磨指令信号Ｓ1をシステムコントローラ１３０−１の研
磨制御部１３３−１に出力するようになっている。

【００３８】搬出装置１２０は、既研磨のワークＷを両
面研磨装置１００から搬出するための装置であり、搬入
装置１１０と同構成である。すなわち、テーブル１２１
と、駆動部１４１に吊り下げられたアンローダ１２２と
を有し、アンローダ１２２はローダ１１２と同様に、１
０本のチャック１２３で形成されたチャック群１２４と
内側の５本のチャック１２３で形成されたチャック群１
２５とを有している（図１５参照）。この搬出装置１２
０は、後述するシステムコントローラ１３０−１の搬出
制御部１３２からの搬出信号Ｓoutを入力すると、アン
ローダ１２２をテーブル１２１の真上位置からレール１
４０に沿って両面研磨装置１００側に移動させ、キャリ
ア本体３０の真上位置で同期信号Ｓ2をシステムコント
ローラ１３０−１の搬入制御部１３１に出力すると共
に、アンローダ１２２を下降させて、ワーク保持孔３１
内の既研磨のワークＷを保持させる。しかる後、アンロ
ーダ１２２を上昇させ、レール１４０に沿ってテーブル
１２１の真上迄移動させる。そして、アンローダ１２２
を下降させ、ワークＷをテーブル１２１上に載置させた
後、アンローダ１２２を上昇させて、テーブル１２１の
真上で待機させるようになっている。なお、テーブル１
２１上に載置されたワークＷは図示しないロボットによ
り取り出され、カセット等に収納される。

【００３９】システムコントローラ１３０−１は、両面
研磨装置１００と搬入装置１１０と搬出装置１２０と第
１のキャリア揺動機構４とを制御する装置であり、図１
６に示すように搬入制御部１３１と搬出制御部１３２と
研磨制御部１３３−１とを有している。搬入制御部１３
１は、搬出装置１２０からの同期信号Ｓ2を入力する
と、搬入信号Ｓin を搬入装置１１０に出力する機能を
有している。また、研磨制御部１３３−１は、搬入装置
１１０からの研磨指令信号Ｓ1を入力すると、両面研磨
装置１００にスタート信号Ｓsを出力した後、厚さ検出
器１０１からの測定信号Ｓdを入力し、測定信号Ｓdが示
すワークＷの厚さ値が基準厚さ値に等しくなった時点
で、エンド信号Ｓeを両面研磨装置１００に出力する。
しかる後、研磨制御部１３３−１はリセット信号Ｒを第
１のキャリア揺動機構４と搬出制御部１３２とに出力す
る機能を有している。そして、搬出制御部１３２は、研
磨制御部１３３−１からリセット信号Ｒを入力すると、
搬出信号Ｓoutを搬出装置１２０に出力する機能を有し
ている。

【００４０】次に、この実施形態の両面研磨システムが
示す動作について説明する。図１７〜図２２は、この実
施形態の両面研磨システムが示す動作を説明するための
概略図であり、図１７はローダ１１２及びアンローダ１
２２がテーブル１１１及びキャリア本体３０の真上に位
置した状態を示し、図１８はローダ１１２及びアンロー
ダ１２２の下降状態を示し、図１９はローダ１１２及び
アンローダ１２２のワークＷ搬送状態を示し、図２０は
ローダ１１２及びアンローダ１２２による両面研磨装置
１００及びテーブル１２１への搬入及び搬出動作を示
し、図２１はローダ１１２及びアンローダ１２２の初期
状態への復帰動作を示し、図２２は両面研磨装置１００
によるワークＷの研磨動作を示す。図１７に示すよう
に、アンローダ１２２が両面研磨装置１００のキャリア
本体３０真上に至ると、アンローダ１２２がキャリア本
体３０に向かって下降すると共に、同期信号Ｓ2が搬出
装置１２０からシステムコントローラ１３０−１の搬入
制御部１３１に出力され、搬入信号Ｓinが搬入制御部１
３１から搬入装置１１０に出力される。すると、図１８
に示すように、ローダ１１２がアンローダ１２２の下降
動作と同期してテーブル１１１側に下降し、１５本のチ
ャック１１３で１５枚のワークＷを保持する。この動作
と並行して、アンローダ１２２がそのチャック１２３で
キャリア本体３０のワーク保存孔３１内に収納されてい
る既研磨のワークＷを保持する。しかる後、図１９に示
すように、ローダ１１２及びアンローダ１２２が共にレ
ース１４０に沿って両面研磨装置１００及びテーブル１
２１側に移動し、キャリア本体３０及びテーブル１２１
の真上でそれぞれ停止する。

【００４１】そして、図２０に示すように、ローダ１１
２及びアンローダ１２２がキャリア本体３０及びテーブ
ル１２１に向かって下降する。このとき、図１５に示し
たように、ローダ１１２のチャック１１３の数及び配置
がキャリア本体３０のワーク保持孔３１の数及び配置に
対応しているので、チャック１１３で保持されたワーク
Ｗは、キャリア本体３０のワーク保持孔３１内に完全に
収納される。しかる後、図２１に示すように、ローダ１
１２はチャック１１３で保持したワークＷを切り離し、
上昇してテーブル１１１の真上位置迄戻る。一方、アン
ローダ１２２は、図２０に示すように、チャック１２３
で保持したワークＷをテーブル１２１上に載置した後、
図２１に示すように、上昇して、テーブル１２１の真上
で待機する。

【００４２】ローダ１１２が、テーブル１１１の真上で
停止すると、研磨指令信号Ｓ1が搬入装置１１０からシ
ステムコントローラ１３０−１の研磨制御部１３３−１
に出力され、スタート信号Ｓsが研磨制御部１３３−１
から両面研磨装置１００に出力される。すると、図２２
に示すように、両面研磨装置１００が上記第１の実施形
態の項で説明した研磨動作を実行する。この研磨動作実
行時においては、測定信号Ｓdが厚さ検出器１０１から
研磨制御部１３３−１に常時入力され、ワークＷの厚さ
値が基準厚さ値に等しいことを示す測定信号Ｓdが研磨
制御部１３３−１に入力されると、エンド信号Ｓeが研
磨制御部１３３−１から両面研磨装置１００に出力され
る。これにより、両面研磨装置１００による研磨動作が
終了し、上定盤２が回転を止めて元の位置に上昇すると
共に、第１の揺動機構４もその揺動動作を停止する。研
磨終了時においては、キャリア本体３０の中心が研磨開
始時の中心位置からずれていることが多い。したがっ
て、このような場合には、キャリア本体３０の真上にき
たアンローダ１２２の１５本のチャック１２３の中心位
置と１５個のワーク保持孔３１の中心位置とが異なって
おり、この状態でアンローダ１２２を下降させると、チ
ャック１２３でワーク保持孔３１内の既研磨のワークＷ
を保持することはできない。しかし、この実施形態の両
面研磨システムでは、システムコントローラ１３０−１
の研磨制御部１３３−１がエンド信号Ｓeの出力時にリ
セット信号Ｒを第１の揺動機構４に出力し、第１の揺動
機構４がキャリア本体３０を研磨動作時の位置にリセッ
トする。この結果、キャリア本体３０が初期状態に戻
り、アンローダ１２２やローダ１１２によるワークＷの
ワーク保持孔３１への搬出や搬入を確実に行うことがで
きる。

