CN112601835A - 用于柔性覆盖透镜的多层湿法-干法硬涂层 - Google Patents
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Abstract
本文描述的实现方式一般涉及柔性显示装置,并且更具体地涉及柔性覆盖透镜膜。柔性覆盖透镜膜具有改善的强度、弹性、光透射率和耐磨性质,并且含有设置在基板层上的多层硬涂层。基板层具有2μm至100μm的厚度并且多层硬涂层具有1μm至30μm的厚度。多层硬涂层含有使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层和一个或多个粘合促进层。对于光学性质来说,多层硬涂层具有大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<l的黄度指数。通过组合湿法和干法沉积工艺以形成多层硬涂层,覆盖透镜膜既是柔性的又是坚固的,其中硬度在4H与9H之间。
Description
技术领域
本文描述的实现方式一般涉及柔性显示装置,并且更具体地涉及柔性覆盖透镜。
背景技术
电子装置通常具有显示器,诸如液晶显示器和有机发光二极管显示器。这种显示器可能易碎并且对湿气、压力或颗粒污染敏感。一般来说,显示装置使用数层光学装置来对来自照明源的光进行彩色化、偏振和遮光。为了防止损坏下面的膜,将刚性显示器覆盖透镜层安装在其他层上方以防止损坏下面的层。包含刚性显示器覆盖透镜会给电子装置增加不期望的重量。可以省去覆盖透镜以减小装置的尺寸和重量,但是省去覆盖透镜可以使显示器易受到刮擦损坏。
目前,对产品的新功能和开发新的和广泛的应用的不断增长的需求要求更薄和更轻的具有诸如柔性之类的新性质的透镜基板。广泛地,对于这些新的柔性或可折叠显示器,覆盖透镜需要三个主要特性:1)光学性能,2)高硬度,3)柔性。具有高光学性能的覆盖透镜确保具有极小雾度的光的高透射率。高硬度涉及耐刮擦性和耐磨性。覆盖镜片的柔性是在于具有足够高的临界应变方面,当反复弯曲和折叠时,避免由于开裂或分层而导致的失效。
传统上,尽管由玻璃制成的覆盖透镜在解决前两个特性(即光学性能和硬度)方面是优异的,但是由于玻璃的脆性,它们在第三特性方面、即在柔性方面是较差的。为了改善这一点,先前已经做出大量努力来增加玻璃失效时的临界应变,这主要是通过减小玻璃的厚度或材料的化学改性来进行的。尽管如此,已经发现玻璃作为覆盖透镜的材料不足以解决所寻求的曲率半径柔性。存在具有高硬度和柔性的其他材料,诸如各种金属,但是所述材料缺乏在使光通过方面所需的光学性能。或者,存在具有高透明度、光学性质和柔性的材料,但是所述材料具有不良的耐磨性或耐刮擦性,诸如基于聚合物的膜。
因此,需要一种具有高硬度、光透射率、弹性和耐磨性质的柔性覆盖透镜。
发明内容
本文描述的实现方式一般涉及柔性显示装置,并且更具体地涉及柔性覆盖透镜膜。柔性覆盖透镜膜具有改善的强度、弹性、光透射率和耐磨性质。柔性覆盖透镜膜包含设置在基板层上的多层硬涂层。基板层具有在2μm至100μm之间的厚度,并且多层硬涂层具有在1μm至10μm之间的厚度。多层硬涂层包含使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层和一个或多个粘合促进层。对于光学性质来说,多层硬涂层具有大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<l的黄度指数。通过组合湿法和干法沉积工艺以形成多层硬涂层,覆盖透镜膜既是柔性的又是坚固的,其中硬度在4H与9H之间。
在一个实现方式中,覆盖透镜膜包含厚度在2μm至100μm之间的基板层和设置在基板层上的多层硬涂层。多层硬涂层包含使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层和粘合促进层。多层硬涂层具有在1μm至30μm之间的厚度。多层硬涂层的总透射率大于88%,雾度为约1%或更小,并且黄度指数b*<1。
