DE3307834A1

DE3307834A1 - Verfahren zur elektrolytischen entfernung von ueberzuegen aus nickel oder nickel-eisen-legierungen von grundmetallen aus kupfer oder kupferlegierungen

Info

Publication number: DE3307834A1
Application number: DE19833307834
Authority: DE
Inventors: Lillie C. 48124 Dearborn Mich. Tomaszewski
Original assignee: Occidental Chemical Corp
Current assignee: OMI International Corp
Priority date: 1982-03-08
Filing date: 1983-03-05
Publication date: 1983-09-22
Also published as: IT8347859A0; GB2117406A; JPS58164800A; AU1210783A; US4400248A; GB8306395D0; NL8300826A; ES8404426A1; ZA831533B; BR8301118A; BE896104A; ES520377A0; FR2530674A1

Description

Die Erfindung bezieht sich im weiten Sinne auf die elektrolytische Entmetallisierung oder Entfernung unerwünschter galvanisch abgeschiedener metallischer Überzüge von Substraten, insbesondere auf die elektrolytische Entfernung von unerwünschten galvanisch abgeschiedenen Nickel- oder Nickellegierungs-Überzügen von Grundmetallen oder Substraten aus Kupfer oder Kupferlegierungen.

Die Entnickelung oder Entfernung von galvanisch abgeschiedenen Überzügen aus Nickel oder Nickel-Eisen-Legierungen ist erforderlich, wenn der Metallüberzug defekt ist oder im Gebrauch des Gegenstandes mechanisch beschädigt wurde. Durch Entmetallisieren oder Entfernen defekter beschädigter galvanisch aufgebrachter Überzüge kann ein Gegenstand wieder gebrauchsfähig gemacht und anschließend erneut mit einem galvanischen Überzug versehen werden, um einen marktfähigen zufriedenstellenden Gegenstand zu erhalten. Die Entfernung von Nickel- und Nickellegierungs-Überzügen ist wirtschaftlich von erheblicher Bedeutung in der Rohrbefestigungsindustrie (plumbing fixture industry), bei welcher die Befestigungen aus Kupfer oder Kupferlegierungen, gewöhnlich aus Messing, sind, worauf ein glänzender Nickel- oder Nickel-Eisen-Legierungs-Überzug galvanisch abgeschieden ist, um Aussehen und Haltbarkeit zu verbessern. Das Problem beim Entfernen solcher Nickel- und Nickellegierungsüberzüge: von Substraten aus Kupfer und Kuperlegierungen ist aber, daß die Entmetallisierungszusammensetzung das Substrat ätzen oder beschädigen kann, was teure Nachbearbeitungen erforderlich macht, um das Substrat wieder in einen Zustand zu bringen, in dem es

wieder mit einem galvanischen Überzug versehen werden kann.

Bei den Praktiken des Standes der Technik ist es üblich,zur Entfernung von Nickel- und Nickellegierungs-Überzügen von Substraten aus Kupfer und Kupferlegierungen relativ konzentrierte saure Lösungen, wie Salzsäure und Schwefelsäure allein oder in Verbindung mit Phosphorsäure zu verwenden. Derartige konzentrierte saure Lösungen tendieren dazu, das Grundmetall zu ätzen oder narbig zu machen. Außerdem sind sie wegen ihrer korrosiven Natur und der hohen Konzentration hinsichtlich Handhabung und Abfallbeseitigung problematisch.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Entfernen von Nickel und Nickellegierungs-Überzügen von SubstiEfcen aus Kupfer und Kupferlegierungen zu schaffen, bei welchem das Grundmetall nicht angegriffen wird. Es soll eine Lösung zur Anwendung kommen, die weniger korrosiv wirkt, aber den galvanischen Überzug schnell und sicher entfernt.

Die Aufgabe wird durch das Verfahren des Anspruches 1 gelöst. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen angegeben.

