ES2201759T3 - Baño alcalino de zinc y niquel. - Google Patents
Baño alcalino de zinc y niquel.Info
- Publication number
- ES2201759T3 ES2201759T3 ES99940077T ES99940077T ES2201759T3 ES 2201759 T3 ES2201759 T3 ES 2201759T3 ES 99940077 T ES99940077 T ES 99940077T ES 99940077 T ES99940077 T ES 99940077T ES 2201759 T3 ES2201759 T3 ES 2201759T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- nickel
- zinc
- anode
- alkaline
- bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
Baño de galvanización alcalina (1) para aplicar revestimientos de cinc-níquel con un ánodo (2), un cátodo (3) y un catolito alcalino (4) en el que se emplean aminas como formadores de complejos para los iones níquel, caracterizado porque el ánodo está separado del catolito alcalino por una membrana de intercambio de iones (6).
Description
Baño alcalino de zinc y níquel.
La presente invención se refiere a un baño de
galvanización para aplicar revestimientos de
cinc-níquel con un ánodo, un cátodo y un electrólito
alcalino.
Se conoce la forma de revestir materiales
conductores eléctricos con aleaciones de cinc-níquel
para mejorar su resistencia a la corrosión. Para ello, del modo
tradicional se emplea un baño electrolítico ácido, por ejemplo con
electrólitos de sulfato, cloruro, fluoropromato o sulfamato. En
este procedimiento, por razones de regulación técnica resulta muy
costoso lograr un espesor uniforme en el revestimiento de
cinc-níquel sobre el material a revestir, y en la
práctica resulta imposible la mayoría de las veces.
Por esta razón, recientemente se emplean los
baños de galvanización alcalina de cinc-níquel dados
a conocer en la memoria de patente alemana 37 12 511 que, por
ejemplo, presentan la siguiente composición:
11,3 | g/l de ZnO |
4,1 | g/l de NiSO_{4}*6H_{2}O |
120 | g/l de NaOH |
5,1 | g/l de polietilenimina |
Las aminas contenidas en el baño de galvanización
sirven como formadores de complejos para los iones níquel, que de lo
contrario son insolubles en el medio alcalino. La composición de
los baños varía según el fabricante.
Los baños de galvanización se explotan
habitualmente con ánodos de níquel insolubles. La concentración de
cinc se mantiene constante mediante la adición de cinc y la
concentración de níquel mediante la adición de una solución de
níquel, por ejemplo una solución de sulfato de níquel.
Sin embargo, al cabo de algunas horas de
funcionamiento, estos baños presentan una modificación del color,
del azul-violeta original hacia el pardo. Al cabo de
varios días o semanas se intensifica esta tonalidad y se constata
la separación del baño en dos fases, siendo la fase superior de
color pardo oscuro. Esta fase produce considerables perturbaciones
en el revestimiento de las piezas, como por ejemplo espesores de
capas irregulares o formación de burbujas. Por eso, resulta
inevitable una limpieza continua del baño, es decir un agotamiento
continuo de esta capa.
Por lo demás, al cabo de algunas semanas de
utilización se puede detectar cianuro en los baños. La carga de
cianuro exige una renovación periódica del baño y un tratamiento
especial de las aguas residuales, que repercute considerablemente en
los costes de explotación del baño. Esto es tanto más cierto,
cuanto que las aguas residuales presentan una concentración muy
elevada de materia orgánica y, con un valor CSB de aproximadamente
15.000 hasta 20.000 mg/l, dificultan la depuración del cianuro. El
cumplimiento de los índices de aguas residuales establecidos por el
legislador (níquel 0,5 ppm y cinc 2 ppm) sólo resulta entonces
posible con una amplia adición de productos químicos.
La formación de la segunda fase se ha de atribuir
a una reacción de las aminas que en solución alcalina reaccionan en
los ánodos de níquel convirtiéndose en nitrilos (entre otros
también en cianuro). Además, debido a la descomposición de las
aminas, al baño hay que añadirle continuamente nuevos formadores de
complejos, lo que aumenta los costes del proceso.
No se pueden emplear otros ánodos que no sean de
níquel, porque se disolverían en los electrólitos alcalinos, lo que
también implica repercusiones negativas en la calidad del
revestimiento.
Con este trasfondo, la invención se basa en el
problema de crear un baño de galvanización alcalina de
cinc-níquel que proporcione revestimientos de
cinc-níquel de alta calidad a bajo coste.