在另一个实现方式中,覆盖透镜膜包含厚度在2μm至100μm之间的基板层和设置在基板层上的多层硬涂层。多层硬涂层包含使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层、第一粘合促进层和第二粘合促进层。多层硬涂层具有在1μm至30μm之间的厚度。多层硬涂层具有大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<1的黄度指数。
在另一个实现方式中,一种形成覆盖透镜膜的方法包含在基板层上沉积多层硬涂层。多层硬涂层包含使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层和一个或多个粘合促进层。
附图说明
以上简要概述本公开内容的上述详述特征可以被详细理解的方式、以及对本公开内容的更特定描述,可通过参照实现方式来获得,一些实现方式在附图中示出。然而,应注意,附图仅绘示本公开内容的典型实现方式,因而不被认为是对本公开内容的范围的限制,因为本公开内容可允许其他等同有效的实现方式。
图1A至图1B图示根据本文描述的各种实施方式的显示装置的示意性横截面图。
图2A至图2E图示根据本文描述的各种实施方式的覆盖透镜膜的示意性横截面图。
图3图示根据本文公开的实施方式的由双堆叠的多层硬涂层组成的柔性覆盖透镜膜的示例性实施方式。
为了便于理解,尽可能地使用了相同附图标号以标示图中共通的相同元件。考虑到,一个实现方式的元件和特征在没有进一步描述下可有利地结合在其他实现方式中。
具体实施方式
本文描述的实现方式一般涉及柔性显示装置,且更具体地涉及柔性覆盖透镜膜。柔性覆盖透镜膜具有改善的强度、弹性、光透射率和耐磨性质。柔性覆盖透镜膜包含设置在基板层上的多层硬涂层。基板层具有在2μm至100μm之间的厚度,并且多层硬涂层具有在1μm至30μm之间的厚度。多层硬涂层包含使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层和一个或多个粘合促进层。就光学性质来说,多层硬涂层具有大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<1的黄度指数。通过组合湿法和干法沉积工艺以形成多层硬涂层,覆盖透镜膜既是柔性的又是坚固的,其中硬度在4H与9H之间。
图1A示出根据本文描述的一个实现方式的显示装置100的示意性截面图。图1B示出根据本文描述的另一实现方式的显示装置150的示意性截面图。图1A的显示装置100和图1B的显示装置150包含相同的层;然而,每个显示装置100、150的层是以不同的顺序。可以使用等离子体增强化学气相沉积、化学气相沉积、物理气相沉积、原子层沉积、光刻、蚀刻或其他此类合适的制造工艺来制造显示装置100、150。合适的制造装置可以从Santa Clara,CA的Applied Materials,Inc.购买。
显示装置100、150各自包括覆盖透镜膜102、膜层104、触摸面板106、显示结构108、基板110和屏蔽层112。可以将覆盖透镜膜102结合到可折叠玻璃基板(例如,超薄玻璃)。在图1A的实现方式中,膜层104在覆盖透镜膜102与触摸面板106之间。在一个实现方式中,膜层104是包括偏振膜的多功能膜层。膜层104、诸如偏振膜,用于减少由于构成显示装置100内的电极线或金属结构的反射金属引起的不想要的反射。膜层104可以包括由厚度小于0.2mm的柔性透镜膜形成的四分之一波延迟器或线性偏振器。可以使用光学透明结合剂(OCA)将覆盖透镜膜102结合到膜层104和触摸面板106。在一个实现方式中,OCA是用于将覆盖透镜膜102结合到触摸面板106的基于液体的结合剂。在另一实现方式中,OCA是用于将覆盖透镜膜102结合到触摸面板106的光学透明胶带。触摸面板106包括触摸传感器IC板114和触摸传感器116。在一个实现方式中,触摸传感器IC板114是柔性且金属基印刷电路板。
在图1A的实现方式中,显示结构108设置在触摸面板106与基板110之间。在一个实现方式中,显示结构108是有机发光二极管显示器。然而,本文涵盖利用覆盖透镜膜的其他适当显示装置,诸如发光二极管显示器或液晶显示器。显示结构108可以包括薄膜封装、有机发光层、驱动器IC板和薄膜晶体管。
