CN100440075C - 处理盒和成像装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种处理盒，该处理盒具有由至少第一和第二框体组成的框体，所述第一和第二框体相对于彼此可移动以形成空间，该处理盒还具有将所述第一和第二框体定位的框体定位构件，由所述框体支撑并且经由所述第一和第二框体形成的空间可更换的所述潜像承载构件，将显影剂供给所述潜像承载构件的显影单元，以及显影位置确定构件。所述显影位置确定构件设置在相对于所述框体定位构件的非重叠位置，并且将所述显影单元相对于所述框体定位。

Description

处理盒和成像装置

技术领域

本发明一般地涉及处理盒(process cartridge)和成像装置，并且更特别地涉及通过静电图像传动过程在复印装置、传真装置、打印机等中成像的处理盒，并且涉及一种使用该处理盒的成像装置。

背景技术

在成像装置中，显影单元内的调色剂通过成像被消耗并且需要补充。在两种成分的显影剂的情况中，需要更换磁性载体。成像装置内的其他构件，例如在长时期地使用后磨损和变坏的感光体、由于成像装置内悬浮的和分散的调色剂而变脏的充电单元以及由于与感光体接触而磨损的清洁刀片，同样需要更换，否则会产生粉尘特征的图像、表面图像不清等。换句话说，为了防止产生粉尘特征的图像、表面图像不清等，上述的构件和单元必须被更换。因此，当产生粉尘特征等时，维修和维护人员(以下简称为维修人员)到达用户的成像装置的安装现场并且更换各构件和/或各单元。然而，成像装置内的各构件和单元的耐久性得以改善，并且用在成像装置中的显影剂等的使用寿命也得以延长。因此，减小了维修人员对成像装置维护的需要。另一方面，当维修人员确实对成像装置进行维修时，要花费非常长的时间拆卸成像装置内的各构件和单元和在成像装置中安装新的构件和单元。

因此，提出了一种相对于成像装置的主体可拆卸的处理盒。处理盒整体地支撑各处理装置，例如充电装置、显影装置和清洁装置。通过更换处理盒，可以减小对用户的成像装置进行维护的维修人员的工作时间。在某些情况中，用户自己可以容易地更换处理盒，而不需要维修人员到成像装置的安装现场进行维修。各个构件和单元的使用寿命不同。例如，感光体的使用寿命为10,000版到80,000版，磁性载体的使用寿命为50,000到100,000版，而充电单元的使用寿命为30,000到80,000版。传统上，用户或维修人员在更换整个处理盒时，不考虑处理盒内的各构件和单元的不同使用寿命。结果是，虽然仅仅需要将整个处理盒更换比较方便，但是从有效地利用资源的角度来讲，当处理盒内的一个构件或单元的使用寿命到期时将该处理盒内的还可用的构件或单元也更换是不合适的。从用户的角度来讲，需要将各构件或单元使用到其使用寿命到期为止。

日本未审公开的专利申请No.2003-177651提出一种处理盒，其具有去除感光体上的残留调色剂的清洁构件和容纳所去除的调色剂的去除调色剂容纳部。该去除调色剂容纳部设置有：容器状的清洁框体，该清洁框体包括与感光体面对的第一开口和位于与所述第一开口分开位置的第二开口；基本上覆盖第一开口的清洁构件；以及设置在第二开口的周边的盖框体。弹性密封件设置在所述盖框体和所述清洁构件的支撑部之间。根据这种提出的处理盒，可以减小所述去除调色剂容器和处理盒两者的尺寸，同时容纳大量的调色剂并且改善可容纳的去除调色剂的量。

日本未审公开的专利申请No.2003-186305提出了一种在其中装配有潜像承载构件和至少一个处理单元的处理盒。显影剂供料盒和去除显影剂回收盒与容纳显影剂的显影壳体相通。显影剂供料盒设置在潜像承载构件上的潜像显示位置的上游侧，而去除显影剂回收盒设置在潜像写入位置的下游侧上的位置。

