JP2000042913A - 両面研磨装置のワーク給排システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 自転しない円運動をするキャリヤを備える両
面研磨装置について、簡単な構成で、ウェーハの給排を
自動的に行うことが可能であること。 【解決手段】 薄平板に透孔１２ａが設けられて成るキ
ャリヤ１２と、ウェーハに対して相対的に移動して研磨
する上定盤１４及び下定盤１６と、キャリヤ１２を自転
しない円運動をさせ、透孔１２ａ内で上定盤１４と下定
盤１６との間に保持されたウェーハを旋回移動させるキ
ャリヤ旋回運動機構２０と、キャリヤ旋回運動機構２０
に設けられ、キャリヤ１２を所定の位置に停止させるキ
ャリヤ停止手段４３と、キャリヤ停止手段４３によって
停止したキャリヤの透孔１２ａ内に、ウェーハを供給す
るワーク供給手段４６と、キャリヤ停止手段４３によっ
て停止したキャリヤの透孔１２ａ内から、ウェーハを排
出するワーク排出手段４８とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は両面研磨装置に関す
る。両面研磨装置としては、従来から、エクスターナル
ギヤ（以下、「外歯車」という）とインターナルギヤ
（以下、「内歯車」という）を異なる角速度で回転する
ことによって、加工材料（以下、「ワーク」という）を
担持した遊星歯車に相当するキャリヤを自転させるとと
もに公転させ、そのキャリヤの上下に配された研磨面を
有する上定盤及び下定盤が、ワークを上下から挟むと共
にワークに対して相対的に移動して研磨する遊星歯車機
構を用いたものがある。この両面研磨装置は、ラッピン
グ装置（ラップ盤）、またはポリシング装置として使用
され、精度が高く、両面を同時に研磨できるため加工時
間が短くて済み、半導体チップの素材となるシリコンウ
ェーハ等の薄物研磨加工に適している。

【０００２】

【従来の技術】従来の遊星歯車機構を用いたポリシング
装置の構成について、図９に基づいて説明する。１１２
は上定盤、１１４は下定盤であり、それぞれの表面には
研磨布（クロス）が付けられており、その研磨布によっ
て研磨面が形成されている。１１６は外歯車、１１８は
内歯車である。また、１２０はキャリヤであり、このキ
ャリヤ１２０に穿設された透孔内にワーク１２１が保持
され、外歯車１１６と内歯車１１８と噛み合って回転す
る。上定盤１１２は上定盤回し金１１２ａに連繋され、
この上定盤回し金１１２ａから垂下したシャフト１１２
ｂの先端にギヤ１１２ｃが設けられている。ギヤ１１２
ｃはアイドルギヤ１１２ｄに、そのアイドルギヤ１１２
ｄはギヤ１１２ｅに噛合している。このギヤ１１２ｅ
は、スピンドル１２６と一体に回転すべく、スピンドル
１２６と同軸に設けられている。下定盤１１４は、その
下定盤１１４に同軸に設けられたギヤ１１４ａを介し、
スピンドル１２６に同軸に設けられたギヤ１１４ｂに連
繋している。外歯車１１６は、その外歯車１１６に同軸
に設けられたギヤ１１６ａを介し、スピンドル１２６に
同軸に設けられた伝達ギヤ１１６ｂに連繋している。内
歯車１１８は、その内歯車１１８に同軸に設けられたギ
ヤ１１８ａを介し、スピンドル１２６に同軸に設けられ
た伝達ギヤ１１８ｂに連繋している。すなわち、このポ
リシング装置は、一つの駆動装置によって、外歯車１１
６、内歯車１１８、上定盤及び下定盤１１２、１１４を
回転駆動させる、いわゆる４ウェイ駆動方式となってい
る。なお、スピンドル１２６は可変減速機１３２に連結
され、その可変減速機１３２は、ベルト１３６を介して
モータ１３４と連結されており、スピンドル１２６の回
転速度を制御する。

【０００３】この遊星歯車機構を用いたポリシング装置
によれば、例えば、外歯車１１６の角速度に比べて内歯
車１１８の角速度の方が大きくなるようにギヤ１１６ａ
と伝達ギヤ１１６ｂの回転比、及びギヤ１１８ａと伝達
ギヤ１１８ｂの回転比がそれぞれ設定されている場合、
外歯車１１６と内歯車１１８との間に噛合したキャリヤ
１２０は、内歯車１１８の回転方向と同一方向（例え
ば、「反時計方向」とする）に公転し、且つ時計方向に
自転する。また、下定盤１１４も同じく反時計方向に回
転するが、上定盤１１２はアイドルギヤ１１２ｄが介在
するので時計方向に回転する。なお、研磨条件に応じ
て、キャリヤ１２０の回転方向及び回転速度等は、外歯
車１１６と内歯車１１８の角速度の設定によって変更す
ることができる。

【０００４】また、ワーク１２１の表裏の研磨面へは、
砥粒等を含む液状の研磨剤が供給され、その液状の研磨
剤の作用によってワーク１２１の研磨が好適になされ
る。シリコンウェーハの研磨では、通常、アルカリ性の
研磨液に砥粒が分散されてなる研磨剤（通称「スラリ
ー」）が、シリコンウェーハと研磨用定盤の研磨面との
間に供給されて研磨がなされる。液状の研磨剤を供給す
る方法としては、上定盤１１２に上下方向へ貫通して設
けられた研磨剤供給用の孔を介し、液状の研磨剤を上方
からポンプ動力及び重力を利用して滴下させて供給する
ことが一般的になされている。研磨剤供給用の孔から吐
出した液状の研磨剤は、上定盤１１２の研磨面とワーク
１２１が接触してそのワーク１２１を研磨する研磨部へ
供給されると共に、隣合うキャリヤ１２０同士の間を通
過して下定盤１１４の研磨面上へ流れ、下定盤１１４の
研磨面とワーク１２１が接触してそのワーク１２１を研
磨する研磨部へ供給される。

【０００５】図１０は、図９のポリシング装置にかかる
キャリヤ１２０の配置例を説明する平面図であり、隣合
うキャリヤ１２０同士の間には空隙部Ａがある。この空
隙部Ａは内径部にも外径部にも十分な広さで存在し、液
状の研磨剤は下定盤１１４の研磨面上へも好適に供給さ
れる。このように、液状の研磨剤は、簡単な上方からの
供給手段によって、ワーク１２１の両面について十分に
供給される。このポリシング装置によれば、液状の研磨
剤を好適に供給でき、キャリヤ１２０を複雑に運動させ
ることができるため、研磨むらを防止して均一にワーク
１２１（例えば、シリコンウェーハ）研磨できる。従っ
て、ワークの平坦度を向上できる。また、ワーク１２１
の両面を同時に研磨できるため、研磨効率を向上でき
る。

