CZ2001189A3 - Alkalická zinko-niklová lázeň - Google Patents

Alkalická zinko-niklová lázeň Download PDF

Info

Publication number
CZ2001189A3
CZ2001189A3 CZ2001189A CZ2001189A CZ2001189A3 CZ 2001189 A3 CZ2001189 A3 CZ 2001189A3 CZ 2001189 A CZ2001189 A CZ 2001189A CZ 2001189 A CZ2001189 A CZ 2001189A CZ 2001189 A3 CZ2001189 A3 CZ 2001189A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
anode
nickel
zinc
bath
alkaline
Prior art date
Application number
CZ2001189A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ298904B6 (cs
Inventor
Ernst-Walter Hillebrand
Original Assignee
Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7875843&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CZ2001189(A3) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik filed Critical Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik
Publication of CZ2001189A3 publication Critical patent/CZ2001189A3/cs
Publication of CZ298904B6 publication Critical patent/CZ298904B6/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description

Vynález se týká galvanické lázně pro nanášení zinko-niklových povlaků s anodou, katodou a alkalickým elektrolytem.
Dosavadní stav techniky
Je známa možnost pokrývání elektricky vodivých materiálů slitinami zinku a niklu za účelem zlepšení jejich korozivzdornosti. K tomu se obvykle používá kyselá elektrolytová lázeň, například sulfátový, chloridový, flouropromátový nebo sulfamátový elektrolyt. U těchto postupů je dosažení rovnoměrné tloušťky zinko-niklového povlaku na příslušném materiálu technicky velmi náročné a v praxi obvykle nemožné.
Z toho důvodu se v poslední době používají alkalické zinko-niklové galvanické lázně, které jsou uvedeny v německém patentu 37 12 511 a které mají například následující složení:
11,3 g/lZnO
4.1 g/1 NiSO4 * 6 H2O
120 g/lNaOH
5.1 g/1 polyethylenimin
Aminy obsažené v alkalické lázni slouží jako komplexotvomá látka pro ionty niklu, které jsou jinak v alkalickém médiu nerozpustné. Složení lázně se liší podle výrobce.
Tyto galvanické lázně jsou obvykle napájeny nerozpustnými niklovými anodami. Koncentrace zinku se udržuje konstantní přidáváním zinku a koncentrace niklu se udržuje konstantní přidáváním roztoku niklu, například niklsulfátového roztoku.
Tyto lázně však po několika hodinách provozu vykazují změnu barvy z původní modrofialové na hnědou. Po několika dnech, popřípadě týdnech se toto zbarvení zesiluje a lze zjistit rozdělení lázně na dvě fáze, přičemž horní fáze je tmavě hnědá. Tato fáze způsobuje značná narušení povlaku produktů, například nerovnoměrnou tloušťku vrstvy nebo tvorbu puchýřků. Kontinuální čištění lázně, tedy kontinuální odebírání této vrstvy je proto nevyhnutelné. To je ovšem nákladné a časově náročné.
Dále lze po několika týdnech provozu prokázat v lázni kyanid. V důsledku znečištění kyanidem je zapotřebí pravidelné obnovování lázně a speciální zpracovávání odpadních vod, které značně ovlivňuje provozní náklady lázně. A to tím víc, že odpadní vody mají vysokou organickou koncentraci a ztěžují detoxikaci kyanidu hodnotou CSB 15.000 až 20.000 mg/1. Dodržování hodnot stanovených zákonodárcem pro odpadní vody (nikl 0,5 ppm a zinek 2 ppm) je pak možné pouze za značného přidávání chemikálií.
Vytvoření druhé fáze vyplývá z reakce aminů, které se v alkalickém roztoku mění na niklových anodách na nitrily (mezi jinými také kyanid). Na základě rozkladu aminů se musí do lázně navíc kontinuálně přidávat nové komplexotvomé látky, což zvyšuje náklady na proces.
Jiné než niklové anody nemohou být použity, protože se v alkalickém roztoku rozpouštějí, což má rovněž neblahý vliv na kvalitu povlaku.
