JPH04176893A - Sn―Ni合金めっき方法 - Google Patents
Sn―Ni合金めっき方法Info
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- JPH04176893A JPH04176893A JP30306490A JP30306490A JPH04176893A JP H04176893 A JPH04176893 A JP H04176893A JP 30306490 A JP30306490 A JP 30306490A JP 30306490 A JP30306490 A JP 30306490A JP H04176893 A JPH04176893 A JP H04176893A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、鋼板上にSn−N1合金めっき層を連続的に
安定して形成することのてきるSn−Ni合金めっき方
法に関する。
安定して形成することのてきるSn−Ni合金めっき方
法に関する。
〈従来の技術〉
Sn−Ni合金めっきのためのン谷としては、弗化物−
塩化物浴(特公昭39−822号公報、特開昭64−1
1992号公報)、塩化物浴、硫酸浴、はう酸浴(特開
昭50−72838号公報)等の、浴のpHが3以下の
強酸性浴と、ピロリン酸浴(特公昭53−47060号
公報、特公昭54−122’5’O号公報、特公昭56
−21076号公報、特公昭58−38518号公報)
やトリポリリン酸浴(特公昭58−38519号公報)
等の、浴のpHか8以上のアルカリ浴、さらには、塩化
物−硫酸/酢酸?谷(特開平1〜259190号公報、
特開平1−259191号公報)等の、浴のpHか3.
5〜8の弱酸性浴の3系統が知られている。 このよう
に、めっぎ浴は多種知られているが、いずれの場合も、
陽極としては、Sn、Ni、あるいはSn−Ni合金の
如き可溶性陽極か、あるいは、カーボン、フェライト、
白金、または白金めっきしたチタンやステンレス等の不
溶性陽極が用いられるのか通例であった。
塩化物浴(特公昭39−822号公報、特開昭64−1
1992号公報)、塩化物浴、硫酸浴、はう酸浴(特開
昭50−72838号公報)等の、浴のpHが3以下の
強酸性浴と、ピロリン酸浴(特公昭53−47060号
公報、特公昭54−122’5’O号公報、特公昭56
−21076号公報、特公昭58−38518号公報)
やトリポリリン酸浴(特公昭58−38519号公報)
等の、浴のpHか8以上のアルカリ浴、さらには、塩化
物−硫酸/酢酸?谷(特開平1〜259190号公報、
特開平1−259191号公報)等の、浴のpHか3.
5〜8の弱酸性浴の3系統が知られている。 このよう
に、めっぎ浴は多種知られているが、いずれの場合も、
陽極としては、Sn、Ni、あるいはSn−Ni合金の
如き可溶性陽極か、あるいは、カーボン、フェライト、
白金、または白金めっきしたチタンやステンレス等の不
溶性陽極が用いられるのか通例であった。
ところで、可溶性陽極を用いるSn−Ni合金めフきの
場合、下記のような問題かありた。
場合、下記のような問題かありた。
すなわち、錫めっきあるいはニッケルめっきの如き単純
めっきの場合には、陰極で消費される(析出する)金属
イオンの量と、錫あるいはニッケルの如きめっき金属か
ら成る可溶性陽極からめっき洛中に供給される金属イオ
ンの量はほぼ等しいので、浴組成のバランスは容易に保
たれる。 しかし、Sn−Ni合金めつきの場合には
、陽極として、錫−ニッケル合金からなる可溶性陽極を
用いると、ニッケルは電気化学的にしか溶解しないが、
錫は酸に対して化学的にも溶解するために、陰極で消費
される合金の組成と前記合金からなる可溶性陽極から溶
解する金属イオンの組成が必ずしも一致せず、浴組成の
バランスを保つのが困難であった。 また、前記合金か
らなる可溶性陽極の代わりに、合金めっきを構成する各
純金属製の可溶性陽極を別々の陽極として用いる方法も
あるか、同じ理由により、浴組成のバランスを保つのが
困難であった。 なお、めっぎ浴は、ピロリン酸浴等の
