CN108807463A - 抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件 - Google Patents

抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件 Download PDF

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Abstract

本发明提供了抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件，其中，抗反射组件包括：一抗反射膜，一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。本发明降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。

Description

抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件
技术领域
本发明涉及OLED面板制程领域，尤其涉及抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件。
背景技术
现今，柔性电子与柔性显示已成为近几年的研究热点；具有固定曲面、可弯曲、可折叠甚至可卷曲的柔性显示电子产品，包括柔性薄膜晶体管液晶显示器(Flexible TFT-LCD)，柔性有机发光显示器(Flexible OLED)等逐渐成为最具前景的高科技行业。众多国内外手机面板厂商均已投入巨资展开相关研究及验证，争相争抢柔性EL的技术及商业先机。
柔性显示由于其轻薄、可弯曲、便于携带及外形炫酷等优点在手机、手表、电视等显示设备上的应用也越来越多。目前，AMOLED柔性显示设备的开发成为研究热点中的明星。
图1为现有技术的柔性有机发光器件的剖面图。现行业界主流的柔性显示器件的结构如图1所示，该柔性显示器件，包括了依次层叠的柔性阵列基板17、有机发光器件层16、薄膜封装层15、水氧阻隔层14、偏光层13、触控电极层12以及盖板11。
现有技术的柔性有机发光器件的偏光层13及触控电极层12是通过胶体贴合于显示模组之中，致使显示模组厚度偏高，与柔性显示模组轻便及弯折特性好的宗旨相悖，故更轻薄的功能膜层材料的开发逐渐成为业界的重要课题。
发明内容
针对现有技术中的缺陷，本发明的目的在于提供抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件，可以降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。
根据本发明的一个方面，提供一种抗反射组件，包括：
一抗反射膜，
一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；
一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；
一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及
一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。
优选地，还包括：
一第一压敏胶，形成于所述第二保护层与所述二分之一波片之间；以及
一第二压敏胶，形成于所述二分之一波片背离所述第一压敏胶的一侧。
优选地，还包括：一硬涂层，形成于所述抗反射膜背离所述第一保护层的一侧。
优选地，所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。
优选地，所述触控电极层的材料是银纳米线或是金属网格，所述触控电极层的厚度范围是0.001um至0.5um。
优选地，所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。
优选地，所述第一保护层和所述第二保护层的材料是环烯烃聚合物，所述第一保护层和所述第二保护层的厚度范围都是10um至30um。
优选地，所述第一压敏胶和第二压敏胶的厚度范围是0um至30um。
优选地，所述硬涂层的材料是三乙酰纤维素，所述硬涂层的厚度范围是10um至50um。
根据本发明的另一个方面，还提供一种抗反射组件的制造方法，包括以下步骤：
S101、将聚乙烯醇染色延展成一抗反射膜，在所述抗反射膜的一侧以卷对卷工艺形成一硬涂层，另一侧以卷对卷工艺形成一第一保护层；
S102、在一第二保护层的一侧上形成触控电极；
S103、将所述第二保护层与第一保护层贴合，封装所述触控电极；以及
S104、通过压敏胶将一二分之一波片与所述第二保护层的另一侧贴合。
优选地，所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。
优选地，所述步骤S102中通过低温湿法成膜在环烯烃聚合物保护层上涂布银纳米线，温度低于100℃。
优选地，所述成膜的方式为狭缝式涂布银纳米线成膜。
优选地，所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。
优选地，所述步骤S101与所述步骤S102的顺序交换。
根据本发明的另一个方面，还提供一种柔性显示器件，包括：
一柔性阵列基板；
一有机发光器件层，形成于所述柔性阵列基板的一侧；
一薄膜封装层，形成于所述有机发光器件层背离所述柔性阵列基板的一侧；
一水氧阻隔层，形成于所述薄膜封装层背离所述有机发光器件层的一侧；
一抗反射组件，形成于所述水氧阻隔层背离所述薄膜封装层的一侧；以及
一盖板，形成于所述抗反射触控层背离所述水氧阻隔层的一侧；
其中，所述抗反射组件是上述的抗反射组件。
有鉴于此，本发明的抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为现有技术的柔性有机发光器件的剖面图；
图2为本发明的抗反射组件的剖面图；
图3为本发明的柔性有机发光器件的剖面图；以及
图4至8为本发明的抗反射组件的制作过程示意图。
附图标记
11 盖板
12 触控电极层
13 偏光层
14 水氧阻隔层
15 薄膜封装层
16 有机发光器件层
17 柔性阵列基板
1 盖板
2 抗反射触控层
21 硬涂层
22 抗反射膜
23 第一保护层
24 触控电极层
25 第二保护层
26 第一压敏胶
27 二分之一波片
28 第二压敏胶
4 水氧阻隔层
5 薄膜封装层
6 有机发光器件层
7 柔性阵列基板
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员应意识到，没有特定细节中的一个或更多，或者采用其它的方法、组元、材料等，也可以实践本发明的技术方案。在某些情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明。