Durch das Verfahren nach der Erfindung und die darin verwendete Lösung sind viele Nachteile und Probleme, die mit den bekannten Techniken verbunden waren, überwunden. Es wird eine Entmetalli-

sierungslösung eingesetzt, die verhältnismäßig verdünnt und daher weniger korrosiv ist, was ihre Handhabung und Beseitigung erleichtert, während sie gleichzeitig eine gute Entmetallisierungsrate aufweist und das Grundmetall Kupfer oder Kupferlegierung weniger angreift, so daß Ätzen oder Narbig- oder Löcherigwerden des Grundmetalls wegfällt. Folglich ist gewöhnlich nur eine leichte Farbpolierung des entmetallisierten Gegenstandes erforderlich, um seinen hohen Glanz wieder herzustellen und ein Aufgalvanisieren zu ermöglichen· Besondere Vorteile werden beim Entfernen von Glanznickel und Nickel-Bisen-Legierungs-Überzügen mit bis zu etwa 40$ Eisen von Messing-Rohrbefestigungen erreicht, was eine Neugalvanisierung zur Bereitstellung eines wirtschaftlich zufriedenstellenden Produkts ermöglicht«

Die Vorteile der Erfindung werden durch ein Verfahren erreicht, in welchem galvanisch aufgebrachte Nickel- und Nickellegierungsüberzüge wirksam von Kupfer- und Kupferlegierungs-Grundmetallen entfernt werden dadurch, daß man den zu entnickelnden Gegenstand in ein Entmetallisierungsbad taucht, welches eine wäßrige saure Lösung ist, die enthält: etwa 5 bis etwa 200 g/l von mindestens einem Halogenidsalz,

etwa 10 bis etwa 100 g/l mindestens einer badlöslichen organischen Carbonsäure oder einem Salz einer solchen Säure, die unter die allgemeine Formel I fällt:

R
IXOOC-CH₀J -C-COOX

in der bedeuten:

R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis k C-Atomen, T H oder OH,

X H, ein Metall aus der Gruppe IA oder HA oder ₂ η 0, 1 oder 2,

und Wasserstoffionen, so daß der pH-Wert des Bades unter etwa 5 liegt.

Die Entmetaiiisierung des Gegenstandes wird erreicht, indem man ihn als Anode schaltet und elektrischen Strom durch das Entme tallisierungsbad zwischen einer Kathode und dem Gegenstand so lange hindurchschickt, bis die Entfernung des Metallüberzugs im gewünschten Ausmaß stattgefunden hat; Das Entmetallisierungsbad wird auf einer Temperatur im Bereich von etwa Raumtemperatur bis etwa 80°C und die Anoden-Stromdichte in einem Bereich von etwa 10,75 "bis etwa 5k A/dm gehalten. Die bestimmte Zeit, die erforderlich ist, um den defekten Überzug weitgehend vollständig zu entfernen, hängt von seiner Dicke, der Badtemperatur, der Konzentration und der Stromdichte, die angewendet werden, ab.

Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen in Verbindung mit den speziellen Beispielen hervorgehen.

Bei der praktischen Durchführung der Erfindung wird ein Entmetallisierungsbad verwendet, das eine wäßrige saure Lösung ist, die als wesentliche Bestandteile enthält: kontrollierte wirksame

Mengen von Halogenidsalzen, einer organischen Carbonsäure einschließlich deren Metallsalze und Gemische davon, und Wasser·? stoff ionen in einer Menge, die ausreicht, daß ein pH-Wert von unter etwa 5 resultiert· Das Halogenidsalz kann das Chlorid, Bromid, Jodid oder ein Gemisch davon von Metallen der Gruppe IA und XIA sowie Ammonium sein. Jodide sind wegen ihrer geringeren Aktivität weniger geeignet, während Chloride, insbesondere Alkalimetallchloride, wie Natriumchlorid die bevorzugten HaIogenidbestandteile hinsichtlich Aktivität, Verfügbarkeit, Wirtschaftlichkeit und Abfallbeseitigung sind· Das Halogenidsalz oder das Salzgemisch kann in Mengen im Bereich von etwa 5 bis etwa 200 g/l, vorzugsweise, von etwa 20 bis etwa 50 £>/l» zum Beispiel in Mengen von etwa 30 g/l eingesetzt werden*

