DE19755675B4 - Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
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Abstract
Halbleitergehäuse mit
– einer Struktur (22), in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips (25) ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum ausgebildete Löcher aufweist, die sich durch die Struktur (22) erstrecken,
– Leiterteilen (21), die in die Löcher eingebettet sind, und
– einer Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung mit an ihr befestigten Zuleitungen (23), wobei sich die Zuleitungen (23) in vier Richtungen zur elektrischen Verbindung zwischen einem in die Aussparung eingesetzten Chip (25) und jedem der Leiterteile (21) erstrecken.
– einer Struktur (22), in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips (25) ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum ausgebildete Löcher aufweist, die sich durch die Struktur (22) erstrecken,
– Leiterteilen (21), die in die Löcher eingebettet sind, und
– einer Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung mit an ihr befestigten Zuleitungen (23), wobei sich die Zuleitungen (23) in vier Richtungen zur elektrischen Verbindung zwischen einem in die Aussparung eingesetzten Chip (25) und jedem der Leiterteile (21) erstrecken.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Halbleitergehäuse sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung.
- Beim Herstellen eines Halbleitergehäuses werden im allgemeinen aufeinanderfolgende Prozessschritte ausgeführt, nämlich ein Zerteilen zum Abtrennen von auf einem Wafer hergestellten Chips, Chipbonden zum Aufsetzen der abgetrennten Chips auf freie Montageplätze in einem Leiterrahmen, Drahtbonden zum elektrischen Verbinden von Bond-Kontaktflecken auf den Chips und Innenleitern der Leiterrahmen sowie Vergießen der Schaltung zum Schutz nach dem Herstellen integrierter Schaltungen auf dem Wafer.
- Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf
1 , die den Schnittaufbau eines herkömmlichen Halbleitergehäuses mit Drahtbondtechnik veranschaulicht, ein derartiges herkömmliches Gehäuse erläutert. - Gemäß
1 umfasst das herkömmliche Halbleitergehäuse einen Chip11 mit einer eingebauten Halbleiterschaltung, einen Leiterrahmen12 , der den Chip11 trägt und mit diesem verbunden ist, ein beidseitiges Klebeband13 zum Fixieren des Chips11 und des Leiterrahmens12 , untere Kontaktflecken15 unter dem Leiterrahmen12 zum Verbinden einer PCB (Printed Circuit Board)14 und des Leiterrahmens12 , Bondkontaktflecke16 in oberen Abschnitten des Chips11 , die als Elektroden wirken, Drähte17 zum elektrischen Verbinden der Bondkontaktflecken16 und des Leiterrahmens12 sowie einen Körper18 aus EMC (Epoxy Mold Compound = Epoxid-Gießverbindung) zum Schützen des Bauteils gegen Umgebungseinflüsse. - Beim oben genannten herkömmlichen Halbleitergehäuse bestehen die folgenden Probleme:
- – Erstens bewirkt der Drahtbondprozess für die elektrische Verbindung des Chips mit dem Leiterrahmen, dass der Herstellprozess kompliziert ist, und es ist ein komplizierter Lötprozess folgend auf das Aufstapeln der Chips erforderlich.
- – Zweitens sind keine Wärmesenken vorhanden, um während des Betriebs des Bauteils erzeugte Wärme abzuführen.
- – Drittens hat ein Stapel von Gehäusen, die jeweils aufeinandergestapelt sind, kein gutes Aussehen.
- Aus der
US 5 198 888 A ist ein Halbleitergehäuse bekannt, das eine Verbindungsstruktur aufweist, in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall neben der Aussparung ausgebildete Löcher aufweist, durch die hindurch auf der Oberseite und der Unterseite der Struktur angeordnete Leitermuster miteinander verbunden sind. Das Halbleitergehäuse weist ferner eine Befestigungsanordnung mit an ihr befestigten Zuleitungen auf, die sich zur elektrischen Verbindung zwischen einem Chip und jedem der auf der Oberseite der Struktur vorgesehenen Leitungsmuster von dieser weg erstrecken. - Zur Herstellung eines derartigen Halbleitergehäuses wird zunächst die Befestigungsanordnung mit ihren Zuleitungen mit dem Chip elektrisch verbunden und dann vergossen, um anschließend die Befestigungsanordnung zusammen mit dem Chip in die Aussparung der Struktur einzusetzen und eine elektrische Verbindung zwischen den Zuleitungen und den Leitungsmustern auf der Verbinderstruktur herzustellen.
