JPS5893886A - 電気メツキ方法 - Google Patents

電気メツキ方法

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JPS5893886A
JPS5893886A JP19065881A JP19065881A JPS5893886A JP S5893886 A JPS5893886 A JP S5893886A JP 19065881 A JP19065881 A JP 19065881A JP 19065881 A JP19065881 A JP 19065881A JP S5893886 A JPS5893886 A JP S5893886A
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JP
Japan
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sulfuric acid
exchange membrane
chamber
anode
plating
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JP19065881A
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English (en)
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Takashi Deo
隆志 出尾
Hiroyuki Morimoto
裕之 森本
Yuji Terada
寺田 雄二
Nobukazu Suzuki
鈴木 信和
Atsuyoshi Shibuya
渋谷 敦義
Tetsuaki Tsuda
津田 哲明
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Nippon Steel Corp
Tokuyama Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
Tokuyama Corp
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Publication date
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は鉄の電気メツキ方法に関する。
従来、鉄の防錆、防蝕、溶接性改良などを目的として種
々の電気メツキ方法が実施され、まlた開発されている
。特に工業的な鉄車の電気メツキ方法においては、例え
ばメツキラインのメーツキ槽を減少させるなど設備を小
さくするためにも、電流密度を大きくすることが望まれ
ている。
一般に、電気メツキ方法における陽極としては、可溶性
陽極又は不溶性陽極が用いられている。このうち、不溶
性陽極を用いる場合、陽極をイオン交換膜の隔膜でメッ
キ浴から分離した陽極室内に設置する方法が種々提案さ
れており、例えば特公昭s 1−29 o o号公報に
は隔膜として陰イオン交換膜を用いる合金メッキ方法が
記載されている。
しかし、イオン交換膜には一般に限界電流密度が存在す
るために、それ以上で電流を流した場合、イオン交換膜
のイオンが供給される側(脱塩側)の膜界面において、
水の分解(H+と0H−)を生ずる。そのために、スケ
ール成分が存在する場合にはOH−によって沈殿する障
害を生じたり、また陰イオン交換膜におい′てはOH−
が膜中を通過することによりアルカリ焼けを生じ、膜性
能が急激に低下して使用に耐えなくなる。したがって、
陰イオン交換膜を用いる電気メツキ方法においても、電
流密度を太き(することが困難である。
本発明者らは、不溶性陽極をイオン交換膜によりメッキ
浴から分離した陽極室内に設置したメツ4槽を用いる鉄
筒の電気メツキ方法について鋭意研究の結果、この陽極
室における硫酸濃度を特定以上に高めた場合には、電流
密度を大きくしても何ら支障な(、電気メッキできるこ
とを見出して本発明を完成した。
本発明は、鉄鋼の電気メッキにおいて、不溶性陽極を陰
イオン交換膜又は両性イオン交換膜によりメッキ浴室か
ら分離した陽極室内に設置し、この陽極室における硫酸
濃度を50g713以上に保持することを特徴とする電
気メツキ方法である。
本発明方法の実施態様を以下図面により説明する。メッ
キ槽1は陰イオン又は両性イオン交換膜(以下イオン交
換膜)2により、メッキ浴室6と陽極室4に分離されて
いる。陽極室4内には不溶性陽極5を設け、不溶性陽極
5及び被メッキ物(鉄9@)6を電源7と接続する。陽
極室5には、硫酸液貯槽8がらポンプ9により所定濃度
の硫酸が供給される。溶解槽1oで調製されたメッキ浴
は、ポンプ11により調整槽12に送られ、溶液の濃度
及びpHを調製したのち、ポンプ13によりメッキ液貯
槽14に送られ、次いでポンプ15によ′リメッキ浴室
6へ供給される。
陽極室5と硫酸液貯槽8の硫酸は循環することができ、
また硫酸液貯槽8の硫酸を溶解槽1゜に送り、メッキ浴
の調製に使用することもできる。この際硫酸中にFe’
S+が存在する場合は、還元処理、キレート剤などによ
りFe  を除去することが好ましい。
メッキ浴はメッキ金属の硫酸塩を含み、この硫酸塩濃度
は、メッキする金属により異なるが、一般に1〜3モル
/1、好ましくは2〜3モ乞4である。陽極室4には濃
