DE19755675B4 - Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung Download PDF

Info

Publication number
DE19755675B4
DE19755675B4 DE19755675A DE19755675A DE19755675B4 DE 19755675 B4 DE19755675 B4 DE 19755675B4 DE 19755675 A DE19755675 A DE 19755675A DE 19755675 A DE19755675 A DE 19755675A DE 19755675 B4 DE19755675 B4 DE 19755675B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
housing
recess
tab
chip
supply lines
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19755675A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19755675A1 (de
Inventor
Myeong-Jin Shin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
LG Semicon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Semicon Co Ltd filed Critical LG Semicon Co Ltd
Publication of DE19755675A1 publication Critical patent/DE19755675A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19755675B4 publication Critical patent/DE19755675B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/433Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
    • H01L23/4334Auxiliary members in encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/4985Flexible insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16235Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a via metallisation of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48095Kinked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73257Bump and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0652Bump or bump-like direct electrical connections from substrate to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06541Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06572Auxiliary carrier between devices, the carrier having an electrical connection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06579TAB carriers; beam leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06582Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06589Thermal management, e.g. cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

Halbleitergehäuse mit
– einer Struktur (22), in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips (25) ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum ausgebildete Löcher aufweist, die sich durch die Struktur (22) erstrecken,
– Leiterteilen (21), die in die Löcher eingebettet sind, und
– einer Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung mit an ihr befestigten Zuleitungen (23), wobei sich die Zuleitungen (23) in vier Richtungen zur elektrischen Verbindung zwischen einem in die Aussparung eingesetzten Chip (25) und jedem der Leiterteile (21) erstrecken.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Halbleitergehäuse sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung.
  • Beim Herstellen eines Halbleitergehäuses werden im allgemeinen aufeinanderfolgende Prozessschritte ausgeführt, nämlich ein Zerteilen zum Abtrennen von auf einem Wafer hergestellten Chips, Chipbonden zum Aufsetzen der abgetrennten Chips auf freie Montageplätze in einem Leiterrahmen, Drahtbonden zum elektrischen Verbinden von Bond-Kontaktflecken auf den Chips und Innenleitern der Leiterrahmen sowie Vergießen der Schaltung zum Schutz nach dem Herstellen integrierter Schaltungen auf dem Wafer.
  • Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf 1, die den Schnittaufbau eines herkömmlichen Halbleitergehäuses mit Drahtbondtechnik veranschaulicht, ein derartiges herkömmliches Gehäuse erläutert.
  • Gemäß 1 umfasst das herkömmliche Halbleitergehäuse einen Chip 11 mit einer eingebauten Halbleiterschaltung, einen Leiterrahmen 12, der den Chip 11 trägt und mit diesem verbunden ist, ein beidseitiges Klebeband 13 zum Fixieren des Chips 11 und des Leiterrahmens 12, untere Kontaktflecken 15 unter dem Leiterrahmen 12 zum Verbinden einer PCB (Printed Circuit Board) 14 und des Leiterrahmens 12, Bondkontaktflecke 16 in oberen Abschnitten des Chips 11, die als Elektroden wirken, Drähte 17 zum elektrischen Verbinden der Bondkontaktflecken 16 und des Leiterrahmens 12 sowie einen Körper 18 aus EMC (Epoxy Mold Compound = Epoxid-Gießverbindung) zum Schützen des Bauteils gegen Umgebungseinflüsse.
  • Beim oben genannten herkömmlichen Halbleitergehäuse bestehen die folgenden Probleme:
    • – Erstens bewirkt der Drahtbondprozess für die elektrische Verbindung des Chips mit dem Leiterrahmen, dass der Herstellprozess kompliziert ist, und es ist ein komplizierter Lötprozess folgend auf das Aufstapeln der Chips erforderlich.
    • – Zweitens sind keine Wärmesenken vorhanden, um während des Betriebs des Bauteils erzeugte Wärme abzuführen.
    • – Drittens hat ein Stapel von Gehäusen, die jeweils aufeinandergestapelt sind, kein gutes Aussehen.
  • Aus der US 5 198 888 A ist ein Halbleitergehäuse bekannt, das eine Verbindungsstruktur aufweist, in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall neben der Aussparung ausgebildete Löcher aufweist, durch die hindurch auf der Oberseite und der Unterseite der Struktur angeordnete Leitermuster miteinander verbunden sind. Das Halbleitergehäuse weist ferner eine Befestigungsanordnung mit an ihr befestigten Zuleitungen auf, die sich zur elektrischen Verbindung zwischen einem Chip und jedem der auf der Oberseite der Struktur vorgesehenen Leitungsmuster von dieser weg erstrecken.