- Die
US 4 949 158 zeigt eine Halbleitervorrichtung, deren Halbleitergehäuse einen Leiterrahmen aufweist, dessen einzelne Zuleitungen sich von dem Bereich, wo sie mit entsprechenden Kontaktflecken auf dem Chip verbunden sind, in vier Richtungen wegerstrecken, um den Chip mit entsprechenden, außen liegenden Halbleiterelementen zu verbinden. - Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Halbleitergehäuse und ein Verfahren zu dessen Herstellung zu schaffen, die für verbesserte Zuverlässigkeit sorgen.
- Diese Aufgabe ist hinsichtlich des Gehäuses durch die Lehre des beigefügten Anspruchs 1 und hinsichtlich des Verfahrens durch die Lehre des beigefügten Anspruchs 5 gelöst.
- Die beigefügten Zeichnungen veranschaulichen Ausführungsbeispiele der Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu diese näher zu erläutern.
-
1 zeigt den Aufbau eines herkömmlichen Halbleitergehäuses mit Drahtbondtechnik im Schnitt; -
2 ist eine perspektivische Ansicht des Aufbaus eines Halbleitergehäuses gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung; -
3a -3d sind perspektivische Ansichten, die Schritte eines Herstellprozesses für ein Halbleitergehäuse gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung veranschaulichen; -
4a und4b sind Schnitte, die das Halbleitergehäuse entlang der Linie I-I' in3b zeigen; -
5a und5b sind Schnitte, die das Halbleitergehäuse entlang der Linie II-II' in3b zeigen; -
6 ist eine Schnittansicht eines auf einer PCB montierten Halbleitergehäuses; -
7 ist eine Schnittansicht aufeinandergestapelter Halbleitergehäuse gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung; und -
8 ist eine Schnittansicht eines Halbleitergehäuses mit einer angebrachten Wärmesenke gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung. - Das Halbleitergehäuse von
2 gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung umfasst eine Struktur22 mit Leiterteilen21 , die in ein jeweiliges Durchgangsloch eingebettet sind, die mit regelmäßigem Intervall von oben nach unten in der Struktur ausgebildet sind, eine Befestigungseinrichtung zum Befestigen von Zuleitungen, die sich in vier Richtungen von ihr ausgehend erstrecken, und eine Befestigungsanordnung TAB24 (Klebstreifenfahne mit aufgeklebten Zuleitungen) für elektrischen Anschluss von Zuleitungen an die Leiterteile21 . - Die Struktur
22 verfügt über eine Bodenplatte zum Montieren von Chips auf ihrer Oberseite, wobei diese Bodenplatte entweder aus einer Quaderstruktur für Bodenplatten, die vorab nur mit den Löchern zum Einbetten der Leiterteile21 versehen ist und die in Bodenplatteneinheiten zerteilt und geschliffen wird, oder aus einer Quaderstruktur für Bodenplatten hergestellt, die vorab mit den Löchern zum Einbetten der Leiterteile21 sowie mit Durchgangslöchern zum Montieren der Chips versehen ist und die in Bodenplatteneinheiten zerteilt wird, an denen Montageplatzstrukturen angebracht werden. Die Befestigungseinrichtung kann ein Band zum Fixieren der Zuleitungen23 sein. Eine Zuleitung23 und ein Leiterteil21 , wie in die Struktur22 eingebettet, werden elektrisch über Kontakthöcker angeschlossen. - Unter den
3a -3d zum Veranschaulichen von Schritten eines Herstellprozesses zeigt3a eine Befestigungsanordnung TAB, d.h. eine Klebstreifenfahne mit einer Anzahl an ihr befestigter Zuleitungen23 , die sich in vier Richtungen erstrecken. Jede Zuleitung23 ist elektrisch mit einem der Leiterteile21 verbunden. -