度50 g743以上、好ましくは609/−6以上の
硫酸を入れる。次いで常法により電気メッキを行う。
不溶性電極5と鉄筒6との間にメッキ電圧が印加される
と、メッキ浴中に解離している金属イオンの放電が起こ
り、金属が鉄鋼60表面に析出する。一方、メッキ浴中
の硫酸イオン(SOZ−)はイオン交換膜2を透過して
陽極室4内に移動し、不溶性陽極5の表面で発生する水
素イオンと反応して硫酸が生成する。この結果、メッキ
浴室6では析出した金属に相当する硫酸塩が消失し、こ
れに相当する硫酸が陽極室4で生成する。
本発明方法においては陽極室4の硫酸濃度を50 g/
43以上、特に609/13以上に保持することが極め
て重要である。これにより55 %m2以上の電流密度
で支障なく電気メッキを行うことができる。工業的には
40〜200 A /dm”、好ましくは50〜150
A/dm2で行われる。これに対して、陽極室の硫酸濃
度を5011/43より低くして電気メッキした場合に
は、電流密度を大きくするにしたがって、陰イオン交換
膜にけ アルカリへの色調変化が認められ、さらには膜の強度及
び性能が低下する。したがって、陰イオン交換膜に破損
が生じた場合には、メッキ浴と陽極液とが混合するため
、メッキ浴のpHが異常に変化するとともに、メッキ浴
のFe2+が陽極室に移行して酸化されFe3+が増加
する結果を招く。Fe の増加は、メッキ浴において被
メツキ物裏面のFeやコンダクタ−ロールにッケルメツ
キなど)の腐食を促進するばかりでなく、pHが6以上
では水酸化第2鉄となり、メッキ浴の管理上から問題で
ある。
本発明の電気メツキ方法において、電流密度を大き(で
きる理由は定かでないが、陰イオンは 交換膜にアルカリ焼、が全(認められないことから、限
界電流密度が非常に高くなっているか、あるいは実質的
に消滅しているものと推測している。すなわち、陰イオ
ン交換膜は一般にHに対して透過し易い性質を有してい
るが、本発明においては陽極室の硫酸濃度を高(するに
したがって、陽極室に生成したH+が陰イオン交換膜を
通してメッキ浴室へ透過するため、硫酸の生成効率が減
少していくことを確認している。したがって、陰イオン
交換膜におけるH+の透過作用に・より限界電流密度が
太き(なり、または消滅するものと推考する。また、本
発明において両性イオン交換膜を用いた場合には、陰イ
オン交換膜と同等又はそれ以上にH+の透過作用を有す
るためか、陰イオン交換膜を用いる場合よりも、陽極室
の硫酸濃度を多少低くしても、電流密度を大きくできる
。両性イオン交換膜とししは、陰イオン交換基と陽イオ
ン交換基との全交換容量のうち陽イオン交換容量が10
〜40%のものが好ましい。
一般に電気メッキにおいては、ジュール熱が発生して液
温か上昇するために、熱交換器などにより除熱し、メッ
キに最適がっ除熱に経済的な液温か保持される。本発明
において電流密度を大きくして電気メッキを行う場合に
は、溶液の除熱量も大きくなるが、特に使用するイオン
交換膜の発熱が問題になる。本発明のメッキ浴及び陽極
室の硫酸液の温度が一般に70°C以上で、かつ電流密
度を特に50 A / dm2以上にして電気メッキを
行う場合には、イオン交換膜に熱焼が起こり、性能低下
が生じる場合がある。
このため本発明の電気メツキ方法においては、液温を7
0℃以下に維持することが好適である。
本発明に用いられる陰イオン交換膜としては、第4級ア
ンモニウム塩、例えばN−ベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩を含有する強塩基***換膜、−級ないし三級アミ
ノ基を含有する弱塩基***換膜のいずれでもよい。機械
的強度、耐熱性及び耐酸化性に優れた陰イオン交換膜は
市販されており、容易に入手することができる。
また両性イオン交換膜は、例えば前記の陰イオン交換膜
に硫酸などを作用させ、スルホン基を導入することによ
り得られる。
不溶性陽極としては、耐久性に優れ、安価で利である。
そのほかチタニウム、ニオブ、タンタルなどの金属表面
を、イリジウム、パラジウムなどの白金族金属の酸化物
で被覆するか又は白金メッキして用いてもよい。不溶性
電極は発生ガスによる電気抵抗の増大を抑制するような
形状、例えば平板状、網状、ラス状、棒状などが好まし
い。
不溶性陽極として、特に鉛系の金属を用いろ場合は、陽
極室4の硫酸に混入する不純物によって、イオン交換膜
の性能が劣化する傾向がある。このような場合にイオン
交換膜の性能を維持するためには、硫酸を還元処理する
ことが好ましい。還元処理法としては、一般に硫酸に亜
硫酸ソーダ、酸性亜硫酸ソーダ、ヒドラジン、アスコル
ビン酸などを添加する方法が用いられろ。
硫酸を活性炭で処理することも効果的である。
本発明の電気メツキ方法によれば、電流密度を大きくで
きるため、短時間でメッキすることができる。したがっ
て特に鉄の縁状、コイル状、板状物を連続的に電気メッ
キする場合に、メツキラインにおけるメッキ槽を減少で
き一工業的に極めて有利である。
本発明の電気メツキ方法は、鉄、亜鉛などの単一金属メ
ッキ及び亜鉛−ニッケル、亜鉛−鉄、亜鉛−コバルトな
どの合金メッキに用いることができる。本発明方法は、
軟鋼、鋼、鉄合金などの鉄製品を対象とすることができ
る。
実施例1 図面に示されるメッキ装置において、メッキ浴室3を硫
酸亜鉛(7水塩)濃度2509/43及び硫酸ナトリウ
ム1o og/lの濃度でpH2の亜鉛メッキ液で満た