S ohledem na uvedený dosavadní stav techniky je úkolem vynálezu vytvořit zinko-niklovou galvanickou lázeň, která umožní cenově výhodné vytváření zinko-niklových povlaků o vysoké kvalitě.
Podstata vynálezu
Tento úkol je vyřešen podle vynálezu tak, že je anoda oddělena od alkalického elektrolytu ionexovou membránou.
Tímto oddělením se zabrání reakci aminů na niklové anodě a v důsledku toho neprobíhají žádné nežádoucí vedlejší reakce, které by způsobovaly problé·· ···· ·· * · · ·· · · · · · *·· my s odpadním vodami nebo vedly k reakčním produktům usazujícím se do druhé fáze a nevýhodně ovlivňovaly kvalitu zinko-niklového povlaku. Nákladné odstraňování této vrstvy a obnovování lázně je díky tomuto vynálezu zbytečné. Dále lze zaznamenat značné zlepšení kvality povlaku.
Jako obzvlášť výhodné se ukázalo použití katexové membrány z perfluorovaného polymeru, neboť má zanedbatelný elektrický odpor, avšak vysokou chemickou a mechanickou odolnost.
Dále odpadá znečištění odpadních vod kyanidem, čímž je značně zjednodušeno čištění odpadní vody. Navíc je zbytečné doplňování komplexotvomé látky do elektrolytu, protože se již nerozkládá a její koncentrace v lázni zůstává téměř konstantní. Tento postup je tedy mnohem méně nákladný.
Zinko-niklová lázeň funguje v řešení podle vynálezu jako katolyt. Jako anolyt mohou být například použity kyselina sírová nebo fosforečná. Jako materiál anody připadají v úvahu do galvanického článku podle vynálezu obvyklé anody, například platinované titanové anody, protože již nejsou vystaveny působení zásadité zinko-niklové lázně.
Přehled obrázků na výkresech
Vynález je podrobněji popsán pomocí příkladného provedení znázorněného na obrázku, kde je schematicky zobrazena konstrukce galvanické lázně.
Příkladná provedení vynálezu
Na obr. 1 je znázorněn galvanický článek 1, který je opatřen anodou 2 a katodou 3, u níž se jedná o potahovaný předmět. Katolyt 4 obklopující anodu je alkalický a sestává ze zinko-niklové galvanické lázně o známém složení, v níž se jako komplexotvomá látka pro ionty niklu používají aminy. Anolyt 5 obklopující anodu 2 může být například tvořen kyselinou sírovou nebo fosforečnou. Anolyt 5 a katolyt 4 jsou od sebe odděleny perflourovanou katexovou membránou 6. Tato membrána umožňuje bezbariérový průchod elektrického proudu
-4•· ···· ·· · · » ·· « · · ···· · · · · ·· · · · · · · · • « · · · »····· • · · ··· ·«·· ···· ·· · · · · · · α · · lázní, avšak brání tomu, aby katolyt 4, zvláště v něm obsažené aminy , přišly do styku s anodou 2, čímž jsou vyloučeny reakce, které byly podrobně uvedeny v popise, včetně jejich nežádoucích důsledků.

Claims (4)

1. Alkalická galvanická lázeň pro nanášení zinko-niklových povlaků s anodou a katodou, vyznačující se tím, že anoda je od alkalického elektrolytu oddělena ionexovou membránou (6).
2. Galvanická lázeň podle nároku 1, vyznačující se tím, že katoda (3) je od alkalického elektrolytu (4) oddělena perfluorovanou katexovou membránou (6).
3. Galvanická lázeň podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že jako anolyt (5) je použita kyselina sírová, kyselina fosforečná, kyselina metansulfonová, kyselina amidosulfonová a / nebo kyselina fosfonová.
4. Galvanická lázeň podle jednoho z nároků laž3, vyznačující se tím, že anoda je platinovaná titanová anoda.
CZ20010189A 1998-07-30 1999-07-29 Alkalická zinko-niklová lázen CZ298904B6 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19834353A DE19834353C2 (de) 1998-07-30 1998-07-30 Alkalisches Zink-Nickelbad