日本未审公开专利申请No.2001-331082提出了一种处理盒，其整体地包括至少显影单元，以及充电单元、电子照相感光体和所述电子照相感光体的清洁单元的其中之一。处理盒可拆卸地装入成像装置的主体，并且该处理盒具有能被手持和容易摇动的结构。

日本公开的专利申请No.7-78667提出了一种具有第一和第二框体的成像装置，其中，通过转动框体可将感光体拆卸。

日本专利No.3039693提出了一种能使充电单元拆卸的处理盒。

日本未审公开专利申请No.2003-76249提出了一种整合显影单元和感光单元的处理盒，其中，显影单元包括显影装置和调色剂容器，并且感光体单元包括感光鼓，充电装置和清洁单元。

日本未审公开的专利申请No.8-101624提出了一种处理盒，在更换清洁刀片时，该处理盒在拆除充电装置后拆除。

日本未审公开的专利申请No.7-302033提出了一种具有通知装置的处理盒，其用于通知已使用的次数并且设置在处理装置的可再利用和可更换的部分上。

根据在上述文献中所提出了处理盒，考虑到组成元件的减小的尺寸和延长的使用寿命，可以整体地更换每个组成元件。然而，存在的问题是，不能容易地更换组成处理盒的图像承载构件和各个处理装置。

发明内容

本发明的一般目的是提供一种处理盒和成像装置，从而可以解决上述的问题。

本发明的更具体的目的是提供一种处理盒和成像装置，该处理盒和成像装置使处理盒自身能够被更换，并且整体地包括潜像承载构件和各处理装置或单元，并且还使用户或维修人员易于独立地更换图像承载构件和各个处理装置或单元。

本发明的另一和更具体的目的是提供一种的处理盒和成像装置，其即使在图像承载构件和各个处理装置或单元独立地被更换的时也能够精确定位成像条件。

本发明的又一个和更具体的目的是提供一种处理盒和成像装置，其能够独立地更换每一个消耗或磨损的处理装置或单元。

本发明的又一个和更具体的目的是提供一种处理盒和成像装置，即使调色剂的近似球形的颗粒具有较小的直径，其也能够清洁。

本发明的又一目的是提供一种处理盒，该处理盒具有由至少第一和第二框体组成的框体，所述第一和第二框体相对于彼此可移动以形成空间；将所述第一和第二框体定位的框体定位构件；由所述框体支撑并且经由所述第一和第二框体形成的空间可更换的所述潜像承载构件；将显影剂供给所述潜像承载构件的显影单元；以及显影位置确定构件，所述显影位置确定构件设置在相对于所述框体定位构件的非重叠位置，并且将所述显影单元相对于所述框体定位。

所述显影单元可以包括传送所述显影剂的显影剂承载构件和设置在所述显影剂承载构件内并且具有预定主磁极方向的磁铁组；并且所述显影位置确定构件可以包括将所述潜像承载构件和所述显影剂承载构件定位的定位构件和确定所述磁铁组相对于所述潜像承载构件的所述磁极方向的角度定位构件。

所述处理盒可以还包括清洁所述潜像承载构件上的残留调色剂的清洁单元；以及清洁位置确定构件，其设置在相对于所述框***置确定构件和所述显影位置确定构件的非重叠位置，并且将所述清洁单元相对于所述框体定位。

所述处理盒还可以包括清洁所述潜像承载构件上的残留调色剂的清洁单元；以及将所述清洁单元相对于所述框体定位的清洁位置确定构件，其中，所述清洁单元经由所述第一和第二框体所形成的空间可替换。

所述清洁单元可以包括去除至少所述潜像承载构件上的残留调色剂的清洁刀片，控制所述残留调色剂的装料量的偏压滚筒，以及回收粘附在所述偏压滚筒和所述清洁刀片上的调色剂的回收滚筒；所述清洁位置确定构件可以包括将所述清洁刀片相对于所述框体、所述偏压滚筒和所述回收滚筒定位的刀片定位构件；以及所述清洁刀片、所述偏压滚筒和所述回收滚筒可以独立地替换。

