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Die
Erfindung betrifft ein Flüssigkristalldisplay,
ein Substrat sowie ein Verfahren zum Herstellen des Substrats.
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Bei
Flüssigkristalldisplays
werden im allgemeinen Eigenschaften betreffend die optische Anisotropie
und die Polarisation von Flüssigkristallmolekülen dazu
ausgenutzt, Bilder anzuzeigen. Die Flüssigkristallmoleküle verfügen entlang
ihrer flachen und langgestreckten Formen über eine Orientierungsrichtung,
die dadurch kontrolliert werden kann, dass ein elektrisches Feld
an die Moleküle
angelegt wird. Anders gesagt, ändert
sich die Orientierungsrichtung der Flüssigkristallmoleküle, wenn
die Stärke
des elektrischen Felds geändert
wird. Da einfallendes Licht durch Flüssigkristallmoleküle abhängig von
der Orientierung derselben wegen ihrer optischen Anisotropie gebrochen
wird, kann die Intensität
des einfallenden Lichts kontrolliert werden, so dass Bilder angezeigt
werden können.
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Unter
verschiedenen Typen von Flüssigkristalldisplays,
wie sie üblicherweise
verwendet werden, zeigen solche mit aktiver Matrix (AM-LCD) mit
Dünnschichttransistoren
(TFTs), die mit den Pixelelektroden verbunden sind und die in Matrixform
angeordnet sind, hohe Auflösung
und hervorragende Anzeigeeigenschaften beim Anzeigen bewegter Bilder.
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Die 1 ist
eine schematische perspektivische Ansicht eines Flüssigkristalldisplays
mit aktiver Matrix gemäß der einschlägigen Technik.
Wie erkennbar, sind ein Arraysubstrat 10 und ein Farbfiltersubstrat 20 einander
zugewandt angeordnet, und dazwischen ist eine Schicht aus Flüssigkristallmolekülen 30 eingefügt. Das
Arraysubstrat 10 verfügt über ein
erstes transparentes Substrat 12 sowie eine Vielzahl von
Gateleitungen 14 und eine Vielzahl von Datenleitungen 16,
die einander schneiden, um eine Vielzahl von Pixelbereichen P zu
bilden. An jeder Schnittstelle zwischen einer Gateleitung 14 und
einer Datenleitung 16 ist ein Dünnschichttransistor T ausgebildet,
mit dem eine im Pixelbereich P angeordnete Pixelelektrode 18 verbunden
ist. Das Farbfiltersubstrat 20 verfügt über ein zweites transparentes
Substrat 22 mit dem Pixelbereich P, eine diesen umgebende
Schwarzmatrix 25, die an der Innenseite des zweiten Substrats 22 angeordnet
ist, und eine Farbfilterschicht 26 mit Unterfarbfiltern 26a, 26b und 26c für rot, grün und blau,
die innerhalb der Schwarzmatrix 25 angeordnet sind. Genauer
gesagt, sind die Unterfarbfilter 26a, 26b und 26c in
jedem der Pixelbereiche P angeordnet, und die Grenzen zwischen ihnen
entsprechen der Schwarzmatrix 25. Auf der Farbfilterschicht 26 ist
eine gemeinsame Elektrode 28 vorhanden.
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Obwohl
es nicht dargestellt ist, ist zwischen dem Arraysubstrat 10 und
dem Farbfiltersubstrat 20 am Umfang derselben ein Dichtungsmuster
(nicht dargestellt) aus einem Abdichtmittel eingefügt, um die
Substrate miteinander zu verbinden und dabei ein Auslecken von Flüssigkristallmolekülen 30 zu
verhindern. Zwischen der Pixelelektrode 18 und der Schicht der
Flüssigkristallmoleküle 30 ist
ein erster Orientierungsfilm (nicht dargestellt) ausgebildet, und
zwischen der gemeinsamen Elektrode 28 und der Schicht von
Flüssigkristallmolekülen 30 ist
ein zweiter Orientierungsfilm (nicht dargestellt) ausgebildet. Der
erste und der zweite Orientierungsfilm stellen die Anfangsausrichtung
von Unterschichten der Flüssigkristallmoleküle innerhalb
der Schicht derselben ein. Ferner sind ein erster und ein zweiter
Polarisator (nicht dargestellt) an der Außenseite des ersten bzw. zweiten
transparenten Substrats 12 und 22 angeordnet.
Außerdem
ist an der Rückseite
des ersten Polarisators eine Hinterleuchtung (nicht dargestellt)
angeordnet, um als Lichtquelle für
das LCD zu dienen.
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Wenn
Ein/Aus-Signale für
den Dünnschichttransistor
T sequenziell in die Gateleitungen 14 eingescannt werden
und Bildsignale über
die Datenleitungen 16 an die Pixelelektroden 18 übertragen
werden, werden die Flüssigkristallmoleküle durch
ein vertikales elektrisches Feld angesteuert, das zwischen der gemeinsamen
Elektrode 28 und der Pixelelektrode 18 erzeugt
wird. Daher können
entsprechend der Transmissionsänderung
Bilder angezeigt werden.
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Dieses
Flüssigkristalldisplay
wird durch einen Arrayprozess, bei dem die Dünnschichttransistoren T und
die mit denselben verbundenen Pixelelektroden 18 hergestellt
werden, und einen Farbfilterprozess hergestellt, bei dem die Farbfilterschicht 26 und die
gemeinsame Elektrode 28 hergestellt werden.