本发明的抗反射组件，包括：一抗反射膜22、一第一保护层23、一触控电极层24、一第二保护层25以及一二分之一波片27。其中，第一保护层23形成于抗反射膜22的一侧。触控电极层24形成于第一保护层23背离抗反射膜22的一侧。第二保护层25形成于触控电极层24背离第一保护层23的一侧。以及二分之一波片27形成于第二保护层25背离触控电极层24的一侧，但不以此为限。本发明在抗反射膜22与二分之一波片27之间设置了触控电极层24，并且抗反射膜22与二分之一波片27都能使用很薄的材料，从而大大降低了抗反射组件的厚度，提高其耐弯折特性。
图2为本发明的抗反射组件的剖面图。如图2所示，本发明的抗反射组件，包括：从下到上依次层叠的第二压敏胶28、二分之一波片27、第一压敏胶26、第二保护层25、触控电极层24、第一保护层23、抗反射膜22以及硬涂层21。其中，抗反射膜22的材料是聚乙烯醇膜(polyvinyl alcohol，简称PVA)，但不以此为限，也可以用液晶中添加颜料来替代，以便进一步降低厚度。抗反射膜22的厚度范围是3um至50um，但不以此为限。触控电极层24的材料是银纳米线(AgWN)、金属网格(Metal Mesh)、石墨烯、碳纳米线等，但不以此为限，还可采用更薄的材料。触控电极层24的厚度范围是0.001um至0.5um，但不以此为限。二分之一波片27的材料是环烯烃聚合物(Cyclo-olefin polymer，简称COP)或是聚碳酸酯(Polycarbonate，简称PC)，环烯烃聚合物的双折射效应较小，是理想膜材，但不以此为限，也可以用PLC来替代，以便进一步降低厚度。二分之一波片27的厚度范围是0.5um至50um，但不以此为限。第一保护层23和第二保护层25的材料是环烯烃聚合物(Cyclo-olefin polymer，简称COP)，第一保护层23和第二保护层25的厚度范围都是10um至30um。第一压敏胶26和第二压敏胶28的厚度范围是0um至30um。硬涂层21的材料是三乙酰纤维素(hardcoat-Triacetylcellulose，简称HC-TAC)，硬涂层21的厚度范围是10um至50um，但不以此为限。
图3为本发明的柔性有机发光器件的剖面图。如图3所示，本发明还提供一种柔性显示器件，包括自下而上层叠的柔性阵列基板7、有机发光器件层6、薄膜封装层5、水氧阻隔层4、抗反射组件2以及盖板1。有机发光器件层6形成于柔性阵列基板7的一侧。薄膜封装层5形成于有机发光器件6层背离柔性阵列基板7的一侧。水氧阻隔层4形成于薄膜封装层5背离有机发光器件层6的一侧。抗反射组件2形成于水氧阻隔层4背离薄膜封装层5的一侧。盖板1形成于抗反射触控层2背离水氧阻隔层4的一侧。
其中，抗反射组件2包括：从下到上依次层叠的第二压敏胶28、二分之一波片27、第一压敏胶26、第二保护层25、触控电极层24、第一保护层23、抗反射膜22以及硬涂层21。第二压敏胶28形成于水氧阻隔层4背离薄膜封装层5的一侧。二分之一波片27形成于第二压敏胶28背离水氧阻隔层4的一侧。第一压敏胶26形成于二分之一波片27背离第二压敏胶28的一侧。第二保护层25形成于第一压敏胶26背离二分之一波片27的一侧。触控电极层24形成于第二保护层25背离第一压敏胶26的一侧。第一保护层23形成于触控电极层24背离第二保护层25的一侧。抗反射膜22形成于第一保护层23背离触控电极层24的一侧。硬涂层21形成于抗反射膜22背离第一保护层23的一侧。其中，抗反射膜22的材料是聚乙烯醇膜(polyvinylalcohol，简称PVA)，但不以此为限，也可以用液晶中添加颜料来替代，以便进一步降低厚度。抗反射膜22的厚度范围是3um至50um。触控电极层24的材料是银纳米线(AgWN)或是金属网格(Metal Mesh)但不以此为限，还可采用更薄的材料。触控电极层24的厚度范围是0.001um至0.5um。二分之一波片27的材料是环烯烃聚合物(Cyclo-olefin polymer，简称COP)或是聚碳酸酯(Polycarbonate，简称PC)，但不以此为限，也可以用PLC来替代，以便进一步降低厚度。二分之一波片27的厚度范围是0.5um至50um。第一保护层23和第二保护层25的材料是环烯烃聚合物(Cyclo-olefin polymer，简称COP)，第一保护层23和第二保护层25的厚度范围都是10um至30um。第一压敏胶26和第二压敏胶28的厚度范围是0um至30um。硬涂层21的材料是三乙酰纤维素(hardcoat-Triacetylcellulose，简称HC-TAC)，硬涂层21的厚度范围是10um至50um。本发明的柔性有机发光器件能使整体柔性显示模组减薄50～200um，模组段工艺减少1～3道，具有较高的实际利用价值。
图4至8为本发明的抗反射组件的制作过程示意图。如图4至8所示，本发明还提供一种抗反射组件的制造方法，包括以下步骤：
步骤S101：如图4和5所示，将聚乙烯醇染色延展成一抗反射膜22，在抗反射膜22的一侧以卷对卷工艺形成一硬涂层21，另一侧以卷对卷工艺形成一第一保护层23。延展抗反射膜22的方式可以是在工艺上先对聚乙烯醇进行延伸，然后加入染料进行染色，最后固化成膜。抗反射膜22的材料是聚乙烯醇膜，抗反射膜22的厚度范围是3um至50um。硬涂层21的材料是三乙酰纤维素(hardcoat-Triacetylcellulose，简称HC-TAC)，硬涂层21的厚度范围是10um至50um。第一保护层23的材料是环烯烃聚合物(Cyclo-olefin polymer，简称COP)。本发明中的卷对卷工艺是指将两卷材料(例如PVA及COP)分别经过两只滚轮贴合在一起；作业过程中需要调整两个滚轮曲率半径，以免造成材料浪费。
步骤S102：如图6所示，在一第二保护层25的一侧上形成触控电极24。可以通过低温湿法成膜在环烯烃聚合物保护层上涂布银纳米线，温度低于100℃。在一个优选方案中，成膜的方式为狭缝式涂布(Slit Coating)银纳米线成膜。在一个变形例中，可以通过金属网格(Metal Mesh)来替换银纳米线形成触控电极。
步骤S103：如图7所示，将步骤S101获得的组件和步骤S102获得的组件相贴合。通过将第二保护层25与第一保护层23贴合，步骤S101获得的组件和步骤S102获得的组件一体化，将触控电极24封装在第二保护层25与第一保护层23之间。以及
步骤S104：如图8所示，通过压敏胶将一二分之一波片27与第二保护层25的另一侧贴合。二分之一波片27的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，二分之一波片27的厚度范围是0.5um至50um。
在一个变化例中，步骤S101与步骤S102的顺序交换，也能获得本发明的抗反射组件。
通过上述简单的流程步骤就能制造本发明的抗反射组件，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。
综上可知，本发明的抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。
以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改，这并不影响本发明的实质内容。