  • Zur Herstellung eines derartigen Halbleitergehäuses wird zunächst die Befestigungsanordnung mit ihren Zuleitungen mit dem Chip elektrisch verbunden und dann vergossen, um anschließend die Befestigungsanordnung zusammen mit dem Chip in die Aussparung der Struktur einzusetzen und eine elektrische Verbindung zwischen den Zuleitungen und den Leitungsmustern auf der Verbinderstruktur herzustellen.
  • Die US 4 949 158 zeigt eine Halbleitervorrichtung, deren Halbleitergehäuse einen Leiterrahmen aufweist, dessen einzelne Zuleitungen sich von dem Bereich, wo sie mit entsprechenden Kontaktflecken auf dem Chip verbunden sind, in vier Richtungen wegerstrecken, um den Chip mit entsprechenden, außen liegenden Halbleiterelementen zu verbinden.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Halbleitergehäuse und ein Verfahren zu dessen Herstellung zu schaffen, die für verbesserte Zuverlässigkeit sorgen.
  • Diese Aufgabe ist hinsichtlich des Gehäuses durch die Lehre des beigefügten Anspruchs 1 und hinsichtlich des Verfahrens durch die Lehre des beigefügten Anspruchs 5 gelöst.
  • Die beigefügten Zeichnungen veranschaulichen Ausführungsbeispiele der Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu diese näher zu erläutern.
  • 1 zeigt den Aufbau eines herkömmlichen Halbleitergehäuses mit Drahtbondtechnik im Schnitt;
  • 2 ist eine perspektivische Ansicht des Aufbaus eines Halbleitergehäuses gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
  • 3a-3d sind perspektivische Ansichten, die Schritte eines Herstellprozesses für ein Halbleitergehäuse gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung veranschaulichen;
  • 4a und 4b sind Schnitte, die das Halbleitergehäuse entlang der Linie I-I' in 3b zeigen;
  • 5a und 5b sind Schnitte, die das Halbleitergehäuse entlang der Linie II-II' in 3b zeigen;
  • 6 ist eine Schnittansicht eines auf einer PCB montierten Halbleitergehäuses;
  • 7 ist eine Schnittansicht aufeinandergestapelter Halbleitergehäuse gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung; und
  • 8 ist eine Schnittansicht eines Halbleitergehäuses mit einer angebrachten Wärmesenke gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • Das Halbleitergehäuse von 2 gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung umfasst eine Struktur 22 mit Leiterteilen 21, die in ein jeweiliges Durchgangsloch eingebettet sind, die mit regelmäßigem Intervall von oben nach unten in der Struktur ausgebildet sind, eine Befestigungseinrichtung zum Befestigen von Zuleitungen, die sich in vier Richtungen von ihr ausgehend erstrecken, und eine Befestigungsanordnung TAB 24 (Klebstreifenfahne mit aufgeklebten Zuleitungen) für elektrischen Anschluss von Zuleitungen an die Leiterteile 21.
  • Die Struktur 22 verfügt über eine Bodenplatte zum Montieren von Chips auf ihrer Oberseite, wobei diese Bodenplatte entweder aus einer Quaderstruktur für Bodenplatten, die vorab nur mit den Löchern zum Einbetten der Leiterteile 21 versehen ist und die in Bodenplatteneinheiten zerteilt und geschliffen wird, oder aus einer Quaderstruktur für Bodenplatten hergestellt, die vorab mit den Löchern zum Einbetten der Leiterteile 21 sowie mit Durchgangslöchern zum Montieren der Chips versehen ist und die in Bodenplatteneinheiten zerteilt wird, an denen Montageplatzstrukturen angebracht werden. Die Befestigungseinrichtung kann ein Band zum Fixieren der Zuleitungen 23 sein. Eine Zuleitung 23 und ein Leiterteil 21, wie in die Struktur 22 eingebettet, werden elektrisch über Kontakthöcker angeschlossen.
  • Unter den 3a-3d zum Veranschaulichen von Schritten eines Herstellprozesses zeigt 3a eine Befestigungsanordnung TAB, d.h. eine Klebstreifenfahne mit einer Anzahl an ihr befestigter Zuleitungen 23, die sich in vier Richtungen erstrecken. Jede Zuleitung 23 ist elektrisch mit einem der Leiterteile 21 verbunden.
  • 3b ist eine perspektivische Ansicht einer Struktur, die entsprechend der Form eines Gehäuses ausgebildet ist, mit einer Aussparung im Zentrum der Struktur und mehreren Löchern, die mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum in der Struktur 22 ausgebildet sind, wobei in jedem der Löcher eines der Leiterteile 21 eingebettet ist. Durch Anbringen von Waferchips und der Befestigungsanordnung TAB an der Struktur 22 mit den so eingebetteten Leiterteilen 21 kann ein vollständiges Gehäuse erhalten werden.
  • 3c ist eine perspektivische Ansicht eines Gehäuses mit Waferchips und der Befestigungsanordnung TAB, die an der Struktur angebracht sind. Jede der an der Befestigungsanordnung TAB vorhandenen Zuleitungen 23 ist elektrisch mit einem der in der Struktur eingebetteten Leiterteile 21 verbunden.