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Die 2A bis 2G sind
schematische Schnittansichten zum Veranschaulichen eines Verfahrens
zum Herstellen eines Farbfiltersubstrats gemäß der einschlägigen Technik.
Wie es in der 2A dargestellt ist, wird eine
Schicht 62 aus einem Schwarzmatrixmaterial dadurch hergestellt,
dass ein metallisches Material, wozu Chrom (Cr) gehört, auf einem
transparenten Substrat 60 abgeschieden wird. Als nächstes wird
eine Fotoresistschicht 64 dadurch hergestellt, dass ein
Fotoresist auf die Schwarzmatrixschicht 62 aufgetragen
wird. Auf der Fotoresistschicht 64 wird eine Maske 66 mit
einem Transmissionsbereich TA und einem Ausblendbereich BA angeordnet,
und er wird unter Verwendung derselben belichtet.
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Als
nächstes
wird, wie es durch die 2B veranschaulicht ist, durch
Entwickeln der belichteten Fotoresistschicht, ein Fotoresistmuster 68 ausgebildet.
Dieses ist so auf der Schwarzmatrixschicht 62 vorhanden,
dass es den Abschnitten entspricht, in denen später eine Schwarzmatrix auszubilden
ist.
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Wie
es durch die 2C veranschaulicht ist, wird
eine Schwarzmatrix 72 mit einer ersten bis dritten Öffnung 70a, 70b und 70c dadurch
hergestellt, dass ein Teil der durch die Fotoresistschicht 64 belichteten
Schwarzmatrixschicht 62 entfernt wird. Die Schwarzmatrix 72 verfügt in der
Draufsicht über
Gitterform, was jedoch nicht dargestellt ist.
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Als
nächstes
wird, wie es durch die 2D veranschaulicht ist, ein
Teil des Fotoresistmusters 68, das an der Oberseite der
Schwarzmatrix 72 verblieben ist, durch Abheben entfernt.
Beispielsweise wird eine Resistschicht 74a für rot dadurch
hergestellt, dass ein Resist für
rot in der ersten Öffnung 70a der
Schwarzmatrix 72 aufgetragen wird. Danach wird auf der
Resistschicht für
rot (nicht dargestellt) eine Maske (nicht dargestellt) mit einem
Transmissionsbereich (nicht dargestellt) und einem Ausblendbereich
(nicht dargestellt) angeordnet. Derjenige Teil der Resistschicht
für rot,
der in der ersten Öffnung 70a verbleiben
soll, entspricht dem Transmissionsbereich. Derjenige Abschnitt der
Resistschicht für
rot, der dem Ausblendbereich entspricht, wird entfernt, da durch
diesen das belichtete Ultraviolettlicht ausgeblendet wird. Demgemäß wird ein
Unterfarbfilter 74 für
rot so ausgebildet, dass es der ersten Öffnung 70a entspricht.
Ränder
des Unterfarbfilters 74a für rot überlappen mit der Schwarzmatrix 72.
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Als
nächstes
werden, wie es durch die 2E veranschaulicht
ist, Unterfarbfilter 74b und 74c für grün und für blau sequenziell
dadurch hergestellt, dass Resists für grün und für blau in der zweiten und der
dritten Öffnung 70b und 70c unter
Verwendung desselben Prozesses wie für das Unterfarbfilter 74a für rot aufgetragen
und strukturiert werden. Die Unterfarbfilter 74a, 74b und 74c für rot, für grün und für blau bilden
eine Farbfilterschicht 74.
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Wie
es durch die 2F veranschaulicht ist, wird
eine Überzugsschicht 76 dadurch
hergestellt, dass auf der Farbfilterschicht 74 eine Isolierschicht aus
einem organischen Material abgeschieden wird. Da dort eine Stufe
auftritt, wo die Farbfilterschicht 74 mit der Schwarzmatrix 72 überlappt,
wird die Überzugsschicht 76 hergestellt,
um für
die später
herzustellende gemeinsame Elektrode 78 eine ebene Oberfläche zu schaffen.
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Wie
es in der 2G veranschaulicht ist, wird
die gemeinsame Elektrode 78 dadurch hergestellt, dass ein
transparentes, leitendes Material, wie Indiumzinnoxid (ITO) oder
Indiumzinkoxid (IZO) auf der Überzugsschicht 76 abgeschieden
wird.
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Die
Schwarzmatrix 72 gemäß der einschlägigen Technik
wird durch einen Fotolithografieprozess unter Verwendung einer Maske
hergestellt, was die Prozesszeit und die Kosten erhöht. Wenn
die Schwarzmatrix 72 und die Farbfilterschicht 74 auf demselben
Substrat 60 hergestellt werden, wie oben erläutert, sind
mindestens vier Maskenprozesse erforderlich, um sie, einschließlich der
Unterfarbfilter 74a, 74b und 74c für rot, für grün und für blau,
herzustellen, was die Dauer und die Komplexität des Herstellprozesses erhöht, wodurch
die Produktivität
verringert ist. Ferner nehmen die Herstellkosten zu, wenn die Anzahl
der Maskenprozesse zunimmt, da bei jedem Maskenprozess relativ hohe
Kosten entstehen.
