JPS5893886A - 電気メツキ方法 - Google Patents
電気メツキ方法Info
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- JPS5893886A JPS5893886A JP19065881A JP19065881A JPS5893886A JP S5893886 A JPS5893886 A JP S5893886A JP 19065881 A JP19065881 A JP 19065881A JP 19065881 A JP19065881 A JP 19065881A JP S5893886 A JPS5893886 A JP S5893886A
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- JP
- Japan
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- sulfuric acid
- exchange membrane
- chamber
- anode
- plating
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は鉄の電気メツキ方法に関する。
従来、鉄の防錆、防蝕、溶接性改良などを目的として種
々の電気メツキ方法が実施され、まlた開発されている
。特に工業的な鉄車の電気メツキ方法においては、例え
ばメツキラインのメーツキ槽を減少させるなど設備を小
さくするためにも、電流密度を大きくすることが望まれ
ている。
々の電気メツキ方法が実施され、まlた開発されている
。特に工業的な鉄車の電気メツキ方法においては、例え
ばメツキラインのメーツキ槽を減少させるなど設備を小
さくするためにも、電流密度を大きくすることが望まれ
ている。
一般に、電気メツキ方法における陽極としては、可溶性
陽極又は不溶性陽極が用いられている。このうち、不溶
性陽極を用いる場合、陽極をイオン交換膜の隔膜でメッ
キ浴から分離した陽極室内に設置する方法が種々提案さ
れており、例えば特公昭s 1−29 o o号公報に
は隔膜として陰イオン交換膜を用いる合金メッキ方法が
記載されている。
陽極又は不溶性陽極が用いられている。このうち、不溶
性陽極を用いる場合、陽極をイオン交換膜の隔膜でメッ
キ浴から分離した陽極室内に設置する方法が種々提案さ
れており、例えば特公昭s 1−29 o o号公報に
は隔膜として陰イオン交換膜を用いる合金メッキ方法が
記載されている。
しかし、イオン交換膜には一般に限界電流密度が存在す
るために、それ以上で電流を流した場合、イオン交換膜
のイオンが供給される側(脱塩側)の膜界面において、
水の分解(H+と0H−)を生ずる。そのために、スケ
ール成分が存在する場合にはOH−によって沈殿する障
害を生じたり、また陰イオン交換膜におい′てはOH−
が膜中を通過することによりアルカリ焼けを生じ、膜性
能が急激に低下して使用に耐えなくなる。したがって、
陰イオン交換膜を用いる電気メツキ方法においても、電
流密度を太き(することが困難である。
るために、それ以上で電流を流した場合、イオン交換膜
のイオンが供給される側(脱塩側)の膜界面において、
水の分解(H+と0H−)を生ずる。そのために、スケ
ール成分が存在する場合にはOH−によって沈殿する障
害を生じたり、また陰イオン交換膜におい′てはOH−
が膜中を通過することによりアルカリ焼けを生じ、膜性
能が急激に低下して使用に耐えなくなる。したがって、
陰イオン交換膜を用いる電気メツキ方法においても、電
流密度を太き(することが困難である。
本発明者らは、不溶性陽極をイオン交換膜によりメッキ
浴から分離した陽極室内に設置したメツ4槽を用いる鉄
筒の電気メツキ方法について鋭意研究の結果、この陽極
室における硫酸濃度を特定以上に高めた場合には、電流
密度を大きくしても何ら支障な(、電気メッキできるこ
とを見出して本発明を完成した。
浴から分離した陽極室内に設置したメツ4槽を用いる鉄
筒の電気メツキ方法について鋭意研究の結果、この陽極