アルカリ浴を用い、陽極は合金めっきを構成する各純金
属製の可溶性陽極を用いる場合は、錫の化学溶解を抑制
できるので、浴組成のバランスは保ち易いが、ニッケル
陽極がスポンジの如く多孔となり、実用に耐えない。
めっきの場合には、陰極で消費される(析出する)金属
イオンの量と、錫あるいはニッケルの如きめっき金属か
ら成る可溶性陽極からめっき洛中に供給される金属イオ
ンの量はほぼ等しいので、浴組成のバランスは容易に保
たれる。 しかし、Sn−Ni合金めつきの場合には
、陽極として、錫−ニッケル合金からなる可溶性陽極を
用いると、ニッケルは電気化学的にしか溶解しないが、
錫は酸に対して化学的にも溶解するために、陰極で消費
される合金の組成と前記合金からなる可溶性陽極から溶
解する金属イオンの組成が必ずしも一致せず、浴組成の
バランスを保つのが困難であった。 また、前記合金か
らなる可溶性陽極の代わりに、合金めっきを構成する各
純金属製の可溶性陽極を別々の陽極として用いる方法も
あるか、同じ理由により、浴組成のバランスを保つのが
困難であった。 なお、めっぎ浴は、ピロリン酸浴等の
アルカリ浴を用い、陽極は合金めっきを構成する各純金
属製の可溶性陽極を用いる場合は、錫の化学溶解を抑制
できるので、浴組成のバランスは保ち易いが、ニッケル
陽極がスポンジの如く多孔となり、実用に耐えない。
上記の問題点に加え、可溶性陽極を用いる場合には、陽
極の交換が必要であるが、この自動化が難しく、人力に
頼る他ないという問題点もあった。
極の交換が必要であるが、この自動化が難しく、人力に
頼る他ないという問題点もあった。
一方、不溶性陽極の使用は、上記可溶性陽極を用いる場
合の問題点を解決する可能性を有していたが、これまで
は、現実には商業利用はされていなかった。 その理由
は以下の通りである。
合の問題点を解決する可能性を有していたが、これまで
は、現実には商業利用はされていなかった。 その理由
は以下の通りである。
(1)めっぎ浴として弗化物や塩化物を含む浴を用いた
場合に不溶性陽極を使用すると、陽極で有毒な弗素ガス
や塩素ガスが発生し、その処理か困難である。
場合に不溶性陽極を使用すると、陽極で有毒な弗素ガス
や塩素ガスが発生し、その処理か困難である。
(2)めっき浴としてピロリン酸浴等のアルカリ浴を用
いた場合に不溶性陽極を使用すると、阻柘で酸素か発生
して浴のPHが下かり、浴を高pHに維持てきない。
従って、長時間の使用は不可能となる。 pH3,5〜
8の弱酸性浴の場合も、同様に浴のPH維持が困難であ
る。
いた場合に不溶性陽極を使用すると、阻柘で酸素か発生
して浴のPHが下かり、浴を高pHに維持てきない。
従って、長時間の使用は不可能となる。 pH3,5〜
8の弱酸性浴の場合も、同様に浴のPH維持が困難であ
る。
(3)めっき洛中のSn”は、酸化されてSnC)2ス
ラツジを生成するか、不溶性陽極の使用はこの反応を促
進するのて、Sn2″″カ畳良資されるばかりでなく、
スラッジの処理に多大な経費が必要となる。
ラツジを生成するか、不溶性陽極の使用はこの反応を促
進するのて、Sn2″″カ畳良資されるばかりでなく、
スラッジの処理に多大な経費が必要となる。
(4)めっき浴として、弗化物や塩化物を含まない強酸
性浴を用いた場合、良好なめっきを得るために、通常は
有機系光沢剤を併用するが、陽極での酸化反応により、
光沢剤が著しく消耗し、また、その副生物が沈澱して、
被めっき物を汚染するなどの問題がある。
性浴を用いた場合、良好なめっきを得るために、通常は
有機系光沢剤を併用するが、陽極での酸化反応により、
光沢剤が著しく消耗し、また、その副生物が沈澱して、
被めっき物を汚染するなどの問題がある。
このように、Sn−Ni合金めっきを行なうに際し、可
溶性陽極を用いると、Sn−Ni合金めっき浴の浴バラ
ンスの安定化および陽極交換の省力化の点で問題があり
、一方、不溶性陽極の使用は現実には不可能であった。
溶性陽極を用いると、Sn−Ni合金めっき浴の浴バラ
ンスの安定化および陽極交換の省力化の点で問題があり
、一方、不溶性陽極の使用は現実には不可能であった。
〈発明か解決しようとする課題〉
本発明は、上述の従来のSn−Ni合金めつき方法にお