或者,在图1B中,膜层104和触摸面板106可以层叠在显示结构108的顶部上,使得膜层104和触摸面板106设置在显示结构108与覆盖透镜膜102之间。在这样的实施方式中,覆盖透镜膜102提供耐磨性和冲击保护。
在一个实现方式中,基板110由聚酰亚胺材料制成。然而,可以利用任何柔性塑料基板。例如,基板可以是聚醚醚酮层、透明导电聚酯层、聚碳酸酯、或来自聚芳醚酮类的任何其他聚合物。在图1的实现方式中,基板110邻近屏蔽层112。在一个实现方式中,基板110是聚酯对苯二甲酸酯。在一个实施方式中,屏蔽层112是铜箔。可以在任何附加层之前、诸如在屏蔽层112之前邻近基板110沉积诸如粘合促进层的附加层。
图2A至图2E分别图示根据各种实施方式的柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250的示意性截面图。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250中的每一个可以是图1的覆盖透镜膜102。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250可以用于显示装置中,诸如图1A的显示装置100和/或图1B的显示装置150。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250中的每一个包含基板层202、一个或多个粘合促进层206、使用湿法沉积工艺沉积的第一层204和使用干法沉积工艺沉积的第二层208。湿法沉积工艺可以包括使用槽模涂布头、凹版涂布头、或辊对辊溶液处理***中的棒涂布头沉积包含溶剂和硬涂层化学品的溶液。随后,使用紫外辐射和/或热方法固化所沉积的溶液。
干法沉积工艺可以包括化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、原子层沉积(ALD)、物理气相沉积(PVD)、热蒸发、电子束蒸发等。干法沉积工艺可以任选地用等离子体增强,并且可以在片对片设备或辊对辊设备中处理。对于一些实现方式,干法沉积工艺可以在充分装备的片材处理设备中执行,在所述设备中,承载玻璃片装载有含第一层204的基板层202。对于实现方式,基板层202可以直接装载到承载玻璃片上或结合到减薄(slimmed)或超薄玻璃基板上,所述基板继而可以装载在载体上用于干法沉积处理。
在图2A的实施方式中,柔性覆盖透镜膜200包含使用湿法沉积工艺沉积在基板层202上的第一层204。在第一层204上沉积粘合促进层206。使用干法沉积工艺沉积的第二层208沉积在粘合促进层206上。第一层204、粘合促进层206和第二层208形成多层硬涂层212。在第二层208上沉积抗污层210。抗污层210可以是抗指纹层。可以使用干法沉积工艺或湿法沉积工艺来沉积抗污层210。
在图2B的实施方式中,柔性覆盖透镜膜220包含沉积在基板层202上的粘合促进层206。粘合促进层206可以使用干法真空沉积工艺或使用湿法沉积工艺来沉积,所述干法真空沉积工艺,诸如CVD、PECVD、ALD、PVD、热蒸发、电子束蒸发等。使用干法沉积工艺沉积的第二层208沉积在粘合促进层206上。使用湿法沉积工艺沉积的第一层204沉积在第二层208上。在一个实施方式中,第一层204包含抗污或抗指纹添加剂。在另一实施方式中,在第一层204上沉积抗污层(未示出),并且可以使用干法沉积工艺或湿法沉积工艺来沉积抗污层210。第一层204、粘合促进层206和第二层208形成多层硬涂层212。
在图2C的实施方式中,柔性覆盖透镜膜230包含沉积在基板层202上的粘合促进层206。使用湿法沉积工艺沉积的第一层204沉积在粘合促进层206上。使用干法沉积工艺沉积的第二层208沉积在第一层204上。第一层204、粘合促进层206和第二层208形成多层硬涂层212。在第二层208上沉积抗污层210。可以使用干法沉积工艺或湿法沉积工艺来沉积抗污层210。