【０００６】しかしながら、上記従来の遊星歯車機構を
用いた両面研磨装置では、キャリヤ１２０が外歯車１１
６と内歯車１１８の間で移動する構造になるため、最近
のシリコンウェーハ等のワーク１２１の大型化に対応し
にくい。すなわち、キャリヤ１２０の直径を、定盤の半
径より大きくすることは不可能であり、定盤の研磨面を
効率良く利用することができない。また、従来の遊星歯
車機構を用いた両面研磨装置では、複雑な歯車機構とな
っており、大型化することが難しく、大型の装置を製造
するには材料、加工、配置スペース的な問題など、様々
な面でコストが嵩んでしまう。

【０００７】このため、本願出願人は、背景技術として
次のような両面研磨装置を開発してある。すなわち、そ
の両面研磨装置は、薄平板に透孔が設けられて成るキャ
リヤと、そのキャリヤの透孔内に配された板状のワーク
であるウェーハを、上下から挟むと共にそのウェーハに
対して相対的に移動して研磨する上定盤及び下定盤とを
備える両面研磨装置であって、前記キャリヤを、キャリ
ヤホルダーを介してキャリヤの面と平行な面内で自転し
ない円運動をさせ、前記透孔内で上定盤と下定盤の間に
保持されたウェーハを旋回移動させるキャリヤ旋回運動
機構を具備する。なお、上定盤及び下定盤は、各々回転
（自転）運動するように設けられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記背
景技術の自転しない円運動をするキャリヤを備える両面
研磨装置では、ワークの給排を自動的に行うことについ
て、検討がなされていないという課題がある。すなわ
ち、ワークの給排を自動的に行うには、前記キャリヤの
透孔の位置を特定して、その特定された位置へ制御され
た搬送ロボット等の搬送装置によって、ワークを給排す
ればよいが、そのための好適な構成が提案されていな
い。なお、画像処理手段等の複雑なキャリヤ位置検出手
段と、高度な給排機構及び制御装置を利用すれば、キャ
リヤの透孔の位置を特定することができ、ワークの給排
の自動化は不可能ではないが、装置の構成が複雑になっ
て設置が難しく、製造コストが高騰してしまう。

【０００９】また、前記キャリヤ旋回運動機構によって
自転しない円運動をする前記キャリヤについて、その停
止位置を、所定の同一位置に一定とする手段が検討され
ていなかった。これは、人手によってワークを給排する
場合など、キャリヤの透孔等が所定の位置になくとも、
作業者の判断で柔軟に対応できるためであり、キャリヤ
を所定の位置に停止させることを要しなかったことによ
る。これに対して、両面研磨装置にかかる自動化を行う
場合は、キャリヤが所定の位置に停止しないと、機械装
置にとってはキャリヤの透孔の位置等を特定することが
難しく、例えば、ワークの給排を自動的に行うことが困
難になる。このため、簡単で好適にキャリヤを所定の位
置に停止させる手段が望まれる。

【００１０】そこで、本発明の目的は、自転しない円運
動をするキャリヤを備える両面研磨装置について、簡単
な構成で、ワークの給排を自動的に行うことが可能な両
面研磨装置のワーク給排システムを提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、本発明は、
薄平板に透孔が設けられて成るキャリヤと、該キャリヤ
の透孔内に配された板状のワークを、上下から挟むと共
に該ワークに対して相対的に移動して研磨する上定盤及
び下定盤と、前記キャリヤを、該キャリヤの面と平行な
面内で自転しない円運動をさせ、前記透孔内で上定盤と
下定盤との間に保持された前記ワークを旋回移動させる
キャリヤ旋回運動機構とを備える両面研磨装置にワーク
を給排する両面研磨装置のワーク給排システムであっ
て、前記キャリヤ旋回運動機構に設けられ、前記キャリ
ヤを所定の位置に停止させるキャリヤ停止手段と、前記
キャリヤ停止手段によって停止した前記キャリヤの透孔
内に、ワークを供給するワーク供給手段と、前記キャリ
ヤ停止手段によって停止した前記キャリヤの透孔内か
ら、ワークを排出するワーク排出手段とを具備する。

【００１２】また、前記上定盤及び下定盤は、前記キャ
リヤの面に直交する方向に平行な軸心を中心に自転駆動
されることで、ワークと上定盤及び下定盤とを相対的に
複雑に運動させることができ、研磨精度を向上できる。

【００１３】また、前記キャリヤ停止手段は、前記キャ
リヤを駆動させる駆動装置としてのサーボモータと、該
サーボモータを制御する制御装置から成るサーボ機構で
あることで、極めて簡単にキャリヤ停止手段を構成で
き、ひいてはワークの給排にかかる自動化を容易に行う
ことができる。

【００１４】また、前記キャリヤ旋回運動機構は、前記
キャリヤを保持するキャリヤホルダーと、前記キャリヤ
の面に直交する方向に軸心が平行であって前記キャリヤ
ホルダーに軸着されるホルダー側の軸、及び該ホルダー
側の軸に軸心が平行であると共に所定の距離をおいて基
体に軸着される基体側の軸を備え、前記基体側の軸を中
心にホルダー側の軸を旋回させることでキャリヤホルダ
ーを基体に対して自転しない円運動をさせるクランク部
材と、該クランク部材を基体側の軸を中心に回転させる
駆動装置とを具備することで、簡単な構成でありなが
ら、キャリヤホルダーに保持されたキャリヤを好適に自
転しない円運動をさせることができる。

