CN102822183B - 制备含硅的偶氮二甲酰胺的方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- -1 methoxyl group Chemical group 0.000 claims description 50
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- NBBQQQJUOYRZCA-UHFFFAOYSA-N diethoxymethylsilane Chemical compound CCOC([SiH3])OCC NBBQQQJUOYRZCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XYYQWMDBQFSCPB-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethylsilane Chemical compound COC([SiH3])OC XYYQWMDBQFSCPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](CCCN)(OCCC)OCCC XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical group CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PNNXBWWSFIVKQW-UHFFFAOYSA-N [O].CCCCCCCCCCCCCCCC Chemical compound [O].CCCCCCCCCCCCCCCC PNNXBWWSFIVKQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RJSAQZCIPLHQGO-UHFFFAOYSA-N [SiH4].C(CCCCCCCCCCCCC)ONC1=CC=CC=C1 Chemical compound [SiH4].C(CCCCCCCCCCCCC)ONC1=CC=CC=C1 RJSAQZCIPLHQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- VVWRJUBEIPHGQF-MDZDMXLPSA-N propan-2-yl (ne)-n-propan-2-yloxycarbonyliminocarbamate Chemical compound CC(C)OC(=O)\N=N\C(=O)OC(C)C VVWRJUBEIPHGQF-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 5
- CTGCXXFBIJQSSV-UHFFFAOYSA-N dodecoxysilane Chemical compound C(CCCCCCCCCCC)O[SiH3] CTGCXXFBIJQSSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CIGIRZIOSVQVKQ-UHFFFAOYSA-N [O].CCCCCCCCCCCCCCCCCC Chemical compound [O].CCCCCCCCCCCCCCCCCC CIGIRZIOSVQVKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- DSNJGFLHEVDMHH-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCN(C)C DSNJGFLHEVDMHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTCNLLNFMNZKAW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropoxymethylsilane Chemical compound C(C(C)C)OC[SiH3] PTCNLLNFMNZKAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKKKACWBPFJYNS-UHFFFAOYSA-N C[SiH2]C.C(CCCCCCCCCCCCC)ONC1=CC=CC=C1 Chemical compound C[SiH2]C.C(CCCCCCCCCCCCC)ONC1=CC=CC=C1 BKKKACWBPFJYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMPJJFJLRJFVHD-UHFFFAOYSA-N C[SiH3].C(CCCCCCCCCCCCC)ONC1=CC=CC=C1 Chemical compound C[SiH3].C(CCCCCCCCCCCCC)ONC1=CC=CC=C1 KMPJJFJLRJFVHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- DCFXPXPTUTZNAY-UHFFFAOYSA-N dodecoxy(methyl)silane Chemical compound C(CCCCCCCCCCC)O[SiH2]C DCFXPXPTUTZNAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- ARKBFSWVHXKMSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethanamine Chemical compound CO[Si](CN)(OC)OC ARKBFSWVHXKMSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XCHJISWYSPDMBP-UHFFFAOYSA-N 2-(diethoxymethoxysilyl)ethanamine Chemical compound CCOC(OCC)O[SiH2]CCN XCHJISWYSPDMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZKCIRNUKJQNJW-UHFFFAOYSA-N 2-(dipropoxymethoxysilyl)ethanamine Chemical compound CCCOC(OCCC)O[SiH2]CCN XZKCIRNUKJQNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)OCC BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKZGKRGTGCFKH-UHFFFAOYSA-N 2-tripropoxysilylethanamine Chemical compound CCCO[Si](CCN)(OCCC)OCCC UNKZGKRGTGCFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCAKKROLTDGMBJ-UHFFFAOYSA-N 3-(dibutoxymethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound CCCCOC(OCCCC)[SiH2]CCCN MCAKKROLTDGMBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBYPITAQIDKLCJ-UHFFFAOYSA-N 3-(diethoxymethoxysilyl)propan-1-amine Chemical compound CCOC(OCC)O[SiH2]CCCN RBYPITAQIDKLCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKRRIWPHZUPIT-UHFFFAOYSA-N 3-(dipropoxymethoxysilyl)propan-1-amine