Para solucionar este problema, la invención
propone separar el ánodo del electrólito alcalino por medio de una
membrana de intercambio de iones.
Con esta separación se evita la reacción de las
aminas en el ánodo de níquel, lo que tiene como consecuencia que no
se produce ninguna reacción secundaria indeseada que plantee
problemas de eliminación de residuos o que conduzca a una segunda
fase en los productos de reacción que se decanten en el baño e
influyan negativamente en la calidad del revestimiento de
cinc-níquel. Con la invención se evita el
agotamiento de esta capa y la renovación del baño. Además se reseña
una considerable mejora en la calidad del revestimiento.
Especialmente ventajoso ha resultado el empleo de
una membrana de intercambio de cationes de un polímero perfluorado,
ya que estas membranas tienen una resistencia eléctrica
despreciable, pero una alta resistencia química y mecánica.
Por lo demás, se evita la contaminación por
cianuro de las aguas residuales, con lo que se simplifica
considerablemente todo el tratamiento de aguas residuales. Además
se evita el rellenado del electrólito con formadores de complejos,
pues éste ya no se descompone y su concentración en el baño
permanece aproximadamente constante. Así, el proceso se abarata
considerablemente.
El baño de cinc-níquel actúa en
la solución según la invención como catolito. Como anolito se puede
utilizar, por ejemplo, ácido sulfúrico o fosfórico. Como material
de ánodo se pueden emplear en la célula galvánica según la invención
ánodos corrientes, como por ejemplo ánodos de titanio platinados,
pues éstos no se exponen ya al baño básico de
cinc-níquel.
La presente invención se explica con más detalle
en el ejemplo de ejecución representado en el dibujo. En el de
dibujo se muestra:
Fig. 1 La estructura en esquema de un baño de
galvanización según la invención.
En la Fig. 1 se representa una célula galvánica 1
que dispone de un ánodo 2 y de un cátodo 3, el cual se trata de la
pieza a revestir. El catolito 4 que rodea el cátodo es alcalino y
está formado por un compuesto de por sí conocido para baño de
galvanización de cinc-níquel, en el que como
formador de complejos para los iones de níquel se pueden utilizar
aminas. El anolito 5 que rodea el ánodo 2 puede estar constituido
por ejemplo por ácido sulfúrico o fosfórico. El anolito 5 y el
catolito 4 están separados entre sí por una membrana perfluorada de
intercambio de cationes 6. Esta membrana 6 permite un flujo sin
obstáculos de la corriente por el baño, pero impide que el catolito
4, sobre todo las aminas contenidas en él, entre en contacto con el
ánodo 2, con lo que se evitan las reacciones descritas con detalle
en la introducción descriptiva, incluidas sus repercusiones
negativas.
Claims (4)
1.Baño de galvanización alcalina (1) para aplicar
revestimientos de cinc-níquel con un ánodo (2), un
cátodo (3) y un catolito alcalino (4) en el que se emplean aminas
como formadores de complejos para los iones níquel,
caracterizado porque el ánodo está separado del catolito
alcalino por una membrana de intercambio de iones (6).
2. Baño de galvanización de acuerdo con la
reivindicación 1, caracterizado porque el ánodo (2) está
separado del catolito (4) alcalino por una membrana perfluorada de
intercambio de cationes (6).
3. Baño de galvanización de acuerdo con las
reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado por el empleo de ácido
sulfúrico, ácido fosfórico, ácido metanosulfónico, ácido
amidosulfónico y/o ácido fosfónico como anolito (5).