Es ist festgestellt worden, daß wenn die Halogenidkonzentration bis nahe an die maximale Konzentration von 200 g/l angestiegen ist, der Grad, in dem die EntmetallisierungslSsung das Grundmetall aus Kupfer oder Kupferlegierung angreift, zunimmt. Jedoch ist gefunden worden, daß überraschenderweise selbst bei sehr hohen Halogenidsalzkonzentrationen die Angriffsrate im wesentlichen gleichmäßig über den ganzen Oberflächenbereich des Grundmetalls verteilt ist, ohne irgendwelchen signifikanten lokalisierten Angriff, verbunden mit tiefer Narben- oder Grübchenbildung, wie es bei Verwendung der Salzsäure und Schwefelsäure enthaltenden Entmetallisierungslösungen des Standes der Technik der Pail ist. Demgemäß erfordert das entmetallisierte

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Substrat, salbet bei so hohen Angriffsraten des Grundmetalle, nur eine leichte Farbpolierung (light color buffing), um das Substrat wieder in einen Zustand zu bringen, in welchem es erneut galvanisiert werden kann. In manchen Fällen kann eine hohe, wenn auch gleichmäßige Angriffsrate des Grundmetalls nicht toleriert werden, wie zum Beispiel im Fall von Präzisionsteilen, die genaue Dimensionstoleranzen erfordern, wie zum Beispiel Rohrgewinde an Rohrbefestigungen. Wegen der wirtschaftlich zufriedenstellenden Entmetallisierungsraten, die bei niedrigeren Halogenidsalzkonzentrationen erhalten werden, und den damit verbundenen geringeren Angriffsraten des Grundmetalls, wird es bevorzugt, die Halogenidsalzkonzentration im bevorzugten Bereich von etwa 20 bis etwa 50 g/l zu halten·

Die badlösliche organische Carbonsäure-Verbindung, die mit befriedigendem Ergebnis eingesetzt werden kann, fällt lunter die allgemeine Formel I:

Ixooc-chJ -c-coox

T
in der bedeuten':

R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis k C-Atomen, Y H oder OH,

X H, ein Metall aus der Gruppe. IA, HA oder η 0, 1 oder 2.

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Organische Carbonsäuren, die der vorstehenden Formel I entsprechen, schließen ein: Ameisensäure, Essigsäure, Bernsteinsäure, Glykolsäure, Milchsäure und Citronensäure, von denen Eisessig bevorzugt wird. Es vird auch bevorzugt,die Carbonsäureverbindung in Form der Säure selbst einzusetzen, um Wasserstoffionen bereitzustellen und ein saures Medium zu erhalten·

Bas Entmetaiiisierungsbad enthält ferner Wasserstoffionen, die geeigneterweise in Form einer Halogenwasserstoffsäure, vorzugsweise Salzsäure, eingeführt werden, damit ein pH-TTert von weniger als etwa 5, vorzugsweise etwa 0,8 bis etwa 1,5 resultiert.

Die Entfernung von Glanznickel oder einer glänzenden Nickel-Eisen- Legierung, die bis zu etwa ko$> Eisen enthält, von Kupfer oder Kupferlegierung als Grundmetall, wie einen Messingsubstrat, wird dadurch erreicht, daß man den zu entmetallisierenden Gegenstand in eine EntmetallisierungslSsung taucht und anodisch schaltet, so daß ein Strom zwischen einer Kathode und dem Gegenstand fließt. Es wird bevorzugt,während des Entmetallisierungsvorgangs eine Bewegung des zu entmetallisierenden Gegenstandes relativ zur Lösung zu bewirken, um Schichtenbildung im Bad zu vermeiden. Um dies zu bewirken, hat sich schwache Bewegung, wie Anodenstabbewegung, schwache Bewegung mittels Luft oder Zirkulieren der Lösung durch Pumpen oder mechanisches Rühren als zufriedenstellend erwiesen. Das elektrolytische Entmetallisieren des Gegenstandes wird gewöhnlich bei einer Anodenstromdichte im Bereich von etwa 1 bis etwa 5h A/dm oder darüber

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durchgeführt, abhängig von der Rektifiziervorrichtung und der Leitfähigkeit der Lösung. Durchschnittliche Anodenstromdichten von etwa 10,75 bis etwa 33 A/dm werden allgemein industriell angewendet und ergeben effektive und wirksame Entfernung des Nickel- oder Nickel-Legierungs-Überzugs vom Substrat. Die Betriebstemperatur des Bades kann im Bereich von etwa. Zimmertemperatur (21°C) bis etwa 80 C, vorzugsweise von etwa 38 bis etwa 6o°C, typischerweise bei etwa 50°C liegen.