室における硫酸濃度を特定以上に高めた場合には、電流
密度を大きくしても何ら支障な(、電気メッキできるこ
とを見出して本発明を完成した。
本発明は、鉄鋼の電気メッキにおいて、不溶性陽極を陰
イオン交換膜又は両性イオン交換膜によりメッキ浴室か
ら分離した陽極室内に設置し、この陽極室における硫酸
濃度を50g713以上に保持することを特徴とする電
気メツキ方法である。
イオン交換膜又は両性イオン交換膜によりメッキ浴室か
ら分離した陽極室内に設置し、この陽極室における硫酸
濃度を50g713以上に保持することを特徴とする電
気メツキ方法である。
本発明方法の実施態様を以下図面により説明する。メッ
キ槽1は陰イオン又は両性イオン交換膜(以下イオン交
換膜)2により、メッキ浴室6と陽極室4に分離されて
いる。陽極室4内には不溶性陽極5を設け、不溶性陽極
5及び被メッキ物(鉄9@)6を電源7と接続する。陽
極室5には、硫酸液貯槽8がらポンプ9により所定濃度
の硫酸が供給される。溶解槽1oで調製されたメッキ浴
は、ポンプ11により調整槽12に送られ、溶液の濃度
及びpHを調製したのち、ポンプ13によりメッキ液貯
槽14に送られ、次いでポンプ15によ′リメッキ浴室
6へ供給される。
キ槽1は陰イオン又は両性イオン交換膜(以下イオン交
換膜)2により、メッキ浴室6と陽極室4に分離されて
いる。陽極室4内には不溶性陽極5を設け、不溶性陽極
5及び被メッキ物(鉄9@)6を電源7と接続する。陽
極室5には、硫酸液貯槽8がらポンプ9により所定濃度
の硫酸が供給される。溶解槽1oで調製されたメッキ浴
は、ポンプ11により調整槽12に送られ、溶液の濃度
及びpHを調製したのち、ポンプ13によりメッキ液貯
槽14に送られ、次いでポンプ15によ′リメッキ浴室
6へ供給される。
陽極室5と硫酸液貯槽8の硫酸は循環することができ、
また硫酸液貯槽8の硫酸を溶解槽1゜に送り、メッキ浴
の調製に使用することもできる。この際硫酸中にFe’
S+が存在する場合は、還元処理、キレート剤などによ
りFe を除去することが好ましい。
また硫酸液貯槽8の硫酸を溶解槽1゜に送り、メッキ浴
の調製に使用することもできる。この際硫酸中にFe’
S+が存在する場合は、還元処理、キレート剤などによ
りFe を除去することが好ましい。
メッキ浴はメッキ金属の硫酸塩を含み、この硫酸塩濃度
は、メッキする金属により異なるが、一般に1〜3モル
/1、好ましくは2〜3モ乞4である。陽極室4には濃
度50 g743以上、好ましくは609/−6以上の
硫酸を入れる。次いで常法により電気メッキを行う。
は、メッキする金属により異なるが、一般に1〜3モル
/1、好ましくは2〜3モ乞4である。陽極室4には濃
度50 g743以上、好ましくは609/−6以上の
硫酸を入れる。次いで常法により電気メッキを行う。
不溶性電極5と鉄筒6との間にメッキ電圧が印加される
と、メッキ浴中に解離している金属イオンの放電が起こ
り、金属が鉄鋼60表面に析出する。一方、メッキ浴中
の硫酸イオン(SOZ−)はイオン交換膜2を透過して
陽極室4内に移動し、不溶性陽極5の表面で発生する水
素イオンと反応して硫酸が生成する。この結果、メッキ
浴室6では析出した金属に相当する硫酸塩が消失し、こ
れに相当する硫酸が陽極室4で生成する。
と、メッキ浴中に解離している金属イオンの放電が起こ
り、金属が鉄鋼60表面に析出する。一方、メッキ浴中
の硫酸イオン(SOZ−)はイオン交換膜2を透過して
陽極室4内に移動し、不溶性陽極5の表面で発生する水
素イオンと反応して硫酸が生成する。この結果、メッキ
浴室6では析出した金属に相当する硫酸塩が消失し、こ
れに相当する硫酸が陽極室4で生成する。
本発明方法においては陽極室4の硫酸濃度を50 g/
43以上、特に609/13以上に保持することが極め
て重要である。これにより55 %m2以上の電流密度
で支障なく電気メッキを行うことができる。工業的には
40〜200 A /dm”、好ましくは50〜150
A/dm2で行われる。これに対して、陽極室の硫酸濃
度を5011/43より低くして電気メッキした場合に
は、電流密度を大きくするにしたがって、陰イオン交換