所述处理盒可以还包括将所述潜像承载构件均匀充电的充电单元，其中，所述充电单元相对于所述框体定位在相对于所述框***置确定构件、所述显影位置确定构件和所述清洁位置确定构件的非重叠位置。

在所述处理盒中，所述潜像承载构件、所述清洁单元、所述充电单元和所述显影单元的至少一个可以在将所述处理盒从成像装置的主体中拆卸后被替换。

所述潜像承载构件可以***有设置在成像装置的主体中的驱动轴。

所述框体可以具有用于接收所述驱动轴的孔部。

所述框体可以包括放电单元和检测单元。

所述放电单元可以包括电致发光灯。

所述检测单元可以包括用于检测所述潜像承载构件的电位的电位传感器，用于检测所述潜像承载构件上的调色剂的量的调色剂密度传感器，以及用于检测所述处理盒内的温度和湿度的温度和湿度传感器。

用于外部连接的电线可以经由所述处理盒的一个位置连接。

所述显影单元可以使用平均圆度在0.93到1.00范围内的调色剂。

所述调色剂可以具有在1.05到1.40范围内的体积平均微粒大小与数量平均微粒大小的比值。

所述调色剂可以由近似球形微粒组成，所述各微粒的短轴r2和长轴r1的比值r2/r1在0.5到1.0范围内，厚度r3和短轴r2的比值r3/r2在0.7到1.0的范围内，并且满足r1≥r2≥r3的关系。

所述调色剂可以通过使调色剂材料溶剂在水介质中进行交联反应和/或延伸反应来制成，其中，调剂剂材料溶剂通过在有机溶剂中溶解或分散这样的物质来获得，所述物质即，至少一种具有包括氮原子、聚酯、着色剂和脱模剂的功能团的聚酯预聚物。

所述处理盒可以还包括容纳调色剂和新供给的调色剂的容纳部。

所述处理盒可以通过接受所供给的调色剂再使用。

所述处理盒可以还包括容纳所供的调色剂的容纳部。

本发明的另一目的是一种用于将在潜像承载构件上形成的潜像显现成调色剂图像的成像装置，其包括至少一个上述的可拆卸的处理盒，其中，所述潜像承载构件和所述显影单元的至少一个相对于所述处理盒可替换。

所述成像装置可以还包括容纳所供给调色剂的容纳部件。

本发明的另一目的是一种处理盒，其包括框体；由所述框体支撑的潜像承载构件；将调色剂供给所述潜像承载构件的显影单元；将所述显影单元相对于所述框体定位的显影位置确定构件；清洁所述潜像承载构件上的调色剂的清洁单元；以及清洁位置确定构件，其设置在相对于所述显影位置确定构件非重叠的位置，将所述清洁单元相对于所述框体定位。

所述显影单位可以包括传送显影剂的显影剂承载构件和设置在所述显影剂承载构件内并且具有预定主磁极方向的磁铁组；并且所述显影位置确定构件可以包括将所述潜像承载构件和所述显影剂承载构件定位的定位构件和确定所述磁铁组相对于所述潜像承载构件的所述磁极方向的角度定位构件。

所述框体可以由至少第一和第二框体组成，所述第一和第二框体相对于彼此可移动以形成空间，所述潜像承载构件可以由所述框体支撑并且经由所述第一和第二框体形成的所述空间可更换，并且所述处理盒还可以包括框体定位构件，其设置在相对于所述显影位置确定构件的非重叠位置，并且将所述第一和第二框体定位。

通过在所述第一和第二框体相对于彼此移动而形成空间之后将所述清洁位置确定构件拆卸，所述清洁单元可替换。

所述清洁单元可以包括去除至少所述潜像承载构件上的残留调色剂的清洁刀片，控制所述残留调色剂的装料量的偏压滚筒，以及回收粘附在所述偏压滚筒和所述清洁刀片上的调色剂的回收滚筒；所述清洁位置确定构件包括将所述清洁刀片相对于所述框体、所述偏压滚筒和所述回收滚筒定位的刀片定位构件；以及所述清洁刀片、所述偏压滚筒和所述回收滚筒可独立地替换。