【００１５】また、前記クランク部材が複数設けられ、
該複数のクランク部材は同期して円運動するよう、前記
基体側の軸同士がタイミングチェーン等の同期手段によ
って連繋されていることで、簡単な構成でキャリヤを好
適且つ安定的に運動させることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を添
付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の両面
研磨装置のワーク給排システムにかかる両面研磨装置の
一実施例を模式的に示した斜視分解図であり、図２は図
１の実施例が作動している際の各構成の位置関係を示す
側断面図である。本実施例は、板状のワークであるシリ
コンのウェーハ１０を研磨する両面研磨装置であり、薄
平板に透孔１２ａが設けられて成るキャリヤ１２と、そ
のキャリヤ１２の透孔内に配されたウェーハ１０を、上
下から挟むと共にウェーハ１０に対して相対的に移動し
て研磨する上定盤１４及び下定盤１６とを備える。上定
盤１４及び下定盤１６のそれぞれの表面には、クロスと
呼ばれる研磨布１４ａ、１６ａが付けられており、その
研磨布１４ａ、１６ａによって研磨面が形成されてい
る。また、本実施例の上定盤１４及び下定盤１６は、キ
ャリヤ１２の面に直交する方向に平行な軸心を中心に自
転駆動される。ウェーハ１０は、円形であり円形の透孔
１２ａ内に遊嵌されており、透孔１２ａの中ではフリー
に自転可能なサイズになっている。キャリヤ１２は、例
えば、ガラスエポキシ板で形成され、厚さ０、８ｍｍの
ウェーハ１０に対して厚さ０、７ｍｍ程度に設定された
ものが一般的である。

【００１７】２０はキャリヤ旋回運動機構であり、キャ
リヤ１２を、そのキャリヤ１２の面と平行な面内で運動
をさせ、透孔１２ａ内で上定盤１４と下定盤１６との間
に保持されたウェーハ１０を運動させる運動機構の一例
である。本実施例におけるキャリヤ旋回運動機構２０
は、キャリヤ１２を、そのキャリヤ１２の面と平行な面
内で自転しない円運動をさせ、透孔１２ａ内で保持され
て上定盤１４と下定盤１６とによって挟持されたウェー
ハ１０を旋回移動させる。すなわち、キャリヤ１２の厚
さを考えない場合に、キャリヤ１２の面と同一の面内
で、そのキャリヤ１２に自転しない円運動をさせること
になる。このキャリヤ旋回運動機構２０の具体的な構成
について以下に説明する。

【００１８】２２はキャリヤホルダーであり、リング状
に形成されており、キャリヤ１２を保持している。ここ
で、キャリヤ１２とキャリヤホルダー２２とを連繋する
連繋手段５０について説明する。図３はキャリヤ１２と
キャリヤホルダー２２の一例の全体形態を説明する説明
図（（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図）であり、図４は
図３の連繋手段の作用を説明する要部拡大断面図であ
る。連繋手段５０は、キャリヤ１２を、そのキャリヤ１
２が自転しないと共に、そのキャリヤ１２の熱膨張によ
る伸びを吸収するように、キャリヤホルダー２２へ連繋
させることで保持させている。本実施例の連繋手段５０
では、図４に示すように、キャリヤホルダー２２側に設
けられたピン２３と、ピン２３に遊嵌すべくキャリヤ１
２にそのキャリヤ１２の熱膨張による伸び方向（本実施
例では円形のキャリヤ１２の径方向）へクリアランスが
設けられて形成された穴１２ｂとを備える。穴１２ｂの
クリアランスは、少なくともキャリヤ１２の熱膨張によ
る伸びを吸収する方向に好適に設ければよく、例えば、
長穴に形成されていればよい。

【００１９】また、本実施例において、キャリヤ１２
は、その外周縁についても熱膨張した際に好適にスライ
ドできるように、キャリヤホルダー２２の内周面２２ａ
との間にクリアランスが生じるように形成されている。
すなわち、内周面２２ａの内径よりもキャリヤ１２の外
径が、所定の寸法小径に形成されている。そして、上述
したようにキャリヤ１２の熱膨張を考慮してクリアラン
スを設けておいたキャリヤ１２の穴１２ｂを、キャリヤ
ホルダー２２のピン２３に嵌めることで直接的にセット
してある。このようにキャリヤ１２の熱膨張による伸び
を吸収する連繋手段５０を備えることで、簡単な構成で
キャリヤ１２をキャリヤホルダー２２に対して回り止め
をした状態に好適に連繋させることができる。これによ
り、キャリヤ１２の伸びを好適に逃がして吸収すること
ができ、キャリヤ１２の変形を防止できる。また、キャ
リヤ１２は、キャリヤホルダー２２に嵌めることで装着
する構成であるので、装着時における作業の簡素化がな
される。

【００２０】次に、キャリヤホルダー２２に備えられる
キャリヤ１２の高さ調整機能について説明する。２３ａ
はフランジ部であり、ピン２３の中途部にワッシャー形
状に一体に設けられている。このフランジ部２３ａは、
キャリヤホルダー２２側に設けられ、キャリヤ１２を保
持すべく直接的に支持する支持部になっている。ピン２
３のフランジ部２３ａの下方には、ピン２３をキャリヤ
ホルダー２２の下段部２２ｂに装着可能にネジ部２３ｂ
が設けられている。そのネジ部２３ｂキャリヤホルダー
２２の下段部２２ｂに螺合する度合いを調整すること
で、フランジ部２３ａの高さ調整が可能に設けられてい
る。このようにフランジ部２３ａを設けたことで、キャ
リヤ１２の高さ位置を好適に調整して、キャリヤホルダ
ー２２でキャリヤ１２を適切に保持することができる。

【００２１】すなわち、フランジ部２３ａの高さを調整
すれば、下定盤１６の研磨布１６ａが消耗して薄くなっ
た場合等、条件の変化に好適に対応でき、その下定盤１
６の研磨布１６ａ面とほぼ同じ高さで、キャリヤ１２が
撓みを生じないように好適に保持できる。従って、キャ
リヤ１２を水平に好適に保持することができ、ウェーハ
１０の研磨割れや、研磨精度劣化を防止することができ
る。また、フランジ部２３ａの表面によって、キャリヤ
１２の外周面を部分的に受けることになり、キャリヤ１
２の伸縮による摺動を好適に支持することができる。す
なわち、キャリヤ１２の外周面（下面）とキャリヤホル
ダー２２側の上面との接地面積を小さくすることができ
るため、滑り摩擦抵抗を低減でき、キャリヤ１２は好適
に摺動できる。これにより、キャリヤ１２の熱等による
伸縮力が好適に開放され、キャリヤ１２の歪みの発生を
防止できる。