【００４３】また、研磨制御部１３３−１からのリセッ
ト信号Ｒは、搬出制御部１３２にも出力され、搬出信号
Ｓoutが搬出制御部１３２から搬出装置１２０に出力さ
れる。すると、アンローダ１２２が図２２に示した位置
から図２０に示すように、両面研磨装置１００のキャリ
ア本体３０の真上位置に移動し、以後、上記したと同様
の動作が自動的に繰り返される。

【００４４】このように、この実施形態の両面研磨シス
テムによれば、両面研磨装置１００の研磨動作終了後の
キャリア本体３０が開始時の状態に戻るので、ワークＷ
の搬入，研磨，搬出を完全に自動的に行うことができ
る。なお、この実施形態では、上記第１の実施形態の両
面研磨装置を用いたが、この両面研磨装置の代わりに、
上記第３の実施形態の両面研磨装置を用いても、同様の
動作，効果を得ることができることは勿論である。

【００４５】（第５の実施形態）図２３は、この発明の
第５の実施形態に係る両面研磨システムの要部であるシ
ステムコントローラを示すブロック図である。この実施
形態の両面研磨システムは、上記第４の実施形態の両面
研磨システムにおいて、両面研磨装置１００の代わり
に、上記第２の実施形態の両面研磨装置を適用した点が
上記第４の実施形態と異なる。したがって、上記第２の
実施形態による両面研磨装置２００と搬入装置１１０と
搬出装置１２０との構成は、上記したと同様であるの
で、その詳細な説明は省略する。

【００４６】この実施形態の両面研磨システムに適用さ
れる両面研磨装置２００は、キャリア本体３０′を第１
の揺動機構４によって揺動させるだけでなく、モータ５
０で回転させる構成であるので、両面研磨装置２００の
研磨作業終了時におけるキャリア本体３０′のワーク保
持孔３１の位置が研磨作業開始時の位置からキャリア本
体３０′の回転方向にずれる。そこで、この実施形態で
は、研磨作業終了時にワーク保持孔３１を研磨作業開始
時の位置に戻す制御が可能なシステムコントローラ１３
０−２を適用した。

【００４７】システムコントローラ１３０−２は、図２
３に示すように、搬入制御部１３１と搬出制御部１３２
と研磨制御部１３３−２の他にさらに回転角度演算部１
３４を有している。研磨制御部１３３−２は、上記第４
の実施形態の研磨制御部１３３−１と略同機能を有して
いるが、リセット信号Ｒを回転角度演算部１３４にも出
力する点が異なる。回転角度演算部１３４は、キャリア
本体３０の内周ワーク保持孔群３３を構成するワーク保
持孔３１の数「５」で３６０゜を除した角度を整数倍し
た角度であって且つ研磨終了時のキャリア本体３０′の
回転角度に最も近い角度までキャリア本体３０′を回転
させる制御を行う部分である。具体的には、回転角度演
算部１３４は、両面研磨装置２００の研磨動作中に、図
１１に示した歯数Ｚ1のギア５２を回転させているモー
タ５０の回転数ｎ1を常時モニターして、歯数Ｚ2のギア
部３０ｂ′を有したキャリア本体３０′の回転角度θを
演算する。詳しくは、キャリア本体３０′の回転数ｎ2
は、式ｎ2＝Ｚ1・ｎ1／Ｚ2を満たすので、キャリア本体
３０′の回転角度θを下記（１）式で演算する。 θ＝３６０゜・ｎ2＝３６０゜・Ｚ1・ｎ1／Ｚ2 ・・・・（１） また、回転角度演算部１３４は３６０゜をワーク保持孔
３１の数「５」で除した角度「７２゜」を整数倍した角
度「７２゜・ｎ」（ｎ＝１以上の整数）を演算し、演算
された複数の角度「７２゜・ｎ」のうち上記キャリア本
体３０′の回転角度θに最も近い角度を選択する。例え
ば、図２４に示すように、研磨作業開始時のキャリア本
体３０′におけるワーク保持孔３１の位置が実線で示す
状態であり、キャリア本体３０′が２８８４５゜だけ回
転した時点で、研磨動作が終了し、キャリア本体３０′
が停止して、ワーク保持孔３１が破線で示すように研磨
作業開始の位置からズレたとする。この場合には、角度
「７２゜・ｎ」のうち「２８８４５゜」に近い角度は
「２８８００゜」と「２８８７２゜」であり、この角度
は研磨作業開始時のワーク保持孔３１−１とワーク保持
孔３１−２の位置に対応している。そして、これらの角
度のうち、回転角度「２８８４５゜」に最も近い角度は
「２８８７２゜」である。回転角度演算部１３４は、こ
の角度を決定した後、この角度からキャリア本体３０′
の回転角度を引いた差角θ1即ち「＋２７゜」を演算
し、キャリア本体３０′をこの差角θ1だけ研磨時の回
転方向に回転させる回転指令信号Ｃ1をモータ５０に出
力する。詳しくは、上記（１）式から下記（２）式が成
立するので、 ｎ1＝θ1・Ｚ2／（３６０゜・Ｚ1） ・・・・（２） この（２）式を用いてモータ５０の回転数ｎ1を決定
し、その回転数ｎ1だけギア５２を回転させる回転指令
信号Ｃ1をモータ５０に出力する。これにより、図２４
の破線で示すように、研磨作業開始時からズレたワーク
保持孔３１が回転指令信号Ｃ1を回転角度演算部１３４
から入力したモータ５０の駆動によって、実線で示す研
磨作業開始時のワーク保持孔３１の位置に戻されること
となる。なお、回転角度演算部１３４は差角θ1の値が
負数の場合には、キャリア本体３０′を研磨時の回転方
向と逆方向に回転させる回転指令信号Ｃ1をモータ５０
に出力する機能を有している。

【００４８】かかる構成により、研磨中のワークＷの厚
さが基準厚さ値に等しくなると、エンド信号Ｓeとリセ
ット信号Ｒが研磨制御部１３３−２から両面研磨装置２
００に出力されて、両面研磨装置２００が停止されると
共に、第１の揺動機構４のキャリア本体３０′に対する
リセット動作が実行される。また、これと並行して研磨
制御部１３３−２のリセット信号Ｒが回転角度演算部１
３４に入力されると、回転角度演算部１３４において上
記演算が行われ、回転指令信号Ｃ1がモータ５０に出力
されて、キャリア本体３０′のワーク保持孔３１の位置
が研磨作業開始時の位置に戻される。その他の構成，作
用及び効果は、上記第４の実施形態と同様であるのでそ
の記載は省略する。