膜にけ アルカリへの色調変化が認められ、さらには膜の強度及
び性能が低下する。したがって、陰イオン交換膜に破損
が生じた場合には、メッキ浴と陽極液とが混合するため
、メッキ浴のpHが異常に変化するとともに、メッキ浴
のFe2+が陽極室に移行して酸化されFe3+が増加
する結果を招く。Fe の増加は、メッキ浴において被
メツキ物裏面のFeやコンダクタ−ロールにッケルメツ
キなど)の腐食を促進するばかりでなく、pHが6以上
では水酸化第2鉄となり、メッキ浴の管理上から問題で
ある。
43以上、特に609/13以上に保持することが極め
て重要である。これにより55 %m2以上の電流密度
で支障なく電気メッキを行うことができる。工業的には
40〜200 A /dm”、好ましくは50〜150
A/dm2で行われる。これに対して、陽極室の硫酸濃
度を5011/43より低くして電気メッキした場合に
は、電流密度を大きくするにしたがって、陰イオン交換
膜にけ アルカリへの色調変化が認められ、さらには膜の強度及
び性能が低下する。したがって、陰イオン交換膜に破損
が生じた場合には、メッキ浴と陽極液とが混合するため
、メッキ浴のpHが異常に変化するとともに、メッキ浴
のFe2+が陽極室に移行して酸化されFe3+が増加
する結果を招く。Fe の増加は、メッキ浴において被
メツキ物裏面のFeやコンダクタ−ロールにッケルメツ
キなど)の腐食を促進するばかりでなく、pHが6以上
では水酸化第2鉄となり、メッキ浴の管理上から問題で
ある。
本発明の電気メツキ方法において、電流密度を大き(で
きる理由は定かでないが、陰イオンは 交換膜にアルカリ焼、が全(認められないことから、限
界電流密度が非常に高くなっているか、あるいは実質的
に消滅しているものと推測している。すなわち、陰イオ
ン交換膜は一般にHに対して透過し易い性質を有してい
るが、本発明においては陽極室の硫酸濃度を高(するに
したがって、陽極室に生成したH+が陰イオン交換膜を
通してメッキ浴室へ透過するため、硫酸の生成効率が減
少していくことを確認している。したがって、陰イオン
交換膜におけるH+の透過作用に・より限界電流密度が
太き(なり、または消滅するものと推考する。また、本
発明において両性イオン交換膜を用いた場合には、陰イ
オン交換膜と同等又はそれ以上にH+の透過作用を有す
るためか、陰イオン交換膜を用いる場合よりも、陽極室
の硫酸濃度を多少低くしても、電流密度を大きくできる
。両性イオン交換膜とししは、陰イオン交換基と陽イオ
ン交換基との全交換容量のうち陽イオン交換容量が10
〜40%のものが好ましい。
きる理由は定かでないが、陰イオンは 交換膜にアルカリ焼、が全(認められないことから、限
界電流密度が非常に高くなっているか、あるいは実質的
に消滅しているものと推測している。すなわち、陰イオ
ン交換膜は一般にHに対して透過し易い性質を有してい
るが、本発明においては陽極室の硫酸濃度を高(するに
したがって、陽極室に生成したH+が陰イオン交換膜を
通してメッキ浴室へ透過するため、硫酸の生成効率が減
少していくことを確認している。したがって、陰イオン
交換膜におけるH+の透過作用に・より限界電流密度が
太き(なり、または消滅するものと推考する。また、本
発明において両性イオン交換膜を用いた場合には、陰イ
オン交換膜と同等又はそれ以上にH+の透過作用を有す
るためか、陰イオン交換膜を用いる場合よりも、陽極室
の硫酸濃度を多少低くしても、電流密度を大きくできる
。両性イオン交換膜とししは、陰イオン交換基と陽イオ
ン交換基との全交換容量のうち陽イオン交換容量が10
〜40%のものが好ましい。
一般に電気メッキにおいては、ジュール熱が発生して液
温か上昇するために、熱交換器などにより除熱し、メッ
キに最適がっ除熱に経済的な液温か保持される。本発明
において電流密度を大きくして電気メッキを行う場合に
は、溶液の除熱量も大きくなるが、特に使用するイオン
交換膜の発熱が問題になる。本発明のメッキ浴及び陽極
室の硫酸液の温度が一般に70°C以上で、かつ電流密
度を特に50 A / dm2以上にして電気メッキを