【００２２】以上の実施例では、ピン２３のフランジ部
２３ａの高さを調整することで、キャリヤ１２の支持高
さを調整したが、本発明はこれに限られないのは勿論で
あり、キャリヤ１２を所定の高さに支持できる好適な手
段であれば、その構成は特に限定されるものではない。
例えば、キャリヤホルダー２２自体を昇降させる機構を
設け、キャリヤ１２を保持すべく支持する支持部が基本
的にキャリヤホルダー２２の下段部２２ｂの上面であっ
てもよい。なお、下段部２２ｂの上面は、滑り性を向上
させるため、凹凸を設けてもよいのは勿論である。

【００２３】次に図５に基づいて本発明にかかる他の連
繋手段について説明する。図５（ａ）は平面図であり、
図５（ｂ）は断面図である。本実施例は、図に明らかな
ように、前記実施例とは連繋手段５０のみが異なり、そ
の連繋手段５０は、キャリヤホルダー２２側に設けられ
た内歯車状の被係合部５２と、その被係合部５２に遊び
をもたせて係合するようにキャリヤ１２側に設けられた
外歯車状の係合部４２とを具備する。すなわち、キャリ
ヤ１２の外周に設けたギヤと、リング状のキャリヤホル
ダー２２の内周に設けたギヤとを遊びをもたせて噛み合
わせた形態になっている。これによっても、簡単な構成
でキャリヤ１２をキャリヤホルダー２２に好適に連繋さ
せることができる。そして、前記実施例と同様の効果を
得ることができる。

【００２４】次に、図１及び図２に基づいて、キャリヤ
旋回運動機構２０の各構成にかかる実施例について説明
する。２４はクランク部材であり、上定盤１４及び下定
盤１６の軸線Ｌに軸心が平行であってキャリヤホルダー
２２に軸着されるホルダー側の軸２４ａ、及びそのホル
ダー側の軸２４ａに軸心が平行であると共に所定の距離
をおいて基体３０（図２参照）に軸着される基体側の軸
２４ｂを備える。すなわち、クランク機構のクランクア
ームと同様な機能を備えるように形成されている。この
クランク部材２４は、本実施例では基体３０とキャリヤ
ホルダー２２との間の４ヶ所に配され、キャリヤホルダ
ー２２を支持すると共に、基体側の軸２４ｂを中心にホ
ルダー側の軸２４ａを旋回させることで、キャリヤホル
ダー２２を基体３０に対して自転しない円運動をさせ
る。ホルダー側の軸２４ａは、キャリヤホルダー２２の
外周面に突起して設けられた軸受け部２２ｃに回転可能
に挿入されて軸着されている。これにより、キャリヤ１
２は上定盤１４及び下定盤１６の軸線Ｌから偏心Ｍして
旋回（自転しない円運動）する。その旋回円運動の半径
は、ホルダー側の軸２４ａと基体側の軸２４ｂとの間隔
（偏心Ｍの距離）と同じであり、キャリヤ１２の全ての
点が同一の小円の軌跡を描く運動となる。

【００２５】また、２８はタイミングチェーンであり、
各クランク部材２４の基体側の軸２４ｂに同軸に固定さ
れたスプロケット２５（本実施例では４個）に掛け回さ
れている。このタイミングチェーン２８と４個のスプロ
ケット２５は、４個のクランク部材２４が同期して円運
動するよう、４個の基体側の軸２４ｂ同士を連繋して同
期させる同期手段を構成している。この同期手段は、簡
単な構成であり、キャリヤ１２を好適且つ安定的に運動
させることができる。これによって研磨精度を向上で
き、ウェーハの平坦度を向上できる。なお、同期手段と
しては、本実施例に限られることはなく、タイミングベ
ルト、またはギア等を用いてもよいのは勿論である。３
２はモータ（例えば、ギャードモータ）であり、３４は
出力軸に固定された出力ギヤである。出力ギア３４はク
ランク部材２４の基体側の軸２４ｂに同軸に固定された
ギア２６に噛合している。これにより、クランク部材２
４を基体側の軸２４ｂを中心に回転させる回転駆動装置
が構成されている。

【００２６】なお、回転駆動装置としては、各クランク
部材２４にそれぞれ対応して配された複数のモータ（例
えば、電動モータ）を利用することもできる。電動モー
タであれば、電気的に同期を取ることで、複数のクラン
ク部材２４を同期運動させ、キャリヤ１２をスムースに
運動させることができる。また、本実施例ではクランク
部材２４を４個配設した場合について説明したが、本発
明はこれに限らず、クランク部材２４は最低３個あれ
ば、キャリヤホルダー２２を好適に支持することができ
る。さらに、直交する２軸の直線運動の合成によって２
次元運動を得ることができるＸＹテーブルの移動体と、
前記キャリヤホルダー２２とを一体化して運動できるよ
うにすれば、１個のクランク部材２４の駆動によって、
キャリヤホルダー２２を自転しない円運動させることが
できる。すなわち、ＸＹテーブルの直交する２軸に延び
るガイドによって案内されることで、前記移動体は自転
しない運動をするのであって、この移動体の運動をキャ
リヤホルダー２２の運動（自転しない円運動）に好適に
利用できる。また、クランク部材２４を全く用いず、Ｘ
Ｙテーブル自体に駆動手段を設けるようにしてもよい。
すなわち、Ｘ軸及びＹ軸の部材をそれぞれ直接的に駆動
させるサーボモータとボールネジ、又はサーボモータと
タイミングチェーン等の組み合わせから成るＸ軸及びＹ
軸の駆動機構を使用することで、前記移動体と一体化し
たキャリヤホルダー２２を運動（自転しない円運動）さ
せてもよい。この場合は、最低２個のモータを使用する
ことになるが、モータを制御することで旋回円運動の他
にも自転しない種々の２次元運動を得ることができ、そ
の運動をウェーハ１０の研磨に利用できる。

【００２７】３６は下定盤回転用モータであり、下定盤
１６を自転させる動力装置である。例えば、本実施例の
ように、ギャードモータを用いることができ、その出力
軸は下定盤１６の回転軸に直結させてもよい。３８は上
定盤回転用動力手段であり、上定盤１４を自転させる。
下定盤回転用モータ３６及び上定盤回転用動力手段３８
は、回転方向及び回転速度を自由に変更できるものとす
れば、種々の研磨仕様に柔軟に対応できる。また、この
両面研磨装置では、キャリヤ１２の透孔１２ａ内に配さ
れたウェーハ１０を、図２に示すように上定盤１４と下
定盤１６でサンドイッチにして、そのウェーハの研磨加
工がなされる。この際、ウェーハ１０が挟圧される力
は、主に上定盤１４側に設けられた加圧手段による。例
えば、空気圧を利用し、最大加圧力が上定盤１４の自重
であり、空気圧を上昇させることで加圧力を低減させる
ように作用させるエアバック方式で上定盤１４のウェー
ハ１０への押圧力を調整するようにしてもよい。このエ
アバック方式では、空気圧を制御することで好適かつ容
易に加圧力を調整できる。なお、上定盤１４側には加圧
手段の他に上定盤１４を昇降動させる昇降装置４０が設
けられ、ウェーハ１０の給排のときなどに作動する。