  • 3d ist eine perspektivische Ansicht eines fertiggestellten Gehäuses nach dem Vergießen, bei dem keine Probleme hinsichtlich der Zuverlässigkeit und einer Oxidation bestehen. Beim Vergießen existiert der Fall, dass nur die Oberseite der Struktur vergossen wird, und der andere Fall, dass die gesamte Struktur vergossen wird, nachdem die Struktur auf einer PCB montiert wurde. In diesem Fall wird, um für einfache Wärmeabfuhr zu sorgen, eine Wärmesenke (nicht dargestellt) vor dem Vergießen an der Befestigungsanordnung TAB angebracht.
  • Nun wird unter Bezugnahme auf die Schnittansichten ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleitergehäuses erläutert.
  • Gemäß 4a wird eine Befestigungsanordnung TAB so an einer Struktur 22 befestigt, dass mehrere Zuleitungen 23 elektrisch mit jeweiligen, in die Struktur 22 eingebetteten Leiterteilen 21 verbunden werden. Der Zwischenraum zwischen jeder der Zuleitungen 23 wird bei einem Vergießprozess vergossen. 4b zeigt den Querschnitt durch das Halbleitergehäuse nach Abschluss des Vergießvorgangs. Wie dargestellt, ist nur der obere Teil der Struktur unter Verwendung eines Epoxidharzes 24 vergossen.
  • Gemäß 5a, die einen Schnitt durch das fertiggestellte Gehäuse zeigt, umfasst das Gehäuse die Leiterteile 21, die an seinen beiden Seiten vorhanden sind, den Waferchip 25 auf der Struktur 22 und die Befestigungsanordnung TAB mit den an ihr angebrachten Zuleitungen 23 auf der Struktur 22. Die Zuleitungen 23 erstrecken sich ausgehend vom Waferchip 21 zu beiden Seiten desselben zu den eiterteilen 21. Ein an den Leiterteilen 21 vorhandener Kontakthöcker (nicht dargestellt) verbindet diese elektrisch mit den Zuleitungen 23.
  • Gemäß 5b, die einen Schnitt durch das fertiggestellte Gehäuse nach dem Vergießen zeigt, also nachdem die Oberseite der Struktur 22 mit dem Epoxidharz 24 vergossen wurde, erstreckt sich der Verguss bis zum Rand des Waferchips 25 im mittleren Teil der Struktur 22.
  • Die mit den Zuleitungen 23 der Befestigungsanordnung TAB verbundenen, mit Kontakthöckern versehenen Leiterteile 21 erleichtern die Haftung zwischen den Leiterteilen 21 und den Zuleitungen 23 auf einfache Weise nur durch Rückflusslöten. Auch dann, wenn ein derartiges Halbleitergehäuse auf einer PCB montiert wird, die mit Lötmittelperlen oder Kontakthöckern unter den Leiterteilen versehen ist, können die PCB und das Gehäuse leicht aneinander befestigt werden.
  • 6 zeigt einen Schnitt durch das vergossene, an der PCB 26 befestigte Gehäuse, wobei unter den Leiterteilen 21 vorhandene Lötmittelperlen 27 eine elektrische Verbindung zwischen der PCB 26 und den Leiterteilen 21 vornehmen. Ein erneutes Vergießen der Struktur 22 in solcher Weise, dass sie vollständig durch Epoxidharz 24 vergossen wird, nachdem dieses Aufsetzen des Gehäuses auf die PCB erfolgte, kann die Gehäusezuverlässigkeit weiter verbessern.
  • Das vorstehend erläuterte Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses weist einen einfachen Herstellprozess auf, da kein Drahtbondprozess zum Verbinden des Waferchips mit den Leiterteilen erforderlich ist, und die Nützlichkeit ist verbessert, da das Aufstapeln der Gehäuse einfach ist.
  • 7 veranschaulicht einen Schnitt durch aufgestapelte Halbleitergehäuse gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • Gemäß 7 sind die Gehäuse aufeinandergestapelt, nachdem die Lötmittelperlen 27 oder die Kontakthöcker an ihnen angebracht wurden. Durch Aufschmelzen des Lots können die aufeinandergestapelten Gehäuse leicht aneinander befestigt werden. Wenn die insgesamt aufeinandergestapelten Gehäuse vollständig mit Epoxidharz 24 vergossen werden, nachdem sie auf der PCB 26 montiert wurden, kann das Leistungsvermögen pro tatsächlicher Gehäuseeinheit deutlich erhöht werden, da der Stapel von Gehäusen als ein Gehäuse erscheint. Bei diesem Montieren der aufeinandergestapelten Gehäuse auf der PCB können die aufeinandergestapelten Gehäuse und die PCB auf einfache Weise dadurch aneinander befestigt werden, dass nur ein Aufschmelzprozess für das Lot unter Verwendung der Lötmittelperlen 27 oder der Kontakthöcker verwendet wird.
  • Gemäß 8 wird bei einem Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung das gesamte Halbleitergehäuse mit Epoxidharz 24 vergossen, nachdem eine Wärmesenke 29 auf der Befestigungsanordnung TAB des Gehäuses angebracht wurde.
  • Beim vorstehend erläuterten erfindungsgemäßen Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses bestehen die folgenden Vorteile:
  • – Erstens erleichtert der einfache Verbindungsprozess für Gehäuse einfache Herstellung, da kein Drahtbondprozess erforderlich ist.
    • – Zweitens kann das Aufstapeln von Gehäusen durch einen einfachen Aufschmelzprozess für das Lötmittel erfolgen, ohne dass ein zusätzlicher Prozess erforderlich ist.
    • – Drittens ermöglicht das einfache Befestigen der Wärmesenke für einfache Wärmeabfuhr eine Verbesserung der Zuverlässigkeit.
  • Beim Ausführungsbeispiel besteht die Befestigungsanordnung aus einer Klebstreifenfahne als Befestigungseinrichtung mit daran angebrachten Zuleitungen. Die Klebestreifenfahne kann vor dem Vergießen abgezogen werden oder sie kann mit eingegossen werden. Die Zuleitungen können auch durch eine andere Befestigungseinrichtung als eine Klebstreifenfahne gehalten werden.