行う場合には、イオン交換膜に熱焼が起こり、性能低下
が生じる場合がある。
温か上昇するために、熱交換器などにより除熱し、メッ
キに最適がっ除熱に経済的な液温か保持される。本発明
において電流密度を大きくして電気メッキを行う場合に
は、溶液の除熱量も大きくなるが、特に使用するイオン
交換膜の発熱が問題になる。本発明のメッキ浴及び陽極
室の硫酸液の温度が一般に70°C以上で、かつ電流密
度を特に50 A / dm2以上にして電気メッキを
行う場合には、イオン交換膜に熱焼が起こり、性能低下
が生じる場合がある。
このため本発明の電気メツキ方法においては、液温を7
0℃以下に維持することが好適である。
0℃以下に維持することが好適である。
本発明に用いられる陰イオン交換膜としては、第4級ア
ンモニウム塩、例えばN−ベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩を含有する強塩基***換膜、−級ないし三級アミ
ノ基を含有する弱塩基***換膜のいずれでもよい。機械
的強度、耐熱性及び耐酸化性に優れた陰イオン交換膜は
市販されており、容易に入手することができる。
ンモニウム塩、例えばN−ベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩を含有する強塩基***換膜、−級ないし三級アミ
ノ基を含有する弱塩基***換膜のいずれでもよい。機械
的強度、耐熱性及び耐酸化性に優れた陰イオン交換膜は
市販されており、容易に入手することができる。
また両性イオン交換膜は、例えば前記の陰イオン交換膜
に硫酸などを作用させ、スルホン基を導入することによ
り得られる。
に硫酸などを作用させ、スルホン基を導入することによ
り得られる。
不溶性陽極としては、耐久性に優れ、安価で利である。
そのほかチタニウム、ニオブ、タンタルなどの金属表面
を、イリジウム、パラジウムなどの白金族金属の酸化物
で被覆するか又は白金メッキして用いてもよい。不溶性
電極は発生ガスによる電気抵抗の増大を抑制するような
形状、例えば平板状、網状、ラス状、棒状などが好まし
い。
を、イリジウム、パラジウムなどの白金族金属の酸化物
で被覆するか又は白金メッキして用いてもよい。不溶性
電極は発生ガスによる電気抵抗の増大を抑制するような
形状、例えば平板状、網状、ラス状、棒状などが好まし
い。
不溶性陽極として、特に鉛系の金属を用いろ場合は、陽
極室4の硫酸に混入する不純物によって、イオン交換膜
の性能が劣化する傾向がある。このような場合にイオン
交換膜の性能を維持するためには、硫酸を還元処理する
ことが好ましい。還元処理法としては、一般に硫酸に亜
硫酸ソーダ、酸性亜硫酸ソーダ、ヒドラジン、アスコル
ビン酸などを添加する方法が用いられろ。
極室4の硫酸に混入する不純物によって、イオン交換膜
の性能が劣化する傾向がある。このような場合にイオン
交換膜の性能を維持するためには、硫酸を還元処理する
ことが好ましい。還元処理法としては、一般に硫酸に亜
硫酸ソーダ、酸性亜硫酸ソーダ、ヒドラジン、アスコル
ビン酸などを添加する方法が用いられろ。
硫酸を活性炭で処理することも効果的である。
本発明の電気メツキ方法によれば、電流密度を大きくで
きるため、短時間でメッキすることができる。したがっ
て特に鉄の縁状、コイル状、板状物を連続的に電気メッ
キする場合に、メツキラインにおけるメッキ槽を減少で
き一工業的に極めて有利である。
きるため、短時間でメッキすることができる。したがっ
て特に鉄の縁状、コイル状、板状物を連続的に電気メッ
キする場合に、メツキラインにおけるメッキ槽を減少で
き一工業的に極めて有利である。
本発明の電気メツキ方法は、鉄、亜鉛などの単一金属メ
ッキ及び亜鉛−ニッケル、亜鉛−鉄、亜鉛−コバルトな
どの合金メッキに用いることができる。本発明方法は、
軟鋼、鋼、鉄合金などの鉄製品を対象とすることができ
る。
ッキ及び亜鉛−ニッケル、亜鉛−鉄、亜鉛−コバルトな
どの合金メッキに用いることができる。本発明方法は、
軟鋼、鋼、鉄合金などの鉄製品を対象とすることができ
る。
実施例1
図面に示されるメッキ装置において、メッキ浴室3を硫