【００４９】（第６の実施形態）図２５は、この発明の
第６の実施形態に係る両面研磨システムを示す平面図で
ある。この実施形態の両面研磨システムは、搬入装置１
１０のローダ１１２と搬出装置１２０のアンローダ１２
２との各中心位置を、研磨作業終了時のキャリア本体３
０の中心位置に合わせる構成となっている点が、上記第
５及び第６の実施形態と異なる。具体的には、搬入装置
１１０のローダ１１２を両面研磨装置１００のキャリア
本体３０と平行な平面内で移動させることができる第１
のＸ−Ｙ駆動機構１５０−１と、同じく搬出装置１２０
のアンローダ１２２をキャリア本体３０と平行な面内で
移動させることができる第２のＸ−Ｙ駆動機構１５０−
２と、中心位置検出装置１６０と、第１のＸ−Ｙ駆動機
構１５０−１及び第２のＸ−Ｙ駆動機構１５０−２を制
御するシステムコントローラ１３０−３とを備えてい
る。

【００５０】第１のＸ−Ｙ駆動機構１５０−１は、ロー
ダ１１２の両側に取り付けられたスライダ１５１−１，
１５１−２に通されたシャフト１５２−１，１５２−２
でローダ１１２を支持し、これらシャフト１５２−１，
１５２−２の両端を支持した支持板１５３−１，１５３
−２のうちの支持板１５３−１に、スライダ１５１−１
を回転させるＸ軸駆動モータ１５４を取り付けた構造と
なっている。スライダ１５１−１には、シャフト１５２
−１の長さ方向に貫通する孔が穿設され、この孔内に雌
ネジ部が刻設されている。一方、シャフト１５２−１の
表面には雄ネジ部が形成され、この雄ネジ部がスライダ
１５１−１の雌ネジ部に螺合されている。このようなシ
ャフト１５２−１は、Ｘ軸駆動モータ１５４の回転軸に
直結されており、Ｘ軸駆動モータ１５４を駆動させるこ
とで、シャフト１５２−１も回転するようになってい
る。また、スライダ１５１−２にも、シャフト１５２−
２の長さ方向に貫通する孔が穿設され、この孔にシャフ
ト１５２−２が嵌挿されている。これにより、Ｘ軸駆動
モータ１５４を一方向に回転させることで、ローダ１１
２を図２５の下側に移動させ、Ｘ軸駆動モータ１５４を
他方向に回転させることで、ローダ１１２を図２５の上
方向に移動させることができる。さらに、上記のような
組付体は、支持板１５３−１，１５３−２にそれぞれ取
り付けられたスライダ１５５−１，１５５−２に通され
たシャフト１５６−１，１５６−２により支持されてい
る。スライダ１５５−１にも、シャフト１５６−１の長
さ方向に貫通し且つ内部に雌ネジ部を有した孔が穿設さ
れ、シャフト１５６−１の表面に設けられた雄ネジ部が
この孔の雌ネジ部に螺合されている。このようなシャフ
ト１５６−１の一方端部は、レール１４０−１の駆動部
１４１−１に吊り下げられた支持体１５８−１よって回
転自在に支持され、他方端部はＹ軸駆動モータ１５７の
回転軸に直結されている。そして、Ｙ軸駆動モータ１５
７はレール１４０−２の駆動部１４１−２に吊り下げら
れている支持体１５８−２に固定されている。一方、ス
ライダ１５５−２にも、孔が穿設されており、この孔に
シャフト１５６−２が嵌挿された状態で、シャフト１５
６−２の両端部が支持体１５８−１，１５８−２によっ
て支持されている。これにより、Ｙ軸駆動モータ１５７
を一方向に回転させることで、ローダ１１２の組付体を
図２５の右側に一体に移動させ、Ｙ軸駆動モータ１５７
を他方向に回転させることで、上記組付体を図２５の左
方向に一体に移動させることができる。

【００５１】第２のＸ−Ｙ駆動機構１５０−２も第１の
Ｘ−Ｙ駆動機構１５０−１と同構造であり、図に示すよ
うに、スライダ１５１−１，１５１−２と、シャフト１
５２−１，１５２−２と、支持板１５３−１，１５３−
２と、Ｘ軸駆動モータ１５４と、スライダ１５５−１，
１５５−２と、シャフト１５６−１，１５６−２と、Ｙ
軸駆動モータ１５７と、支持体１５８−１，１５８−２
とを備えている。

【００５２】上記のように、第１のＸ−Ｙ駆動機構１５
０−１，１５０−２を備えた搬入装置１１０，搬出装置
１２０は、後述するシステムコントローラ１３０−３の
搬入制御部１３１，搬出制御部１３２から位置決め指令
信号Ｃ2を入力すると、ローダ１１２，アンローダ１２
２がキャリア本体３０の真上まで移動した時点で、第１
のＸ−Ｙ駆動機構１５０−１，１５０−２をそれぞれ駆
動し、ローダ１１２，アンローダ１２２の中心位置が、
指令信号Ｃ2が示す中心位置に一致するように、ローダ
１１２，アンローダ１２２を移動させる。そして、搬入
装置１１０はワークＷをキャリア本体３０のワーク保持
孔３１内に搬入した後、キャリア本体３０の真上迄上昇
した時点で、ローダ１１２の中心位置を初期位置に戻
す。また、搬出装置１２０は、ワークＷをキャリア本体
３０のワーク保持孔３１内から搬出した後、キャリア本
体３０の真上まで上昇した時点で、アンローダ１２２の
中心位置を初期位置に戻すようになっている。

【００５３】中心位置検出装置１６０は、後述するシス
テムコントローラ１３０−３の研磨制御部１３３−３か
らリセット信号Ｒを入力した時点で、両面研磨装置１０
０のキャリア本体３０の中心Ｏの位置を検出して、その
検出信号Ｓoをシステムコントローラ１３０−３の搬入
制御部１３１及び搬出制御部１３２に出力する機能を有
している。具体的には、図２８に示すように、中心位置
検出装置１６０は、クランク機構４−１の角度を検出す
るための角度検出器１６１−１と、クランク機構４−２
の揺動アーム４１の角度を検出するための角度検出器１
６１−２と、演算部１６２とを有している。図２９は、
キャリア本体３０の中心位置検出を説明するための概略
図である。図２９に示すように、角度検出器１６１−１
は、クランク機構４−１の揺動アーム４１停止時におけ
るｙ軸からの角度αを検出して、その角度信号Ｓαを演
算部１６２の入力する機能を有し、角度検出器１６１−
２は、クランク機構４−２の揺動アーム４１停止時にお
けるｘ軸からの角度βを検出して、その角度信号Ｓβを
演算部１６２の入力する機能を有している。なお、揺動
アーム４１がｙ軸の右側（即ち、ｘ軸の正側）に位置す
るときの角度α，βは正の角度であり、揺動アーム４１
がｙ軸の左側（即ち、ｘ軸の負側）に位置するときの角
度α，βは負の角度である。演算部１６２は、角度検出
器１６１−１，１６１−２からの角度信号Ｓα，Ｓβが
示す角度を用いて、キャリア本体３０の中心の座標Ｏ
（ｘ，ｙ）を演算する。すなわち、揺動アーム４１の長
さをｒとすると、キャリア本体３０の中心Ｏのｘ座標と
ｙ座標とは、簡単な計算により、下記（３）式及び
（４）式で表される。 ｘ＝（ｓｉｎα＋ｓｉｎβ）×ｒ／２ …（３） ｙ＝（−ｃｏｓα＋ｃｏｓβ）×ｒ／２ …（４） 演算部１６２は、角度検出器１６１−１，１６１−２で
検出された一対の揺動アーム４１の角度α，βを上記
（３）式と（４）式とに代入して、キャリア本体３０の
中心の座標Ｏ（ｘ，ｙ）を求め、その演算結果である検
出信号Ｓoをシステムコントローラ１３０−３に出力す
る機能を有している。