3b ist eine perspektivische Ansicht einer Struktur, die entsprechend der Form eines Gehäuses ausgebildet ist, mit einer Aussparung im Zentrum der Struktur und mehreren Löchern, die mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum in der Struktur22 ausgebildet sind, wobei in jedem der Löcher eines der Leiterteile21 eingebettet ist. Durch Anbringen von Waferchips und der Befestigungsanordnung TAB an der Struktur22 mit den so eingebetteten Leiterteilen21 kann ein vollständiges Gehäuse erhalten werden. -
3c ist eine perspektivische Ansicht eines Gehäuses mit Waferchips und der Befestigungsanordnung TAB, die an der Struktur angebracht sind. Jede der an der Befestigungsanordnung TAB vorhandenen Zuleitungen23 ist elektrisch mit einem der in der Struktur eingebetteten Leiterteile21 verbunden. -
3d ist eine perspektivische Ansicht eines fertiggestellten Gehäuses nach dem Vergießen, bei dem keine Probleme hinsichtlich der Zuverlässigkeit und einer Oxidation bestehen. Beim Vergießen existiert der Fall, dass nur die Oberseite der Struktur vergossen wird, und der andere Fall, dass die gesamte Struktur vergossen wird, nachdem die Struktur auf einer PCB montiert wurde. In diesem Fall wird, um für einfache Wärmeabfuhr zu sorgen, eine Wärmesenke (nicht dargestellt) vor dem Vergießen an der Befestigungsanordnung TAB angebracht. - Nun wird unter Bezugnahme auf die Schnittansichten ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleitergehäuses erläutert.
- Gemäß
4a wird eine Befestigungsanordnung TAB so an einer Struktur22 befestigt, dass mehrere Zuleitungen23 elektrisch mit jeweiligen, in die Struktur22 eingebetteten Leiterteilen21 verbunden werden. Der Zwischenraum zwischen jeder der Zuleitungen23 wird bei einem Vergießprozess vergossen.4b zeigt den Querschnitt durch das Halbleitergehäuse nach Abschluss des Vergießvorgangs. Wie dargestellt, ist nur der obere Teil der Struktur unter Verwendung eines Epoxidharzes24 vergossen. - Gemäß
5a , die einen Schnitt durch das fertiggestellte Gehäuse zeigt, umfasst das Gehäuse die Leiterteile21 , die an seinen beiden Seiten vorhanden sind, den Waferchip25 auf der Struktur22 und die Befestigungsanordnung TAB mit den an ihr angebrachten Zuleitungen23 auf der Struktur22 . Die Zuleitungen23 erstrecken sich ausgehend vom Waferchip21 zu beiden Seiten desselben zu den eiterteilen21 . Ein an den Leiterteilen21 vorhandener Kontakthöcker (nicht dargestellt) verbindet diese elektrisch mit den Zuleitungen23 . - Gemäß
5b , die einen Schnitt durch das fertiggestellte Gehäuse nach dem Vergießen zeigt, also nachdem die Oberseite der Struktur22 mit dem Epoxidharz24 vergossen wurde, erstreckt sich der Verguss bis zum Rand des Waferchips25 im mittleren Teil der Struktur22 . - Die mit den Zuleitungen
23 der Befestigungsanordnung TAB verbundenen, mit Kontakthöckern versehenen Leiterteile21 erleichtern die Haftung zwischen den Leiterteilen21 und den Zuleitungen23 auf einfache Weise nur durch Rückflusslöten. Auch dann, wenn ein derartiges Halbleitergehäuse auf einer PCB montiert wird, die mit Lötmittelperlen oder Kontakthöckern unter den Leiterteilen versehen ist, können die PCB und das Gehäuse leicht aneinander befestigt werden. -
6 zeigt einen Schnitt durch das vergossene, an der PCB26 befestigte Gehäuse, wobei unter den Leiterteilen21 vorhandene Lötmittelperlen27 eine elektrische Verbindung zwischen der PCB26 und den Leiterteilen21 vornehmen. Ein erneutes Vergießen der Struktur22 in solcher Weise, dass sie vollständig durch Epoxidharz24 vergossen wird, nachdem dieses Aufsetzen des Gehäuses auf die PCB erfolgte, kann die Gehäusezuverlässigkeit weiter verbessern. - Das vorstehend erläuterte Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses weist einen einfachen Herstellprozess auf, da kein Drahtbondprozess zum Verbinden des Waferchips mit den Leiterteilen erforderlich ist, und die Nützlichkeit ist verbessert, da das Aufstapeln der Gehäuse einfach ist.