Chemical compound CCCOC(OCCC)O[SiH2]CCCN BVKRRIWPHZUPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYZYIDCEVFJCRO-UHFFFAOYSA-N 3-(dipropoxymethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound CCCOC(OCCC)[SiH2]CCCN WYZYIDCEVFJCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWWSGKAKVIHPHX-UHFFFAOYSA-N 3-[butoxy(dimethyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCCCO[Si](C)(C)CCCN RWWSGKAKVIHPHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZLXUROTBTYRDB-UHFFFAOYSA-N 3-[di(propan-2-yloxy)methylsilyl]propan-1-amine Chemical compound CC(C)OC(OC(C)C)[SiH2]CCCN SZLXUROTBTYRDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWGMYNYRSKLTTL-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(2-methylpropoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound CC(C)CO[Si](C)(C)CCCN IWGMYNYRSKLTTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPJAUUSADXIOMO-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(propan-2-yloxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound CC(C)O[Si](C)(C)CCCN MPJAUUSADXIOMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCSHOZYCEVDECE-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(propoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](C)(C)CCCN ZCSHOZYCEVDECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSFFEMOWAUAEN-UHFFFAOYSA-N 3-[hydroxy(dimethyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound C[Si](C)(O)CCCN SWSFFEMOWAUAEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PORCZNIMJGJZRI-UHFFFAOYSA-N 4-(diethoxymethoxysilyl)butan-2-amine Chemical compound CCOC(OCC)O[SiH2]CCC(C)N PORCZNIMJGJZRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJCBZJWWIKJKRH-UHFFFAOYSA-N 4-(dipropoxymethoxysilyl)butan-2-amine Chemical compound CCCOC(OCCC)O[SiH2]CCC(C)N HJCBZJWWIKJKRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVYASADCJXNDTP-UHFFFAOYSA-N 4-[methoxy(dimethyl)silyl]butan-2-amine Chemical compound CO[Si](C)(C)CCC(C)N FVYASADCJXNDTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHTZPJXABISXPB-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutan-2-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)N BHTZPJXABISXPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAPHWZATUFXMGN-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylbutan-2-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)N QAPHWZATUFXMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONPDPADPZNBIDE-UHFFFAOYSA-N 4-tripropoxysilylbutan-2-amine Chemical compound CCCO[Si](CCC(C)N)(OCCC)OCCC ONPDPADPZNBIDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQBXQSREXANNIS-UHFFFAOYSA-N C(C(C)C)O[SiH](C)C Chemical compound C(C(C)C)O[SiH](C)C OQBXQSREXANNIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXYKIXHQDOQFFJ-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCCCC)ON(C1=CC=CC=C1)OCCCCCCCCCCCCCC Chemical compound C(CCCCCCCCCCC)ON(C1=CC=CC=C1)OCCCCCCCCCCCCCC YXYKIXHQDOQFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHOXVRNFAPZLSE-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCON(C1=CC=CC=C1CCC(C)N)OCCCCCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCON(C1=CC=CC=C1CCC(C)N)OCCCCCCCCCCCC DHOXVRNFAPZLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZXQPLFRLMNCFX-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCON(C1=CC=CC=C1CCCN)OCCCCCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCON(C1=CC=CC=C1CCCN)OCCCCCCCCCCCC DZXQPLFRLMNCFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEYROQGBYXQREF-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCON(C1=CC=CC=C1CCN)OCCCCCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCON(C1=CC=CC=C1CCN)OCCCCCCCCCCCC