Die in dem Entmetallisierungsbad verwendete Kathode kann irgendeine Zusammensetzung haben; bevorzugt wird eine vernickelte Flußstahlkathode einer Gesamtoberfläche von mehr als dem Vierfachen der Oberfläche des Teils oder der Teile, die zu entmetallisieren sind, um die erforderliche Stromdichte und die Kapazität bei der elektrolytischen Entmetallisierung zu erreichen. Die spezielle Zeit, die für die Entmetallisierung des galvanisch aufgebrachten Überzugs von einem Substrat erforderlich ist, schwankt in Abhängigkeit von der Dicke des ursprünglichen Überzugs,der Gestalt des mit Überzug versehenen zu entmetallisierenden Gegenstands, der Konzentration des Bades innerhalb der weiter oben gegebenen Parameter, der Temperatur und der Stromdichte, die angewendet werden·

Das erfindungsgemäße Verfahren hat sich als für die elektrolytische Entmetallisierung von defekten oder beschädigten Glanznickel- und glänzenden Nickel-Eisen-Legierungs-Überzügen

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von Messingrohrbefestigungen oder dergleichen als besonders geeignet erwiesen. Die Entfernung der galvanisch aufgebrachten Überzüge wird effektiv ohne .Beschädigung des Messingsubstrats erreicht, und es ist nur eine leichte Farbpolierung (light color buffing) erforderlich, um den hohen Glanz des Messingsubstrats wieder herzustellen, bevor es wieder mit einem galvanischen Überzug versehen wird.

Um das Verfahren nach der Erfindung noch weiter zu veranschaulichen, werden die nachstehenden Beispiele gebracht, auf die die Erfindung jedoch nicht beschränkt ist.

Beispiel 1 . .

Um die Angriffsrate der elektrolytischen Entmetallisierungslösung auf ein Messing-Grundmetall zu bestimmen, wurden polierte Messing-Testplatten, von denen jede eine Gesamtoberfläche von 6h,5 cm hatte, jeweils in einen Becher mit 500 ml einer wäßrigen sauren Entmetallisierungslösung, die 26,2 g/l Eisessig und unterschiedliche Mengen Natriumchlorid enthielt, gelegt. Die Entmetallisierungslösung enthielt im ersten Versuch 30 g/l Natriumchlorid, im zweiten Versuch 60 g/l, im dritten Versuch 90 g/l und im vierten Versuch 120 g/l Natriumchlorid. Jeweils eine nicht mit Überzug versehene polierte Messing-Testplatte wurde in eine der vier Entmetallisierungslösungen. getaucht.Die Lösungen wurden auf einer Temperatur von 50°C und einem pH-Wert von etwa 2 durch Zugabe von Salzsäure gehalten. Die Testplatten wurden anodisch geladen, um eine Anodenstromdichte von etwa

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10,75 A/dm zu gewährleisten. Als Kathode wurde eine vernickelte Flußstahlkathode einer Gesamtoberfläche von etwa 210 cm verwendet . ___

Jede Messing-Testplatte wurde vor Beginn der Elektrolyse gewogen und nach Ablauf von 15 Minuten Test wieder gewogen. Der Gewichtsverlust, der bei jeder Testplatte festgestellt wurde, wurde in Verlust der Dicke der Testplatte in mm pro Minute umgerechnet. Nach dem vorstehend beschriebenen Test ist die Angriffsrate des Messing-Grundmetalls als eine Punktion der Natriumchloridkonzentration wie folgt:

Zusammensetzung Angriffsrate, mm/Min. Essigsäure NaCl

26,2 g/l 30 g/l 0,00018

26,2 g/i 6o g/l 0,00036

26,2 g/i 90 g/i 0,00074

26,2 g/l 120 g/l 0,00079

Beispiel 2

Eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 26,2 g/l Eisessig und 30 g/l Natriumchlorid enthielt, wurde hergestellt und der pH-Wert unter Verwendung von Salzsäure auf etwa 2 eingestellt. Eine erste Reihe unüberzogener polierter Messing-Testplatten der in Beispiel 1 beschriebenen Art wurde verwendet, um die Angriffsrate auf das Grundmetall bei variierenden Anodenstromdichten zu bestimmen. Eine zweite Reihe polierter Messing-

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-••15*"-

Testplatten, die mit einem 12,7 fan dicken Glanznickelüberzug versehen waren, wurde mit der gleichen Entmetallisierungslösung bei variierenden Anodenstromdichten entmetallisiert. Die Angriffsrate auf das Grundmetall wurde wie in Beispiel 1 beschrieben berechnet, während die Rate der Entfernung des Nickelüberzugs durch den Gewichtsverlust der Platten nach Ablauf von 5 Minuten des Entmetallisierungstests bestimmt und in mm pro Minute berechnet wurde. Die Entmetaiiisierungsrate des Nickelüberzugs und die Angriffsrate des Messinggrundmetalls bei Stromdichten von 10,75» 16,15ί 21»53 und 33 A/dm sind in der folgenden Tabelle zusammengestellt:

Anodenstromdichte A/dm²

10,75 16,15 21,53 32,29

Entmetallisierungsrate« mm/Minute

0,00208
0,00320
0_f 03,406*
0,00475

Angriffsrate mm/Min.

0,00023 0,00023 0,00026 0,00031

Beispiel 3

Zu Vergleichszwecken wurde ein wäßriges saures Entmetallisierungsbad nach dem Stand der Technik hergestellt, das I5 g/l Salzsäure (22° Be) enthielt, und an vernickelten sowie polierten nicht mit Metallüberzug versehenen Messing-Testplatten der Art wie in Beispiel 2 beschrieben, getestet, um die Entmetallisierungsrate des Nickelüberzugs und die Angriffsrate am

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Messinggrundraetall bei einer Anodenstromdichte von 10,75 A/dm² tinter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 2 zu bestimmen. Bei Verwendung der Vergleichs-Entmetallisierungslösung des Standes der Technik berechnete sich die Entmetallisierungsrate auf 0,00147 mm/Min, und die Angriffsrate auf 0,0004i mm/Min. Ein Vergleich dieser Werte mit denen, die in Beispiel 2 bei der Stromdichte 10,75 A/dm erhalten worden sind, zeigt, daß die Vergleichslösung eine deutlich niedrigere Entmetallisierungsrate hinsichtlich des Nickelüberzugs und eine deutlich höhere Angriffsrate hinsichtlich des Messinggrundmetalls hat.

Vielleicht noch wichtiger ist, daß die Entmetallisierungslösung nach dem Stand der Technik zu einer starken Narben- oder Grübchenbildung des Messinggrundmetalls führt, was die entmetallisierte Platte ohne große Oberflächen nach Bearbeitung, um sie wieder in einen galvanisierbaren Zustand zu bringen, unbrauchbar macht. Im Gegensatz dazu und nicht vorhersehbar erzeugt die Verwendung der wäßrigen sauren Entmetallisierungslösung des Beispiels 2 sogar bei relativ hohen Natriumchlorid-Konzentrationen, d.h. über etwa 100 g/l und den damit verbundenen höheren Angriffsraten, eine entmetallisierte Platte, die gleichmäßig angegriffen ist und keine nachteilige lokalisierte Korrosion hat, so daß in den meisten Fällen nur eine leichte Farbpolierung erforderlich ist, um die Platte in einen Zustand zu bringen, in dem sie wieder galvanisierbar ist.