【００５４】図３０は、システムコントローラ１３０−
３を示すブロック図である。システムコントローラ１３
０−３は、搬入制御部１３１と搬出制御部１３２と研磨
制御部１３３−３とを備えている。研磨制御部１３３−
３は、第４の実施形態の１３０における研磨制御部１３
３−１と略同機能であるが、第４の実施形態の研磨制御
部１３３−１がエンド信号Ｓeの出力後にリセット信号
Ｒを第１の揺動機構４と搬出制御部１３２とに出力する
のに対して、この実施形態の研磨制御部１３３−３は、
エンド信号Ｓeの出力後にリセット信号Ｒを中心位置検
出装置１６０と搬出制御部１３２とに出力する。また、
搬入制御部１３１と搬出制御部１３２は、中心位置検出
装置１６０からの検出信号Ｓoに基づいて、検出信号Ｓo
が示す中心位置にローダ１１２及びアンローダ１２２を
移動させるための位置決め指令信号Ｃ2を搬入装置１１
０及び搬出装置１２０に出力する機能を有している。

【００５５】かかる構成により、研磨中のワークＷの厚
さが基準厚さ値に等しくなると、エンド信号Ｓeとリセ
ット信号Ｒとがシステムコントローラ１３０−３の研磨
制御部１３３−３から両面研磨装置１００と中心位置検
出装置１６０とに出力される。すると、両面研磨装置１
００が停止されると共に、キャリア本体３０の中心位置
を示す検出信号Ｓoが中心位置検出装置１６０から搬入
制御部１３１と搬出制御部１３２とに出力される。この
動作と並行して、リセット信号Ｒが研磨制御部１３３−
３から搬出制御部１３２に出力されるので、搬出制御部
１３２からは、搬出信号Ｓoutと位置決め指令信号Ｃ2と
が搬出装置１２０に出力される。また、搬入制御部１３
１からは位置決め指令信号Ｃ2が搬入装置１１０に出力
される。搬出信号Ｓoutが搬出装置１２０に入力される
と、アンローダ１２２が両面研磨装置１００側に移動
し、アンローダ１２２がキャリア本体３０の真上に至る
と、同期信号Ｓ2が搬出装置１２０からシステムコント
ローラ１３０−３の搬入制御部１３１に出力される。ま
た、搬出制御部１３２から搬出装置１２０に入力された
位置決め指令信号Ｃ2に基づいて、第２のＸ−Ｙ駆動機
構１５０−２が駆動され、位置決め指令信号Ｃ2が示す
キャリア本体３０の中心位置に、アンローダ１２２の中
心位置が一致するように、アンローダ１２２が位置決め
される。この状態でアンローダ１２２がキャリア本体３
０に下降されると、アンローダ１２２のチャック１２３
とキャリア本体３０のワーク保持孔３１との位置が一致
し、１５枚のワークＷすべてが１５本のチャック１２３
によって保持される。そして、アンローダ１２２がキャ
リア本体３０の真上まで上昇した時点で、アンローダ１
２２の中心位置が初期位置まで戻された後、ワークＷが
このアンローダ１２２によってテーブル１２１迄搬送さ
れることとなる。一方、搬出装置１２０から同期信号Ｓ
2を入力した搬入装置１１０は、アンローダ１２２の動
作と同期するように、ローダ１１２を動作させる。そし
て、ローダ１１２がキャリア本体３０の真上に至った時
点で、搬入制御部１３１から搬入装置１１０に入力され
た位置決め指令信号Ｃ2に基づいて、第１のＸ−Ｙ駆動
機構１５０−１が駆動され、位置決め指令信号Ｃ2が示
すキャリア本体３０の中心位置に、ローダ１１２の中心
位置が一致するように、ローダ１１２が位置決めされ
る。しかる後、ローダ１１２が下降され、ローダ１１２
によって保持されたワークＷがキャリア本体３０のワー
ク保持孔３１内に収納されることとなる。そして、ロー
ダ１１２がキャリア本体３０の真上まで上昇した時点
で、ローダ１１２の中心位置が初期位置に戻された後、
ローダ１１２がテーブル１１１側に移動される。その他
の構成，作用効果は、上記第４の実施形態と同様である
ので、その記載は省略する。なお、この実施形態では、
上記第１の実施形態の両面研磨装置１００を用いたが、
この両面研磨装置の代わりに、上記第３の実施形態の両
面研磨装置を用いても同様の動作，効果を奏することは
勿論である。

【００５６】（第７の実施形態）図３１は、この発明の
第７の実施形態に係る両面研磨システムを示す平面図で
あり、図３２は、チャック回転機構を示す断面図であ
り、図３３は、システムコントローラを示すブロック図
である。この実施形態の両面研磨システムは、上記第５
の実施形態に対応したシステムであるが、上記第５の実
施形態が研磨作業終了時にキャリア本体３０′をリセッ
ト及び回転させる構成であるのに対して、この実施形態
では、研磨作業終了時に、ローダ１１２及びアンローダ
１２２の中心位置合わせと回転とを行う構成としてい
る。具体的には、両面研磨システムは、図３１に示すよ
うに、搬入装置１１０と、搬出装置１２０と、両面研磨
装置２００と、第１のＸ−Ｙ駆動機構１５０−１と、第
２のＸ−Ｙ駆動機構１５０−２と、チャック回転機構１
７０−１，１７０−２と、システムコントローラ１３０
−４とを具備している。

【００５７】チャック回転機構１７０−１，１７０−２
は、搬入装置１１０のローダ１１２，アンローダ１２２
にそれぞれ設けられており、ローダ１１２，アンローダ
１２２のチャック１２３をローダ１１２，アンローダ１
２２の中心周りで一体に回転させることができる機構で
ある。図３２は、チャック回転機構１７０−１（１７０
−２）を示す断面図である。チャック回転機構１７０−
１（１７０−２）は、チャック１１３（１２３）が取り
付けられた取付体１７１をベアリング１７２を介して回
転自在にローダ１１２（アンローダ１２２）に取り付
け、ローダ１１２（アンローダ１２２）内部に取り付け
られたモータ１７３の回転軸を取付体１７１の中心に直
結した構成となっている。

【００５８】システムコントローラ１３０−４は、図３
３に示すように、搬入制御部１３１と搬出制御部１３２
と研磨制御部１３３−４と回転角度演算部１３４′とを
備えている。研磨制御部１３３−４は、第５の実施形態
のシステムコントローラ１３０−２の研磨制御部１３３
−２と略同機構であるが、第５の実施形態の研磨制御部
１３３−２がエンド信号Ｓeの出力後に、リセット信号
Ｒを第１の揺動機構４と搬出制御部１３２と回転角度演
算部１３４とに出力するのに対し、この研磨制御部１３
３−４は、エンド信号Ｓeの出力後にリセット信号Ｒを
中心位置検出装置１６０と搬出制御部１３２と回転角度
演算部１３４′とに出力する。