JEYROQGBYXQREF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYHXKQJUGSMKOK-UHFFFAOYSA-N CCCOC(OCCC)[SiH2]CC(C)CS Chemical compound CCCOC(OCCC)[SiH2]CC(C)CS IYHXKQJUGSMKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical compound CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000034 Plastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOZUGNYVDXMRKW-AATRIKPKSA-N azodicarbonamide Chemical compound NC(=O)\N=N\C(N)=O XOZUGNYVDXMRKW-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N butoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[SiH](C)C SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- HOEDFBVDAYIBHJ-UHFFFAOYSA-N dibutoxymethylsilane Chemical compound CCCCOC([SiH3])OCCCC HOEDFBVDAYIBHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RECJVUVMDRZCPY-UHFFFAOYSA-N diethoxymethoxysilane Chemical compound C(C)OC(O[SiH3])OCC RECJVUVMDRZCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYIVVEWLGLQBBA-UHFFFAOYSA-N diethoxymethoxysilylmethanamine Chemical compound CCOC(OCC)O[SiH2]CN IYIVVEWLGLQBBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N dihydroxidosulfur Chemical compound OSO HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OARYFQYHTWCNQO-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[SiH](C)C OARYFQYHTWCNQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEHPKGIJAWBJMV-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](C)C BEHPKGIJAWBJMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMPVESVJOFYWTB-UHFFFAOYSA-N dipropan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OC(C)C JMPVESVJOFYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTGKPTHUMQTAFJ-UHFFFAOYSA-N dipropoxymethoxysilane Chemical compound C(CC)OC(O[SiH3])OCCC OTGKPTHUMQTAFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUKMRNCEVJJTRH-UHFFFAOYSA-N dipropoxymethoxysilylmethanamine Chemical compound CCCOC(OCCC)O[SiH2]CN GUKMRNCEVJJTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CXHHBNMLPJOKQD-UHFFFAOYSA-M methyl carbonate Chemical compound COC([O-])=O CXHHBNMLPJOKQD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYFRFHPHRQYQQR-UHFFFAOYSA-N methyl-di(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[SiH](C)OC(C)C FYFRFHPHRQYQQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000001149 thermolysis Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanamine Chemical compound CCO[Si](CN)(OCC)OCC ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJDWSXMZWYSCDJ-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilylmethanamine Chemical compound CCCO[Si](CN)(OCCC)OCCC OJDWSXMZWYSCDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
本发明涉及一种通过将通式II:R3-X1-C(O)-N=N-C(O)-X1-R4(II)的偶氮双羧基化合物与通式III:(R1)3-a(R2)aSi-R1-NH2(III)的氨基硅烷反应,来制备通式(I):(R1)3-a(R2)aSi-R1-NH-C(O)-N=N-C(O)-NH-R1-Si(R1)3-a(R2)a(I)的含硅的偶氮二甲酰胺的方法。
Description
技术领域
本发明涉及一种生产含硅的偶氮二甲酰胺(azodicarbamide)的方法。
背景技术
DE2704506公开了通式Y-X-CO-N=N-CO-X1-Z的化合物及其在填充的橡胶混合物中的用途。
US20090234066A1也公开了A-CO-N=N-CO-Z-G类型的化合物,其与含硫的硅烷一起用于包含异戊二烯橡胶的橡胶混合物中。
US20090186961A1公开了A-CO-N=N-CO-Z-G类型的化合物,其与涂料一起用于包含异戊二烯橡胶的橡胶混合物中。
发明内容
本发明的目标是提供一种方法,其与现有技术的方法相比,需要更少的合成阶段,不需要肼衍生物的氧化,并且能够获得高产率。
本发明提供一种生产通式I的含硅的偶氮二甲酰胺的方法
(R1)3-a(R2)aSi-RI-NH-C(O)-N=N-C(O)-NH-RI-Si(R1)3-a(R2)a(I),
该方法是通过将通式II的偶氮双羧基化合物
R3-X1-C(O)-N=N-C(O)-X1-R4(II)
与通式III的氨基硅烷反应来进行的
(R1)3-a(R2)aSi-RI-NH2(III),
其中a相互独立的是1、2或者3,
R1相互独立的是取代的或者未取代的C1-C18-烷基,优选C1-C10-烷基,特别优选C1-C6-烷基,非常特别优选C1-烷基,C5-C18-环烷基,优选C6-环烷基,或者C6-C18-芳基,优选苯基,