在图2D的实施方式中,柔性覆盖透镜膜240包含沉积在基板层202上的第一粘合促进层206a。使用湿法沉积工艺沉积的第一层204沉积在第一粘合促进层206a上。在第一层204上沉积第二粘合促进层206b。使用干法沉积工艺沉积的第二层208沉积在第二粘合促进层206b上。第一粘合促进层206a、第一层204、第二粘合促进层206b和第二层208形成多层硬涂层212。在第二层208上沉积抗污层210。可以使用干法沉积工艺或湿法沉积工艺来沉积抗污层210。
在图2E的实施方式中,柔性覆盖透镜膜250包含沉积在基板层202上的第一粘合促进层206a。使用干法沉积工艺沉积的第二层208沉积在第一粘合促进层206a上。在第二层208上沉积第二粘合促进层206b。使用湿法沉积工艺沉积的第一层204沉积在第二粘合促进层206b上。在一个实施方式中,第一层204包含抗污添加剂。在另一实施方式中,在第一层204上沉积抗污层(未示出),并且可以使用干法沉积工艺或湿法沉积工艺来沉积抗污层210。第一粘合促进层206a、第二层208、第二粘合促进层206b和第一层204形成多层硬涂层212。
图2A至图2E的柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250具有在4H与9H之间的铅笔硬度、大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<1的黄度指数。在一个实施方式中,柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250具有9H的铅笔硬度、大于92%的总透射率和0.5%的雾度。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250在重复循环中具有柔性,以弯曲至多达1mm的内侧曲率半径或多达2mm的外侧曲率半径。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250具有耐刮擦性,如通过负载高达1kg的标准钢丝棉测试所测量的,并且能够承受大量循环,例如2000个循环。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250在钢丝棉磨损测试之后的雾度变化小于1%,表明柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250各自具有高耐磨性。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250具有耐磨性,如通过负载高达1kg的泰伯(Taber)耐磨性测试测量的,并且能够承受大量循环,例如100个循环。柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250在泰伯耐磨性测试之后的雾度变化小于2%。
在图2A至图2E中,可以使用辊对辊溶液处理方法来沉积第一层204。第二层208可以使用CVD、PVD、PECVD、或ALD来沉积。在一个实施方式中,可以使用CVD来沉积第二层208。多层硬涂层212可以具有1μm至30μm之间的厚度。在一个实施方式中,多层硬涂层212具有5μm至10μm的厚度。
在图2A至图2E中,第一层204可以包括选自由下列组成的群组的一种或多种材料:聚氨酯丙烯酸酯化学品、具有或不具有二氧化硅纳米粒子的溶胶凝胶-硅氧烷混合物、或它们的组合。混杂硅氧烷可以包含有机和无机成分(elements),包括金属烷氧化物。使用湿法沉积工艺沉积的第一层204可以进一步包括选自下列的一种或多种材料:可辐射固化的丙烯酸酯、脂族氨基甲酸酯丙烯酸酯、它们的共聚物、它们的弹性体和它们的组合。第一层204可以具有约0.5μm至约40μm之间的厚度。第一层204可以具有约1.430至约1.150的折射率、约85%至约98%的光透射率和约2H至约9H的铅笔硬度。第一层204可以具有约0.5GPa至约1.5GPa的纳米压痕硬度或如通过纳米压痕测量的约5GPa至约13GPa的弹性模量范围。