所述处理盒可以还包括将所述潜像承载构件均匀充电的充电单元，其中，所述充电单元相对于所述框体定位在相对于所述框***置确定构件、所述显影位置确定构件和所述清洁位置确定构件的非重叠位置。

本发明的又一目的是提供一种用于将在潜像承载构件上形成的潜像显现成调色剂图像的成像装置，其包括至少一个上述的可拆卸的处理盒，其中，所述潜像承载构件、所述显影单元和清洁单元的至少一个相对于所述处理盒可替换。

所述处理盒可以还包括容纳所供给的调色剂的容纳部。

本发明的另一目的是提供一种构造为相对于成像装置可拆卸的处理盒，其包括潜像承载构件；以及至少三个与所述潜像承载构件整体地设置的处理单元，其中，所述潜像承载构件和所述各处理单元的每一个独立地可替换。

在所述处理盒中，所述三个单元包括清洁单元、显影单元和充电单元。

本发明的另一目的是提供一种构造为相对于成像装置可拆卸的处理盒，其包括：框体；由所述框体支撑的潜像承载构件；以及至少一个与所述潜像承载构件整体地设置并且由所述框体支撑的处理单元，其中，所述潜像承载构件和所述至少一个处理单元独立地可替换。

所述潜像承载构件和所述至少一个处理单元在不需要将其他处理单元拆除的情况下可替换。

所述潜像承载构件和所述至少一个处理单元在将所述处理盒从所述成像装置中拆卸之后被替换。

所述潜像承载构件在不需要将所述至少一个处理单元从所述框体中拆卸的情况下可拆卸。

在所述处理盒中，清洁单元可以形成一个处理单元，并且所述潜像承载构件可以在转动所述清洁单元之后从所述框体中拆卸。

所述处理盒可以还包括将所述清洁单元相对于所述框体定位的清洁位置确定构件。

所述清洁单元可以包括涂覆机构，所述涂覆机构包括涂覆滚筒和润滑体，所述涂覆机构将润滑剂涂覆在潜像承载构件上。

所述清洁单元包括清洁刀片，并且所述润滑体可替换。

所述处理盒可以还包括形成一个处理单元的充电单元，其中，所述框体包括接纳所述充电单元的凹槽。

所述处理盒可以还包括显影单元和将所述显影单元相对于所述框体定位的显影定位构件。

所述显影位置确定构件可以将所述显影单元的显影基准轴相对于形成轴承的所述框体中的孔定位。

所述潜像承载构件可以在所述处理盒装载入所述成像装置中时接纳所述成像装置的驱动轴。

所述框体可以包括形成轴承并且接纳所述成像装置的所述驱动轴的孔。

所述处理盒可以还包括设置在所述框体上的放电单元和设置在所述框体上的检测单元。

所述检测单元可以包括检测所述潜像承载构件的电位的电位传感器，检测所述潜像承载构件上的调色剂的量的调色剂密度传感器，以及检测所述处理盒内的温度和湿度的温度和湿度传感器。

所述处理盒可以还包括容纳所调色剂或新供给的调色剂的容纳部。

所述处理盒通过接收调色剂可再使用。

所述处理盒可以还包括容纳所供给的调色剂的容纳部件。

本发明的又一目的是提供一种用于将在潜像承载构件上形成的潜像显现成调色剂图像的成像装置，其包括至少一个上述的可拆卸的处理盒，其中，所述潜像承载构件、所述显影单元和清洁单元的至少一个相对于所述处理盒可替换。

所述成像装置可以还包括容纳所供给调色剂的容纳部。

因此，根据本发明处理盒和根据本发明的成像装置，处理盒可以自身更换，并且可以容易地更换潜像承载构件和各个处理单元。另外，可以采用提供装配基准的成像装置的导杆和处理盒的位置确定构件将处理盒相对于成像装置定位。此外，可以独立地更换被消耗或磨损的并且具有不同使用寿命的部件和单元。