酸亜鉛(7水塩)濃度2509/43及び硫酸ナトリウ
ム1o og/lの濃度でpH2の亜鉛メッキ液で満た
し、陰イオン交換膜2(ネオセプタACH−45T、徳
山曹達社製)で隔てた陽極室4内に、白金を陽極5とし
て設置し、陽極室4には100fi/43の硫酸を満た
した。陽極室4の硫酸濃度を一定に保持しながら、12
0A/dIn2の電流密度で被メッキ物としての鋼板に
亜鉛の連続メッキを行った。
酸亜鉛(7水塩)濃度2509/43及び硫酸ナトリウ
ム1o og/lの濃度でpH2の亜鉛メッキ液で満た
し、陰イオン交換膜2(ネオセプタACH−45T、徳
山曹達社製)で隔てた陽極室4内に、白金を陽極5とし
て設置し、陽極室4には100fi/43の硫酸を満た
した。陽極室4の硫酸濃度を一定に保持しながら、12
0A/dIn2の電流密度で被メッキ物としての鋼板に
亜鉛の連続メッキを行った。
その結果、1力月以上を経過しても、陰イオン交換膜に
アルカリ焼けなどの異常は生ぜず、またメッキ浴中のF
e イ“オ/濃度は被メッキ物の裏面からの溶出によ
り徐々に増加したが、約100 ppmで平衡状態にな
り、Fe イオン濃度は数ppmに抑制され、亜鉛メ
ッキは良好であった。
アルカリ焼けなどの異常は生ぜず、またメッキ浴中のF
e イ“オ/濃度は被メッキ物の裏面からの溶出によ
り徐々に増加したが、約100 ppmで平衡状態にな
り、Fe イオン濃度は数ppmに抑制され、亜鉛メ
ッキは良好であった。
比較例1
実施例1と同様にして、ただし陽極室4の硫酸濃度を4
0g/、、eとして、亜鉛メッキを行った。その結果、
24時間経過後には陰イオン交換膜にアルカリ焼けの色
調変化がみられ、そのため膜強度が低下し、一部破損も
認められた。
0g/、、eとして、亜鉛メッキを行った。その結果、
24時間経過後には陰イオン交換膜にアルカリ焼けの色
調変化がみられ、そのため膜強度が低下し、一部破損も
認められた。
実施例2
メッキ浴室3を硫酸亜鉛7水塩15og/−e、硫酸第
一鉄7水塩zsog/−g−及び硫酸ナトリウム1oo
、9/−gの組成で、pH2の鉄−亜鉛メッキ液で満た
し、陰イオン交換膜2で隔てた陽極室4に白金の陽極を
設置し、陽極室4には50〜5511/43の硫酸を満
たした。陽極室4における硫酸濃度を保持しながら、5
5A/am2の電流密度で鋼板6に鉄−亜鉛の連続メッ
キを行った。
一鉄7水塩zsog/−g−及び硫酸ナトリウム1oo
、9/−gの組成で、pH2の鉄−亜鉛メッキ液で満た
し、陰イオン交換膜2で隔てた陽極室4に白金の陽極を
設置し、陽極室4には50〜5511/43の硫酸を満
たした。陽極室4における硫酸濃度を保持しながら、5
5A/am2の電流密度で鋼板6に鉄−亜鉛の連続メッ
キを行った。
その結果、メッキ浴中のFe”+は常時数十ppm以下
に抑えることができ、安定した鉄20%、亜鉛80%の
合金被膜が得られた。また色調のむらや電流効1率の低
下は゛なかった。1力月運転後にも陰イオン交換膜のア
ルカリ焼けなどはみられず、性能変化もわずかであった
。
に抑えることができ、安定した鉄20%、亜鉛80%の
合金被膜が得られた。また色調のむらや電流効1率の低
下は゛なかった。1力月運転後にも陰イオン交換膜のア
ルカリ焼けなどはみられず、性能変化もわずかであった
。
比較例2
実施例1における陽極室の硫酸濃度を40〜454/A
と変えた以外は、実施例1と同様の条件で実施した。
と変えた以外は、実施例1と同様の条件で実施した。
その結果、メッキ浴中のFe3+は2日間は常時数十p
pm以下に抑えられていたが、陽極室における硫酸の生
成効率は徐々に低下し、2日後に急激なメッキ浴pHの
異常変化とFeの増加がみられた。また陰イオン交換膜
を点検したところ、アルカリ焼けの色調変化を生じ、も
ろ(なって一部に破損が認められた。
pm以下に抑えられていたが、陽極室における硫酸の生
成効率は徐々に低下し、2日後に急激なメッキ浴pHの
異常変化とFeの増加がみられた。また陰イオン交換膜
を点検したところ、アルカリ焼けの色調変化を生じ、も
ろ(なって一部に破損が認められた。
実施例3