【００２８】次に、液状の研磨剤の供給手段について、
図１及び図３に基づいて説明する。上定盤１４には、そ
の上定盤１４の研磨面１４ａとウェーハ１０が接触して
該ウェーハ１０を研磨する研磨部へ、スラリー（液状の
研磨剤）を供給する研磨剤供給用の孔１４ｂが設けられ
ている。この研磨剤供給用の孔１４ｂは、ウェーハ１０
の研磨部へ液状の研磨剤を十分且つ均一に供給でき、そ
の研磨に悪影響を与えない大きさ等に適宜に設けられれ
ばよく、その形態或いはその数は特に限定されるもので
はない。なお、本実施例の研磨剤供給用の孔１４ｂは、
上定盤１４に等密度に分布するよう、合計で２１個がマ
トリクス状に位置され、各々が小径に開けられて設けら
れている。なお、本実施例の研磨剤供給用の孔１４ｂ
は、上定盤１４に上下方向に貫通して設けられている。
また、図示しないが、研磨剤供給用の孔１４ｂの上端に
はチューブ等が連結されており、ポンプ等によって汲み
上げられた液状の研磨剤が、適宜分配されて供給される
ように設けられている。

【００２９】そして、キャリヤ１２には、研磨剤供給用
の孔１４ｂより供給された液状の研磨剤を通過させて下
の定盤（下定盤１６）の研磨面１６ａとウェーハ１０が
接触して該ウェーハ１０を研磨する研磨部へ、液状の研
磨液を供給する連通孔１５が設けられている。この連通
孔１５は、キャリヤ１２の強度に影響を与えない位置
に、適当な形態に設けられればよく、そのサイズ、形状
或いはその数は限定されるものではない。なお、図３に
示した実施例では、キャリヤ１２の中央と、キャリヤ１
２の円周方向に隣合う透孔１２ａ同士間とに、合計で５
個の円形の連通孔１５が開けられている。

【００３０】このキャリヤ１２によれば、液状の研磨液
を、研磨されるウェーハ１０の両面に好適に供給するこ
とができ、好適に研磨することができる。すなわち、液
状の研磨液が、キャリヤ１２に開けた孔である連通孔１
５から流れ落ち、ウェーハ１０の裏面（研磨面１６ａと
接触する面）にも十分に流れ込むことができる。このた
め、研磨条件を均一に好適に維持でき、ウェーハ１０の
両面を精度よく研磨できる。なお、研磨面１６ａ上に供
給された液状の研磨液は、従来の両面研磨装置の場合と
同様に、順次その研磨面１６ａから外周方向へ溢れ出て
排出され、さらに回収されて適宜循環される。

【００３１】また、図１に示すように、６２はローラで
あって、上定盤１４に当接し、その上定盤１４のキャリ
ヤ１２の面に平行な方向への揺れを阻止する振動防止手
段の一例である。このローラ６２は、適宜に上定盤１４
の外周１４ｃに当接するよう、基体３０上の上定盤１４
近傍に設けられたガイドローラ本体（図示せず）に回転
自在に装着されている。この複数のローラ６２によっ
て、研磨工程がなされる際に上定盤１４を挟むことで、
上定盤１４のキャリヤ１２の面に平行な方向への移動を
規制し、振動を防止できるのである。

【００３２】次に、図６に基づいて、本発明の特徴的な
構成である両面研磨装置のワーク給排システムの実施例
について説明する。なお、以上に説明した実施例と同一
の構成については、同一の符号を付して説明を省略す
る。４３はキャリヤ停止手段であり、キャリヤ旋回運動
機構２０に設けられ、キャリヤ１２を所定の位置に停止
させる。ウェーハ１０を供給する際には、キャリヤ１２
の透孔１２ａを所定の位置（定位置）に停止させ、ウェ
ーハ１０を排出する際には、キャリヤ１２の透孔１２ａ
内に保持されたウェーハ１０を所定の位置（定位置）に
停止させる。なお、その所定の位置とは、本実施例では
所定の旋回角度位置である定位置のことで、常に同一の
位置であってもよいし、場合によっては、所定の法則に
従って、初期位置に対して移動するものであってもよ
い。すなわち、後述する給排装置との関係で、所定の条
件で特定される位置であればよい。

【００３３】また、本実施例のキャリヤ停止手段４３
は、キャリヤ１２を保持したキャリヤホルダー２２を駆
動させる駆動装置としてのサーボモータ３２ａと、その
サーボモータ３２ａを制御する制御装置４４から成るサ
ーボ機構である。このように、サーボモータ３２ａを備
える構成によれば、極めて簡単に好適な位置決め（停
止）のできるキャリヤ停止手段４３を得ることができ
る。装置が複雑化することなく、製造コストを低減でき
る。なお、キャリヤ停止手段４３は、これに限らず、例
えば、キャリヤホルダー２２の外周の所定の位置にマー
クを付け、そのマークを検出するセンサーを基体３０に
設けて構成してもよい。センサーがマークを検出するこ
とで、その信号によってキャリヤホルダー２２の運動を
停止させ、そのキャリヤホルダー２２を介してキャリヤ
１２を所定の位置（旋回角度位置）に停止させることが
できる。さらに、キャリヤ停止手段４３としては、図に
示すように平面形状が円形に形成されたクランク部材２
４の外周の所定の位置にマークを付け、そのマークを検
出するセンサーを基体３０に設けて構成しても、同様の
効果を得ることができる。