ける問題点に鑑みてなされたものであり、省力化と浴バ
ランスの安定化に優れた、不溶性陽極を用いたSn−N
i合金めつき方法の提供を目的とするものである。
ける問題点に鑑みてなされたものであり、省力化と浴バ
ランスの安定化に優れた、不溶性陽極を用いたSn−N
i合金めつき方法の提供を目的とするものである。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、Sn”およびNi2+を含むpH3以下の酸
性水溶液(a)中において、鋼板を陰極として電解して
Sn−Ni合金めつ籾を行なう方法において、陽極とし
て不溶性陽極を用い、陽極と陰極との間に1価陽イオン
選択***換膜を設け、該陽極と詰腹との間にCf1−お
よびF−を含まない酸性水溶液(b)を配し、前記水溶
液(a)と前記水溶液(b)との混合を防止してめっき
することを特徴とするSn−Ni合金めフき方法を提供
するものである。
性水溶液(a)中において、鋼板を陰極として電解して
Sn−Ni合金めつ籾を行なう方法において、陽極とし
て不溶性陽極を用い、陽極と陰極との間に1価陽イオン
選択***換膜を設け、該陽極と詰腹との間にCf1−お
よびF−を含まない酸性水溶液(b)を配し、前記水溶
液(a)と前記水溶液(b)との混合を防止してめっき
することを特徴とするSn−Ni合金めフき方法を提供
するものである。
前記水溶液(b)として、硫酸あるいは硝酸のp’83
以下の酸性水溶液を用いるのかよい。
以下の酸性水溶液を用いるのかよい。
前記不溶性陽極は、酸化イリジウムを主成分とする皮膜
で表面を覆われた酸化物電極あるいは白金系電極である
のがよい。
で表面を覆われた酸化物電極あるいは白金系電極である
のがよい。
前記水溶液(a)中へSn”およびNi2+を補給する
ために、酸化第一錫および炭酸二・ンケルを用いるのか
よい。
ために、酸化第一錫および炭酸二・ンケルを用いるのか
よい。
以下に、本発明の詳細な説明する。
本発明では、陽極として、不溶性陽極を用いる。 Sn
−Ni合金めつきにおける不溶性陽極の使用には、前記
したような問題点あったが、その問題点を解決できれは
、浴バランスの安定化および省力化の点て、大きなメリ
ットか得られるからである。
−Ni合金めつきにおける不溶性陽極の使用には、前記
したような問題点あったが、その問題点を解決できれは
、浴バランスの安定化および省力化の点て、大きなメリ
ットか得られるからである。
不溶性陽極は、特に限定されず、カーホン、フェライト
、ステンレス等、いずれも使用可能であるが、酸化イリ
ジウムを主成分とした皮膜で表面が覆われた酸化物電極
、あるいは白金系電極か好ましい。 耐久性の観点から
は、酸化物電極の方がより好ましい。
、ステンレス等、いずれも使用可能であるが、酸化イリ
ジウムを主成分とした皮膜で表面が覆われた酸化物電極
、あるいは白金系電極か好ましい。 耐久性の観点から
は、酸化物電極の方がより好ましい。
なお、不溶性陽極を用いる場合、不溶性陽極で発生する
酸素ガスをうまく系外に除去する必要かあるか、そのた
めには、多孔性に加工するなと公知の技術を利用すれは
よい。
酸素ガスをうまく系外に除去する必要かあるか、そのた
めには、多孔性に加工するなと公知の技術を利用すれは
よい。
ところて、従来不溶性陽極か採用されなかった理由のひ
とつは、前記したように、電解時に塩素、弗素といった
有毒ガスが発生したり、あるいは、有機光沢剤か陽極て
急速に酸化、消耗されて、被めっき物が汚染されること
にあった。
とつは、前記したように、電解時に塩素、弗素といった
有毒ガスが発生したり、あるいは、有機光沢剤か陽極て
急速に酸化、消耗されて、被めっき物が汚染されること
にあった。
すなわち、Sn−Ni合金めつきの酸性浴としては、塩
化物浴や弗化物浴等が知られているが、第2図に示すよ
うに、これらの酸性浴を不溶性陽極と直接接触させて電
解すると、上記の問題が発生したのである。
化物浴や弗化物浴等が知られているが、第2図に示すよ
うに、これらの酸性浴を不溶性陽極と直接接触させて電
解すると、上記の問題が発生したのである。
この問題の解決のためには、電解時、Sn−Ni合金め