【００５９】回転角度演算部１３４′は、モータ５０の
回転数ｎ1を常時モニターして回転角度演算部１３４′
からのリセット信号Ｒ入力時に、上記（１）式に基づい
て、キャリア本体３０′の回転角度θを演算し、この回
転角度θを３６０゜で除して、その剰余角を示す剰余角
信号Ｔを搬入制御部１３１，搬出制御部１３２に出力す
る機能を有している。例えば、研磨終了時におけるキャ
リア本体３０′の回転角度θが「２８８４５゜」の場合
には、この角を３６０゜で除して得た剰余角「４５゜」
を示す剰余角信号Ｔを出力する。

【００６０】搬入制御部１３１，搬出制御部１３２は、
上記位置決め指令信号Ｃ2を出力する機能だけでなく、
回転角度演算部１３４′からの剰余角信号Ｔに基づい
て、この剰余角信号Ｔに対応した角度だけローダ１１
２，アンローダ１２２の取付体１７１を回転させるため
の回転指令信号Ｃ3を搬入装置１１０，搬出装置１２０
に出力する機能をも有している。

【００６１】搬入装置１１０，搬出装置１２０は、位置
決め指令信号Ｃ2を上記搬入制御部１３１，搬出制御部
１３２から入力すると、上記第６の実施形態で記したと
同様に、ローダ１１２，アンローダ１２２をテーブル１
１１，１２１側からキャリア本体３０′の真上まで移動
させた時点で、ローダ１１２，アンローダ１２２の中心
位置をキャリア本体３０′の中心位置に一致させて、ワ
ークＷの搬入，搬出を行い、ローダ１１２，アンローダ
１２２がキャリア本体３０′の真上に上昇した時点で、
ローダ１１２，アンローダ１２２の中心位置を初期位置
に戻す。さらに、回転指令信号Ｃ3を入力すると、ロー
ダ１１２，アンローダ１２２がキャリア本体３０の真上
に移動した時点で、チャック回転機構１７０−１，１７
０−２の各モータ１７３を駆動して、ローダ１１２，ア
ンローダ１２２の取付体１７１を回転指令信号Ｃ3が示
す角度、即ちキャリア本体３０′の回転角度θを３６０
゜で除したときの剰余角だけ回転させる。そして、ロー
ダ１１２，アンローダ１２２がワークＷをキャリア本体
３０′のワーク保持孔３１に対して搬入，搬出した後、
キャリア本体３０′の真上迄上昇した時点で、ローダ１
１２，アンローダ１２２の取付体１７１を回転指令信号
Ｃ3が示す角度だけ逆回転させて、元に戻すようになっ
ている。

【００６２】かかる構成により、研磨中のワークＷの厚
さが基準厚さ値に等しくなると、エンド信号Ｓeとリセ
ット信号Ｒとがシステムコントローラ１３０−４の研磨
制御部１３３−４から中心位置検出装置１６０と両面研
磨装置２００と回転角度演算部１３４′とに出力され
る。すると、両面研磨装置２００が停止されると共に、
キャリア本体３０′の中心位置を示す検出信号Ｓoが中
心位置検出装置１６０から搬入制御部１３１と搬出制御
部１３２とに出力される。また、リセット信号Ｒを入力
した回転角度演算部１３４′において、両面研磨装置２
００の停止時におけるキャリア本体３０′の回転角度θ
を３６０゜で除して得た剰余角信号Ｔが生成されて、そ
の剰余角信号Ｔが搬入制御部１３１と搬出制御部１３２
とに出力される。この動作と並行して、リセット信号Ｒ
が研磨制御部１３３−４から搬出制御部１３２に出力さ
れる。これにより、搬出制御部１３２から搬出装置１２
０に、搬出信号Ｓoutに加えて、中心位置検出装置１６
０からの検出信号Ｓoに基づいた位置決め指令信号Ｃ2と
回転角度演算部１３４′からの剰余角信号Ｔに基づいた
回転指令信号Ｃ3とが出力される。搬出信号Ｓoutが搬出
装置１２０に入力されると、アンローダ１２２が両面研
磨装置２００側に移動し、アンローダ１２２がキャリア
本体３０′の真上に至ると、同期信号Ｓ2が搬出装置１
２０からシステムコントローラ１３０−４の搬入制御部
１３１に出力される。そして、位置決め指令信号Ｃ2に
基づいて、第２のＸ−Ｙ駆動機構１５０−２が位置決め
指令信号Ｃ2が示すキャリア本体３０′の中心位置にア
ンローダ１２２の中心位置が一致するように、アンロー
ダ１２２を位置決めする。さらに、回転指令信号Ｃ3に
基づいて、チャック回転機構１７０−２のモータ１７３
を駆動して、取付体１７１を回転指令信号Ｃ3が示す角
度だけ回転させる。この状態でアンローダ１２２がキャ
リア本体３０′に下降されると、アンローダ１２２のチ
ャック１２３とキャリア本体３０′のワーク保持孔３１
との位置が一致し、１５枚のワークＷすべてが１５本の
チャック１２３によって保持される。そして、ワークＷ
を保持したアンローダ１２２がキャリア本体３０′の真
上まで上昇すると、アンローダ１２２の中心位置が初期
位置に戻されると共に、取付体１７１が逆回転されて元
の角度に戻された後、アンローダ１２２がテーブル１２
１迄移動させられる。一方、搬入装置１１０は、検出信
号Ｓoに基づいた位置決め指令信号Ｃ2と剰余角信号Ｔに
基づいた回転指令信号Ｃ3とを搬入制御部１３１から入
力している。このため、搬入装置１１０は、搬出装置１
２０から同期信号Ｓ2を入力すると、アンローダ１２２
の動作と同期するように、ローダ１１２を動作させ、ロ
ーダ１１２がキャリア本体３０′の真上に至った時点
で、位置決め指令信号Ｃ2に基づいて、第１のＸ−Ｙ駆
動機構１５０−１がローダ１１２の中心位置を位置決め
すると共に、回転指令信号Ｃ3に基づいて、チャック回
転機構１７０−１のモータ１７３が取付体１７１を回転
させる。しかる後、ローダ１１２が下降され、ローダ１
１２によって保持されたワークＷがキャリア本体３０′
のワーク保持孔３１内に収納される。そして、ワークＷ
を切り離したローダ１１２がキャリア本体３０′の真上
まで上昇すると、ローダ１１２の中心位置が初期位置に
戻されると共に、取付体１７１が逆回転されて元の角度
に戻された後、ローダ１１２がテーブル１１１迄移動さ
せられる。その他の構成，作用効果は、上記第５及び第
６の実施形態と同様であるので、その記載は省略する。

【００６３】（第８の実施形態）図３４は、この発明の
第８の実施形態に係る両面研磨システムの要部であるシ
ステムコントローラを示すブロック図である。上記第４
及び第５の実施形態では、ワークＷが所定厚さまで研磨
された時点で、研磨作業を終了し、キャリア本体３０を
研磨作業開始時の位置にリセットする構成としたが、こ
の実施形態では、ワークＷの厚さは検出せず、予め定め
た時間内に、研磨作業を終了すると共にキャリア本体３
０を研磨作業開始時に位置にリセットさせる構成とした
点が、上記第４及び第５の実施形態と異なる。