附图说明

通过结合附图的如下详细说明，本发明的其他目的和另外的特征将是显而易见的。

图1是透视图，示出了根据本发明的处理盒的实施例的总体结构；

图2是剖视图，示出了处理盒的实施例的结构；

图3A和3B分别是从成像装置的前侧和后侧所观察的透视图，示出了处理盒框体的总体结构；

图4示出了感光体的总体结构的透视图；

图5是总体示出了装配到成像装置中的处理盒的后侧状态的视图；

图6是总体示出了装配到成像装置中的处理盒的前侧状态的视图；

图7是剖视图，示出了感光体的光导层的总体结构；

图8A和8B分别是总体示出了充电模块的透视图和侧视图；

图9是示出了充电模块的总体结构的透视图；

图10是放大比例的透视图，示出了与充电模块的充电构件接触的电极部件的总体结构；

图11是示出了充电模块的总体结构的透视图；

图12是总体示出了充电模块装载到处理盒中的阶段时的透视图；

图13是示出了充电构件的一般结构的视图；

图14A和14B是分别示出了显影模块的一般结构的透视图和侧视图；

图15是示出了显影模块的另一总体结构的剖视图；

图16是示出了显影套管的结构的剖视图；

图17是总体示出了显影模块被装载时的状态的透视图；

图18是总体示出了显影模块被装载时的状态的透视图；

图19是示出角度位置确定构件的总体结构的透视图；

图20是示出清洁模块的总体结构的剖视图；

图21是总体示出清洁模块被装载时的状态的透视图；

图22是总体示出另一清洁模块被装载到第二框体中时的状态的透视图；

图23是示出清洁模块内的清洁子模块的一般结构的透视图；

图24是透视图，其总体示出第二框体被转动而形成敞开空间且清洁子模块从该敞开空间被拆卸时的状态；

图25是透视图，其总体示出感光体被拆卸并且与处理盒分开时的状态；

图26是透视图，其总体示出感光体被拆卸并且与处理盒分开时的状态；

图27是示出了根据本发明的成像装置实施例的总体结构的视图；

图28A和28B是分别示出了用于解释形状因数SF-1和形状因数SF-2的调色剂形状的视图；以及

图29A是透视图，其示出了调色剂的一般结构，图29B和29C分别是沿x-z平面和y-z平面截取的调色剂的剖视图。

具体实施方式

图1是显示根据本发明的处理盒实施例的总体结构的透视图，而图2是显示处理盒的该实施例的结构的剖视图。

如图1和2所示，处理盒1由处理盒框体2组成。处理盒框体2可具有潜像承载构件，作为各处理装置或单元而设置的充电装置或单元，显影装置或单元，以及清洁装置或单元。例如，潜像承载构件由感光体3形成，充电装置或单元可以由充电模块4形成，显影装置或单元可以由显影模块5形成，以及清洁装置或单元可以由清洁模块6形成。处理盒1自身是可替换的。另外，在处理盒1从成像装置100的主体拆离的状态中，感光体3、充电模块4、显影模块5和清洁模块6的每一个可以由新的主体或模块(以下简称模块)替代，成像装置100将在随后讨论。另外，各模块自身可以单独地由维修者或使用者操作。

图3A和3B分别为从成像装置100的前侧和后侧所观察的透视图，其示出了处理盒框体2的总体结构。

处理盒框体2由第一框体2a和第二框体2b组成，所述第一框体2a和第二框体2b绕形成转轴的结合件2c以枢转的方式在打开位置和关闭位置之间接合。在关闭位置时，第一和第二框架2a和2b包围感光体3以使得感光体3不能被拆卸。突出部和孔部(均未示出)设置在相应的第一和第二框体2a和2b中，并且每个突出部通过***孔部而啮合于相应的孔部。结合件2c通过环件将突出部保持以防止突出部从孔部中滑出。此外，在关闭位置时，两个销通过设置在第一和第二框体2a和2b的重叠部分处的孔穿过框体定位构件74，从而同时定位和固定第一和第二框体2a和2b。因此，在不必整体形成处理盒框体2的情况下可以由第一和第二框体2a和2b来装配处理盒框体2，并且第一和第二框体2a和2b可以容易地分开。因此，随后将要说明的感光体3和各处理装置或单元4可以单独地被替换。在该特定的情况中，第一和第二框体2a和2b绕形成转轴的结合件2c可枢转，但第一和第二框体2a和2b不限于该结构。例如，第一和第二框体2a和2b可以具有这样的结构，即第一和第二框体2a和2b在打开位置和关闭位置之间可滑动。