R2相互独立的是-OH、取代的或者未取代的C1-C18-烷氧基,优选CH3-O-烷氧基,C2H5-O-烷氧基,C3H7-O-烷氧基,C12H25-O-烷氧基,C14H29-O-烷氧基,C16H33-O-烷氧基,C18H37-O-烷氧基,或者特别优选C2H5-O-烷氧基,或者C5-C18-环烷氧基,
RI是支化的或者未支化的、饱和的或者不饱和的、脂肪族、芳族或者混合的脂肪族/芳族二价C1-C30-烃基,优选C1-C20-烃基,特别优选C1-C10-烃基,非常特别优选C1-C7-烃基,任选地,其是用F-,Cl-,Br-,I-,-CN或者HS-取代的,
X1相互独立的是O,NH或者N-A1,其中A1是C1-C12-,优选C1-C4-,特别优选C1-烷基或者芳基,优选苯基或者取代的苯基,和
R3和R4相互独立的是H,C1-C18-烷基,优选甲基,乙基或者异丙基,苄基(-CH2-C6H5)或者烷基聚醚基团(CH2-CH2-O)n-R5或者(CH(CH3)-CH2-O)n-R5,优选甲基-(O-CH2-CH2)n-,乙基-(O-CH2-CH2)n-,丙基-(O-CH2-CH2)n-,丁基-(O-CH2-CH2)n-或者己基-(O-CH2-CH2)n-,其中n的平均值是1-18,优选1-10,特别优选1-8,非常特别优选1-5,和
R5相互独立的是支化的或者未支化的、饱和的或者不饱和的单价C1-C32-烃链,优选C2-C25-烃链,特别优选C3-C18-烃链。
含硅的偶氮二甲酰胺可以是通式I的含硅的偶氮二甲酰胺的混合物。
这种方法的产物可以包含经由通式I的含硅的偶氮二甲酰胺的烷氧基硅烷官能团的水解和缩聚而产生的低聚物。
用作起始材料的偶氮双羧基化合物可以是通式II的偶氮双羧基化合物的混合物。
用作起始材料的氨基硅烷可以是通式III的氨基硅烷的混合物。
所用的氨基硅烷可以包含经由通式III的氨基硅烷的烷氧基硅烷官能团的水解和缩聚而产生的低聚物。
RI可以优选分别是-CH2-,-CH2CH2-,-CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2-,-CH(CH3)-,-CH2CH(CH3)-,-CH(CH3)CH2-,-C(CH3)2-,-CH(C2H5)-,-CH2CH2CH(CH3)-,-CH(CH3)CH2CH2-,-CH2CH(CH3)CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-,-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-或或-CH2-CH2-C6H4-CH2-。
R5可以优选是H,甲基,乙基,正丙基,异丙基,丁基或者苯基。
通式I的化合物可以优选是:
(EtO)3Si-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-CH2-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-CH2-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-CH2-CH2-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-CH2-CH2-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-CH2-CH2-CH2-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-CH2-CH2-CH2-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-(CH2)11-NH-CO-N=N-CO-NH-(CH2)11-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-(CH2)12-NH-CO-N=N-CO-NH-(CH2)12-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-CH2CH(CH3)CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2CH(CH3)CH2-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-CH2-CH2-C6H4-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-C6H4-CH2-CH2-Si(OEt)3,
(EtO)3Si-CH2-CH2-C6H4-NH-CO-N=N-CO-NH-C6H4-CH2-CH2-Si(OEt)3,
(MeO)3Si-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-CH2-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-CH2-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-CH2-CH2-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-CH2-CH2-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-CH2-CH2-CH2-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-CH2-CH2-CH2-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-(CH2)11-NH-CO-N=N-CO-NH-(CH2)11-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-(CH2)12-NH-CO-N=N-CO-NH-(CH2)12-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-CH2CH(CH3)CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2CH(CH3)CH2-Si(OMe)3,
(MeO)3Si-CH2-CH2-C6H4-CH2-NH-CO-N=N-CO-NH-CH2-C6H4-CH2-CH2-Si(OMe)3或
(MeO)3Si-CH2-CH2-C6H4-NH-CO-N=N-CO-NH-C6H4-CH2-CH2-Si(OMe)3,其中Me=甲基和Et=乙基。
通式II的化合物可以优选是:
H2N-C(O)-N=N-C(O)-NH2,R3-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-R4,特别优选Me-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-Me,Et-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-Et,n-Pr-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-n-Pr,iso-Pr-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-iso-Pr,n-Bu-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-n-Bu,sec-Bu-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-sec-Bu,tert-Bu-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-tert-Bu,苄基-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-苄基或者苯基-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-苯基,