【００６４】具体的には、この実施形態の両面研磨シス
テムは、図３４に示すように、中心位置検出装置１６０
とシステムコントローラ１３０−５とを備え、システム
コントローラ１３０−５は、搬入制御部１３１と搬出制
御部１３２と研磨制御部１３３−５とタイマー１３５と
を有している。研磨制御部１３３−５は、搬入装置１１
０から研磨指令信号Ｓ1を入力すると、タイマー１３５
をスタートさせ、予め定められた基準時間ｔとタイマー
１３５が示す経過時間との時間差Δｔを監視する。基準
時間ｔは、ワークＷを所定厚さまで研磨するに要する時
間であり、経験値から設定されている。したがって、基
準時間ｔは研磨作業時間であり、時間差Δｔは研磨作業
の残り時間を意味する。キャリア本体３０は、研磨作業
中に第１のキャリア揺動機構４によって８の字状に繰り
返し揺動されるが、８の字状揺動の一周期の時間は一定
である。研磨制御部１３３−５は、時間差Δｔがこの８
の字状揺動の一周期時間よりも短くなった時点で、リセ
ット信号Ｒを第１のキャリア揺動機構４に出力して、第
１のキャリア揺動機構４を制御し、時間差Δｔの半分の
時間だけ継続してキャリア本体３０を揺動させた後、キ
ャリア本体３０を８の字状の軌跡に沿って研磨作業開始
時の位置に戻す機能を有している。

【００６５】詳しくは、図３５に示すように、キャリア
本体３０の中心が８の字状軌跡上の点Ｐ１に至った時点
で、時間差Δｔが８の字状揺動の一周期時間よりも短く
なった場合には、リセット信号Ｒを第１のキャリア揺動
機構４に出力して、キャリア本体３０を時間差Δｔの２
分の１の時間だけ研磨作業時の方向と同方向である矢印
Ｆ方向に揺動させた後、キャリア本体３０を８の字状の
軌跡に沿って逆矢印Ｆ方向に移動させる。この際、リセ
ット信号Ｒを中心位置検出装置１６０に出力して、中心
位置検出装置１６０からの検出信号Ｓoを監視する。そ
して、検出信号Ｓoが示すキャリア本体３０の中心位置
が研磨作業開始時の中心位置Ｏに一致したときに、第１
のキャリア揺動機構４を停止させて、キャリア本体３０
を研磨作業開始位置にリセットする。

【００６６】この実施形態が、上記リセット方式を採る
ことにより、過研磨を防止することができる。すなわ
ち、上記第４及び第５の実施形態では、ウエハＷが所定
厚さになった後、キャリア本体３０をリセットするの
で、ウエハＷがリセット時の動作によって余分に研磨さ
れ、過研磨が生じるおそれがある。これに対して、この
実施形態では、ウエハＷが所定厚さになる基準時間ｔ内
でのみ動かされるので、過研磨が生じることはほとんど
ない。その他の構成，作用効果は、上記第４及び第５の
実施形態と同様であるので、その記載は省略する。

【００６７】なお、この発明は、上記実施形態に限定さ
れるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の
変形や変更が可能である。上記実施形態では、キャリア
本体３０（３０′）の外周ワーク保持孔群３２を１０個
のワーク保持孔３１で形成し、内周ワーク保持孔群３３
を５個のワーク保持孔３１で形成したが、これらに限定
されるものではなく、外周ワーク保持孔群３２，内周ワ
ーク保持孔群３３を形成するワーク保持孔３１の数は適
宜設定することができる。好ましくは、「１７：８」
等、外周ワーク保持孔群３２を形成するワーク保持孔３
１の数と内周ワーク保持孔群３３を形成するワーク保持
孔３１の数との比を略「２：１」とする。また、上記第
３の実施形態では、キャリア回転機構５を設けない形態
について説明したが、第２のキャリア揺動機構６の他に
さらにキャリア回転機構５を設けた構成とすることもで
きることは勿論である。さらに、上記実施形態では、両
面ラッピング装置について説明したが、この発明は、下
定盤１及び上定盤２の表面に研磨パッドを貼り付けた両
面ポリッシング装置にも適用することができる。

【００６８】

【発明の効果】以上詳しく説明したように、請求項１，
請求項４及び請求項５の発明に係る両面研磨装置によれ
ば、Ｍ重のワーク保持孔群に保持されたワークの研磨レ
ートを全て同一にした状態で全てのワークを同時に研磨
することができるので、研磨精度を維持しつつワークの
量産性を高めることができるという優れた効果がある。
また、全ての分割下定盤部及び分割上定盤部において単
位時間当たりの摩耗量を同一にすることができるので、
下定盤及び上定盤の偏摩耗防止することができる。

【００６９】また、請求項２及び請求項３の発明に係る
両面研磨装置によれば、一つのワーク保持孔群に保持さ
れた全てのワークの研磨レートをほぼ均一にすることが
できるので、研磨精度のさらなる向上を図ることができ
る。

【００７０】さらに、請求項６ないし請求項１３の発明
にかかる両面研磨システムによれば、ワークの搬入，研
磨，搬出を自動的に行うことができるので、ワークの量
産性を更に高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態に係る両面研磨装置
を示す概略断面図である。