【００３４】４６はワーク供給手段であり、キャリヤ停
止手段４３によって停止したキャリヤ１２の透孔１２ａ
内に、ウェーハ１０を供給する。また、４８はワーク排
出手段であり、キャリヤ停止手段４３によって停止した
キャリヤ１２の透孔１２ａ内から、ウェーハ１０を排出
する。このワーク供給手段４６及びワーク排出手段４８
は、キャリヤ１２が定位置に停止されることで、キャリ
ヤ１２の透孔１２ａの位置を容易に特定でき、毎回同一
の動作によってウェーハ１０の給排を容易に行うことが
できる。従って、ワーク供給手段４６及びワーク排出手
段４８自体の構成を簡素化でき、また、その制御に関し
ても簡素化できる。なお、４５はテンションローラであ
り、各クランク部材２４が好適に同期して作動するよう
に、タイミングチェーン２８にテンションを与えてい
る。

【００３５】次に、図７及び図８に基づいて、本発明の
発展的な構成である両面研磨装置のワーク搬送システム
の実施例について説明する。なお、以上に説明した実施
例と同一の構成については、同一の符号を付して説明を
省略する。このシステムは、基本構成として、ワークで
あるウェーハ１０を上定盤１４で搬送すべく、上定盤１
４に設けられてウェーハ１０を吸着保持する保持手段
と、上定盤１４を水平方向（図７、矢印Ｘ方向）へ移動
させる水平移動手段とを備える。前記保持手段として
は、例えば、図３に示した研磨剤供給用の孔１４ｂを真
空吸引孔として利用し、上定盤１４の研磨面１４ａにウ
ェーハ１０を吸着すればよい。この場合は、液状の研磨
剤の供給装置に接続するように前記孔１４ｂに連通する
通路と、真空減圧装置に接続するように前記孔１４ｂに
連通する通路と、前記孔１４ｂへの連通状態を切り換え
る切換バルブを備えればよく、上定盤１４に多くの孔を
あけることを要しない。このように上定盤１４を利用し
てウェーハ１０を吸着保持する構成によれば、他の構成
を必要としないため簡単な構成でよく、複数のウェーハ
１０を同時に保持できるから、ウェーハ１０を効率よく
搬送できる。

【００３６】また、前記水平移動手段は、例えば、上定
盤１４の水平方向への移動をガイドする水平方向に平行
な直動ガイドと、上定盤１４が搭載されて前記直動ガイ
ドに沿って移動する移動フレーム５５とから構成され
る。移動フレーム５５を一対の脚部と上定盤１４を吊持
する架け渡し部とを有する門型に形成し、前記一対の脚
部を一対の前記直動ガイドに沿って移動させれば、上定
盤１４を支持する剛性を高めることができるため、高精
度の搬送を行うことが可能である。

【００３７】次に、図７及び図８に示したような複数の
両面研磨装置を備えるワーク搬送システムの構成と作用
について詳細に説明する。５６はワーク供給ステーショ
ンであり、ワークであるウェーハ１０の供給を受けて、
そのウェーハ１０を上定盤１４の研磨面１４ａによる吸
着保持位置に対応させて予め位置させる予備ステージと
なっている。このワーク供給ステーション５６にウェー
ハ１０を供給する供給装置としては、図８に示したよう
な多関節ロボット５１を利用できる。この多関節ロボッ
ト５１によれば、カセット４９に収納されたウェーハ１
０を一枚ずつ取り出し、順次、仮置き台５３の面上の所
定の配置位置に置く。そのウェーハ１０の配置位置は、
上定盤１４のウェーハ１０を吸着保持する位置に対応し
て設定される。本実施例では、キャリヤ１２が仮置き台
５３の上に配置され、ウェーハ１０を、透孔１２ａに当
て嵌めて置くように構成されている。

【００３８】５７はワーク研磨ステーションであり、キ
ャリヤ旋回運動機構２０及び下定盤１６が配され、ウェ
ーハ１０を研磨する位置に設けられている。本実施例で
は、このワーク研磨ステーション５７が二つ連設されて
いる。ワーク研磨ステーション５７では、研磨剤供給用
の孔１４ｂから、液状の研磨剤（スラリー）を吐出させ
て研磨すると共に、水を吐出させて水研磨ができるよう
にも構成されている。５８はワーク排出ステーションで
あり、上定盤１４に吸着保持されていたウェーハ１０を
受けて排出する。このワーク排出ステーション５８から
ウェーハ１０を排出する排出装置としては、例えば、ウ
ェーハ１０をガイドして降下移動させる斜面を備えるシ
ュータ５９と、そのウェーハ１０を水中で受けて収納す
るカセット４９を備える。また、シュータ５９の斜面に
は、水を噴出させて、その斜面に沿う水の流れによっ
て、ウェーハ１０を保護しつつ降下移動させる構成等を
備える。このワーク排出ステーション５８では、真空を
破壊し、上定盤１４に吸着保持されていた複数のウェー
ハ１０を、全て同時に排出してもよいし、順次排出して
もよい。順次排出させる場合は、上定盤１４を、割り出
し回転して各ウェーハ１０毎にシュータ５９に対応させ
て停止し、順次真空を破壊し、ウェーハ１０を順次カセ
ット４９に収納させればよい。

【００３９】そして、図に明らかなように、各ステーシ
ョン５６、５７、５７、５８が直線的に連設され、ワー
ク研磨ステーション５７の数（本実施例では二つ）に対
応する数（二つ）の上定盤１４が、ウェーハ１０を順次
送るべく前記水平移動手段によって、前記ステーション
５６、５７、５７、５８間で往復動する。なお、本実施
例の二つのワーク研磨ステーション５７、５７は一方が
一次研磨用であり、他方が二次研磨用に設けられてい
る。本実施例では、各ステーション５６、５７、５７、
５８が等間隔に配設されると共に、二つの上定盤１４、
１４もその間隔と同一の間隔に配されている。従って、
一定間隔の間欠的な動作によって、二つの上定盤１４、
１４が、各ステーション５６、５７、５７、５８上を移
動でき、簡単な制御で済む。なお、二つの上定盤１４、
１４は、本実施例のように一体的に形成された移動フレ
ーム５５に装着されて同時に同一方向へ移動するように
してもよいし、別々に移動するようにしてもよい。