し、陰イオン交換膜2(ネオセプタACH−45T、徳
山曹達社製)で隔てた陽極室4内に、白金を陽極5とし
て設置し、陽極室4には100fi/43の硫酸を満た
した。陽極室4の硫酸濃度を一定に保持しながら、12
0A/dIn2の電流密度で被メッキ物としての鋼板に
亜鉛の連続メッキを行った。
その結果、1力月以上を経過しても、陰イオン交換膜に
アルカリ焼けなどの異常は生ぜず、またメッキ浴中のF
e  イ“オ/濃度は被メッキ物の裏面からの溶出によ
り徐々に増加したが、約100 ppmで平衡状態にな
り、Fe  イオン濃度は数ppmに抑制され、亜鉛メ
ッキは良好であった。
比較例1 実施例1と同様にして、ただし陽極室4の硫酸濃度を4
0g/、、eとして、亜鉛メッキを行った。その結果、
24時間経過後には陰イオン交換膜にアルカリ焼けの色
調変化がみられ、そのため膜強度が低下し、一部破損も
認められた。
実施例2 メッキ浴室3を硫酸亜鉛7水塩15og/−e、硫酸第
一鉄7水塩zsog/−g−及び硫酸ナトリウム1oo
、9/−gの組成で、pH2の鉄−亜鉛メッキ液で満た
し、陰イオン交換膜2で隔てた陽極室4に白金の陽極を
設置し、陽極室4には50〜5511/43の硫酸を満
たした。陽極室4における硫酸濃度を保持しながら、5
5A/am2の電流密度で鋼板6に鉄−亜鉛の連続メッ
キを行った。
その結果、メッキ浴中のFe”+は常時数十ppm以下
に抑えることができ、安定した鉄20%、亜鉛80%の
合金被膜が得られた。また色調のむらや電流効1率の低
下は゛なかった。1力月運転後にも陰イオン交換膜のア
ルカリ焼けなどはみられず、性能変化もわずかであった
比較例2 実施例1における陽極室の硫酸濃度を40〜454/A
と変えた以外は、実施例1と同様の条件で実施した。
その結果、メッキ浴中のFe3+は2日間は常時数十p
pm以下に抑えられていたが、陽極室における硫酸の生
成効率は徐々に低下し、2日後に急激なメッキ浴pHの
異常変化とFeの増加がみられた。また陰イオン交換膜
を点検したところ、アルカリ焼けの色調変化を生じ、も
ろ(なって一部に破損が認められた。
実施例3 ポリ塩化ビニル粉末20部、スチレン4部、4−ビニル
ピリジン6部、ジビニルベンゼン0゜7部、ジオクチル
フタレート2部及びベンゾイルパーオキサイド0.1部
を混合したペースト状物を、ポリ塩化ビニル製布に塗布
し、オートクレーブ中で90℃の温度で重合して厚膜を
つ(す、次いで厚膜を濃硫酸で60℃の温度で5時間ス
ルホン化したのち、さらに沃化メチルで4級化処理を行
った。得られた両性イオン交換膜について、陽イオンと
陰イオンの交換容量を測定した結果、全イオン交換容量
中の陽イオン交換容量は31%であった。
この両性イオン交換膜2で分離したメッキ浴室6に硫酸
亜鉛7水塩25−09/13及び硫酸ナトリウム100
g/Aの濃度でpH2の亜鉛メッキ液を満たし、陽極室
4に1・259/−13濃度の硫酸を満たし、白金の陽
極5を設置して、100A/ 6m2の電流密度で亜鉛
の連続メッキを行った。
その結果、1力月以上を経過しても両性イオン交換膜に
はアルカリ焼けなどの異常を生ぜず、またメッキ浴中の
Fe2+濃度は被メッキ物の裏面からの溶出により徐々
に増加し約100. Oppm程度になり平衡状態にな
ったが、FoS+の生成は数ppmに抑制されメッキは
良好に実施できた。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施態様を説明するための工程図であっ
て、記号1はメッキ槽、2はイオン交換膜、3はメッキ
浴室、4は陽極室、5は不溶性陽極、6は被メッキ物を
示す。 出9願人徳山曹達株式会社 外1名 代理人 弁理士 小  林  正  雄、+7

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 鉄の電気メッキにおいて、不溶性陽極を陰イオン
    交換膜又は両性イオン交換膜によりメッキ浴室から分離
    した陽極室内に設置し、この陽極室における硫酸濃度を
    509743以上に保持することを特徴とする電気メツ
    キ方法。 2、 55 A/am”以上の電流密度で実施すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の電気メツキ
    方法。 3、70℃以下の液温で行うことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載の方法。
JP19065881A 1981-11-30 1981-11-30 電気メツキ方法 Pending JPS5893886A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000006807A3 (de) * 1998-07-30 2000-05-04 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches zink-nickelbad
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CN104878420A (zh) * 2014-02-28 2015-09-02 应用材料公司 使用阳离子渗透性阻挡层进行多成分焊料的电化学沉积的方法

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