R3-O-C(O)-N=N-C(O)-O-R4,特别优选Et-O-C(O)-N=N-C(O)-O-Et,n-Pr-O-C(O)-N=N-C(O)-O-n-Pr,iso-Pr-O-C(O)-N=N-C(O)-O-iso-Pr,n-Bu-O-C(O)-N=N-C(O)-O-n-Bu,tert-Bu-O-C(O)-N=N-C(O)-O-tert-Bu,sec-Bu-O-C(O)-N=N-C(O)-O-sec-Bu,环己基-O-C(O)-N=N-C(O)-O-环己基或者苄基-O-C(O)-N=N-C(O)-O-苄基,或者R5-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-R5,其中n=1-10,特别优选Me-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-Me,Et-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-Et,n-Pr-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-n-Pr,iso-Pr-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-iso-Pr,n-Bu-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-n-Bu,tert-Bu-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-t-Bu,sec-Bu-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-sec-Bu,环己基-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-环己基或者苄基-(O-CH2-CH2)n-O-C(O)-N=N-C(O)-O-(CH2-CH2-O)n-苄基,其中Me=甲基,Et=乙基,n-Pr=正丙基,i-Pr=异丙基,n-Bu=正丁基,sec-Bu=仲丁基和tert-Bu=叔丁基。
通式III的化合物可以优选是:
3-氨基丙基(三甲氧基硅烷),3-氨基丙基(三乙氧基硅烷),3-氨基丙基(二乙氧基甲氧基硅烷),3-氨基丙基(三丙氧基硅烷),3-氨基丙基(二丙氧基甲氧基硅烷),3-氨基丙基(三(十二烷氧基)硅烷),3-氨基丙基(三(十四烷氧基)硅烷),3-氨基丙基(三(十六烷氧基)硅烷),3-氨基丙基(三(十八烷氧基)硅烷),3-氨基丙基(二(十二烷氧基))十四烷氧基硅烷,3-氨基丙基(十二烷氧基)十四烷氧基(十六烷氧基)-硅烷,
3-氨基丙基(二甲氧基甲基硅烷),3-氨基丙基(甲氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(羟基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二乙氧基甲基硅烷),3-氨基丙基(乙氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二丙氧基甲基硅烷),3-氨基丙基(丙氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二异丙氧基甲基硅烷),3-氨基丙基(异丙氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二丁氧基甲基硅烷),3-氨基丙基(丁氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二异丁氧基甲基硅烷),3-氨基丙基(异丁氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二(十二烷氧基)甲基硅烷),3-氨基丙基(十二烷氧基二甲基硅烷),3-氨基丙基(二(十四烷氧基)甲基硅烷),3-氨基丙基(十四烷氧基二甲基硅烷),
2-氨基乙基(三甲氧基硅烷),2-氨基乙基(三乙氧基硅烷),2-氨基乙基(二乙氧基甲氧基硅烷),2-氨基乙基(三丙氧基硅烷),2-氨基乙基(二丙氧基甲氧基硅烷),2-氨基乙基(三(十二烷氧基)硅烷),2-氨基乙基(三(十四烷氧基)硅烷),2-氨基乙基(三(十六烷氧基)硅烷),2-氨基乙基(三(十八烷氧基)硅烷),2-氨基乙基(二(十二烷氧基))十四烷氧基硅烷,2-氨基乙基(十二烷氧基)十四烷氧基(十六烷氧基)硅烷,
2-氨基乙基(二甲氧基甲基硅烷),2-氨基乙基(甲氧基二甲基硅烷),2-氨基乙基(二乙氧基甲基硅烷),2-氨基乙基(乙氧基二甲基硅烷),
1-氨基甲基(三甲氧基硅烷),1-氨基甲基(三乙氧基硅烷),1-氨基甲基(二乙氧基甲氧基硅烷),1-氨基甲基(二丙氧基甲氧基硅烷),1-氨基甲基(三丙氧基硅烷),1-氨基甲基(三甲氧基硅烷),1-氨基甲基(二甲氧基甲基硅烷),1-氨基甲基(甲氧基二甲基硅烷),1-氨基甲基(二乙氧基甲基硅烷),1-氨基甲基(乙氧基二甲基硅烷),
3-氨基丁基(三甲氧基硅烷),3-氨基丁基(三乙氧基硅烷),3-氨基丁基(二乙氧基甲氧基硅烷),3-氨基丁基(三丙氧基硅烷),3-氨基丁基(二丙氧基甲氧基硅烷),3-氨基丁基(二甲氧基甲基硅烷),3-氨基丁基(二乙氧基甲基硅烷),3-氨基丁基(二甲基甲氧基硅烷),3-氨基丁基(二甲基乙氧基硅烷),3-氨基丁基(三(十二烷氧基)硅烷),3-氨基丁基(三(十四烷氧基)硅烷),3-氨基丁基(三(十六烷氧基)硅烷),3-氨基丁基(二(十二烷氧基))十四烷氧基硅烷,3-氨基丁基(十二烷氧基)十四烷氧基(十六烷氧基)硅烷,
3-氨基-2-甲基丙基(三甲氧基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(三乙氧基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二乙氧基甲氧基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(三丙氧基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二丙氧基甲氧基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(三(十二烷氧基)硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(三(十四烷氧基)硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(三(十六烷氧基)硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(三(十八烷氧基)硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二(十二烷氧基))十四烷氧基硅烷,3-氨基-2-甲基丙基(十二烷氧基)十四烷氧基(十六烷氧基)硅烷,3-氨基-2-甲基丙基(二甲氧基甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(甲氧基二甲基硅烷),3-巯基-2-甲基丙基(二乙氧基甲基硅烷),3-巯基-2-甲基丙基(乙氧基二甲基硅烷),3-巯基-2-甲基丙基(二丙氧基甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(丙氧基二甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二异丙氧基甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(异丙氧基二甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二丁氧基甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(丁氧基二甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二异丁氧基甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(异丁氧基二甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二(十二烷氧基)甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(十二烷氧基二甲基硅烷),3-氨基-2-甲基丙基(二(十四烷氧基)甲基硅烷)或者3-氨基-2-甲基丙基(十四烷氧基二甲基硅烷)。