つき浴と不溶性陽極とを直接接触させなければよい。
つき浴と不溶性陽極とを直接接触させなければよい。
そこで、本発明では、第1図に示すように、不溶性陽極
と陰極との間に1価陽イオン選択***換膜を設け、膜の
陰極側には合金めっき液であるSn”およびNi”を含
むpH3以下の酸性水溶液(a)を、陽極側にはCf1
−およびF−を含まない酸性水溶液(b)を配し、該水
溶液(a)と該水溶液(b)とか混合せす、かつ、該水
溶液(a)か不溶性陽極と接触しない状態で電解を行な
うこととしたのである。
と陰極との間に1価陽イオン選択***換膜を設け、膜の
陰極側には合金めっき液であるSn”およびNi”を含
むpH3以下の酸性水溶液(a)を、陽極側にはCf1
−およびF−を含まない酸性水溶液(b)を配し、該水
溶液(a)と該水溶液(b)とか混合せす、かつ、該水
溶液(a)か不溶性陽極と接触しない状態で電解を行な
うこととしたのである。
陰極と陽極を隔てる膜は、1価陽イオン選択***換膜と
する。 1価陽イオン遷択***換膜を用いると、陽極
側から陰極側への水素イオンの透過は容易であるが、陰
極側から陽極側へのめっき金属源であるSn”″やN
i ”″の多価陽イオンの透過は抑えられると同時に、
有毒ガス発生の原因となる塩素イオンや弗素イオンの移
動も抑制され、更に分子量の大きいめっき光沢剤の移動
も抑制されるからである。 Sn2“やめっき光沢剤が
膜と陽極との間の酸性水溶Ql (b )中に混入する
と、陽極てすみやかにSn’+へ酸化され、SnO2ス
ラッジを生成し、膜の目づまりの原因となるので、その
混入は避けることが望ましい。
する。 1価陽イオン遷択***換膜を用いると、陽極
側から陰極側への水素イオンの透過は容易であるが、陰
極側から陽極側へのめっき金属源であるSn”″やN
i ”″の多価陽イオンの透過は抑えられると同時に、
有毒ガス発生の原因となる塩素イオンや弗素イオンの移
動も抑制され、更に分子量の大きいめっき光沢剤の移動
も抑制されるからである。 Sn2“やめっき光沢剤が
膜と陽極との間の酸性水溶Ql (b )中に混入する
と、陽極てすみやかにSn’+へ酸化され、SnO2ス
ラッジを生成し、膜の目づまりの原因となるので、その
混入は避けることが望ましい。
また、陰極(v74板)と膜との間に配されるSn−N
i合金めっき液である水溶液(a)は、pH3以下の酸
性水溶液であることか必要である。 ただし、該めっき
液がSn’+およびN i ”を含むpH3以下の酸性
水溶液(浴)であれば、弗化物−塩化物浴、塩化物浴、
硫酸浴、はう酸浴等のいずれでもよい。
i合金めっき液である水溶液(a)は、pH3以下の酸
性水溶液であることか必要である。 ただし、該めっき
液がSn’+およびN i ”を含むpH3以下の酸性
水溶液(浴)であれば、弗化物−塩化物浴、塩化物浴、
硫酸浴、はう酸浴等のいずれでもよい。
不溶性陽極では、水の電解により酸素ガスが発生し、そ
のために、水素イオンが過剰となるが、この水素イオン
は、膜を透過して陰極側へ移動し、陰極側にある水溶液
(a)のpHを下げる。 従って、水溶液(a)として
、pHが3より犬であるものを用いると、時間の経過と
共に水溶液(a)のpHが低下し、pHを一定に保つの
が困難となるためである。
のために、水素イオンが過剰となるが、この水素イオン
は、膜を透過して陰極側へ移動し、陰極側にある水溶液
(a)のpHを下げる。 従って、水溶液(a)として
、pHが3より犬であるものを用いると、時間の経過と
共に水溶液(a)のpHが低下し、pHを一定に保つの
が困難となるためである。
一方、不溶性陽極と膜との間に配される水溶液(b)は
、C℃=およびF−を含まない酸性水溶液であれば特に
限定されないが、pHか3以下の硫酸水溶液または硝酸
水溶液が望ましい。 C1−やF−を含む水溶液を用
いると、電解時に陽極で塩素ガスや弗素ガスか発生し、
膜を設けてSn−Ni合金めつき液である水溶液(a)
と陽極との接触を防止した忌味かなくなる。
、C℃=およびF−を含まない酸性水溶液であれば特に
限定されないが、pHか3以下の硫酸水溶液または硝酸
水溶液が望ましい。 C1−やF−を含む水溶液を用