-
7 veranschaulicht einen Schnitt durch aufgestapelte Halbleitergehäuse gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung. - Gemäß
7 sind die Gehäuse aufeinandergestapelt, nachdem die Lötmittelperlen27 oder die Kontakthöcker an ihnen angebracht wurden. Durch Aufschmelzen des Lots können die aufeinandergestapelten Gehäuse leicht aneinander befestigt werden. Wenn die insgesamt aufeinandergestapelten Gehäuse vollständig mit Epoxidharz24 vergossen werden, nachdem sie auf der PCB26 montiert wurden, kann das Leistungsvermögen pro tatsächlicher Gehäuseeinheit deutlich erhöht werden, da der Stapel von Gehäusen als ein Gehäuse erscheint. Bei diesem Montieren der aufeinandergestapelten Gehäuse auf der PCB können die aufeinandergestapelten Gehäuse und die PCB auf einfache Weise dadurch aneinander befestigt werden, dass nur ein Aufschmelzprozess für das Lot unter Verwendung der Lötmittelperlen27 oder der Kontakthöcker verwendet wird. - Gemäß
8 wird bei einem Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung das gesamte Halbleitergehäuse mit Epoxidharz24 vergossen, nachdem eine Wärmesenke29 auf der Befestigungsanordnung TAB des Gehäuses angebracht wurde. - Beim vorstehend erläuterten erfindungsgemäßen Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses bestehen die folgenden Vorteile:
- – Erstens erleichtert der einfache Verbindungsprozess für Gehäuse einfache Herstellung, da kein Drahtbondprozess erforderlich ist.
- – Zweitens kann das Aufstapeln von Gehäusen durch einen einfachen Aufschmelzprozess für das Lötmittel erfolgen, ohne dass ein zusätzlicher Prozess erforderlich ist.
- – Drittens ermöglicht das einfache Befestigen der Wärmesenke für einfache Wärmeabfuhr eine Verbesserung der Zuverlässigkeit.
- Beim Ausführungsbeispiel besteht die Befestigungsanordnung aus einer Klebstreifenfahne als Befestigungseinrichtung mit daran angebrachten Zuleitungen. Die Klebestreifenfahne kann vor dem Vergießen abgezogen werden oder sie kann mit eingegossen werden. Die Zuleitungen können auch durch eine andere Befestigungseinrichtung als eine Klebstreifenfahne gehalten werden.