经由本发明的方法所获得的产物可以包含纯度大于30mol%,优选大于50mol%,特别优选大于75mol%,非常特别优选大于85mol%的通式I的含硅的偶氮二甲酰胺。
通式I的化合物在通过本发明的方法所生产的产物中的相对百分比含量是如下来确定的:经由通式I的目标产物的13CNMR积分的积分,并且与13CNMR积分的整体相比较。
该反应可以在溶剂中进行或者无溶剂进行。
溶剂的量,作为与通式II的化合物的用量之比,可以是1重量%-5000重量%,优选1重量%-1000重量%,特别优选50重量%-1000重量%,特别优选50重量%-500重量%。
溶剂的量,作为与通式II的化合物的用量之比,可以大于1重量%,优选大于10重量%,特别优选大于50重量%和非常特别优选大于100重量%。
该溶剂的沸点可以是-100°C到250°C,优选0-150°C,特别优选20-100°C。
所用溶剂可以包含醇或者非醇化合物。
所用溶剂可以包含醇和非醇化合物的混合物。
非醇溶剂可以是含卤素或者无卤素的溶剂。
含卤素的溶剂可以优选是CCl4,CHCl3,CH2Cl2,CH3Cl,CCl3-CCl3,CHCl2-CCl3,CHCl2-CHCl2或者CH2Cl-CH2Cl。
所用的非醇无卤素溶剂可以包含烷烃,碳酸烷基酯,芳烃,取代的芳烃,优选烷基取代的芳烃,特别优选甲苯,对二甲苯,间二甲苯或者邻二甲苯,醚类,硫醇类,二烷基硫醚类,三烷基胺,烷基磷烷或者芳基磷烷。
所用烷烃可以优选包含纯烷烃或者烷烃混合物,例子是戊烷,己烷,环己烷,庚烷或者辛烷。
所用的碳酸烷基酯可以包含开链或者环状的碳酸酯。
所用的开链碳酸烷基酯可以优选包含碳酸二甲酯,碳酸二异丙酯或者碳酸二乙酯。
所用的环状碳酸烷基酯可以优选包含碳酸乙烯酯,碳酸1-甲基乙烯酯,碳酸丙烯酯或者碳酸甘油酯。
所用的醇溶剂可以包含直链、支化的或者环状的醇。
所用的醇还可以包含醇的混合物。
特别优选可以使用对应于在式I和III化合物中硅上各个烷氧基取代基这样的醇,以及异丙醇和叔丁醇。
所用醇溶剂可以非常特别优选包含甲醇,乙醇和异丙醇。
该反应可以优选无空气和/或无水来进行。
该反应可以在惰性气氛下进行,例如在氩气或者氮气,优选在氮气下进行。
本发明的方法可以在大气压、在高压或者在减压下进行。优选给出的是大气压和减压。
高压可以是1.1bar-100bar,优选1.5bar-50bar,特别优选2bar-20bar和非常特别优选2bar-10bar的压力。
减压可以是1mbar-1000mbar,优选1mbar-500mbar,特别优选1mbar-250mbar,非常特别优选5mbar-100mbar的压力。
本发明的方法可以在-50°C到+200°C,优选-25°C到150°C,特别优选-10°C到100°C,非常特别优选-10°C到50°C的温度进行。
在本发明的方法中,通式II的化合物可以加入到通式III的化合物中。
在本发明的方法中,通式III的化合物可以加入到通式II的化合物中。
在本发明的方法中,通式II的偶氮双羧基化合物可以以下面的摩尔比加入到通式III的氨基硅烷中:1:1.80到1:2.25,优选1:1.90到1:2.15,和特别优选1:1.95到1:2.05。
在通式II的偶氮双羧基化合物与通式III的氨基硅烷的反应中,稳定剂可以在该反应之前、之中或者之后加入。
稳定剂可以是单体、低聚物或者聚合物。优选给出的是低聚物和聚合物。稳定剂能够抑制或者延迟偶氮化合物的热分解。稳定剂可以是自由基猝灭剂。稳定剂能够抑制或者延迟偶氮化合物的光致分解。稳定剂可以是UV稳定剂。稳定剂能够抑制或者延迟氧化反应。稳定剂可以是阴离子或者阳离子化合物。稳定剂可以包含杂原子,例如氧,硫,氮或者磷。
基于所用的通式II的材料的质量,稳定剂在本发明方法中的用量是0.001-100重量%,优选0.01-50重量%,特别优选0.01-10重量%,非常特别优选0.1-5重量%。
基于所用的通式II的材料的质量,稳定剂在本发明方法中的用量可以大于0.001重量%,优选大于0.01重量%,特别优选大于0.1重量%,非常特别优选大于1重量%。
基于所用的通式II的材料的质量,稳定剂在本发明方法中的用量可以小于100重量%,优选小于25重量%,特别优选小于10重量%,但是非常特别优选大于1重量%。
通式II的化合物在本发明的方法所生产的产物中的残留含量可以小于25mol%,优选小于10mol%,特别优选小于5mol%,非常特别优选小于3mol%。
通式II的化合物在本发明的方法所生产的产物中的相对mol%值是相对于通式I的化合物的mol%值经由13CNMR中羰基C原子的积分来确定的。
通式III的化合物在本发明的方法所生产的产物中的残留含量可以小于25mol%,优选小于10mol%,特别优选小于5mol%,非常特别优选小于3mol%。
式III的化合物的相对mol%值=(式III邻近N的RI的全部C原子的积分)/((式III邻近N的RI的全部C原子的积分)+(式I邻近N的RI的全部C原子的积分))。
对于式III的物质NH2-CH2-CH2-CH2-Si(OEt)3来说,例如,使用下面的C原子NH2-CH2-的积分来确定相对含量。
对于式I的物质[(EtO)3Si-CH2-CH2-CH2-NH-C(=O)-N=]2来说,例如,使用下面的C原子-CH2-NH-C(=O)-N=的积分来确定相对含量。
本发明方法所生产的产物可以包含通式IV、V和/或VI的化合物
R3-X1-C(O)-NH-NH-C(O)-X1-R4(IV),
(R1)3-a(R2)aSi-RI-NH-C(O)-NH-NH-C(O)-NH-RI-Si(R1)3-a(R2)a(V),
(R1)3-a(R2)aSi-RI-NH-CO-NH-NH-CO-X1-R3(VI)。
通式I的含硅的偶氮二甲酰胺可以用作无机材料例如玻璃珠、玻璃片、玻璃表面、玻璃纤维或者氧化物填料、优选二氧化硅例如沉淀的二氧化硅和气相法二氧化硅,与有机聚合物例如热固性体、热塑性体或者弹性体之间的偶联剂,或者分别用作交联剂和用于氧化物表面的表面改性剂。
通式I的含硅的偶氮二甲酰胺可以作为偶联试剂,用于填充的橡胶混合物中,例如轮胎胎面(tyretread),工业橡胶制品或者鞋底中。
本发明方法的一个优点是可以在单个合成步骤中从工业上熟知的合成装置中生产通式I的含硅的偶氮二甲酰胺。
本发明方法的另一优点是不需要肼衍生物的氧化,并且实现了高产率、以及高纯度。
本发明方法的另一优点是不需要对所获得的产物进行任何复杂的净化。
具体实施方式
实施例:
将下面的原料用于实施例:
·偶氮二甲酸二异丙酯(JayhawkChemicals),纯度>94%(GC/热导率检测器)。
·3-氨基丙基(三乙氧基硅烷),来自EvonikDegussaGmbH,纯度>98%(GC/热导率检测器)。
·戊烷,CH2Cl2和异丙醇,来自Aldrich,Acros和Merck-Schuchardt。
实施例1:在戊烷中生产[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-N=]2
在处于惰性气氛下的烧瓶中,在0°C的1000g戊烷中将164.2g(742mmol)的3-氨基丙基(三乙氧基硅烷)作为初始添加料使用,并且搅拌。将处于-5°C到5°C的75g的偶氮二甲酸二异丙酯(DIAD,371mmol)在30min的时间内逐滴加入到该溶液中。然后在-5°C到5°C的温度继续搅拌另外30min。然后移去该冷却浴,并且将该溶液搅拌180min,同时该混合物的温度升高到室温。然后在高到6mbar的压力下,在旋转蒸发器上除去全部的挥发性成分(戊烷,异丙醇)。