いると、電解時に陽極で塩素ガスや弗素ガスか発生し、
膜を設けてSn−Ni合金めつき液である水溶液(a)
と陽極との接触を防止した忌味かなくなる。
また、硫酸水溶液を用いる場合、その濃度としては、1
〜300 g/xか適当である。 硫酸濃度が1 g/
fLより低いと、充分な電導度か得られず、電解電圧の
上昇原因となるので好ましくない。 一方、300 g
/u超としても、電導度はもはや改善されず、却って不
経済なたけである。
〜300 g/xか適当である。 硫酸濃度が1 g/
fLより低いと、充分な電導度か得られず、電解電圧の
上昇原因となるので好ましくない。 一方、300 g
/u超としても、電導度はもはや改善されず、却って不
経済なたけである。
本発明において、Sn−Ni合金めっぎにより消費され
た金属イオンの補給方法は、特に限定されないが、Sn
−Ni合金めっき液である水溶液(a)に容易に熔ける
、Sn”イオンまたはNi”″イオンを含む化合物の添
加による方法が好ましい。
た金属イオンの補給方法は、特に限定されないが、Sn
−Ni合金めっき液である水溶液(a)に容易に熔ける
、Sn”イオンまたはNi”″イオンを含む化合物の添
加による方法が好ましい。
このような化合物として、酸化第一錫、炭酸ニッケルが
例示される。 これらの化合物は、金属イオンの補給
以外に、陽極で生成した水素イオンにより低下した水溶
?! (a )のpHを上げる機能をも合わせもち、か
つ、水溶液(a)に容易に溶ける。
例示される。 これらの化合物は、金属イオンの補給
以外に、陽極で生成した水素イオンにより低下した水溶
?! (a )のpHを上げる機能をも合わせもち、か
つ、水溶液(a)に容易に溶ける。
なお、ラインの連続操業の場合には、鋼板や被めっき物
にめっき液(水溶液(a))が付着して系外に持ち出さ
れるので、Sn−Ni合金めっきにより消費された金属
イオンの補給たけでなく、何らかの方法で、めっき法自
体の補給も必要となる。 めつぎ液の補給方法としては
、持ち出され、水により希釈されためつき液を濃縮して
元に戻してもよいし、あるいは、めっき液と同じ組成の
水溶液をめっき液に添加してもよい。 さらには、めっ
き液の成分別に補給してもよい。
にめっき液(水溶液(a))が付着して系外に持ち出さ
れるので、Sn−Ni合金めっきにより消費された金属
イオンの補給たけでなく、何らかの方法で、めっき法自
体の補給も必要となる。 めつぎ液の補給方法としては
、持ち出され、水により希釈されためつき液を濃縮して
元に戻してもよいし、あるいは、めっき液と同じ組成の
水溶液をめっき液に添加してもよい。 さらには、めっ
き液の成分別に補給してもよい。
たたし、これらは、前記金属イオンの補給には相当せす
、本発明では、このようなその他の原因で補給を必要と
するものの補給方法については、特に規制するものでは
ない。
、本発明では、このようなその他の原因で補給を必要と
するものの補給方法については、特に規制するものでは
ない。
〈実施例〉
以下に、実施例により、本発明を具体的に説明する。
(実施例)
下記のめっき液(水溶液(a))、陽極、膜および陽極
/膜間溶液(水溶液(b))を用意した。
/膜間溶液(水溶液(b))を用意した。
これらを表1に示すような組合せて用い、冷延鋼板(板
厚0.22mm)に、第3図に示す工程で連続的にSn
−Ni合金めっぎを施した。 鋼板速度は400m/分
、電解電流密度は20 A/dm2 とした。 また、
発明例においては、鋼板と膜との距離は20mm、膜と
陽極との距離は2mmとし、比較例においては、鋼板と
陽極との距離は20mmとした。 なお、比較例1では
、合金めっき槽を2個用意し、一方は可溶性Ni陽極、
他方は可溶性Sn陽極を用いた。
厚0.22mm)に、第3図に示す工程で連続的にSn
−Ni合金めっぎを施した。 鋼板速度は400m/分
、電解電流密度は20 A/dm2 とした。 また、
発明例においては、鋼板と膜との距離は20mm、膜と
陽極との距離は2mmとし、比較例においては、鋼板と
陽極との距離は20mmとした。 なお、比較例1では
、合金めっき槽を2個用意し、一方は可溶性Ni陽極、
他方は可溶性Sn陽極を用いた。