【００４０】また、上定盤１４が移動してワーク研磨ス
テーション５７に移動する際には、上定盤１４にかかる
所定の回転停止位置に対応させて、図６の実施例で説明
したように、キャリヤホルダー２２を所定の回動位置に
停止させておく。これにより、キャリヤ１２の透孔１２
ａに位置を合わせて、ウェーハ１０を好適に供給するこ
とができる。同様に、一次研磨用のワーク研磨ステーシ
ョン５７から、二次研磨用のワーク研磨ステーション５
７への搬送も好適に行うことができる。また、上定盤１
４を所定の回転位置に停止する手段としては、例えば、
図６の実施例で説明したように、サーボモータを用いた
方法、或いはマークをセンサーで検出して位置決めを行
う方法を適用すればよい。このように、上定盤１４を所
定の回転位置に停止することで、前記真空減圧装置に接
続する孔１４ｂを、ウェーハ１０に好適に対応させるこ
とができる。

【００４１】また、各上定盤１４、１４は、図７に示す
ように各ステーション５６、５７、５７、５８上で、上
下動可能（矢印Ｚ）に設けられている。なお、上定盤１
４を上下動させる駆動装置は移動フレーム５５に搭載さ
れている。このように、上定盤１４が、上下動し、その
研磨面１４ａにウェーハ１０を吸着保持すると共に、水
平方向へ移動できることで、他の構成を要せず、複数の
ウェーハ１０を同時に持ち上げて搬送できる。また、ウ
ェーハ１０の研磨がされた研磨表面には、研磨加工をす
る研磨面１４ａ（クロス面）が接触するのみであり、吸
着盤などの望ましくない他の部材を接触させることな
く、ウェーハ１０を搬送できる。従って、ウェーハ１０
の研磨表面を傷つけることなく、その研磨表面への悪影
響を最小限に抑え、ウェーハ１０を好適に搬送できる。
また、スラリーによる研磨の後、水研磨を行い、その後
に研磨面１４ａで吸着保持すれば、スラリーによる影響
も最小限に抑えることができる。また、ワーク供給ステ
ーション５６に予め配置しておいた複数のウェーハ１０
を、一度に吸着保持してワーク研磨ステーション５７へ
投入したり、ワーク研磨ステーション５７で研磨された
ウェーハ１０を、一度に吸着保持してワーク排出ステー
ション５７へ搬送できるため、タクトタイムを短縮して
効率良く搬送できる。

【００４２】また、以上の実施例にかかる上定盤１４の
搬送機能を用いれば、キャリヤ１２を交換することもで
きる。例えば、上定盤１４をウェーハ１０を吸着する位
置から所定の角度変位させて、上定盤１４の前記真空減
圧装置に接続する孔１４ｂがキャリヤ１２の上面に対応
するように位置させる。その状態で上定盤１４を、降下
させ、研磨面１４ａをキャリヤ１２に当接させて真空吸
着した後上昇すれば、キャリヤ１２を好適に持ち上げる
ことができる。これは、キャリヤ１２のキャリヤホルダ
ー２２に対する連繋構造が、図３〜図５に示したように
上方から単純に嵌め込むものであり、上方へ抜き取るこ
とが容易であることによる。そして、前記水平移動手段
で移動すれば、キャリヤ１２を好適に排出できる。ま
た、反対に作動させれば、キャリヤ１２を好適にキャリ
ヤホルダー２２へ装着できる。このように、キャリヤ１
２の交換ができることで、両面研磨装置システムの自動
化に好適に寄与できる。

【００４３】次に、本発明にかかる両面研磨装置の使用
方法の一例について説明する。先ず、キャリヤ１２を運
動させないで、上定盤１４と下定盤１６とを回転速度の
絶対値は同じであるが反対方向へ回転させた場合を説明
する。すなわち、図１に示すように、例えば、上定盤１
４は時計回転をさせ、下定盤１６は反時計回転させる。
この場合は、全く反対方向に摩擦力が作用するから、そ
の運動力が相互に相殺されて、理論的にはウェーハ１０
は止まった状態で両面の研磨がなされる。但し、この場
合には、上定盤１４及び下定盤１６では、その外周へ向
かう程その周速度が大きくなる。従って、ウェーハ１０
の上定盤１４及び下定盤１６の軸線Ｌに対応する部分か
ら遠い部分ほど研磨が促進され、ウェーハ１０が均一に
研磨されない。

【００４４】次に、キャリヤ１２を前述した構成からな
る運動機構によって、自転しない円運動をさせることに
よる研磨作用について説明する。上定盤１４及び下定盤
１６の回転を考えず、キャリヤ１２の自転しない円運動
のみを考えた場合、その自転しない円運動によれば、運
動をする部材（キャリヤ１２）の全ての点で全く同じ運
動がなされることになる。これは、全ての点が同一の運
動となる意味で、一種の揺動運動であり、揺動運動の軌
跡が円になったと考えればよい。従って、自転しない円
運動をするキャリヤ１２を介し、ウェーハ１０を旋回移
動すれば、この運動による作用に限っていえば、ウェー
ハ１０の両面は均一に研磨される。

【００４５】そして、上定盤１４と下定盤１６の回転運
動と、キャリヤ１２の自転しない円運動とを同時に作動
させた場合は、ウェーハ１０が透孔１２ａの中で回転可
能に保持されているため、特に上定盤１４と下定盤１６
の回転速度の絶対値に差をつけた場合（一方の定盤に対
して他方の定盤の回転速度を速くした場合）、ウェーハ
１０は、その回転速度の速い側の定盤の回転方向へ、連
れ回りする。すなわち、ウェーハ１０は所定の方向へ自
転することになる。このようにウェーハ１０が自転する
ことで、上定盤１４及び下定盤１６では、その外周へ向
かう程その周速度が大きくなっているが、その影響をな
くすことができ、ウェーハ１０を均一に研磨できる。な
お、ウェーハ１０の両面を均一に研磨するには、上定盤
１４と下定盤１６の回転速度を交互に一方が速くなるよ
うに制御すればよい。

【００４６】次に、本発明にかかる両面研磨装置の使用
方法の他の例について説明する。以上の実施例では、複
数の透孔１２ａが設けられ、複数のワーク（ウェーハ１
０）を同時に研磨する場合について説明したが、本発明
ではこれに限らず、例えば、キャリヤ１２には大型なワ
ークが保持される透孔１２ａを一個のみ設け、その大型
ワークの両面を研磨する研磨装置としても利用できる。
なお、大型なワークとしては、液晶に用いる矩形状のガ
ラス板、或いは枚葉で加工されるウェーハ（円形）等の
ワークがある。この場合、大型なワークは、キャリヤ１
２の中心からその周縁近傍付近にわたってほぼ全面的に
配されることになる。このとき、キャリヤ１２による自
転しない円運動を主に利用して研磨し、上定盤１４及び
下定盤１６の回転速度は、研磨むらが発生しない程度に
遅くすれば、ワークの全体面について均一に且つ好適に
研磨できる。すなわち、上定盤１４及び下定盤１６で
は、周速度の違いで外周ほど研磨作用が大きくなるが、
その回転速度がキャリヤ１２の自転しない円運動に比べ
て非常に遅ければ、研磨作用に直接的には殆ど関与させ
ないようにすることができる。そして、上定盤１４及び
下定盤１６を回転させることは、ワークに接触する定盤
面を常に更新させ、液状の研磨剤をワークの全面へ平均
的に供給するなど、研磨作用を良好にするため、間接的
に好適に寄与できる。