Claims (13)

  1. Halbleitergehäuse mit – einer Struktur (22), in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips (25) ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum ausgebildete Löcher aufweist, die sich durch die Struktur (22) erstrecken, – Leiterteilen (21), die in die Löcher eingebettet sind, und – einer Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung mit an ihr befestigten Zuleitungen (23), wobei sich die Zuleitungen (23) in vier Richtungen zur elektrischen Verbindung zwischen einem in die Aussparung eingesetzten Chip (25) und jedem der Leiterteile (21) erstrecken.
  2. Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Befestigungseinrichtung ein Band zum Fixieren der Zuleitungen (23) ist.
  3. Gehäuse nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Leiterteile (21) einen Kontakthöcker aufweist, um die Leiterteile (21) mit den jeweiligen Zuleitungen (23) elektrisch zu verbinden.
  4. Gehäuse nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur (22) eine quaderförmige Platte ist.
  5. Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses mit folgenden Schritten: – Bereitstellen einer Struktur (22) mit einer Aussparung im Zentrum der Struktur (22) und mit mehreren Löchern, die mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum in der Struktur (22) ausgebildet sind; – Einbetten eines Leiterteils (21) in jedem der Löcher; Anbringen von Zuleitungen (23) an einer Befestigungseinrichtung, die sich in vier Richtungen erstrecken, um eine Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung auszubilden; – Anbringen eines Chips (25) und der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur (22); – Aufschmelzen eines Lots an den Zuleitungen (23) der Befestigungsanordnung (TAB) zur elektrischen Verbindung des in die Aussparung eingesetzten Chips (25) mit den jeweiligen Leiterteilen (21) und zur Befestigung der Zuleitungen (23) an der Struktur (22).
  6. Verfahren nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch das Vergiessen des Halbleiterbauteils nach dem Anbringen der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur (22).
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Vergiessen für den oberen Teil der Struktur (22) oder für die gesamte Struktur erfolgt.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7 dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Anbringen des Chips (25) und der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur (22) ein anderes Gehäuse darauf aufgestapelt wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Stapel von Gehäusen elektrisch untereinander verbunden wird, wozu beim Aufstapeln der Gehäuse Lötmittelperlen (27) oder Kontakthöcker verwendet werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung zwischen den Gehäusen beim Aufstapeln durch Aufschmelzen der Lötmittelperlen (27) oder Kontakthöcker erfolgt.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, gekennzeichnet durch Vergiessen des vergossenen Gehäuses nach dem Montieren des vergossenen Gehäuses auf einer PCB (26).
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass an der Oberseite der Befestigungsanordnung (TAB) im Gehäuse eine Wärmesenke (29) angebracht wird, um Wärme vom Gehäuse abzuführen, das durch Anbringen der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur fertiggestellt wurde.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch erneutes Vergiessen des Gehäuses nach dem Anbringen der Wärmesenke (29).
DE19755675A 1996-12-19 1997-12-15 Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung Expired - Fee Related DE19755675B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960067949A KR100209760B1 (ko) 1996-12-19 1996-12-19 반도체 패키지 및 이의 제조방법
KR67949/96 1996-12-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19755675A1 DE19755675A1 (de) 1998-06-25
DE19755675B4 true DE19755675B4 (de) 2007-12-27