この間、めっts?夜中のSn”およびNi2+の濃度
を、所定時間ごとに測定した。
を、所定時間ごとに測定した。
結果は第4図および第5図に示した。
(1)めっき液組成
Σ二二盈ユ譲」]シ」目11jA(*(ly[工SnC
Jlz ・2H2030g/uNi CIl> ・
6H20350g/JZHCf1300 g/u 1.5ナフタリンスルフォン酸ナトリウム5g/fl チオ尿素 0.075g/flS
n CJ12’ 2H2050g/11Ni CJZ
2 ’ 6H20250g/l1NH4°HF2
sog/xHC4またはアンモニア水
pH8整4xY台 7屈
65
℃(2)陽極 可溶性陽極A:Sn陽極およびN】陽極可溶性陽極B:
Ni陽極 不溶性陽極A :Tiを母材として、その表面を酸化イ
リジウムで被覆した 酸化物電極 不溶性陽極B :Tiを母材として、その表面を白金で
被覆した白金系電極 (3)膜 @A:1価陽イオン選択***換膜、 旭化成■製、 Acjplex k−102 膜B:1価陽イオン選択***換膜、 徳山曹達■製、 Neosepta CH3−45,7膜C:通常陽イ
オン交換膜、旭硝子銖製、Selemion C
MV (4)陽Vil/膜間溶液 陽極/膜 開港 ン夜 A 。
Jlz ・2H2030g/uNi CIl> ・
6H20350g/JZHCf1300 g/u 1.5ナフタリンスルフォン酸ナトリウム5g/fl チオ尿素 0.075g/flS
n CJ12’ 2H2050g/11Ni CJZ
2 ’ 6H20250g/l1NH4°HF2
sog/xHC4またはアンモニア水
pH8整4xY台 7屈
65
℃(2)陽極 可溶性陽極A:Sn陽極およびN】陽極可溶性陽極B:
Ni陽極 不溶性陽極A :Tiを母材として、その表面を酸化イ
リジウムで被覆した 酸化物電極 不溶性陽極B :Tiを母材として、その表面を白金で
被覆した白金系電極 (3)膜 @A:1価陽イオン選択***換膜、 旭化成■製、 Acjplex k−102 膜B:1価陽イオン選択***換膜、 徳山曹達■製、 Neosepta CH3−45,7膜C:通常陽イ
オン交換膜、旭硝子銖製、Selemion C
MV (4)陽Vil/膜間溶液 陽極/膜 開港 ン夜 A 。
H2SO4が150g#の水溶液、
PH1以下、65℃
陽極/膜間溶液B。
HNO3か100g/It(D水溶液、pH1以下、6
5℃ 表 1 発明例1と発明例2は、特に、不溶性陽極と陰極を隔て
る膜として1価陽イオン選択***換膜を使用し、陽極/
膜間にpH3以下の酸性水溶液を置き、膜/陰極間には
pH3以下のSn−Ni合金めつぎ液を置いてめっきし
たものである。 また、イオンの補給法は、SnOとN
iCO3の添加を採用したものである。
5℃ 表 1 発明例1と発明例2は、特に、不溶性陽極と陰極を隔て
る膜として1価陽イオン選択***換膜を使用し、陽極/
膜間にpH3以下の酸性水溶液を置き、膜/陰極間には
pH3以下のSn−Ni合金めつぎ液を置いてめっきし
たものである。 また、イオンの補給法は、SnOとN
iCO3の添加を採用したものである。
第4図および第5図から明らかなように、発明例1、発
明例2では、めっき液中のイオン濃度はSn”″、Ni
2+濃度共に安定であり、かつ、結果は示さないが、浴
のpHも安定であった。
明例2では、めっき液中のイオン濃度はSn”″、Ni
2+濃度共に安定であり、かつ、結果は示さないが、浴
のpHも安定であった。
比較例1は、可溶性のN1陽極とSn陽極を併用したも
のである。 第4図から明らかなように、比較例1では
、めっき液中のN12′″濃度は安定であったが、Sn
2+濃度は時間と共に増加し、浴バランスを取るのが困
難であった。
のである。 第4図から明らかなように、比較例1では
、めっき液中のN12′″濃度は安定であったが、Sn
2+濃度は時間と共に増加し、浴バランスを取るのが困
難であった。
比較例2は、可溶性のNi陽極のみを使用し、Sn”″
補給はSnO添加で行ったものである。 第5図から明
らかなように、めっき液中のSn”濃度は安定であった
か、Ni2+濃度は、消費を供給か上回るために、時間
と共に増加し、やはり浴バランスを取るのか困難であっ