用于沉积第一层204的湿法沉积工艺可以包含使用各种迈耶棒(Mayer rod)施加化学溶液、在非活性对流烘箱中在75℃与85℃之间加热达100秒与140秒之间和用UV灯以300mJ/cm2与500mJ/cm2之间照射达100秒与140秒之间。湿法沉积工艺的溶液可以通过棒、槽模涂布、凹版涂布或浇铸在离子气氛中处理。在一个实现方式中,使用紫外辐射固化湿法沉积工艺的沉积溶液。在另一实现方式中,使用电子束处理固化湿法沉积工艺的沉积溶液。
第二层208可以包括选自由下列组成的群组的一种或多种材料:硅的氧化物和氮化物、氧碳化硅(SiCxOy)、氧氮化硅和碳化硅(SiC)。第二层208可以具有约0.05μm至约30μm之间的厚度。用于干法沉积工艺的前驱物可以包括具有碳的有机聚合物前驱物(液体或气体),诸如六甲基二硅氧烷(HMDSO)、等离子体聚合的HMDSO(ppHMDSO)、四甲基环四硅氧烷(TOMCAT)、六甲基二硅氮烷(HMDSN)、或原硅酸四乙酯(TEOS)中的一种或多种。用于干法沉积工艺的前驱物可以进一步包括溅射各种二氧化硅或石英以沉积硅的各种碳混合氧化物或氮化物或不存在碳的前驱物,诸如硅烷(SiH4)。
第二层208可以具有约1.450至约1.150的折射率、约85%至约98%的光透射率和约2H至约9H的铅笔硬度。第二层208可以具有约1GPa至约8GPa的纳米压痕硬度或如通过纳米压痕测量的约5GPa至约70GPa的弹性模量范围。第二层208可以具有由氧化剂或引发剂与前驱物的比率和/或交联剂控制的高硬度,所述前驱物诸如为氧气(O2)、一氧化二氮(N2O)、叔丁基过氧化物(TBPO)、或丙烯酸酯单体,特别是丙烯酸乙基己酯,所述交联剂诸如丁二醇二丙烯酸酯(BDDA),用以使第二层208中存在的碳最小化。
图2A至图2E的基板层202具有2μm至100μm之间的厚度。基板层202包括选自由下列组成的群组的材料:聚对苯二甲酸乙二酯、三乙酰基纤维素、聚碳酸酯、聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲醚、环烯烃聚合物、聚乙烯萘(PEN)和无色聚酰亚胺(CPI)。在一个实施方式中,基板层202具有约25μm至50μm的厚度,并且是CPI层。抗污层210是疏油膜。抗污层210可以是共价键合至下面层的表面的基于全氟聚醚(PFPE)的硅烷聚合物分子(例如,各种氯硅烷、氧基硅烷、氟乙烯等)。抗污层可以是湿法或真空-干法涂布的。抗污层210可以具有3nm与50nm之间的厚度。
一个或多个粘合促进层206可以具有50nm与1500nm之间的厚度。一个或多个粘合促进层206可以使用干法沉积工艺来沉积,并且可以由硅的氧化物和氮化物、氧碳化硅、或氧氮化硅组成。用于干法沉积工艺的前驱物可以包括具有碳的有机聚合物前驱物(液体或气体),诸如HMDSO、ppHMDSO、TOMCAT、HMDSN、或TEOS中的一种或多种。用于干法沉积工艺的前驱物可以进一步包括溅射各种二氧化硅或石英以沉积硅的各种碳混合氧化物或氮化物。
一个或多个粘合促进层206还可以在湿法沉积工艺中沉积,并且可以包括一种或多种聚合或低聚物材料,诸如丙烯酸酯、硅酮或光学透明结合剂(OCA)。在一个或多个实例中,使用湿法沉积工艺沉积的一个或多个粘合促进层206还可以由液体光学透明结合剂(LOCA)形成,所述液体光学透明结合剂(LOCA)可以以各种方式分配(例如,迈耶棒、槽模、凹版印刷头、棒式涂布机等)并且通过UV曝光固化,或是热、湿气和/或压力敏感的,且通过调节或控制热、湿气和/或压力来固化。
一个或多个粘合促进层206中的每一个可以具有约1.430至约1.150的折射率和约85%至约98%的光透射率。一个或多个粘合促进层206中的每一个可以具有约0.4GPa至约5GPa的纳米压痕硬度或如通过纳米压痕测量的约2.5GPa至约70GPa的弹性模量范围。一个或多个粘合促进层206中的每一个可以具有由氧化剂或引发剂与前驱物的比率和/或交联剂控制的高硬度,所述前驱物诸如O2、N2O、TBPO、或丙烯酸酯单体,特别是丙烯酸乙基己酯,所述交联剂诸如BDDA,用以精确控制存在的碳。
柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250中的一个或多个可以彼此堆叠。例如,柔性覆盖透镜膜200可以在柔性覆盖透镜膜220上堆叠,或者柔性覆盖透镜膜200可以加倍,使得存在两个柔性覆盖透镜膜200。另外,多层硬涂层212可以在基板层202上堆叠一次或多次。一个或多个柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250或堆叠的多层硬涂层212可以通过一种或多种结合剂独立地粘合、结合或以其他方式固持在一起,诸如用一种或多种OCA固持在一起。一个或多个柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250或堆叠的多层硬涂层212可以在不使用结合剂的情况下独立地粘合、结合或以其他方式固持在一起。
图3图示由柔性覆盖透镜膜200的双堆叠的多层硬涂层组成的柔性覆盖透镜膜300的示例性实施方式。在柔性覆盖透镜膜300中,第一多层硬涂层212a设置在基板层202上,并且第二多层硬涂层212b设置在第一多层硬涂层212a上。一个或多个粘合层306设置在第一多层硬涂层212a与第二多层硬涂层212b之间。一个或多个粘合层306可以是牺牲粘合层。一个或多个粘合层306可以是图2A至图2E的一个或多个粘合促进层206。第一多层硬涂层212a和第二多层硬涂层212b两者皆包含第一层204、设置在第一层204上的粘合促进层206和设置在粘合促进层206上的第二层208。抗污层210可以沉积在第二多层硬涂层212b上。
如果希望移除和替换最顶部的柔性覆盖透镜膜(例如,由于被刮擦或遭受其他损坏),诸如图3的第二多层硬涂层212b,一个或多个粘合层、诸如粘合层306可以选择性地劣化、破坏或以其他方式移除,以便将顶部覆盖透镜(例如,图3的第二多层硬涂层212b)与底部覆盖透镜膜(例如,图3的第一多层硬涂层212a)分离。结合覆盖膜的两个堆叠的结合剂(例如,图3的粘合层306)可以在预定温度、预定波长和/或紫外(UV)光剂量和/或预定机械移除机制下劣化。
在一些实例中,结合两个堆叠的柔性覆盖透镜膜(例如,图3的第一多层硬涂层212a和第二多层硬涂层212b)的牺牲结合剂(例如,图3的粘合层306)可在预定温度下劣化。例如,结合剂可以在约80℃、约90℃、或约100℃至约120℃的温度下劣化。在其他实例中,当暴露于预定波长和/或预定剂量的UV光时,牺牲结合剂是可劣化的。例如,当暴露于具有约350nm至约375nm的波长的UV光、诸如约365nm的波长的UV光时,结合剂是可劣化的。结合剂可以通过将结合剂暴露于UV光约0.5秒、约1秒、或约5秒至约30秒、约60秒、或约90秒的时间段而劣化。
形成柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250的方法可以包含定位基板层202和在基板层202上沉积多层硬涂层212。多层硬涂层212的层204至208可以使用湿法和干法沉积工艺、诸如CVD、PVD、常压溶液处理方法在片对片处理设备和/或辊对辊设备中沉积。此外,预期在柔性覆盖透镜膜200、220、230、240、250中可能存在附加层,诸如附加粘合促进层或抗冲击层。本文描述的覆盖透镜膜可以用于任何显示装置中。
组合湿法和干法沉积工艺以形成多层硬涂层导致光学透明、高硬度、可弯曲的覆盖透镜膜。干膜和湿膜的组合增强了覆盖透镜膜的抗磨性和弹性,同时允许抗污层沉积在多层硬涂层的顶部上。通过组合湿法和干法沉积工艺以形成多层硬涂层,覆盖透镜膜具有改善的弹性、强度、光透射率、耐磨性、抗磨性和热稳定性。
虽然前述内容针对本公开内容的实现方式,但是在不脱离本公开内容的基本范围的情况下,可以设计出其他和进一步的实现方式,并且本公开内容的范围由随附的权利要求书来确定。
Claims (15)
1.一种覆盖透镜膜,包含:
基板层,具有2μm至100μm之间的厚度;和