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2001189A3 true CZ2001189A3 (cs) 2001-08-15
CZ298904B6 CZ298904B6 (cs) 2008-03-05

Family

ID=7875843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ20010189A CZ298904B6 (cs) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalická zinko-niklová lázen

Country Status (22)

Country Link
US (4) US6602394B1 (cs)
EP (2) EP1344850B1 (cs)
JP (2) JP4716568B2 (cs)
KR (1) KR20010071074A (cs)
CN (1) CN1311830A (cs)
AT (2) ATE346180T1 (cs)
AU (1) AU5415299A (cs)
BG (1) BG105184A (cs)
BR (1) BR9912589A (cs)
CA (1) CA2339144A1 (cs)
CZ (1) CZ298904B6 (cs)
DE (3) DE19834353C2 (cs)
EE (1) EE200100059A (cs)
ES (2) ES2201759T3 (cs)
HR (1) HRP20010044B1 (cs)
HU (1) HUP0103951A3 (cs)
IL (1) IL141086A0 (cs)
MX (1) MXPA01000932A (cs)
PL (1) PL198149B1 (cs)
SK (1) SK285453B6 (cs)
TR (1) TR200100232T2 (cs)
WO (1) WO2000006807A2 (cs)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad
US8236159B2 (en) 1999-04-13 2012-08-07 Applied Materials Inc. Electrolytic process using cation permeable barrier
US8852417B2 (en) 1999-04-13 2014-10-07 Applied Materials, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US20060157355A1 (en) * 2000-03-21 2006-07-20 Semitool, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US20060189129A1 (en) * 2000-03-21 2006-08-24 Semitool, Inc. Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers
DE10026956A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-13 Walter Hillebrand Galvanotechn Zink-Legierungsbad
ES2250166T5 (es) 2000-06-15 2016-05-20 Coventya Inc Electrochapado de zinc-níquel
US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US7628898B2 (en) * 2001-03-12 2009-12-08 Semitool, Inc. Method and system for idle state operation
DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
BR0318331A (pt) * 2003-06-03 2006-07-11 Taskem Inc aparelho para aplicar um eletrodepósito de zinco ou de liga de zinco a uma peça de trabalho
US20050121332A1 (en) * 2003-10-03 2005-06-09 Kochilla John R. Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation
US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
FR2864553B1 (fr) * 2003-12-31 2006-09-01 Coventya Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
DE102004061255B4 (de) 2004-12-20 2007-10-31 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben
EP1712660A1 (de) * 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode
ATE429528T1 (de) * 2005-04-26 2009-05-15 Atotech Deutschland Gmbh Alkalisches galvanikbad mit einer filtrationsmembran
EP1717351A1 (de) * 2005-04-27 2006-11-02 Enthone Inc. Galvanikbad
JP4738910B2 (ja) * 2005-06-21 2011-08-03 日本表面化学株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき方法
US20070043474A1 (en) * 2005-08-17 2007-02-22 Semitool, Inc. Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process
DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
JP4819612B2 (ja) * 2006-08-07 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 めっき処理装置および半導体装置の製造方法
DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
DE102007060200A1 (de) 2007-12-14 2009-06-18 Coventya Gmbh Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad
TWI384094B (zh) * 2008-02-01 2013-02-01 Zhen Ding Technology Co Ltd 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置
EP2096193B1 (en) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts
DE102008058086B4 (de) 2008-11-18 2013-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen
KR100977068B1 (ko) * 2010-01-25 2010-08-19 한용순 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액
PL2384800T3 (pl) 2010-05-07 2013-07-31 Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg Regeneracja alkalicznych elektrolitów cynkowo-niklowych drogą usuwania jonów cynkowych
DE102010044551A1 (de) 2010-09-07 2012-03-08 Coventya Gmbh Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad
EP2660360A1 (en) 2011-08-30 2013-11-06 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Adhesion promotion of cyanide-free white bronze
CN103849915B (zh) * 2012-12-06 2016-08-31 北大方正集团有限公司 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法
CN103911650B (zh) * 2014-04-02 2016-07-06 广东达志环保科技股份有限公司 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极
DE202015002289U1 (de) 2015-03-25 2015-05-06 Hartmut Trenkner Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen
CN106550606B (zh) 2015-07-22 2019-04-26 迪普索股份公司 锌合金镀敷方法
MX368121B (es) 2015-07-22 2019-09-19 Dipsol Chem Metodo de electrodeposicion de aleacion de zinc.
WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법
CN106987879A (zh) * 2016-11-23 2017-07-28 瑞尔太阳能投资有限公司 电沉积装置及其电沉积方法
EP3358045A1 (de) * 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
DK3415665T3 (da) 2017-06-14 2024-02-12 Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg Fremgangsmåde til galvanisk udfældning af zink-nikkel-legeringsovertræk ud fra et alkalisk zink-nikkel-legeringsbad med reduceret nedbrydning af tilsætningsstoffer
WO2020152208A1 (en) 2019-01-24 2020-07-30 Atotech Deutschland Gmbh Membrane anode system for electrolytic zinc-nickel alloy deposition
JP6582353B1 (ja) 2019-02-15 2019-10-02 ディップソール株式会社 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム
JP6750186B1 (ja) 2019-11-28 2020-09-02 ユケン工業株式会社 めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法
CN114787425A (zh) 2019-12-20 2022-07-22 德国艾托特克有限两合公司 用于在衬底上沉积锌-镍合金的方法及***
EP4273303A1 (en) 2022-05-05 2023-11-08 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE925264C (de) 1952-11-15 1955-03-17 Hesse & Co Dr Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden
GB1349735A (en) 1969-11-20 1974-04-10 Fulmer Res Inst Ltd Electrodeposited metal coatings
US3660170A (en) * 1970-04-08 1972-05-02 Gen Electric Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode
US3718549A (en) 1971-06-14 1973-02-27 Kewanee Oil Co Alkaline nickel plating solutions
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
GB1602404A (en) 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
US4192908A (en) * 1979-06-15 1980-03-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell
JPS5893886A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Tokuyama Soda Co Ltd 電気メツキ方法
JPS5893899A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気メツキの浴管理方法
US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
DE3310730A1 (de) 1983-03-24 1984-03-29 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder
JPS59193295A (ja) 1983-04-15 1984-11-01 Hitachi Ltd ニツケルめつき方法及び装置
US4889602B1 (en) 1986-04-14 1995-11-14 Dipsol Chem Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating
DE3712511C3 (de) * 1986-04-14 1995-06-29 Dipsol Chem Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades
US4832812A (en) * 1987-09-08 1989-05-23 Eco-Tec Limited Apparatus for electroplating metals
JPH02175894A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Kosaku:Kk スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置
FR2650304B1 (fr) 1989-07-25 1991-10-04 Siderurgie Fse Inst Rech Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre
JPH049493A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Permelec Electrode Ltd 鋼板の電気錫メッキ方法
JP2764337B2 (ja) * 1990-05-10 1998-06-11 新日本製鐵株式会社 Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法
JPH0444374A (ja) 1990-06-12 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd エキシマレーザ装置
US5310465A (en) * 1990-06-14 1994-05-10 Vaughan Daniel J Electrodialytic oxydation-reduction of metals
JPH0452296A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Permelec Electrode Ltd 銅めっき方法
JPH08375Y2 (ja) * 1990-08-15 1996-01-10 株式会社アルメックス メッキ装置の陽極構造
EP0483937A1 (de) 1990-10-24 1992-05-06 ATOTECH Deutschland GmbH Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung
DE4035316C2 (de) 1990-11-07 1993-11-04 Daimler Benz Ag Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern
JPH04176893A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Kawasaki Steel Corp Sn―Ni合金めっき方法
US5162079A (en) 1991-01-28 1992-11-10 Eco-Tec Limited Process and apparatus for control of electroplating bath composition
JP2997072B2 (ja) * 1991-02-13 2000-01-11 ディップソール株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法
JPH059776A (ja) * 1991-07-01 1993-01-19 Fujitsu Ltd プリント配線板のめつき方法
JPH059799A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Kawasaki Steel Corp 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置
JPH05128533A (ja) 1991-11-05 1993-05-25 Nec Eng Ltd 光デイスク再生装置
FR2686352B1 (fr) 1992-01-16 1995-06-16 Framatome Sa Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel.
US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
US5405523A (en) * 1993-12-15 1995-04-11 Taskem Inc. Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer
JPH10130878A (ja) 1996-11-01 1998-05-19 Asahi Glass Co Ltd 電解ニッケルめっき方法
US5883762A (en) 1997-03-13 1999-03-16 Calhoun; Robert B. Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations
DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad

Also Published As

Publication number Publication date
IL141086A0 (en) 2002-02-10
HUP0103951A2 (hu) 2002-02-28
DE19834353A1 (de) 2000-02-03
HRP20010044A2 (en) 2001-12-31
CA2339144A1 (en) 2000-02-10
MXPA01000932A (es) 2002-06-04
ES2201759T3 (es) 2004-03-16
JP2002521572A (ja) 2002-07-16
US20110031127A1 (en) 2011-02-10
EP1102875B1 (de) 2003-06-11
SK892001A3 (en) 2001-10-08
EP1102875A2 (de) 2001-05-30
HUP0103951A3 (en) 2003-05-28
EP1344850A1 (de) 2003-09-17
BG105184A (en) 2001-10-31
DE59914011D1 (de) 2007-01-04
ES2277624T3 (es) 2007-07-16
BR9912589A (pt) 2001-05-02
JP2008150713A (ja) 2008-07-03
CN1311830A (zh) 2001-09-05
DE19834353C2 (de) 2000-08-17
PL345970A1 (en) 2002-01-14
CZ298904B6 (cs) 2008-03-05
WO2000006807A3 (de) 2000-05-04
US7807035B2 (en) 2010-10-05
DE59905937D1 (de) 2003-07-17
PL198149B1 (pl) 2008-05-30
ATE242821T1 (de) 2003-06-15
US20080164150A1 (en) 2008-07-10
EE200100059A (et) 2002-10-15
EP1344850B1 (de) 2006-11-22
ATE346180T1 (de) 2006-12-15
WO2000006807A2 (de) 2000-02-10
AU5415299A (en) 2000-02-21
HRP20010044B1 (en) 2005-06-30
US6602394B1 (en) 2003-08-05
SK285453B6 (sk) 2007-01-04
US20040104123A1 (en) 2004-06-03
JP4716568B2 (ja) 2011-07-06
KR20010071074A (ko) 2001-07-28
TR200100232T2 (tr) 2001-06-21
US8486235B2 (en) 2013-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ2001189A3 (cs) Alkalická zinko-niklová lázeň
KR101301275B1 (ko) 여과막을 가지는 알칼리 전기도금조
US20160024683A1 (en) Apparatus and method for electrolytic deposition of metal layers on workpieces
JPH01159395A (ja) 金属の電気メッキ方法
US4933051A (en) Cyanide-free copper plating process
KR20110011613A (ko) 개질된 구리-주석 전해액, 및 청동 층의 침착 방법
WO1996030130A1 (en) Process and equipment for reforming and maintaining electroless metal baths
US6187169B1 (en) Generation of organosulfonic acid from its salts
US4652351A (en) Electrochemical restoration of cyanide solutions
US4208255A (en) Process and device for the production of metal-complex compounds suitable for electroless metal deposition
EP4077771A1 (en) Method and system for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate
RU2712325C1 (ru) Способ извлечения кадмия из промывных вод, содержащих цианиды
JPH05311483A (ja) 錫またははんだめっき浴
KR20230092886A (ko) 금속으로 물품을 전기 도금하는 방법 및 시스템
FR2668173A1 (fr) Procede pour former un revetement electrolytique de nickel avec reduction de l'accumulation des ions nickel.
US20140097094A1 (en) Recovery method of nickel from spent electroless nickel plating solutions by electrolysis

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Patent expired

Effective date: 20190729