NMR研究显示所获得的红色油(194g,>99%产率)包含了纯度>85mol%的目标产物。
实施例2:在CH2Cl2中生产[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-N=]2
在处于惰性气氛下的烧瓶中,在0°C的1000gCH2Cl2中将164g(742mmol)的3-氨基丙基(三乙氧基硅烷)作为初始添加料使用,并且搅拌。将处于-5°C到5°C的75g的偶氮二甲酸二异丙酯(DIAD,371mmol)在30min的时间内逐滴加入到该溶液中。然后在-5°C到5°C的温度继续搅拌另外30min。然后移去该冷却浴,并且将该溶液搅拌170min,同时该混合物的温度升高到室温。然后在高到6mbar的压力下,在旋转蒸发器上除去全部的挥发性成分(CH2Cl2,异丙醇)。
NMR研究显示所获得的红色油(193.8g,>99%产率)包含了纯度>85mol%的目标产物。
Claims (10)
1.一种生产通式I的含硅的偶氮二甲酰胺的方法,
(R1)3-a(R2)aSi-RI-NH-C(O)-N=N-C(O)-NH-RI-Si(R1)3-a(R2)aI,
该方法是通过将通式II的偶氮双羧基化合物
R3-X1-C(O)-N=N-C(O)-X1-R4II
与通式III的氨基硅烷反应来进行的
(R1)3-a(R2)aSi-RI-NH2III,
其中a相互独立的是1、2或者3,
R1相互独立的是未取代的C1-C18-烷基、C5-C18-环烷基、或者C6-C18-芳基,
R2相互独立的是–OH、未取代的C1-C18-烷氧基或者C5-C18-环烷氧基,
RI是支化的或者未支化的、饱和的或者不饱和的、脂肪族、芳族或者混合的脂肪族/芳族的二价C1-C30-烃基,任选地,其是用F-、Cl-、Br-、I-、-CN或者HS-取代的,
X1相互独立的是O、NH或者N-A1,其中A1是C1-C12-烷基或者苯基,和
R3和R4相互独立的是H、C1-C18-烷基,苄基(-CH2-C6H5)或者烷基聚醚基团(CH2-CH2-O)n-R5或者(CH(CH3)-CH2-O)n-R5,其中n的平均值是1-18,和
R5相互独立的是支化的或者未支化的、饱和的或者不饱和的单价C1-C32-烃链。
2.根据权利要求1的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于通式II的偶氮双羧基化合物是R3-O-C(O)-N=N-C(O)-O-R4或者R3-HN-C(O)-N=N-C(O)-NH-R4。
3.根据权利要求2的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,其中通式II的偶氮双羧基化合物是H2N-C(O)-N=N-C(O)-NH2。
4.根据权利要求1或者2的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于通式III的氨基硅烷是3-氨基丙基(三甲氧基硅烷)、3-氨基丙基(三乙氧基硅烷)、3-氨基丙基(二甲氧基甲基硅烷)、3-氨基丙基(甲氧基二甲基硅烷)、3-氨基丙基(二乙氧基甲基硅烷)、3-氨基丙基(乙氧基二甲基硅烷)或者3-氨基丙基(三丙氧基硅烷)。
5.根据权利要求1的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于该反应是在溶剂中进行的。
6.根据权利要求1的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于该反应是不使用溶剂进行的。
7.根据权利要求1的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于该反应是在无空气和/或无水下进行的。
8.根据权利要求1的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于在该反应之前、之中或者之后,加入稳定剂。
9.根据权利要求2的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于所用的通式II的化合物是C3H7-O-C(O)-N=N-C(O)-O-C3H7或者C6H5-CH2-O-C(O)-N=N-C(O)-O-CH2-C6H5。
10.根据权利要求1的生产含硅的偶氮二甲酰胺的方法,特征在于该反应是在-50℃到+200℃的温度下进行的。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010003387A DE102010003387A1 (de) | 2010-03-29 | 2010-03-29 | Verfahren zur Herstellung von siliciumhaltigen Azodicarbamiden |
DE102010003387.1 | 2010-03-29 | ||
PCT/EP2011/053824 WO2011120792A1 (de) | 2010-03-29 | 2011-03-15 | Verfahren zur herstellung von siliciumhaltigen azodicarbamiden |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102822183A CN102822183A (zh) | 2012-12-12 |
CN102822183B true CN102822183B (zh) | 2015-11-25 |
Family
ID=44021969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201180016708.0A Active CN102822183B (zh) | 2010-03-29 | 2011-03-15 | 制备含硅的偶氮二甲酰胺的方法 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8664370B2 (zh) |
EP (1) | EP2552925B1 (zh) |
JP (1) | JP5744173B2 (zh) |
KR (1) | KR101761965B1 (zh) |
CN (1) | CN102822183B (zh) |
BR (1) | BR112012024805B1 (zh) |
CA (1) | CA2794944C (zh) |
DE (1) | DE102010003387A1 (zh) |
ES (1) | ES2505498T3 (zh) |
MX (1) | MX2012010262A (zh) |
MY (1) | MY156704A (zh) |
PL (1) | PL2552925T3 (zh) |
RU (1) | RU2559876C2 (zh) |
UA (1) | UA105843C2 (zh) |
WO (1) | WO2011120792A1 (zh) |
ZA (1) | ZA201207291B (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2444782T3 (es) | 2011-04-01 | 2014-02-26 | Evonik Degussa Gmbh | Mixturas de caucho |
US8741994B1 (en) * | 2012-12-13 | 2014-06-03 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Alkoxysilyl group-containing azo compound and rubber composition using the same |
TWI591848B (zh) * | 2013-11-28 | 2017-07-11 | 晶元光電股份有限公司 | 發光元件及其製造方法 |