多层硬涂层,设置在所述基板层上,其中所述多层硬涂层包含使用湿法沉积工艺沉积的第一层、使用干法沉积工艺沉积的第二层和粘合促进层,其中所述多层硬涂层具有1μm至30μm之间的厚度,并且其中所述多层硬涂层具有大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<l的黄度指数。
2.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述第一层设置在所述基板层上,所述粘合促进层沉积在所述第一层上,所述第二层沉积在所述粘合促进层上,并且抗污层沉积在所述第二层上。
3.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述粘合促进层沉积在所述基板层上,所述第一层沉积在所述粘合促进层上,并且所述第二层沉积在所述第一层上。
4.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述粘合促进层沉积在所述基板层上,所述第二层沉积在所述粘合促进层上,并且所述第一层沉积在所述第二层上。
5.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述多层硬涂层具有高耐磨性和在钢丝棉磨损测试之后小于1的雾度变化,并且其中所述多层硬涂层具有约4H至约9H的铅笔硬度。
6.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述第一层包含选自由以下项组成的组的材料:聚氨酯丙烯酸酯化学品、具有或不具有二氧化硅纳米粒子的溶胶凝胶-硅氧烷混合物、或它们的组合。
7.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述第二层包含选自由以下项组成的组的材料:硅的氧化物和氮化物、氧碳化硅、氧氮化硅和碳化硅。
8.如权利要求1所述的覆盖透镜膜,其中所述多层硬涂层进一步包含第二粘合促进层。
9.如权利要求8所述的覆盖透镜膜,其中所述粘合促进层沉积在所述基板层上,所述第二层沉积在所述粘合促进层上,所述第二粘合促进层沉积在所述第二层上,并且所述第一层沉积在所述第二粘合层上,或者
其中所述第一粘合促进层沉积在所述基板层上,所述第一层沉积在所述第一粘合促进层上,所述第二粘合促进层沉积在所述第一层上,并且所述第二层沉积在所述第二粘合层上。
10.一种形成覆盖透镜膜的方法,包含:
在基板层上沉积多层硬涂层,其中所述多层硬涂层包含:
使用湿法沉积工艺沉积的第一层;
使用干法沉积工艺沉积的第二层;和
一个或多个粘合促进层。
11.如权利要求10所述的方法,其中所述第一层使用辊对辊溶液处理沉积,其中所述第二层使用选自由以下项组成的组的工艺沉积:物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积和原子层沉积,并且其中所述第二层在片对片设备或辊对辊设备中处理。
12.如权利要求10所述的方法,其中所述基板层具有2μm至100μm之间的厚度,并且所述多层硬涂层具有1μm至30μm之间的厚度,并且其中所述多层硬涂层具有大于88%的总透射率、约1%或更小的雾度和b*<1的黄度指数。
13.如权利要求10所述的方法,其中所述第一层包含选自由以下项组成的组的材料:聚氨酯丙烯酸酯化学品、具有或不具有二氧化硅纳米粒子的溶胶凝胶-硅氧烷混合物、或它们的组合,并且其中所述第二层包含选自由以下项组成的组的材料:硅的氧化物和氮化物、氧碳化硅、氧氮化硅和碳化硅。
14.如权利要求10所述的方法,其中所述一个或多个粘合促进层使用干法沉积工艺沉积,并且其中所述一个或多个粘合促进层包含选自由以下项组成的组的一种或多种材料:硅的氧化物和氮化物、氧碳化硅和氧氮化硅。
15.如权利要求10所述的方法,其中所述一个或多个粘合促进层使用湿法沉积工艺沉积,并且其中所述一个或多个粘合促进层包含聚合物材料、低聚物材料和光学透明结合剂中的一种或多种。
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