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Um
die Stufe an den Unterfarbfiltern für rot, für grün und für blau zu entfernen, sollte
die Überzugsschicht
so hergestellt werden, dass sie für die folgende Herstellung
der gemeinsamen Elektrode für eine
ebene Oberfläche
sorgt. Da diese einebnende Überzugsschicht
erforderlich ist, ist die Produktivität verringert. Ferner ist es
möglich,
dass das Schwarzmatrixmaterial im Pixelbereich nach dem Herstellen der
Schwarzmatrix nicht vollständig
vom transparenten Substrat entfernt wird, wodurch ein Schwarzdefekt
auftreten kann, durch den die Herstellausbeute verringert wird.
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Der
Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Flüssigkristalldisplay, ein Substrat
für ein
solches sowie ein Verfahren zum Herstellen des Substrats zu schaffen,
bei denen Lichtlecks zuverlässig
verhindert sind.
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Diese
Aufgabe ist durch die Verfahren gemäß den beigefügten unabhängigen Ansprüchen 1 und
7, das Substrat gemäß dem Anspruch
13 und die Flüssigkristalldisplays
gemäß den unabhängigen Ansprüchen 18
und 19 gelöst.
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Durch
das erfindungsgemäße Verfahren kann
die Anzahl der Maskenprozesse verringert werden, was die Herstellkosten
senkt und die Ausbeute erhöht.
Die Ausbeute wird ferner dadurch erhöht, dass Schwarzdefekte besser
verhindert werden können.
Bei der Erfindung wird eine Lichtausblendeinrichtung verwendet,
die keine durch einen Fotolithografieprozess hergestellte Schwarzmatrix
ist.
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Die
Erfindung wird nachfolgend anhand von durch Figuren veranschaulichten
Ausführungsformen
näher erläutert.
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1 ist
eine schematische perspektivische Ansicht eines Flüssigkristalldisplays
mit aktiver Matrix gemäß einer
einschlägigen
Technik;
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2A bis 2G sind
schematische Schnittansichten zum Veranschaulichen eines Verfahrens
zum Herstellen eines Farbfiltersubstrats gemäß einer einschlägigen Technik;
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3A bis 3D sind
schematische Schnittansichten zum Veranschaulichen eines Verfahrens
zum Herstellen eines Farbfiltersubstrats gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung;
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4A bis 4D sind
schematische Schnittansichten zum Veranschaulichen eines Verfahrens
zum Herstellen eines Farbfiltersubstrats gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung;
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5 ist
eine schematische Schnittansicht eines Flüssigkristalldisplays gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung; und
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6 ist
eine schematische Schnittansicht eines Flüssigkristalldisplays vom Typ
mit Farbfilter auf einem Dünnschichttransistor
(COT = color filter an thin film transistor) gemäß einer Ausführungsform der
Erfindung.
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Bei
der Erfindung wird ein Laserstrahl auf einen Abschnitt eines transparenten
Substrats oder einen Abschnitt einer Harzmaterialschicht mit Ruß gestrahlt,
um diesen Abschnitt zu schwärzen,
so dass er als Schwarzmatrix verwendbar ist. Beispielsweise wird
als Laser ein YAG:Nd(mit Neodym dotierter Yttriumaluminiumgranat)-Laser
verwendet, bei dem es sich um einen Infrarotlaser handelt, der einen
Laserstrahl mit einer Wellenlänge
von ungefähr
1064 nm erzeugt. Diese Strahlung rührt von Nd3+-Ionen
her. Dieser Laser zeigt ein hohes Verstärkungsverhältnis sowie gute mechanische
und Temperatureigenschaften.
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Es
wird ein YAG:Nd-Laser mit einer Leistung von ungefähr 30 W
bei ungefähr
200 W verwendet, dessen Kopf mit einer Verstellgeschwindigkeit von ungefähr 7000
mm/s bis ungefähr
12.000 mm/s in Bezug auf den Tisch verstellt wird. D.h., dass die
Verstellgeschwindigkeit die Geschwindigkeit des Laserstrahls oder
die Tischgeschwindigkeit ist. Bei einem CW-Laser (kontinuierlich
strahlender Laser) hängt die
Zeit, während
der Laserstrahl auf einen speziellen Abschnitt gestrahlt wird, von
der Verstellgeschwindigkeit ab, so dass die Energieintensität durch
die Verstellgeschwindigkeit des Laserkopfs bestimmt ist.
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Eine
Lichtausblendeinrichtung bei der Erfindung wirkt als Schwarzmatrix,
die dadurch erzeugt wird, dass ein Laserstrahl, beispielsweise vom
genannten YAG:Nd-Laser, mit einer geeigneten Verstellgeschwindigkeit
auf denjenigen Abschnitt des transparenten Substrats, der geschwärzt werden soll,
oder denjenigen Teil einer Harzschicht gestrahlt, die in Ruß umgewandelt
werden soll.
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Anhand
der 3A bis 3D wird
nun ein Verfahren zum Herstellen eines Farbfiltersubstrats gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung erläutert.
Wie es aus der 3A erkennbar ist, werden ein transparentes
Substrat 101 und ein Laser (nicht dargestellt) bereitgestellt.