Family

ID=19489211

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19755675A Expired - Fee Related DE19755675B4 (de) 1996-12-19 1997-12-15 Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung

Country Status (5)

Country Link
US (2) US5994772A (de)
JP (1) JP2932432B2 (de)
KR (1) KR100209760B1 (de)
CN (1) CN1147930C (de)
DE (1) DE19755675B4 (de)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6350664B1 (en) * 1999-09-02 2002-02-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device and method of manufacturing the same
US6624522B2 (en) * 2000-04-04 2003-09-23 International Rectifier Corporation Chip scale surface mounted device and process of manufacture
US6501170B1 (en) 2000-06-09 2002-12-31 Micron Technology, Inc. Substrates and assemblies including pre-applied adhesion promoter
JP3405456B2 (ja) * 2000-09-11 2003-05-12 沖電気工業株式会社 半導体装置,半導体装置の製造方法,スタック型半導体装置及びスタック型半導体装置の製造方法
WO2006049533A2 (fr) * 2004-11-05 2006-05-11 Mikhail Evgenjevich Givargizov Dispositifs rayonnants et procedes de fabrication correspondants
DE102005043557B4 (de) * 2005-09-12 2007-03-01 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils mit Durchkontakten zwischen Oberseite und Rückseite
USD769832S1 (en) * 2013-02-19 2016-10-25 Sony Corporation Semiconductor device
USD754083S1 (en) 2013-10-17 2016-04-19 Vlt, Inc. Electric terminal
TWI594380B (zh) 2015-05-21 2017-08-01 穩懋半導體股份有限公司 封裝結構及三維封裝結構
JP1582228S (de) * 2016-08-02 2017-07-24
JP1642346S (de) * 2019-03-20 2019-09-30
JP1664282S (de) * 2019-07-24 2020-07-27
JP1660133S (de) * 2019-09-26 2020-05-25
USD951212S1 (en) * 2019-12-11 2022-05-10 Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. Semiconductor device
USD951213S1 (en) * 2019-12-11 2022-05-10 Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. Semiconductor device
USD951214S1 (en) * 2019-12-11 2022-05-10 Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. Semiconductor device
USD951215S1 (en) * 2019-12-11 2022-05-10 Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. Semiconductor device
CA202671S (en) * 2021-04-09 2024-05-15 9493662 Canada Inc Microfluidic slab with 2 well arrangements
CA202670S (en) * 2021-04-09 2024-05-15 9493662 Canada Inc Microfluidic slab with 4 well arrangements