た。
補給はSnO添加で行ったものである。 第5図から明
らかなように、めっき液中のSn”濃度は安定であった
か、Ni2+濃度は、消費を供給か上回るために、時間
と共に増加し、やはり浴バランスを取るのか困難であっ
た。
また、1価陽イオン選択性でない通常の陽イオン交換膜
を使用した比較例3の場合、1日経過した時点て膜が目
づまりし、浴電圧が上昇したために、作業を中止せざる
を得なかった。
を使用した比較例3の場合、1日経過した時点て膜が目
づまりし、浴電圧が上昇したために、作業を中止せざる
を得なかった。
〈発明の効果〉
本発明は、陽極と陰極との間に膜を設けた不溶性陽極シ
ステムによるSn−Ni合金めつき方法であるために、
めっきにより消費される金属イオンを適切な形て補うこ
とにより、従来困難であったSn−Ni合金めつきの浴
バランス安定化を容易に達成することかでき、かつ、種
々の自動化による、あるいは陽極を交換しなくてよいた
めの省力化か可能となった。
ステムによるSn−Ni合金めつき方法であるために、
めっきにより消費される金属イオンを適切な形て補うこ
とにより、従来困難であったSn−Ni合金めつきの浴
バランス安定化を容易に達成することかでき、かつ、種
々の自動化による、あるいは陽極を交換しなくてよいた
めの省力化か可能となった。
また、不溶性陽極システムか開発されたことにより、エ
ツジオーバーコート防止装置の取り付けが容易となり、
めっき付着量の幅方向の均一性か改善された。
ツジオーバーコート防止装置の取り付けが容易となり、
めっき付着量の幅方向の均一性か改善された。
第1図は、本発明法を説明するための概念図である。
第2図は、従来法を説明するための概念図である。
第3図は、実施例におけるめっき処理を説明するための
流れ図である。 第4図および第5図は、実施例におけるめっき洛中のS
n2″″濃度およびNi2+濃度の経時変化を示すグラ
フである。 Sn−Ni8金の一巳液(2k」シ夜(a))Sn−N
i4’父のフセ浪 FIG、4 日1 間 (日#−)
流れ図である。 第4図および第5図は、実施例におけるめっき洛中のS
n2″″濃度およびNi2+濃度の経時変化を示すグラ
フである。 Sn−Ni8金の一巳液(2k」シ夜(a))Sn−N
i4’父のフセ浪 FIG、4 日1 間 (日#−)
Claims (4)
- (1)Sn^2^+およびNi^2^+を含むpH3以
下の酸性水溶液(a)中において、鋼板を陰極として電
解してSn−Ni合金めっきを行なう方法において、陽
極として不溶性陽極を用い、陽極と陰極との間に1価陽
イオン選択***換膜を設け、該陽極と該膜との間にCl
^−およびF^−を含まない酸性水溶液(b)を配し、
前記水溶液(a)と前記水溶液(b)との混合を防止し
てめっきすることを特徴とするSn−Ni合金めっき方
法。 - (2)前記水溶液(b)として、硫酸あるいは硝酸のp
H3以下の酸性水溶液を用いる請求項1に記載のSn−
Ni合金めっき方法。 - (3)前記不溶性陽極が、酸化イリジウムを主成分とす
る皮膜で表面を覆われた酸化物電極あるいは白金系電極
である請求項1または2に記載のSn−Ni合金めっき
方法。 - (4)前記水溶液(a)中へSn^2^+およびNi^
2^+を補給するために、酸化第一錫および炭酸ニッケ
ルを用いる請求項1〜3のいずれかに記載のSn−Ni
合金めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30306490A JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | Sn―Ni合金めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30306490A JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | Sn―Ni合金めっき方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04176893A true