Das Substrat 101 enthält
Zäsium
(Cs), Aluminium (Al), Rubidium (Rb) und/oder Natrium (Na), und der
Laser ist ein YAG:Nd-Laser mit einer Wellenlänge von ungefähr 1064
nm.
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In
diesem Stadium hält
der Laserkopf 191 des Lasers einen Abstand DD1 von ungefähr 10 bis 20
mm gegen das Substrat 101 ein, und er wird mit einer Verstellgeschwindigkeit
in Bezug auf einen Tisch (nicht dargestellt) des Lasers von ungefähr 7000
bis ungefähr
10.000 mm/s verstellt. Unter diesen Bedingungen wird die Oberfläche des
Substrats 101 mit dem Laserstrahl bestrahlt, der eine Leistung von
ungefähr
100 bis 200 W aufweist.
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Der
Tisch kann über
ein Kühlsystem
(nicht dargestellt) verfügen,
das das transparente Substrat 101 geeignet kühlt, um
zu verhindern, dass es sich während
des Bestrahlungsschritts durch zuviel Wärme verformt. D.h., dass das
Substrat 101 durch das Kühlsystem so gekühlt werden
kann, dass es sich durch viel Wärme
oder lokale Erhitzung nicht verformt.
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Zum
Prozess gehört
es, das Substrat 101 so am Tisch des Lasers anzubringen,
dass der Laserkopf 191 mit einer vorbestimmten Höhe über ihm
angeordnet ist. Dann wird der Laserkopf 191 entlang der
Oberfläche
des Substrats 101 vor- und zurückbewegt, um einen Lichtausblendbereich
LS auszubilden, der im wesentlichen dem Be reich der Schwarzmatrix 72 (siehe
die 2C) bei der einschlägigen Technik entspricht. Beispielsweise
wird eine erste Breite W1 des Laserstrahls 193 so eingestellt,
dass sie im Bereich von ungefähr
5 μm bis
zu einigen mm liegt. Danach wird sie auf ungefähr 5 bis 20 μm eingestellt,
und der kontrollierte Laserstrahl 193 wird auf das Substrat 101 gestrahlt,
wobei der bestrahlte Abschnitt zum Lichtausblendbereich LS wird,
der über eine
zweite Breite W2 von ungefähr
5 bis 20 μm
verfügt.
Der Lichtausblendbereich LS ist ein auf schwarze Farbe verfärbter Bereich.
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So
wird das transparente Substrat 101 mit Cs, Al, Rb und/oder
Na dadurch abschnittsweise vom transparenten in den schwarzen Zustand
gebracht, dass Energie von Photonen einer vorbestimmten Wellenlänge (hier
1064 nm) bei einer vorbestimmten Laserleistung absorbiert werden.
Das Glas des transparenten Substrats 101 verfügt über viele
nicht kombinierte Paare. Jedoch können Cs, Al, Rb und Na mit Silicium
(Si) im Glas Elektron-Loch-Paare bilden, wenn Laserenergie absorbiert
wird. Dadurch wird das zunächst
transparente Substrat 101 in den bestrahlten Bereichen
verfärbt,
wobei hierfür
eine kurze Bestrahlungszeit ausreicht.
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Typischerweise
ist die Breite eines Lichtausblendbereichs LS aufgrund der Auflösung des
Laserstrahls 193 größer als
die erste Breite W1 desselben. Beispielsweise beträgt der Unterschied
zwischen der zweiten Breite W2 des Lichtausblendbereichs LS und der
ersten Breite W1 des Laserstrahls 193 ungefähr 1 bis
2 μm. Das
transparente Substrat 101 verfügt über einen ersten bis dritten
Lichttransmissionsbereich LT1, LT2 und LT3, die vom Lichtausblendbereich
LS umschlossen sind.
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Der
Lichtausblendbereich LS wird dadurch ausgebildet, dass ein Abschnitt
des transparenten Substrats 101 auf die schwarze Farbe
verfärbt
wird, wobei dieser Bereich eine erste Dicke T1 aufweist, die ein
Fünftel
bis ein Drittel einer zweiten Dicke TT2 des Substrats 101 beträgt. Hierbei
kann die erste Dicke TT1 des Lichtausblendbereichs LS durch Kontrollieren
der Leistung des Laserstrahls geeignet kontrolliert werden.
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Wenn
beispielsweise die Verstellgeschwindigkeit des Laserstrahls 193 ungefähr 10.000
mm/s beträgt
und die erste Breite W1 desselben ungefähr 10 μm beträgt, wird er mit einem Intervall
von ungefähr
100 auf ungefähr
200 μm entlang
Richtungen horizontal und orthogonal zum transparenten Substrat 101 mit
einer Größe von ungefähr 1 m × 1 m unter Verwendung
eines Laserkopfs 191 aufgestrahlt. Hierzu ist eine Bestrahlungszeit
von ungefähr
23 bis ungefähr
25 Min. erforderlich. Wenn alternativ vier oder sechs Laserköpfe verwendet
werden und das Substrat 101 in mehrere Bereiche unterteilt
wird, beträgt die
Bestrahlungszeit ungefähr
4 bis ungefähr
6 Min.
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Im
Vergleich zur einschlägigen
Technik kann die Verarbeitungszeit selbst dann ungefähr halbiert werden,
wenn für
eine Bewegung zwischen Prozessvorrichtungen Zeit benötigt wird.