【００４７】以上の実施例ではポリシング装置について
説明したが、本発明はラッピング装置にも好適に適用で
きるのは勿論である。以上、本発明につき好適な実施例
を挙げて種々説明してきたが、本発明はこの実施例に限
定されるものではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内
で多くの改変を施し得るのは勿論のことである。

【００４８】

【発明の効果】本発明の両面研磨装置のワーク給排シス
テムによれば、キャリヤ旋回運動機構に設けられ、前記
キャリヤを所定の位置に停止させるキャリヤ停止手段
と、そのキャリヤ停止手段によって停止したキャリヤの
透孔内に、ワークを供給するワーク供給手段と、そのキ
ャリヤ停止手段によって停止したキャリヤの透孔内か
ら、ワークを排出するワーク排出手段とを具備すること
で、キャリヤの透孔の位置を特定でき、ワークの給排を
容易に行うことができる。従って、本発明によれば、簡
単な構成で、ワークの給排を効率良く自動的に行うこと
ができるという著効を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる両面研磨装置の一実施例の斜視
分解図である。

【図２】図１の実施例の側断面図である。

【図３】図１の実施例のキャリヤとキャリヤホルダーの
全体を示す平面図と断面図である。

【図４】本発明にかかる連繋手段の要部を説明する断面
図である。

【図５】本発明にかかる連繋手段の他の実施例を示す平
面図と断面図である。

【図６】本発明にかかるワーク給排システムの一実施例
を説明する平面図である。

【図７】本発明にかかるワーク搬送システムの一実施例
を説明する側面図である。

【図８】図７の実施例の平面図である。

【図９】従来技術を説明する断面図である。

【図１０】従来技術のキャリヤの配置を説明する平面図
である。

【符号の説明】

１０ ウェーハ １２ キャリヤ １２ａ 透孔 １２ｂ 穴 １４ 上定盤 １４ａ 研磨面 １４ｂ 研磨剤供給用の孔 １５ 連通孔 １６ 下定盤 １６ａ 研磨面 ２０ キャリヤ旋回運動機構 ２２ キャリヤホルダー ２３ ピン ２４ クランク部材 ２４ａ ホルダー側の軸 ２４ｂ 基体側の軸 ２８ タイミングチェーン ３０ 基体 ３２ モータ ３２ａ サーボモータ ４３ キャリヤ停止手段 ４４ 制御装置 ４６ ワーク供給手段 ４８ ワーク排出手段 ５０ 連繋手段 ５１ 多関節ロボット ５５ 移動フレーム ５６ ワーク供給ステーション ５７ ワーク研磨ステーション ５８ ワーク排出ステーション ５９ シュータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神田 智樹 長野県長野市松代町清野1650番地 不二越 機械工業株式会社内 (72)発明者 守屋 紀彦 長野県長野市松代町清野1650番地 不二越 機械工業株式会社内 (72)発明者 和田 昌樹 長野県長野市松代町清野1650番地 不二越 機械工業株式会社内 Ｆターム(参考） 3C058 AA07 AB01 AB03 AB04 AB06 AB08 BC01 BC05 CB03 CB05 DA06 DA18

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薄平板に透孔が設けられて成るキャリヤ
   と、 該キャリヤの透孔内に配された板状のワークを、上下か
   ら挟むと共に該ワークに対して相対的に移動して研磨す
   る上定盤及び下定盤と、 前記キャリヤを、該キャリヤの面と平行な面内で自転し
   ない円運動をさせ、前記透孔内で上定盤と下定盤との間
   に保持された前記ワークを旋回移動させるキャリヤ旋回
   運動機構とを備える両面研磨装置にワークを給排する両
   面研磨装置のワーク給排システムであって、 前記キャリヤ旋回運動機構に設けられ、前記キャリヤを
   所定の位置に停止させるキャリヤ停止手段と、 前記キャリヤ停止手段によって停止した前記キャリヤの
   透孔内に、ワークを供給するワーク供給手段と、 前記キャリヤ停止手段によって停止した前記キャリヤの
   透孔内から、ワークを排出するワーク排出手段とを具備
   することを特徴とする両面研磨装置のワーク給排システ
   ム。
2. 【請求項２】 前記上定盤及び下定盤は、前記キャリヤ
   の面に直交する方向に平行な軸心を中心に自転駆動され
   ることを特徴とする請求項１記載の両面研磨装置のワー
   ク給排システム。
3. 【請求項３】 前記キャリヤ停止手段は、前記キャリヤ
   を駆動させる駆動装置としてのサーボモータと、該サー
   ボモータを制御する制御装置から成るサーボ機構である
   ことを特徴とする請求項１又は２記載の両面研磨装置の
   ワーク給排システム。
4. 【請求項４】 前記キャリヤ旋回運動機構は、 前記キャリヤを保持するキャリヤホルダーと、 前記キャリヤの面に直交する方向に軸心が平行であって
   前記キャリヤホルダーに軸着されるホルダー側の軸、及
   び該ホルダー側の軸に軸心が平行であると共に所定の距
   離をおいて基体に軸着される基体側の軸を備え、前記基
   体側の軸を中心にホルダー側の軸を旋回させることでキ
   ャリヤホルダーを基体に対して自転しない円運動をさせ
   るクランク部材と、 該クランク部材を基体側の軸を中心に回転させる駆動装
   置とを具備することを特徴とする請求項１、２又は３記
   載の両面研磨装置のワーク給排システム。
5. 【請求項５】 前記クランク部材が複数設けられ、該複
   数のクランク部材は同期して円運動するよう、前記基体
   側の軸同士がタイミングチェーン等の同期手段によって
   連繋されていることを特徴とする請求項４記載の両面研
   磨装置のワーク給排システム。