4. Baño de galvanización según una de las
reivindicaciones 1 a 3, caracterizado por un ánodo de
titanio platinado.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19834353A DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
DE19834353 | 1998-07-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2201759T3 true ES2201759T3 (es) | 2004-03-16 |
Family
ID=7875843
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES99940077T Expired - Lifetime ES2201759T3 (es) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Baño alcalino de zinc y niquel. |
ES03003890T Expired - Lifetime ES2277624T3 (es) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Baño de cinc-niquel alcalino. |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES03003890T Expired - Lifetime ES2277624T3 (es) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Baño de cinc-niquel alcalino. |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US6602394B1 (es) |
EP (2) | EP1344850B1 (es) |
JP (2) | JP4716568B2 (es) |
KR (1) | KR20010071074A (es) |
CN (1) | CN1311830A (es) |
AT (2) | ATE346180T1 (es) |
AU (1) | AU5415299A (es) |
BG (1) | BG105184A (es) |
BR (1) | BR9912589A (es) |
CA (1) | CA2339144A1 (es) |
CZ (1) | CZ298904B6 (es) |
DE (3) | DE19834353C2 (es) |
EE (1) | EE200100059A (es) |
ES (2) | ES2201759T3 (es) |
HR (1) | HRP20010044B1 (es) |
HU (1) | HUP0103951A3 (es) |
IL (1) | IL141086A0 (es) |
MX (1) | MXPA01000932A (es) |
PL (1) | PL198149B1 (es) |
SK (1) | SK285453B6 (es) |
TR (1) | TR200100232T2 (es) |
WO (1) | WO2000006807A2 (es) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
US8236159B2 (en) | 1999-04-13 | 2012-08-07 | Applied Materials Inc. | Electrolytic process using cation permeable barrier |
US8852417B2 (en) | 1999-04-13 | 2014-10-07 | Applied Materials, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
US20060157355A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-07-20 | Semitool, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
US20060189129A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-08-24 | Semitool, Inc. | Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers |
DE10026956A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-13 | Walter Hillebrand Galvanotechn | Zink-Legierungsbad |
ES2250166T5 (es) | 2000-06-15 | 2016-05-20 | Coventya Inc | Electrochapado de zinc-níquel |
US6755960B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-06-29 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
US7628898B2 (en) * | 2001-03-12 | 2009-12-08 | Semitool, Inc. | Method and system for idle state operation |
DE10223622B4 (de) * | 2002-05-28 | 2005-12-08 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute |
US8377283B2 (en) | 2002-11-25 | 2013-02-19 | Coventya, Inc. | Zinc and zinc-alloy electroplating |
DE10261493A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-08 | METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH | Anode zur Galvanisierung |
BR0318331A (pt) * | 2003-06-03 | 2006-07-11 | Taskem Inc | aparelho para aplicar um eletrodepósito de zinco ou de liga de zinco a uma peça de trabalho |
US20050121332A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-06-09 | Kochilla John R. | Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation |
US20050133376A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | Opaskar Vincent C. | Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom |
FR2864553B1 (fr) * | 2003-12-31 | 2006-09-01 | Coventya | Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc |
US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
DE102004061255B4 (de) | 2004-12-20 | 2007-10-31 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
EP1712660A1 (de) * | 2005-04-12 | 2006-10-18 | Enthone Inc. | Unlösliche Anode |
ATE429528T1 (de) * | 2005-04-26 | 2009-05-15 | Atotech Deutschland Gmbh | Alkalisches galvanikbad mit einer filtrationsmembran |
EP1717351A1 (de) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Enthone Inc. | Galvanikbad |
JP4738910B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2011-08-03 | 日本表面化学株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
US20070043474A1 (en) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Semitool, Inc. | Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process |
DE102005051632B4 (de) * | 2005-10-28 | 2009-02-19 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen |
JP4819612B2 (ja) * | 2006-08-07 | 2011-11-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | めっき処理装置および半導体装置の製造方法 |
DE102007040005A1 (de) | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad |
DE102007060200A1 (de) | 2007-12-14 | 2009-06-18 | Coventya Gmbh | Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad |
TWI384094B (zh) * | 2008-02-01 | 2013-02-01 | Zhen Ding Technology Co Ltd | 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置 |
EP2096193B1 (en) | 2008-02-21 | 2013-04-03 | Atotech Deutschland GmbH | Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts |
DE102008058086B4 (de) | 2008-11-18 | 2013-05-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen |
KR100977068B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2010-08-19 | 한용순 | 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액 |
PL2384800T3 (pl) | 2010-05-07 | 2013-07-31 | Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg | Regeneracja alkalicznych elektrolitów cynkowo-niklowych drogą usuwania jonów cynkowych |
DE102010044551A1 (de) | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Coventya Gmbh | Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad |
EP2660360A1 (en) | 2011-08-30 | 2013-11-06 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Adhesion promotion of cyanide-free white bronze |
CN103849915B (zh) * | 2012-12-06 | 2016-08-31 | 北大方正集团有限公司 | 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法 |
CN103911650B (zh) * | 2014-04-02 | 2016-07-06 | 广东达志环保科技股份有限公司 | 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极 |
DE202015002289U1 (de) | 2015-03-25 | 2015-05-06 | Hartmut Trenkner | Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen |
CN106550606B (zh) | 2015-07-22 | 2019-04-26 | 迪普索股份公司 | 锌合金镀敷方法 |
MX368121B (es) | 2015-07-22 | 2019-09-19 | Dipsol Chem | Metodo de electrodeposicion de aleacion de zinc. |
WO2017171113A1 (ko) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | (주) 테크윈 | 전해조 및 전해 방법 |
CN106987879A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-07-28 | 瑞尔太阳能投资有限公司 | 电沉积装置及其电沉积方法 |
EP3358045A1 (de) * | 2017-02-07 | 2018-08-08 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen |
DK3415665T3 (da) | 2017-06-14 | 2024-02-12 | Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg | Fremgangsmåde til galvanisk udfældning af zink-nikkel-legeringsovertræk ud fra et alkalisk zink-nikkel-legeringsbad med reduceret nedbrydning af tilsætningsstoffer |
WO2020152208A1 (en) | 2019-01-24 | 2020-07-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Membrane anode system for electrolytic zinc-nickel alloy deposition |
JP6582353B1 (ja) | 2019-02-15 | 2019-10-02 | ディップソール株式会社 | 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム |
JP6750186B1 (ja) | 2019-11-28 | 2020-09-02 | ユケン工業株式会社 | めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法 |
CN114787425A (zh) | 2019-12-20 | 2022-07-22 | 德国艾托特克有限两合公司 | 用于在衬底上沉积锌-镍合金的方法及*** |
EP4273303A1 (en) | 2022-05-05 | 2023-11-08 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE925264C (de) | 1952-11-15 | 1955-03-17 | Hesse & Co Dr | Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden |
GB1349735A (en) | 1969-11-20 | 1974-04-10 | Fulmer Res Inst Ltd | Electrodeposited metal coatings |
US3660170A (en) * | 1970-04-08 | 1972-05-02 | Gen Electric | Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode |
US3718549A (en) | 1971-06-14 | 1973-02-27 | Kewanee Oil Co | Alkaline nickel plating solutions |
JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
GB1602404A (en) | 1978-04-06 | 1981-11-11 | Ibm | Electroplating of chromium |
US4192908A (en) * | 1979-06-15 | 1980-03-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell |
JPS5893886A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 電気メツキ方法 |
JPS5893899A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電気メツキの浴管理方法 |
US4469564A (en) * | 1982-08-11 | 1984-09-04 | At&T Bell Laboratories | Copper electroplating process |
DE3310730A1 (de) | 1983-03-24 | 1984-03-29 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder |
JPS59193295A (ja) | 1983-04-15 | 1984-11-01 | Hitachi Ltd | ニツケルめつき方法及び装置 |
US4889602B1 (en) | 1986-04-14 | 1995-11-14 | Dipsol Chem | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating |
DE3712511C3 (de) * | 1986-04-14 | 1995-06-29 | Dipsol Chem | Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades |
US4832812A (en) * | 1987-09-08 | 1989-05-23 | Eco-Tec Limited | Apparatus for electroplating metals |
JPH02175894A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Kosaku:Kk | スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置 |
FR2650304B1 (fr) | 1989-07-25 | 1991-10-04 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre |
JPH049493A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Permelec Electrode Ltd | 鋼板の電気錫メッキ方法 |
JP2764337B2 (ja) * | 1990-05-10 | 1998-06-11 | 新日本製鐵株式会社 | Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法 |
JPH0444374A (ja) | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレーザ装置 |
US5310465A (en) * | 1990-06-14 | 1994-05-10 | Vaughan Daniel J | Electrodialytic oxydation-reduction of metals |
JPH0452296A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Permelec Electrode Ltd | 銅めっき方法 |
JPH08375Y2 (ja) * | 1990-08-15 | 1996-01-10 | 株式会社アルメックス | メッキ装置の陽極構造 |
EP0483937A1 (de) | 1990-10-24 | 1992-05-06 | ATOTECH Deutschland GmbH | Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung |
DE4035316C2 (de) | 1990-11-07 | 1993-11-04 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern |
JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1992-06-24 | Kawasaki Steel Corp | Sn―Ni合金めっき方法 |
US5162079A (en) | 1991-01-28 | 1992-11-10 | Eco-Tec Limited | Process and apparatus for control of electroplating bath composition |
JP2997072B2 (ja) * | 1991-02-13 | 2000-01-11 | ディップソール株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法 |
JPH059776A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-19 | Fujitsu Ltd | プリント配線板のめつき方法 |
JPH059799A (ja) | 1991-07-05 | 1993-01-19 | Kawasaki Steel Corp | 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置 |
JPH05128533A (ja) | 1991-11-05 | 1993-05-25 | Nec Eng Ltd | 光デイスク再生装置 |
FR2686352B1 (fr) | 1992-01-16 | 1995-06-16 | Framatome Sa | Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel. |
US5417840A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
US5405523A (en) * | 1993-12-15 | 1995-04-11 | Taskem Inc. | Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer |
JPH10130878A (ja) | 1996-11-01 | 1998-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | 電解ニッケルめっき方法 |
US5883762A (en) | 1997-03-13 | 1999-03-16 | Calhoun; Robert B. | Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations |
DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
-
1998
- 1998-07-30 DE DE19834353A patent/DE19834353C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-24 US US09/744,706 patent/US6602394B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 KR KR1020017001285A patent/KR20010071074A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-07-29 CZ CZ20010189A patent/CZ298904B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 ES ES99940077T patent/ES2201759T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 EP EP03003890A patent/EP1344850B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 EP EP99940077A patent/EP1102875B1/de not_active Revoked
- 1999-07-29 AU AU54152/99A patent/AU5415299A/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 AT AT03003890T patent/ATE346180T1/de active
- 1999-07-29 AT AT99940077T patent/ATE242821T1/de active
- 1999-07-29 WO PCT/EP1999/005443 patent/WO2000006807A2/de active IP Right Grant
- 1999-07-29 ES ES03003890T patent/ES2277624T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 TR TR2001/00232T patent/TR200100232T2/xx unknown
- 1999-07-29 BR BR9912589-7A patent/BR9912589A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-07-29 CA CA002339144A patent/CA2339144A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 EE EEP200100059A patent/EE200100059A/xx unknown
- 1999-07-29 PL PL345970A patent/PL198149B1/pl unknown
- 1999-07-29 JP JP2000562585A patent/JP4716568B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 SK SK89-2001A patent/SK285453B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 IL IL14108699A patent/IL141086A0/xx unknown
- 1999-07-29 DE DE59914011T patent/DE59914011D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 MX MXPA01000932A patent/MXPA01000932A/es unknown
- 1999-07-29 HU HU0103951A patent/HUP0103951A3/hu unknown
- 1999-07-29 CN CN99809138A patent/CN1311830A/zh active Pending
- 1999-07-29 DE DE59905937T patent/DE59905937D1/de not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-16 HR HR20010044A patent/HRP20010044B1/xx not_active IP Right Cessation
- 2001-01-25 BG BG105184A patent/BG105184A/xx unknown
-
2003
- 2003-07-11 US US10/618,352 patent/US20040104123A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-02-13 US US12/030,750 patent/US7807035B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2008-03-18 JP JP2008069722A patent/JP2008150713A/ja active Pending
-
2010
- 2010-10-01 US US12/896,673 patent/US8486235B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2201759T3 (es) | Baño alcalino de zinc y niquel. | |
JP6582353B1 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム | |
ES2250166T3 (es) | Electrochapado de zinc-niquel. | |
ES2340973T3 (es) | Baño basado en pirofosfato para la deposicion de capas de aleaciones de estaño. | |
JPH01159395A (ja) | 金属の電気メッキ方法 | |
JP4346551B2 (ja) | 電気めっき用陽極 | |
US6755960B1 (en) | Zinc-nickel electroplating | |
JP2001286868A (ja) | 電解水製造方法および電解水 | |
EP1639155B1 (en) | Zinc and zinc-alloy electroplating | |
Ramesh Bapu et al. | Studies on non-cyanide alkaline zinc electrolytes | |
US8377283B2 (en) | Zinc and zinc-alloy electroplating | |
JPH01297884A (ja) | プリント基板の銅メッキ方法 | |
US3374154A (en) | Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath | |
DE69104166D1 (de) | Elektrolysezelle für abwasserbehandlung. | |
WO2024111515A1 (ja) | 電気めっき用陽極並びに金属で物品を電気めっきする方法及びシステム | |
US3578572A (en) | Electrodes for use in aqueous alkali metal chloride electrolytes | |
KR100634446B1 (ko) | 공정 균일도를 향상시킬 수 있는 웨이퍼 도금 장치 | |
JP4615159B2 (ja) | 合金めっき方法 | |
KR20230092886A (ko) | 금속으로 물품을 전기 도금하는 방법 및 시스템 | |
CZ281552B6 (cs) | Způsob elektrolytického pokovování | |
Mayanna et al. | Development of new brightener for industrial zinc coating |