Ferner sind die Materialkosten für
Entwickler, Ätzmittel
und Fotoresist, wie sie bei der bekannten Technik zum Herstellen
einer Schwarzmatrix anfallen, beseitigt.
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Der
als Schwarzmatrix verwendete Lichtausblendbereich LS verfügt über eine
flache Oberseite, da er dadurch ausgebildet wird, dass eine gewisse Dicke
des transparenten Substrats 101 verfärbt wird, ohne dass die Dicke
desselben als solche verändert würde. Daher
verursacht der Lichtausblendbereich LS keine Stufe, wie dies die
Schwarzmatrix 72 (siehe die 2C) bei
der bekannten Technik tut. In der Draufsicht verfügt der Lichtausblendbereich
LS über Gitterform,
was jedoch nicht dargestellt ist.
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Gemäß der 3B wird
eine Resistschicht (nicht dargestellt) für rot dadurch hergestellt,
dass ein Resist für
rot auf das transparente Substrat 101 mit dem Lichtausblendbereich
LS aufgetragen wird. Die Resistschicht für rot wird unter Verwendung
ei ner Maske belichtet, die über
einen Transmissionsbereich (nicht dargestellt) und einen Ausblendbereich (nicht
dargestellt) verfügt,
und dann wird die belichtete Resistschicht für rot entwickelt, um im ersten
Lichttransmissionsbereich LT1 ein Unterfarbfilter 115a für rot auszubilden.
Ränder
dieses Unterfarbfilters 115a für rot überlappen mit dem Lichtausblendbereich
LS. Eine dritte Dicke TT3 des Unterfarbfilters 115a für rot über den
ersten Lichttransmissionsbereich LT3 und den Lichtausblendbereich
LS hinweg ist im wesentlichen konstant, da der Lichtausblendbereich
LS und der erste bis dritte Lichttransmissionsbereich LT1, LT2 und
LT3 über
dieselbe ebene Oberfläche
verfügen.
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Wie
es aus der 3C erkennbar ist, wird ein Unterfarbfilter 115c für grün dadurch
hergestellt, dass ein Resist für
grün im
zweiten Lichttransmissionsbereich LT2 auf das transparente Substrat 101 aufgetragen
wird. Ränder
des Unterfarbfilters 115b für grün überlappen mit dem Lichtausblendbereich LS,
und sie verfügen
im wesentlichen über
dieselbe Dicke wie das Unterfarbfilter 115a für rot. Als
nächstes
wird ein Unterfarbfilter 115c für blau dadurch hergestellt,
dass ein Resist für
blau im dritten Lichttransmissionsbereich LT3 auf das transparente
Substrat 101 aufgetragen wird. Das Unterfarbfilter 115c für blau verfügt über dieselbe
Dicke wie die Unterfarbfilter 115a und 115b für rot und
für grün.
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Das
Farbfiltersubstrat gemäß dieser
Ausführungsform
der Erfindung verfügt über die
folgenden Merkmale: i) der als Schwarzmatrix wirkende Lichtausblendbereich
LS und der erste bis dritte Lichttransmissionsbereich LT1 bis LT3
verfügen über eine
ebene Oberfläche;
und ii) die Unterfarbfilter 115a, 115b und 115c für rot, für grün und für blau verfügen über jeweils
dieselbe Dicke. Aufgrund dieser Merkmale zeigt dieses Farbfiltersubstrat
nirgendwo eine wesentliche Stufe. So ist eine Überzugsschicht überflüssig. Die
Unterfarbfilter 115a, 115b und 115c für rot, für grün und für blau bilden
eine Farbfilterschicht 115.
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Wie
es aus der 3D ersichtlich ist, wird eine
gemeinsame Elektrode 120 dadurch hergestellt, dass ein
transparentes leitendes Material, wie Indiumzinnoxid (ITO) oder
Indiumzinkoxid (IZO) auf der Farbfilterschicht 115 abgeschieden
wird. In diesem Schritt erhält
die gemeinsame Elektrode 120 eine im wesentlichen ebene
Oberfläche,
da die Oberfläche der
Farbfilterschicht 115, auf der sie hergestellt wird, im
wesentlichen flach ist und keine wesentliche Stufe zum Substrat 101 zeigt.
Alternativ kann auf der gemeinsamen Elektrode 120 über dem
Lichtausblendbereich LS ein strukturierter Abstandshalter (nicht dargestellt)
ausgebildet werden, beispielsweise durch Auftragen und Strukturieren
von Benzocyclobuten (BCB), Fotoacryl, Cytop oder Perfluorcyclobuten
(PFCB).
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Wie
oben erläutert,
verfügt
das Farbfiltersubstrat gemäß der beschriebenen
Ausführungsform über einen Lichtausblendbereich, der dadurch hergestellt
wurde, dass ein Laserstrahl in einen Abschnitt des transparenten
Substrats gestrahlt wurde, um diesen Abschnitt zu verfärben.
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Im
Vergleich zu dieser durch die 3A–3D veranschaulichten
Ausführungsform
verfügt
das Farbfiltersubstrat gemäß der folgenden
Ausführungsform über eine
Harzschicht (nicht dargestellt), die mit einem Laserstrahl mit niedrigerer Leistung
als der bei der vorigen Ausführungsform
bearbeitet wird und nach der Bearbeitung als Schwarzmatrix wirkt.