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Beispiel 4

Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung unter Verwendung von 100 g/l Natriumchlorid, 20 g/l Natriumbromid und 20 g/l Citronensäure hergestellt und der pH-Wert der Lösung mit Salzsäure auf etwa 1,5 eingestellt. Mit Nickel überzogene Messing-Testplatten der Art, wie in Beispiel 2 beschrieben, wurden unter Verwendung der Anordnung des Beispiels 2 der elektrolytischen Entmetallisierung bei einer Temperatur der Lösung von etwa 21 bis etwa 27°C, einer Anodenstromdichte von 10,75 A/dm und unter Verwendung einer vernickelten Flußstahlplatte als Kathode unterworfen. Die Entmetallisierungsrate, mit der der Nickelüberzug entfernt wurde, war befriedigend; es trat keine sichtbare Ätzung oder Grübchenbildung am Messingsubstrat auf.

Beispiel 5

Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 100 g/l Natriumchlorid und 10 g/l Citronensäure enthielt, hergestellt und der pH-Wert auf etwa 0,8 bis etwa 1,5 mit Salzsäure eingestellt. Messing-Testplatten, die mit einer Glanznickelschicht versehen waren, wurden unter den Bedingungen, wie in Beispiel h beschrieben, entmetallisiert, wobei ähnlich zufriedenstellende Ergebnisse erhalten wurden·

Beispiel 6

Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 100 g/l Natriumchlorid und 10 ml/l (88$) Milchsäure (10,9 g/l) enthielt,

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hergestellt und der pH-Wert innerhalb eines Bereiches von 2,2 bis 3,6 unter Verwendung von Salzsäure eingestellt. Mit einer Glanznickelschicht versehene Testplatten wurden nach der Methode, wie in Beispiel h beschrieben, entmetallisiert und es wurden ähnliche zufriedenstellende Ergebnisse erhalten.

Beispiel 7

Eine wäßrige saure BntmetalIisierungslösung, die 100 g/l Natriumchlorid und 20 g/l Bernsteinsäure enthielt, und deren pH auf etwa 5 eingestellt wurde, wurde hergestellt. Messing-Testplatten, die mit einer Glanznickelschicht überzogen waren, wurden in das Bad getaucht und elektrolytisch unter den in Beispiel h angegebenen Bedingungen entmetalldsiert. Es wurden ähnlich zufriedenstellende Ergebnisse erhalten·

Beispiel 8

Es wurde ein wäßriges saures Entmetallisierungsbad, das 100 g/l Natriumchlorid und 20 ml/l Glycolsäure (10 g/l) enthielt und dessen pH-Wert in den Bereich von 3,5 bis 5 eingestellt war, hergestellt. Messing-Testplatten, die mit einem Glanznickelüberzug versehen waren, wurden in dem Entmetallisierungsbad unter den in Beispiel k angegebenen Bedingungen entmetallisiert; es wurden ähnliche zufriedenstellende Ergebnisse erhalten·

Beispiel <?

Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 25 g/l Eisessig und 30 g/l Natriumchlorid enthielt und deren

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pH-Wert auf etwa 0,8 bis etwa 1,5 mit SaIζsätire eingestellt wurde, hergestellt. Eine Reihe von polierten Messing-Testplatten, denen galvanisch ein 12,7 P& (0,0127 mm) dünner glänzender Überzug einer Nickel-Eisen-Legierung, die etwa 30 Gew.-^ Eisen enthielt, aufgebracht worden war, wurden elektrolytisch entmetallisiert· Es wurde eine mit Nickel beschichtete Flußstahlkathode bei einem Kathoden-Anodenver- . hältnis von 4:1 verwendet, eine Anodenstromdichte von 10,75 A/dm und eine Badtemperatur im Bereich von Raumtemperatur bis etwa 38°C angewendet.

Die Entmetallisierungsrate des Nickel-Eisen-Legierungsüberzugs, berechnet wie in Beispiel 2 angegeben, war 0,00203 mm/Min. Der Angriff des Messinggrundmetalls war minimal, so daß nur ein leichtes Farbpolieren nötig war, um den Glanz der Platten wieder herzustellen.

Claims

31 433-21.