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4949158A (en) * 1987-07-24 1990-08-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device
JPH0469963A (ja) * 1990-07-11 1992-03-05 Hitachi Ltd 積層型マルチチップ半導体装置およびこれに用いる半導体装置
US5198888A (en) * 1987-12-28 1993-03-30 Hitachi, Ltd. Semiconductor stacked device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2635916B1 (fr) * 1988-08-23 1990-10-12 Bull Sa Support de circuit integre de haute densite et son procede de fabrication
TW258829B (de) * 1994-01-28 1995-10-01 Ibm
KR0139694B1 (ko) * 1994-05-11 1998-06-01 문정환 솔더 볼을 이용한 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP2780649B2 (ja) * 1994-09-30 1998-07-30 日本電気株式会社 半導体装置
JP2967697B2 (ja) * 1994-11-22 1999-10-25 ソニー株式会社 リードフレームの製造方法と半導体装置の製造方法
US5843215A (en) * 1997-04-07 1998-12-01 Warmm Sciences, Llc Insect repellent coatings

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4949158A (en) * 1987-07-24 1990-08-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device
US5198888A (en) * 1987-12-28 1993-03-30 Hitachi, Ltd. Semiconductor stacked device
JPH0469963A (ja) * 1990-07-11 1992-03-05 Hitachi Ltd 積層型マルチチップ半導体装置およびこれに用いる半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR100209760B1 (ko) 1999-07-15
JP2932432B2 (ja) 1999-08-09
KR19980049257A (ko) 1998-09-15
US6190946B1 (en) 2001-02-20
JPH10189840A (ja) 1998-07-21
CN1147930C (zh) 2004-04-28
US5994772A (en) 1999-11-30
CN1185656A (zh) 1998-06-24
DE19755675A1 (de) 1998-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19755675B4 (de) Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung
DE4301915C2 (de) Mehrfachchip-Halbleitervorrichtung
DE102009006826B4 (de) Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
DE69735361T2 (de) Harzverkapselte halbleiteranordnung und herstellungsverfahren dafür
DE102008061068B4 (de) Elektronikbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Elektronikbauelements
DE102006005645B4 (de) Stapelbarer Baustein, Bausteinstapel und Verfahren zu deren Herstellung
DE4207198C2 (de) Zuführungsrahmen und dessen Verwendung in einer Halbleitervorrichtung
DE102008046095B4 (de) Verfahren zum vereinzeln eines halbleiterbausteins
DE3623419C2 (de)
DE10301512A1 (de) Verkleinertes Chippaket und Verfahren zu seiner Herstellung
DE68905475T2 (de) Halbleiter-speichermodul hoeher dichte.
DE102014106158B4 (de) Verfahren zum Testen von elektronischen Bauteilen und Halbleiterstreifenanordnung
DE4337675A1 (de) Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3428881A1 (de) Verfahren zum herstellen einer integrierten schaltungsvorrichtung
DE3212442A1 (de) Gehaeuseanordnung mit paarweise miteinander ausgerichteten leitungsanschluessen, insbesondere zur kapselung von halbleiterbauteilen
DE102009010199A1 (de) Systemträger mit Formschlossentlüftung
DE19709259B4 (de) Mehrlagiges Bodenanschlussgehäuse
DE69313062T2 (de) Chip-Direktmontage
DE19651549B4 (de) Anschlußrahmen und Chipgehäuse
DE19929606A1 (de) Integrierte Schaltung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19801488B4 (de) Verfahren zum Zusammenbau eines Halbleiterbausteins
DE102020103456A1 (de) Leistungsstufenvorrichtung mit Trägerrahmen für ein Leistungsstufenmodul und einen integrierten Induktor
DE102013103351B4 (de) Elektronikmodul
DE10124970B4 (de) Elektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip auf einer Halbleiterchip-Anschlußplatte, Systemträger und Verfahren zu deren Herstellung
DE102018130965A1 (de) Gehäuse-in-gehäuse struktur für halbleitervorrichtungen und verfahren zur herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20140701