Aufgrund der niedrigen Leistung des Laserstrahls ist es unwahrscheinlich,
dass bei der Bearbeitung eine Verformung des transparenten Substrats
auftritt.
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Anhand
der 4A bis 4D wird
nun ein Verfahren zum Herstellen eines Farbfiltersubstrats gemäß dieser
zweiten Ausführungsform
der Erfindung erläutert.
Wie es durch die 4A veranschaulicht ist, wird
eine Harzschicht 205 durch Auftragen eines Harzmaterials
auf ein Substrat 201 hergestellt. Die Harzschicht 205 kann
beispielsweise mit einer Dicke von ungefähr 300 nm bis 1 μm ausgebildet werden.
Das transparente Substrat 201 ist ein Glas, das Cs, Al,
Rb und/oder Na enthält.
Das Harzmaterial ist bei der Ausführungsform ein Harzgemisch
mit einem Carbonatpolymer und einem Polyesterharz, und als schwarz
färbende
Verbindung ist beispielsweise Ruß oder ein Fettsäuremetallsalz
enthalten.
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Als
nächstes
wird ein YAG:Nd-Laser (nicht dargestellt) mit einem Laserkopf 291 so
angebracht, dass dieser Kopf mit einem Abstand DD2 von ungefähr 20 mm über der
Harzschicht 205 positioniert ist. Dann wird ein Laserstrahl
auf die Harzschicht 205 gestrahlt, während der Laserkopf 291 mit
einer Verstellgeschwindigkeit von ungefähr 10.000 bis ungefähr 12.000
mm/s vor- und zurückbewegt
wird. Der Laser verfügt über eine
Frequenz von ungefähr
60 Hz, und der Laserkopf 291 strahlt mit einer Leistung
von ungefähr
30 bis ungefähr
100 W; die Wellenlänge
beträgt
ungefähr
1064 nm. Die Wärmeerzeugung
durch diesen Laserstrahl ist kleiner als die bei der vorigen Ausführungsform,
da ja nun die Leistung geringer ist.
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Als
nächstes
wird ein nicht bestrahlter Bereich der Harzschicht 205 entfernt,
was beispielsweise dadurch erfolgt, dass das Substrat 201 mit
der Harzschicht 205 in eine IPA(Isopropylalkohol)-Lösung oder
einen anderen Alkohol getaucht wird.
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Die
Harzschicht 205 beinhaltet einen Lichtausblendbereich LSR,
der auf schwarze Farbe verfärbt
ist. Nach dem genannten Schritt zum teilweisen Entfernen der Harzschicht 205 ist
der bestrahlte Bereich derselben verblieben, und er bildet eine Lichtausblendschicht 210,
die in der Draufsicht gitterförmig
ist, was jedoch nicht dargestellt ist. Die anderen Bereiche, in
denen die Harzschicht 205 entfernt ist, bilden eine erste
bis dritte Öffnung 215a, 215b und 215c in
der Lichtausblendschicht 210.
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Dabei
ist die Dicke der Harzschicht 205 viel geringer als die
einer herkömmlichen
Schwarzmatrix aus Chrom (Cr) oder einem schwarzen Harz gemäß der einschlägigen Technik.
Beispielsweise beträgt die
Dicke der Harzschicht 205 ungefähr 300 nm bis ungefähr 1 μm. Daher
beeinflusst die Stufe an der Lichtausblendschicht 210 auf
dem Substrat 201 die Stufe an einem Farbfilter und einer
gemeinsamen Elektrode, die später
hergestellt werden, nicht.
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Anders
gesagt, zeigen bei einem Flüssigkristalldisplay
mit kleinem Zellenzwischenraum, wenn die Stufe der Schwarzmatrix
gemäß der einschlägigen Technik üblicherweise
einen großen
Wert zeigt, die Differenz zwischen einer ersten Höhe der Farbfilterschicht
in Überlappung
mit der Schwarzmatrix und eine zweite Höhe der Farbfilterschicht ohne Überlappung
mit der Schwarzmatrix denselben großen Wert. Daher kann die Differenz
die Stufe an der gemeinsamen Elektrode beeinflussen, so dass diese
mit der Pixelelektrode am anderen Substrat kurzschließen kann.
Die genannten Flüssigkristalldisplays
mit kleinem Zellenzwischenraum werden wegen des Vorteils ihrer kompakten
Größe mit Nachdruck
entwickelt. Daher sollte für
diesen Typ kein Problem mit einer Stufe an der Schwarzmatrix vorliegen.
Dieses Problem ist durch die Lichtausblendschicht 210 bei
der eben beschriebenen Ausführungsform
der Erfindung gelöst,
wobei gleichzeitig die Prozesszeit verkürzt ist und die Kosten gesenkt
sind.
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Die
Lichtausblendschicht 210 gemäß der Ausführungsform kann unter Verwendung
eines Laserstrahls mit kleinerer Leistung als der des Laserstrahls
bei der vorigen Ausführungsform
erhalten werden, da die Harzschicht 205 Ruß enthält. Daher kann
sie unter Verwendung eines Laserstrahls mit kleiner Leistung leicht
verfärbt
werden, wobei nur wenig Wärme
im Substrat aus Glas erzeugt wird.