Claims (16)

1.一种抗反射组件，其特征在于，包括：
一抗反射膜，
一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；
一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；
一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及
一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。
2.如权利要求1所述的抗反射组件，其特征在于，还包括：
一第一压敏胶，形成于所述第二保护层与所述二分之一波片之间；以及
一第二压敏胶，形成于所述二分之一波片背离所述第一压敏胶的一侧。
3.如权利要求2所述的抗反射组件，其特征在于，还包括：一硬涂层，形成于所述抗反射膜背离所述第一保护层的一侧。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。
5.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述触控电极层的材料是银纳米线或是金属网格，所述触控电极层的厚度范围是0.001um至0.5um。
6.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。
7.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述第一保护层和所述第二保护层的材料是环烯烃聚合物，所述第一保护层和所述第二保护层的厚度范围都是10um至30um。
8.如权利要求2或3所述的抗反射组件，其特征在于：所述第一压敏胶和第二压敏胶的厚度范围是0um至30um。
9.如权利要求3所述的抗反射组件，其特征在于：所述硬涂层的材料是三乙酰纤维素，所述硬涂层的厚度范围是10um至50um。
10.一种抗反射组件的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S101、将聚乙烯醇染色延展成一抗反射膜，在所述抗反射膜的一侧以卷对卷工艺形成一硬涂层，另一侧以卷对卷工艺形成一第一保护层；
S102、在一第二保护层的一侧上形成触控电极；
S103、将所述第二保护层与第一保护层贴合，封装所述触控电极；以及
S104、通过压敏胶将一二分之一波片与所述第二保护层的另一侧贴合。
11.如权利要求10所述的抗反射组件的制造方法，其特征在于：所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。
12.如权利要求11所述的抗反射组件的制造方法，其特征在于：所述步骤S102中通过低温湿法成膜在环烯烃聚合物保护层上涂布银纳米线，温度低于100℃。
13.如权利要求10所述的抗反射组件的制造方法，其特征在于：所述成膜的方式为狭缝式涂布银纳米线成膜。
14.如权利要求10所述的抗反射组件的制造方法，其特征在于：所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。
15.如权利要求10所述的抗反射组件的制造方法，其特征在于：所述步骤S101与所述步骤S102的顺序交换。
16.一种柔性显示器件，其特征在于，包括：
一柔性阵列基板；
一有机发光器件层，形成于所述柔性阵列基板的一侧；
一薄膜封装层，形成于所述有机发光器件层背离所述柔性阵列基板的一侧；
一水氧阻隔层，形成于所述薄膜封装层背离所述有机发光器件层的一侧；
一抗反射组件，形成于所述水氧阻隔层背离所述薄膜封装层的一侧；以及
一盖板，形成于所述抗反射触控层背离所述水氧阻隔层的一侧；
其中，所述抗反射组件是如权利要求1至9中任意一项所述的抗反射组件。
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