ポリ塩化ビニル粉末20部、スチレン4部、4−ビニル
ピリジン6部、ジビニルベンゼン0゜7部、ジオクチル
フタレート2部及びベンゾイルパーオキサイド0.1部
を混合したペースト状物を、ポリ塩化ビニル製布に塗布
し、オートクレーブ中で90℃の温度で重合して厚膜を
つ(す、次いで厚膜を濃硫酸で60℃の温度で5時間ス
ルホン化したのち、さらに沃化メチルで4級化処理を行
った。得られた両性イオン交換膜について、陽イオンと
陰イオンの交換容量を測定した結果、全イオン交換容量
中の陽イオン交換容量は31%であった。
ピリジン6部、ジビニルベンゼン0゜7部、ジオクチル
フタレート2部及びベンゾイルパーオキサイド0.1部
を混合したペースト状物を、ポリ塩化ビニル製布に塗布
し、オートクレーブ中で90℃の温度で重合して厚膜を
つ(す、次いで厚膜を濃硫酸で60℃の温度で5時間ス
ルホン化したのち、さらに沃化メチルで4級化処理を行
った。得られた両性イオン交換膜について、陽イオンと
陰イオンの交換容量を測定した結果、全イオン交換容量
中の陽イオン交換容量は31%であった。
この両性イオン交換膜2で分離したメッキ浴室6に硫酸
亜鉛7水塩25−09/13及び硫酸ナトリウム100
g/Aの濃度でpH2の亜鉛メッキ液を満たし、陽極室
4に1・259/−13濃度の硫酸を満たし、白金の陽
極5を設置して、100A/ 6m2の電流密度で亜鉛
の連続メッキを行った。
亜鉛7水塩25−09/13及び硫酸ナトリウム100
g/Aの濃度でpH2の亜鉛メッキ液を満たし、陽極室
4に1・259/−13濃度の硫酸を満たし、白金の陽
極5を設置して、100A/ 6m2の電流密度で亜鉛
の連続メッキを行った。
その結果、1力月以上を経過しても両性イオン交換膜に
はアルカリ焼けなどの異常を生ぜず、またメッキ浴中の
Fe2+濃度は被メッキ物の裏面からの溶出により徐々
に増加し約100. Oppm程度になり平衡状態にな
ったが、FoS+の生成は数ppmに抑制されメッキは
良好に実施できた。
はアルカリ焼けなどの異常を生ぜず、またメッキ浴中の
Fe2+濃度は被メッキ物の裏面からの溶出により徐々
に増加し約100. Oppm程度になり平衡状態にな
ったが、FoS+の生成は数ppmに抑制されメッキは
良好に実施できた。
図面は本発明の実施態様を説明するための工程図であっ
て、記号1はメッキ槽、2はイオン交換膜、3はメッキ
浴室、4は陽極室、5は不溶性陽極、6は被メッキ物を
示す。 出9願人徳山曹達株式会社 外1名 代理人 弁理士 小 林 正 雄、+7
て、記号1はメッキ槽、2はイオン交換膜、3はメッキ
浴室、4は陽極室、5は不溶性陽極、6は被メッキ物を
示す。 出9願人徳山曹達株式会社 外1名 代理人 弁理士 小 林 正 雄、+7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 鉄の電気メッキにおいて、不溶性陽極を陰イオン
交換膜又は両性イオン交換膜によりメッキ浴室から分離
した陽極室内に設置し、この陽極室における硫酸濃度を
509743以上に保持することを特徴とする電気メツ
キ方法。 2、 55 A/am”以上の電流密度で実施すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の電気メツキ
方法。 3、70℃以下の液温で行うことを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19065881A JPS5893886A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 電気メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19065881A JPS5893886A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 電気メツキ方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5893886A true JPS5893886A (ja) | 1983-06-03 |