【図２】スライド機構を示す部分拡大断面図である。

【図３】スラリ供給器を示す部分拡大断面図である。

【図４】図１の両面研磨装置を示す平面図である。

【図５】キャリア保持枠を示す断面図である。

【図６】第１のキャリア揺動機構の動作説明図である。

【図７】ワークの８の字揺動状態を示す平面図である。

【図８】分割下定盤部の内側と外側とで周速度が異なる
ことを説明するための部分平面図である。

【図９】この発明の第２の実施形態に係る両面研磨装置
を示す平面図である。

【図１０】図９の両面研磨装置に適用されるキャリア保
持枠を示す断面図である。

【図１１】キャリア回転機構を示す断面図である。

【図１２】各ワークの揺動方向を説明するための平面図
である。

【図１３】この発明の第３の実施形態に係る両面研磨装
置を示す平面図である。

【図１４】この発明の第４の実施形態に係る両面研磨シ
ステムを示す概略断面図である。

【図１５】チャックの配置状態を示すローダの下面図で
ある。

【図１６】図１４の両面研磨システムに適用されるシス
テムコントローラを示すブロック図である。

【図１７】ローダ及びアンローダがテーブル及びキャリ
ア本体の真上に位置した状態を示す概略図である。

【図１８】ローダ及びアンローダの下降状態を示す概略
図である。

【図１９】ローダ及びアンローダのワーク搬送状態を示
す概略図である。

【図２０】ローダ及びアンローダによるキャリア本体及
びテーブルへの搬入及び搬出動作を示す概略図である。

【図２１】ローダ及びアンローダの初期状態への復帰動
作を示す概略図である。

【図２２】両面研磨装置によるワークの研磨動作を示す
概略図である。

【図２３】この発明の第５の実施形態に係る両面研磨シ
ステムの要部であるシステムコントローラを示すブロッ
ク図である。

【図２４】研磨終了時のキャリア本体を研磨開始時の状
態の戻す回転角度を説明するための平面図である。

【図２５】この発明の第６の実施形態に係る両面研磨シ
ステムを示す平面図である。

【図２６】第１のＸ−Ｙ駆動機構を一部破断して示す搬
入装置の正面図である。

【図２７】第１のＸ−Ｙ駆動機構を一部破断して示す搬
入装置の側面図である。

【図２８】中心位置検出装置の構造説明図である。

【図２９】中心位置検出を説明するための概略図であ
る。

【図３０】システムコントローラを示すブロック図であ
る。

【図３１】この発明の第７の実施形態に係る両面研磨シ
ステムを示す平面図である。

【図３２】チャック回転機構を示す断面図である。

【図３３】システムコントローラを示すブロック図であ
る。

【図３４】この発明の第８の実施形態に係る両面研磨シ
ステムの要部であるシステムコントローラを示すブロッ
ク図である。

【図３５】リセット動作を説明するための概略図であ
る。

【図３６】従来の両面研磨装置の一例を示す概略断面図
である。

【図３７】キャリアの中心の軌跡を示す平面図である。

【図３８】ワーク中心の軌跡を示す平面図である。

【図３９】二重のワーク保持孔群を有したキャリア示す
平面図である。

【符号の説明】

１…下定盤、 ２…上定盤、 ３…キャリア、 ４…第
１のキャリア揺動機構、 ４−１，４−２，６−１，６
−２…クランク機構、 ５…キャリア回転機構、６…第
２のキャリア揺動機構、 １０，１１…分割下定盤部、
２０，２１…分割上定盤部、 ３０，３０′…キャリ
ア本体、 ３１…ワーク保持孔、 ３２…外周ワーク保
持孔群、 ３３…内周ワーク保持孔群、 ３７，３７′
…キャリア保持枠、 ４９，４９′…コントローラ、
５０…モータ、 ５２…ギア、１００，２００…両面研
磨装置、 １０１…厚さ検出器、 １１０…搬入装置、
１１２…ローダ、 １１３，１２３…チャック、１１
４，１１５，１２４，１２５…チャック群、 １２０…
搬出装置、 １２２…アンローダ、 １３０−１〜１３
０−４…システムコントローラ、 １３１…搬入制御
部、 １３２…搬出制御部、 １３３−１〜１３３−４
…研磨制御部、 １３４，１３４′…回転角度演算部、
１５０−１…第１のＸ−Ｙ駆動機構、 １５０−２…
第２のＸ−Ｙ駆動機構、 １６０…中心位置検出装置、
１７０−１，１７０−２…チャック回転機構、 Ｓ1
…研磨指令信号、 Ｓ2…同期信号、 Ｓd…測定信号、
Ｓe…エンド信号、 Ｓin…搬入信号、 Ｓo…検出信
号、 Ｓout…搬出信号、Ｓs…スタート信号、 Ｃ1…
回転指令信号、 Ｃ2…位置決め指令信号、 Ｃ3…回転
指令信号、 Ｒ…リセット信号、 Ｔ…剰余角信号、
Ｖ１，Ｖ２…周速度、Ｗ…ワーク。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 周方向にリング状に穿設されたＮ（２以
   上の整数）数のワーク保持孔でなるワーク保持孔群が、
   同心状にＭ（２以上の整数）重に配設されたキャリア本
   体、及びこのキャリア本体の外縁部を保持したキャリア
   保持枠を有してなるキャリアと、 上記Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワーク保持孔群の
   下側に配され且つ各々が独立に駆動回転可能なＭ重の分
   割下定盤部を有してなる下定盤と、 上記Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワーク保持孔群の
   上側に配され且つ各々が独立に駆動回転可能なＭ重の分
   割上定盤部を有してなる上定盤と、 上記キャリアのキャリア保持枠を保持して、上記ワーク
   保持孔内の各ワークが当該ワークを上下から挟む分割上
   定盤部及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に
   揺動するように、キャリア本体を揺動させる第１のキャ
   リア揺動機構とを具備することを特徴とする両面研磨装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の両面研磨装置におい
   て、 上記キャリアのキャリア保持枠を、上記キャリア本体が
   回転できるようにキャリア本体の外縁部を保持する構造
   にすると共に、 上記キャリア本体を回転させるキャリア回転機構を設け
   た、 ことを特徴とする両面研磨装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の両面研
   磨装置において、 上記ワーク保持孔内の各ワークを、当該ワークを上下か
   ら挟む分割上定盤部及び分割下定盤部の範囲内において
   略８の字状に揺動させ、且つ当該略８の字状の揺動を上
   記第１のキャリア揺動機構による略８の字状の揺動に対
   して略垂直に行う第２のキャリア揺動機構を設けた、 ことを特徴とする両面研磨装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載の両面研磨装置において、 上記キャリア本体のワーク保持孔群の重なり数Ｍを２に
   設定し、 当該２つのワーク保持孔群のうちの外周側のワーク保持
   孔群をなすワーク保持孔の数Ｎと内周側のワーク保持孔
   群をなすワーク保持孔の数Ｎとの比を、略２：１に設定
   した、 ことを特徴とする両面研磨装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし請求項４のいずれかに記
   載の両面研磨装置において、 上記上定盤のＭ重の分割上定盤部をそれぞれ独立に上記
   下定盤側に押圧可能なＭ数の押圧機構を設けた、 ことを特徴とする両面研磨装置。
6. 【請求項６】 周方向にリング状に穿設されたＮ（２以
   上の整数）数のワーク保持孔でなるワーク保持孔群が同
   心状にＭ（２以上の整数）重に配設されたキャリア本
   体、及びこのキャリア本体の外縁部を保持したキャリア
   保持枠を有してなるキャリアと、上記Ｍ重のワーク保持
   孔群に対応してワーク保持孔群の下側に配され且つ各々
   が独立に駆動回転可能なＭ重の分割下定盤部を有してな
   る下定盤と、上記Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワー
   ク保持孔群の上側に配され且つ各々が独立に駆動回転可
   能なＭ重の分割上定盤部を有してなる上定盤と、上記キ
   ャリアのキャリア保持枠を保持して、上記ワーク保持孔
   内の各ワークが当該ワークを上下から挟む分割上定盤部