Claims (13)
- Halbleitergehäuse mit – einer Struktur (
22 ), in deren Zentrum eine Aussparung zum Einfügen eines Chips (25 ) ausgebildet ist und die mehrere mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum ausgebildete Löcher aufweist, die sich durch die Struktur (22 ) erstrecken, – Leiterteilen (21 ), die in die Löcher eingebettet sind, und – einer Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung mit an ihr befestigten Zuleitungen (23 ), wobei sich die Zuleitungen (23 ) in vier Richtungen zur elektrischen Verbindung zwischen einem in die Aussparung eingesetzten Chip (25 ) und jedem der Leiterteile (21 ) erstrecken. - Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Befestigungseinrichtung ein Band zum Fixieren der Zuleitungen (
23 ) ist. - Gehäuse nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Leiterteile (
21 ) einen Kontakthöcker aufweist, um die Leiterteile (21 ) mit den jeweiligen Zuleitungen (23 ) elektrisch zu verbinden. - Gehäuse nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur (
22 ) eine quaderförmige Platte ist. - Verfahren zum Herstellen eines Halbleitergehäuses mit folgenden Schritten: – Bereitstellen einer Struktur (
22 ) mit einer Aussparung im Zentrum der Struktur (22 ) und mit mehreren Löchern, die mit regelmäßigem Intervall um die Aussparung herum in der Struktur (22 ) ausgebildet sind; – Einbetten eines Leiterteils (21 ) in jedem der Löcher; Anbringen von Zuleitungen (23 ) an einer Befestigungseinrichtung, die sich in vier Richtungen erstrecken, um eine Befestigungsanordnung (TAB) zur Abdeckung der Aussparung auszubilden; – Anbringen eines Chips (25 ) und der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur (22 ); – Aufschmelzen eines Lots an den Zuleitungen (23 ) der Befestigungsanordnung (TAB) zur elektrischen Verbindung des in die Aussparung eingesetzten Chips (25 ) mit den jeweiligen Leiterteilen (21 ) und zur Befestigung der Zuleitungen (23 ) an der Struktur (22 ). - Verfahren nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch das Vergiessen des Halbleiterbauteils nach dem Anbringen der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur (
22 ). - Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Vergiessen für den oberen Teil der Struktur (
22 ) oder für die gesamte Struktur erfolgt. - Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7 dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Anbringen des Chips (
25 ) und der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur (22 ) ein anderes Gehäuse darauf aufgestapelt wird. - Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Stapel von Gehäusen elektrisch untereinander verbunden wird, wozu beim Aufstapeln der Gehäuse Lötmittelperlen (
27 ) oder Kontakthöcker verwendet werden. - Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung zwischen den Gehäusen beim Aufstapeln durch Aufschmelzen der Lötmittelperlen (
27 ) oder Kontakthöcker erfolgt. - Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, gekennzeichnet durch Vergiessen des vergossenen Gehäuses nach dem Montieren des vergossenen Gehäuses auf einer PCB (
26 ). - Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass an der Oberseite der Befestigungsanordnung (TAB) im Gehäuse eine Wärmesenke (
29 ) angebracht wird, um Wärme vom Gehäuse abzuführen, das durch Anbringen der Befestigungsanordnung (TAB) an der Struktur fertiggestellt wurde. - Verfahren nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch erneutes Vergiessen des Gehäuses nach dem Anbringen der Wärmesenke (
29 ).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960067949A KR100209760B1 (ko) | 1996-12-19 | 1996-12-19 | 반도체 패키지 및 이의 제조방법 |
KR67949/96 | 1996-12-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19755675A1 DE19755675A1 (de) | 1998-06-25 |
DE19755675B4 true DE19755675B4 (de) | 2007-12-27 |
Family
ID=19489211
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19755675A Expired - Fee Related DE19755675B4 (de) | 1996-12-19 | 1997-12-15 | Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5994772A (de) |
JP (1) | JP2932432B2 (de) |
KR (1) | KR100209760B1 (de) |
CN (1) | CN1147930C (de) |
DE (1) | DE19755675B4 (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6350664B1 (en) * | 1999-09-02 | 2002-02-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
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US6501170B1 (en) | 2000-06-09 | 2002-12-31 | Micron Technology, Inc. | Substrates and assemblies including pre-applied adhesion promoter |
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USD754083S1 (en) | 2013-10-17 | 2016-04-19 | Vlt, Inc. | Electric terminal |
TWI594380B (zh) | 2015-05-21 | 2017-08-01 | 穩懋半導體股份有限公司 | 封裝結構及三維封裝結構 |
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JP1664282S (de) * | 2019-07-24 | 2020-07-27 | ||
JP1660133S (de) * | 2019-09-26 | 2020-05-25 | ||
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1997
- 1997-12-08 US US08/986,146 patent/US5994772A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-15 DE DE19755675A patent/DE19755675B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-17 CN CNB971087032A patent/CN1147930C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-17 JP JP9347622A patent/JP2932432B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2932432B2 (ja) | 1999-08-09 |
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CN1147930C (zh) | 2004-04-28 |
US5994772A (en) | 1999-11-30 |
CN1185656A (zh) | 1998-06-24 |
DE19755675A1 (de) | 1998-06-25 |
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---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
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