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Gemäß der 4B wird
ein Unterfarbfilter für
rot (nicht dargestellt) dadurch hergestellt, dass ein Resist für rot auf
die Lichtausblendschicht 210 aufgetragen wird, derselbe
unter Verwendung einer Maske (nicht dargestellt) mit einem Transmissionsbereich (nicht
dargestellt) und einem Ausblendbereich (nicht dargestellt) belichtet
wird und der belichtete Abschnitt entwickelt wird. Durch diesen
Schritt wird das Unterfarbfilter 220a für rot in den ersten Öffnungen 215a angeordnet,
wobei Ränder
desselben mit der Lichtausblendschicht 210 überlappen.
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Als
nächstes
wird, gemäß der 4C,
ein Resist für
grün auf
das Unterfarbfilter 220a für rot aufgetragen und zu einem
Unterfarbfilter 220b für
grün strukturiert,
das in den zweiten Öffnungen 215b vorliegt.
Anschließend
wird ein Unterfarbfilter 220b für blau mit demselben Prozess
wie das Unterfarbfilter 220a für rot oder das Unterfarbfilter 220b für grün in den
dritten Öffnungen 215c hergestellt.
Hierbei überlappen, ähnlich wie
beim Unterfarbfilter 220a für rot, Ränder des Unterfarbfilters 220b für blau sowie
Ränder
des Unterfarbfilters 220b für grün jeweils mit der Lichtausblendschicht.
Die genannten Unterfarbfilter verfügen alle über dieselbe Dicke und sie
bilden eine Farbfilterschicht 220.
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Gemäß der 4D wird
eine gemeinsame Elektrode 225 dadurch hergestellt, dass
ein transparentes, leitendes Material, wie Indiumzinnoxid (ITO) oder
Indiumzinkoxid (IZO), auf der Farbfilterschicht 220 abgeschieden
wird.
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Bei
diesem Schritt wird die gemeinsame Elektrode 225 im wesentlichen
flach ausgebildet, d.h., sie zeigt keine wesentliche Stufe zum Substrat 201.
Demgemäß ist eine Überzugsschicht
zwischen der Farbfilterschicht 220 und der gemeinsamen
Elektrode 225 überflüssig.
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Ferner
kann auf der gemeinsamen Elektrode 225 über der Lichtausblendschicht 210 ein
strukturierter Abstandshalter (nicht dargestellt) beispielsweise
dadurch ausgebildet werden, dass Benzocyclobuten (BCB), Fotoacryl,
Cytop oder Perfluorcyclobuten (PFCB) auf sie aufgetragen und strukturiert
wird.
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Das
in der 5 im Schnitt dargestellte Flüssigkristalldisplay verfügt über ein
Arraysubstrat 300 und ein Farbfiltersubstrat 400,
die einander zugewandt sind und zwischen denen eine Schicht aus Flüssigkristallmolekülen 350 angeordnet
ist. Das Arraysubstrat 300 besteht aus einem ersten transparenten
Substrat 302, einem Dünnschichttransistor
T mit einer Gateelektrode, einer Halbleiterschicht, einer Sourceelektrode
und einer Drainelektrode an der Innenseite des ersten transparenten
Substrats 302 sowie eine mit dem Dünnschichttransistor T verbundene
Pixelelektrode 318. Genauer gesagt, wird die Gateelektrode 304 auf
dem ersten transparenten Substrat 302 hergestellt, auf
ihr wird eine Gateisolierschicht 306 hergestellt, auf der
wiederum die Halbleiterschicht 308 hergestellt wird, und
die Sourceelektrode 310 und die von ihr beabstandete Drainelektrode 312 werden
auf der Halbleiterschicht 308 ausgebildet. Ferner wird
eine Datenleitung 314 mit der Sourceelektrode 310 verbunden,
wobei diese sich im wesentlichen von der Datenleitung 314 aus
erstreckt. Auf der Source- und der Drainelektrode 310 und 312 wird
eine Passivierungsschicht 316 mit einem Drainkontaktloch 318,
das einen Teil der Drainelektrode 312 freilegt, ausgebildet.
Die Pixelelektrode 320 wird auf der Passivierungsschicht 316 hergestellt
und durch das Drainkontaktloch 318 mit der Drainelektrode 312 verbunden.
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Das
Farbfiltersubstrat 400 verfügt über ein zweites transparentes
Substrat 402 mit einem Lichtausblendbereich LS, eine Farbfilterschicht 406 mit
Unterfarbfiltern 406a (nicht dargestellt) bis 406c für rot, für grün und für blau im
ersten bis dritten Lichttransmissionsbereich LT1 (nicht dargestellt)
bis LT3, und eine gemeinsame Elektrode 408 auf der Farbfilterschicht 406.
Die Pixelelektrode 320 ist so ausgebildet, dass sie den
genannten Unterfarbfiltern entspricht. Ferner wird zwischen dem
Arraysubstrat 300 und dem Farbfiltersubstrat 400 ein
strukturierter Abstandshalter 360 angeordnet, der dem Lichtausblendbereich
LS entspricht. Es ist zwar nicht dargestellt, jedoch werden ein
erster und ein zweiter Orientierungsfilm (nicht dargestellt) an
den Innenflächen des
Arraysubstrats 300 bzw. des Farbfiltersubstrats 400 ausgebildet,
die mit dem strukturierten Abstandshalter 360 in Kontakt
stehen. Alternativ kann der strukturierte Abstandshalter 360 bei
einem Flüssigkristalldisplay
angewandt werden, das über
das Farbfiltersubstrat 400 verfügt, auf dem die Lichtausblendschicht 210 (der 4D)
aus einem Harzmaterial mit Ruß ausgebildet
ist.