Family
ID=16261747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19065881A Pending JPS5893886A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 電気メツキ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5893886A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000006807A3 (de) * | 1998-07-30 | 2000-05-04 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches zink-nickelbad |
DE19848467C5 (de) * | 1998-10-21 | 2006-04-27 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad |
CN104878420A (zh) * | 2014-02-28 | 2015-09-02 | 应用材料公司 | 使用阳离子渗透性阻挡层进行多成分焊料的电化学沉积的方法 |
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1981
- 1981-11-30 JP JP19065881A patent/JPS5893886A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000006807A3 (de) * | 1998-07-30 | 2000-05-04 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches zink-nickelbad |
US6602394B1 (en) | 1998-07-30 | 2003-08-05 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik | Alkali zinc nickel bath |
EP1344850A1 (de) * | 1998-07-30 | 2003-09-17 | Walter Hillebrand GmbH & Co. Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad |
CZ298904B6 (cs) * | 1998-07-30 | 2008-03-05 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik | Alkalická zinko-niklová lázen |
US7807035B2 (en) | 1998-07-30 | 2010-10-05 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Methods of plating zinc-containing coatings under alkaline conditions |
US8486235B2 (en) | 1998-07-30 | 2013-07-16 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Alkaline zinc-nickel bath |
DE19848467C5 (de) * | 1998-10-21 | 2006-04-27 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad |
CN104878420A (zh) * | 2014-02-28 | 2015-09-02 | 应用材料公司 | 使用阳离子渗透性阻挡层进行多成分焊料的电化学沉积的方法 |
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