JPH04176893A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17916471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30306490A Pending JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | Sn―Ni合金めっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04176893A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6602394B1 (en) | 1998-07-30 | 2003-08-05 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik | Alkali zinc nickel bath |
DE19848467C5 (de) * | 1998-10-21 | 2006-04-27 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad |
JP2010518260A (ja) * | 2007-02-14 | 2010-05-27 | ユミコア ガルヴァノテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 銅−スズ電解液及び青銅層の析出法 |
CN113383118A (zh) * | 2019-01-24 | 2021-09-10 | 德国艾托特克公司 | 用于电解锌-镍合金沉积的膜阳极*** |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP30306490A patent/JPH04176893A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6602394B1 (en) | 1998-07-30 | 2003-08-05 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik | Alkali zinc nickel bath |
US7807035B2 (en) | 1998-07-30 | 2010-10-05 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Methods of plating zinc-containing coatings under alkaline conditions |
US8486235B2 (en) | 1998-07-30 | 2013-07-16 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Alkaline zinc-nickel bath |
DE19848467C5 (de) * | 1998-10-21 | 2006-04-27 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad |
JP2010518260A (ja) * | 2007-02-14 | 2010-05-27 | ユミコア ガルヴァノテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 銅−スズ電解液及び青銅層の析出法 |
CN113383118A (zh) * | 2019-01-24 | 2021-09-10 | 德国艾托特克公司 | 用于电解锌-镍合金沉积的膜阳极*** |
JP2022518053A (ja) * | 2019-01-24 | 2022-03-11 | アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー | 電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステム |
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