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Anhand
der 6 wird nun ein Flüssigkristalldisplay vom Typ
mit einem Farbfilter auf einem Dünnschichttransistor
(COT) gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung erläutert.
Wie es aus der 6 erkennbar ist, sind ein erstes
und ein zweites Substrat 500 und 600 einander
zugewandt, und zwischen ihnen befindet sich eine Flüssigkristallschicht. Das
erste Substrat 500 verfügt über einen
Dünnschichttransistor
T mit einer Gateelektrode 502, einem Halbleiter 506 sowie
einer Source- und einer Drainelektrode 508 und 510.
Ferner ist eine Datenleitung 512 vorhanden, die mit der
Sourceelektrode 508 verbunden ist. Auf dem Dünnschichttransistor
T ist eine erste Passivierungsschicht 514 ausgebildet,
auf der wiederum eine Farbfilterschicht 516 ausgebildet ist,
auf der sich eine zweite Passivierungsschicht 518 befindet.
Dabei enthält
die Farbfilterschicht 516 Unterfarbfilter 516a, 516b für rot und
für grün sowie
für blau
(nicht dargestellt). Von den Letzteren sind das Unterfarbfilter 516b für grün und das
zu diesem benachbarte Unterfarbfilter 516a für rot dargestellt.
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Die
erste Passivierungsschicht 514, die Farbfilterschicht 516 und
die zweite Passivierungsschicht 518 verfügen gemeinsam über ein
Drainkontaktloch 520, das einen Teil der Drainelektrode 510 freilegt.
Auf der zweiten Passivierungsschicht 518 ist eine Pixelelektrode 522 ausgebildet,
die durch das Drainkontaktloch 520 hindurch mit der Drainelektrode 510 verbunden
ist.
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An
der Innenseite des zweiten Substrats 600 ist ein Lichtausblendbereich
LS vorhanden, der dem Dünnschichttransistor
T und der Datenleitung 512 entspricht. Wie es anhand der 3A bis 3D erläutert wurde,
ist der Lichtausblendbereich LS ein Bereich, der durch ein Einstrahlen
eines Laserstrahls auf die Farbe Schwarz verfärbt wurde.
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An
der Innenfläche
des zweiten Substrats 600 mit dem Lichtausblendbereich
LS ist eine gemeinsame Elektrode 602 ausgebildet. Die Flüssigkristallschicht 550 ist
im wesentlichen zwischen der Pixelelektrode 522 und der
gemeinsamen Elektrode 602 angeordnet. Die Dicke der Flüssigkristallschicht 550 entspricht
einem Zellenzwischenraum CG, und zwischen der Pixelelektrode 522 und
der gemeinsamen Elektrode 602 ist ein strukturierter Abstandshalter 560 so
ausgebildet, dass er dem Lichtausblendbereich LS und der Datenleitung 512 entspricht.
In der 6 ist der strukturierte Abstandshalter 560 im Zellenzwischenraum
zwischen dem Unterfarbfilter 516a für rot und dem Unterfarbfilter 516b für grün angeordnet,
jedoch kann die Position desselben abhängig von der Position des Lichtausblendbereichs
LS variieren.
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Wie
oben erläutert,
können
die Prozesszeit und die Kosten für
eine Schwarzmatrix wesentlich gesenkt werden, wenn der Lichtausblendbereich oder
die Lichtausblendschicht gemäß der Erfindung bei
einem LCD vom COT-Typ angewandt wird. Diese können jedoch beispielsweise
auch bei einem LCD vom Typ mit einem Dünnschichttransistor auf einer Farbfilterschicht
(TOC = Thin Film Transistor an Color Filter) angewandt werden.
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Gemäß der Erfindung
kann ein Substrat für ein
Flüssigkristalldisplay
ein Auslecken von Licht unter Verwendung einer Lichtaus blendeinrichtung
verhindern, die mittels eines Laserstrahls erzeugt wird, ohne dass
eine Schwarzmatrix durch Fotolithografie herzustellen wäre, wodurch
die Prozesszeit verkürzt wird,
die Kosten gesenkt werden und die Prozessausbeute verbessert wird.
Ferner zeigt die Lichtausblendeinrichtung im wesentlichen keine
Stufe, wenn sie und die Farbfilterschicht auf demselben Substrat hergestellt
werden. Daher kann eine zusätzliche Überzugsschicht
weggelassen werden, wodurch die Prozesszeit verkürzt wird und Kosten hinsichtlich
der Überzugsschicht
wegfallen. Ferner können,
da die Lichtausblendeinrichtung dadurch ausgebildet wird, dass ein
gewünschter
Bereich selektiv auf die Farbe Schwarz verfärbt wird, die anderen Bereiche
als Lichttransmissionsbereich definiert werden. Daher kann ein Schwarzdefekt
gemäß der einschlägigen Technik
verhindert werden, was die Herstellausbeute weiter verbessert.