EP2937351B1 (en) | 2014-04-22 | 2017-11-15 | Evonik Degussa GmbH | Azocarbonyl-functionalized silanes |
FR3020066B1 (fr) | 2014-04-22 | 2016-04-01 | Michelin & Cie | Composition de caoutchouc pour pneumatique comportant un agent de couplage azosilane |
EP3181571B1 (en) * | 2015-12-17 | 2019-07-24 | Evonik Degussa GmbH | Silicon-containing azodicarboxamides, their preparation and use |
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CN101228223A (zh) * | 2005-05-26 | 2008-07-23 | 米其林技术公司 | 用于轮胎的包含有机硅偶合剂和无机填料遮盖剂的橡胶组合物 |
CN101228224A (zh) * | 2005-05-26 | 2008-07-23 | 米其林技术公司 | 用于轮胎的包含有机硅偶合体系的橡胶组合物 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2510345B2 (ja) * | 1990-08-30 | 1996-06-26 | 積水化学工業株式会社 | アルコキシシリル基含有アゾ化合物及びその製造方法 |
FR2886294B1 (fr) * | 2005-05-26 | 2007-07-20 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation de composes organosiliciques |
DE102005038791A1 (de) | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Degussa Ag | Organosiliciumverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
DE102006004062A1 (de) | 2006-01-28 | 2007-08-09 | Degussa Gmbh | Kautschukmischungen |
-
2010
- 2010-03-29 DE DE102010003387A patent/DE102010003387A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-03-11 US US13/580,780 patent/US8664370B2/en active Active
- 2011-03-15 KR KR1020127025562A patent/KR101761965B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-15 CN CN201180016708.0A patent/CN102822183B/zh active Active
- 2011-03-15 ES ES11708247.9T patent/ES2505498T3/es active Active
- 2011-03-15 CA CA2794944A patent/CA2794944C/en active Active
- 2011-03-15 JP JP2013501723A patent/JP5744173B2/ja active Active
- 2011-03-15 RU RU2012145738/04A patent/RU2559876C2/ru active
- 2011-03-15 UA UAA201212149A patent/UA105843C2/uk unknown
- 2011-03-15 BR BR112012024805-7A patent/BR112012024805B1/pt active IP Right Grant
- 2011-03-15 MY MYPI2012004290A patent/MY156704A/en unknown
- 2011-03-15 WO PCT/EP2011/053824 patent/WO2011120792A1/de active Application Filing
- 2011-03-15 MX MX2012010262A patent/MX2012010262A/es active IP Right Grant
- 2011-03-15 EP EP11708247.9A patent/EP2552925B1/de active Active
- 2011-03-15 PL PL11708247T patent/PL2552925T3/pl unknown
-
2012
- 2012-09-28 ZA ZA2012/07291A patent/ZA201207291B/en unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2704506A1 (de) * | 1976-02-06 | 1977-08-11 | Malaysian Rubber Producers | Substituierte azosilane, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
CN101228223A (zh) * | 2005-05-26 | 2008-07-23 | 米其林技术公司 | 用于轮胎的包含有机硅偶合剂和无机填料遮盖剂的橡胶组合物 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2552925A1 (de) | 2013-02-06 |
WO2011120792A1 (de) | 2011-10-06 |
RU2012145738A (ru) | 2014-05-10 |
ZA201207291B (en) | 2013-06-26 |
BR112012024805B1 (pt) | 2018-05-15 |
US20130012691A1 (en) | 2013-01-10 |
JP5744173B2 (ja) | 2015-07-01 |
CA2794944C (en) | 2017-05-09 |
CN102822183A (zh) | 2012-12-12 |
MX2012010262A (es) | 2012-11-23 |
EP2552925B1 (de) | 2014-07-23 |
US8664370B2 (en) | 2014-03-04 |
ES2505498T3 (es) | 2014-10-10 |
KR101761965B1 (ko) | 2017-07-26 |
JP2013523671A (ja) | 2013-06-17 |
DE102010003387A1 (de) | 2011-09-29 |
KR20130034014A (ko) | 2013-04-04 |
UA105843C2 (uk) | 2014-06-25 |
MY156704A (en) | 2016-03-15 |
PL2552925T3 (pl) | 2014-12-31 |
CA2794944A1 (en) | 2011-10-06 |
RU2559876C2 (ru) | 2015-08-20 |
BR112012024805A2 (pt) | 2016-06-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Essen, Germany Patentee after: Evonik Operations Limited Address before: Essen, Germany Patentee before: EVONIK DEGUSSA GmbH |