   及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に揺動す
   るように、キャリア本体を揺動させる第１のキャリア揺
   動機構とを有した両面研磨装置を具備する両面研磨シス
   テムであって、 上記キャリア本体のワーク保持孔に対応して周方向にリ
   ング状に配設されたＮ数のチャックでなるチャック群を
   Ｍ重に有し、上記チャックで保持した未研磨のワークを
   上記キャリア本体のワーク保持孔内に搬入するためのロ
   ーダと、 上記キャリア本体のワーク保持孔に対応して周方向にリ
   ング状に配設されたＮ数のチャックでなるチャック群を
   Ｍ重に有し、上記チャックで上記キャリア本体のワーク
   保持孔内の既研磨ワークを保持して搬出するアンローダ
   と、 上記両面研磨装置の研磨作業終了時に、第１のキャリア
   揺動機構を制御して、上記キャリア本体を研磨作業開始
   時の位置にリセットする制御装置とを備えることを特徴
   とする両面研磨システム。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の両面研磨システムにお
   いて、 上記制御装置は、上記第１のキャリア揺動機構を制御す
   ることにより、研磨作業残り時間が上記略８の字状揺動
   の一周期時間よりも短くなった時点で、上記残り時間の
   半分の時間だけ継続してキャリア本体を揺動させた後、
   キャリア本体を略８の字状の軌跡に沿って研磨作業開始
   時の位置に戻すものである、 ことを特徴とする両面研磨システム。
8. 【請求項８】 請求項６に記載の両面研磨システムにお
   いて、 上記両面研磨装置は、上記ワーク保持孔内の各ワーク
   を、当該ワークを上下から挟む分割上定盤部及び分割下
   定盤部の範囲内において略８の字状に揺動させ、且つ当
   該略８の字状の揺動を上記第１のキャリア揺動機構によ
   る略８の字状の揺動に対して略垂直に行う第２のキャリ
   ア揺動機構を有し、 上記制御装置は、両面研磨装置の研磨作業終了時に、上
   記第１及び第２のキャリア揺動機構のいずれかを制御し
   て、上記キャリア本体を研磨作業開始時の位置にリセッ
   トするものである、 ことを特徴とする両面研磨システム。
9. 【請求項９】 請求項６に記載の両面研磨システムにお
   いて、 上記両面研磨装置におけるキャリア本体の各ワーク保持
   孔群を構成するＮ数のワーク保持孔を、キャリア本体の
   中心に関して点対称に配し、 上記キャリア保持枠を、上記キャリア本体が回転できる
   ようにキャリア本体の外縁部を保持する構造にすると共
   に、 上記キャリア本体を回転させるキャリア回転機構を設
   け、 制御装置を、上記両面研磨装置の研磨作業終了時に、上
   記第１のキャリア揺動機構を制御して、上記キャリア本
   体を研磨作業開始時の位置にリセットさせると共に、最
   内周のワーク保持孔群を構成するワーク保持孔の数Ｎで
   ３６０゜を除した角度の整数倍であって且つ上記キャリ
   ア本体の回転角度に最も近い角度までキャリア本体を回
   転させることができる構成とした、 ことを特徴とする両面研磨システム。
10. 【請求項１０】 請求項８に記載の両面研磨システムに
    おいて、 上記両面研磨装置におけるキャリア本体の各ワーク保持
    孔群を構成するＮ数のワーク保持孔を、キャリア本体の
    中心に関して点対称に配し、 上記キャリア保持枠を、上記キャリア本体が回転できる
    ようにキャリア本体の外縁部を保持する構造にすると共
    に、 上記キャリア本体を回転させるキャリア回転機構を設
    け、 制御装置を、上記両面研磨装置の研磨作業終了時に、上
    記第１及び第２のキャリア揺動機構のいずれかを制御し
    て、上記キャリア本体を研磨作業開始時の位置にリセッ
    トさせると共に、最内周のワーク保持孔群を構成するワ
    ーク保持孔の数Ｎで３６０゜を除した角度の整数倍であ
    って且つ上記キャリア本体の回転角度に最も近い角度ま
    でキャリア本体を回転させることができる構成とした、 ことを特徴とする両面研磨システム。
11. 【請求項１１】 周方向にリング状に穿設されたＮ（２
    以上の整数）数のワーク保持孔でなるワーク保持孔群が
    同心状にＭ（２以上の整数）重に配設されたキャリア本
    体、及びこのキャリア本体の外縁部を保持したキャリア
    保持枠を有してなるキャリアと、上記Ｍ重のワーク保持
    孔群に対応してワーク保持孔群の下側に配され且つ各々
    が独立に駆動回転可能なＭ重の分割下定盤部を有してな
    る下定盤と、上記Ｍ重のワーク保持孔群に対応してワー
    ク保持孔群の上側に配され且つ各々が独立に駆動回転可
    能なＭ重の分割上定盤部を有してなる上定盤と、上記キ
    ャリアのキャリア保持枠を保持して、上記ワーク保持孔
    内の各ワークが当該ワークを上下から挟む分割上定盤部
    及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に揺動す
    るように、キャリア本体を揺動させる第１のキャリア揺
    動機構とを有した両面研磨装置を具備する両面研磨シス
    テムであって、 上記キャリア本体のワーク保持孔に対応して周方向にリ
    ング状に配設されたＮ数のチャックでなるチャック群を
    Ｍ重に有し、上記チャックで保持した未研磨のワークを
    上記キャリア本体のワーク保持孔内に搬入するためのロ
    ーダと、 上記キャリア本体のワーク保持孔に対応して周方向にリ
    ング状に配設されたＮ数のチャックでなるチャック群を
    Ｍ重に有し、上記チャックで上記キャリア本体のワーク
    保持孔内の既研磨ワークを保持して搬出するアンローダ
    と、 上記ローダを上記両面研磨装置のキャリア本体と平行な
    面内で移動させることができる第１のＸ−Ｙ移動機構
    と、 上記アンローダを上記両面研磨装置のキャリア本体と平
    行な面内で移動させることができる第２のＸ−Ｙ移動機
    構と、 上記両面研磨装置の研磨作業終了時に、上記第１のＸ−
    Ｙ移動機構を制御して、上記ローダのＭ重のチャック群
    の中心位置が上記両面研磨装置のキャリア本体の中心位
    置に略一致するように、上記ローダを移動させると共
    に、上記第２のＸ−Ｙ移動機構を制御して、上記アンロ
    ーダのＭ重のチャック群の中心位置が上記キャリア本体
    の中心位置に略一致するように、上記アンローダを移動
    させる制御装置とを備えることを特徴とする両面研磨シ
    ステム。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の両面研磨システム
    において、 上記両面研磨装置のキャリア本体に形成されたワーク保
    持孔内の各ワークを、当該ワークを上下から挟む分割上
    定盤部及び分割下定盤部の範囲内において略８の字状に
    揺動させ、且つ当該略８の字状の揺動を上記第１のキャ
    リア揺動機構による略８の字状の揺動に対して略垂直に
    行う第２のキャリア揺動機構を設けた、 ことを特徴とする両面研磨システム。
13. 【請求項１３】 請求項１１または請求項１２に記載の
    両面研磨システムにおいて、 上記両面研磨装置におけるキャリア保持枠を、上記キャ
    リア本体が回転できるようにキャリア本体の外縁部を保
    持する構造にすると共に、上記キャリア本体を回転させ
    るキャリア回転機構を設け、 上記ローダ及びアンローダに、上記Ｍ重のチャック群を
    その中心周りで一体に回転させることができるチャック
    回転機構をそれぞれ設け、 上記制御装置を、上記両面研磨装置の研磨作業終了時
    に、上記第１及び第２のＸ−Ｙ移動機構を制御して、上
    記ローダ及びアンローダのそれぞれに設けられたＭ重の
    チャック群の中心位置が上記両面研磨装置のキャリア本
    体の中心位置に略一致するように、ローダ及びアンロー
    ダをそれぞれ移動させると共に、これらローダ及びアン
    ローダの各チャック回転機構を制御して、各装置のチャ
    ック群をキャリア本体の回転角度に対応した角度まで回
    転させることができる構成とした、 ことを特徴とする両面研磨システム。