330783A

DH.-lNCi. H. NBGENDANK (-1B73)

HAUCK₁ SCHMITZ, GRAALFS, WEHNBRT, DÖRING HAMBURG MÜNCHEN DÜSSELDORF

PATRNTANWALTR . NBUKR WALI, 41 . 2O0O HAMIIL'HC 3B

Occidental Chemical Corporation 2i44l Hoover Road

Warren, Michigan 48089

USA

Dipl-Phyn. W. SCHMITZ - Dipl.-lng. B. GRAALFS Neuer Wall 41 . 2000 Hamburg Telefon + Telecopier (040) 3Θ 67 B5 Telex 02II 76» input d

l-Inji. H. HAUCK - Dipl.-Inj;. W. WEHNERT Mozarteiraße 23 · 80UO München Telefon + Telecopier (089) 5302 36 Telex 05 216553 pamu d

Dr.-Ing. W. DÖRING

K.-Wilhelm-Rinf* 41 · 4OOO -Düsseldorf Telefon (0211) 57 5O 27

ZUSTELLUNGSANSCHRIFT / PLEASE REPLY TO:

Hamburg. 3. März 1983

Verfahren zur elektrolytischen Entfernung von Überzügen aus Nickel oder Nickel-Eisen-Legierungen von Grundmetallen aus Kupfer oder Kupferlegierungen

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1 J Verfahren zur elektrolytischen Entfernung von Überzügen aus Nickel oder Nickel-Eisen-Legierungen von Grundmetallen aus Kupfer oder Kupferlegierungen, dadurch gekennzeichnet, daß man den zu entmetallisierenden Gegenstand in ein wäßriges saures Entmetallisierungsbad taucht, das enthält: etwa 5 bis etwa 200 g/l Halogenidealz, etwa 10 bis etwa 100 g/l mindestens einer badlöslichen organischen Carbonsäure oder einem Salz einer solchen Säure,

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die unter die allgemeine Formel I fällt:

[XOOC-CH₀J -C-COOX *- ti η ι

in der bedeuten:

R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis k C-Atomen, Y H oder OH,

X H, ein Metall aus der Gruppe IA oder IIA oder ^ η 0, 1 oder 2;

und Wasserstoffionen in einer Menge, daß der pH-Wert des Bades unter etwa 5 liegt;

die Temperatur des Bades ssvischen Raumtemperatur und etwa 80⁰C hält, den Gegenstand als Anode schaltet und elektrischen Strom durch die Lösung zwischen einer Kathode und dem Gegenstand für eine Zeit schickt, bis die Entfernung des Metallüberzugs von dem Gegenstand in dem gewünschten Ausmaß erreicht ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die Temperatur des Bades auf einem Wert zwischen etwa 38 C und etwa 60°C hält.
3· Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Temperatur des Bades auf einem Wert von etwa 50 C hält·
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet, daß man Strom durch die Lösung zwischen einer Kathode und dem Gegenstand bei einer Anodenstromdichte von etwa 1 bis etwa 54 A/dm hindurchschickt·
5· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man Strom durch die Lösung zwischen einer Kathode und dem Gegenstand bei einer durchschnittlichen Anodenstromdichte von etwa 10,75 his etwa 33 A/dm hindurchschickt·
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß man das Verhältnis von Anode zu Kathode auf mindestens etwa 1:4 einregelt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man die Wasserstoffionen in einer Menge vorsieht, daß ein pH-Wert von etwa 0,8 bis 1,5 resultiert·
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7» dadurch gekennzeichnet, daß man als Halogenidealz ein Chlorid und/oder Bromid einsetzt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man als Halogenidsalz ein Alkalimetall-, ein Ammonium-Salz oder ein Gemisch davon einsetzt.

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10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9t dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogenidsalz in einer Menge von etva 20 bis etwa 50 g/l einsetzt.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogenidsalz in einer Menge von etva 30 g/l einsetzt.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß man die organische Carbonsäure, deren Salz oder ein Gemisch davon in einer Menge von etva 20 bis etva 50 g/l einsetzt·
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß man die organische Carbonsäure aus der Gruppe von Ameisensäure, Essigsäure, Bernsteinsäure, Glycolsäure, Milchsäure und Citronensäure ausvählt.

Ik, Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man als organische Carbonsäure Essigsäure einsetzt·