处理盒框体2可以具有一个或多个如图2所示的检测装置或单元。检测装置或单元可包括用于检测处理盒1内的温度和湿度的温度和湿度传感器21，用于检测感光体3的电位的电位传感器22，以及用于检测在显影后在感光体3上显影的调色剂的量的调色剂浓度传感器23。

温度和湿度传感器21设置在第二框体2b上。温度和湿度传感器21可以通过诸如具有正或负温度特性的微温度传感元件的检测元件来检测温度和湿度。例如，微温度传感元件可以是由具有正温度特性的铂、钨、镍铬铁合金(nichrome)或坎塔尔铁铬铝系高电阻合金(kanthal)制成的或由具有负温度特征的碳化硅(carbon silicide)或氮化钽(TaN)制成的微带、薄膜或热敏电阻。在图2所示的特定情况中，温度和湿度传感器21设置在第二框体2b的顶部，但温度和湿度传感器21在第二框体2b上的位置不限于此。

电位传感器22设置在第二框体2b上，并且其由电位检测件形成，所述电位检测件可由成像装置100的主体内的控制器控制。电位传感器22可以通过设置成离感光体3的表面间隙为1mm到3mm来检测感光体3的表面电位。如图2所示，电位传感器22设置在第一框体2a的顶部中充电模块4和显影模块5之间，暴露的激光束的下游侧上。在该位置，电位传感器22的电位检测件检测成为片状连续黑色部的形成有潜像的感光体3的电位，并且所检测电位的检测信号经由信号线24(或束线)输送给成像装置100的控制器。成像装置100的控制器基于该检测信号确定将要施加给显影模块5的显影偏压的大小。当然，电位传感器22的位置不限于上述位置。例如，电位传感器22可以检测成为白色背景部的形成有潜像的感光体3，并且使连续白色部分形成的激光束的光量(或光强度)和/或曝光时间可以基于所检测信号而得以控制。

调色剂浓度传感器23设置在第一框体2a上。形成在感光体3上成像区域之外的连续黑色部的潜像由调色剂显现，并且粘附在连续黑色部处的调色剂的量作为图像色调由调色剂浓度传感器23光学地检测。所检测的粘附调色剂量的检测信号输送给成像装置100的控制器。调色剂传感器23由例如LED的发光元件和光接收元件(均未示出)组成，并且通过由连续黑色部上的发光元件发光并且由光接收元件检测从该连续黑色部所反射的光量来检测粘附在感光体3上的调色剂的数量。显影模块5内所容纳的显影剂(或显像剂)的调色剂浓度基于来自调色剂浓度传感器23的检测信号由存储在成像装置100的控制器中的表来确定。调色剂浓度传感器23设置在显影模块5的下游侧上。

通过将各种与感光体3相关的传感器设置在第一框体2a或第二框体2b上，可以容易地替换处理盒1的各处理装置或单元。另外，可以获得可替换的和便宜的处理装置或单元。

未示出的信号线(或线束)积聚在处理盒1的后侧并且共同地连接在设置于处理盒1的后侧上的连接器部件2d上。连接器部件2d连接在成像装置100的主体的连接部上，从而与成像装置100的主体内的电路电连接。从上述各传感器引出的信号线(线束)通过沿形成转轴的结合件2c布线而到达连接器部件2d。因此，处理盒框体2的第一和第二框体2a和2b可以自由转动，从而可以改善各处理装置或单元的可替换性。

例如，可以设置预转印放电单元25和预清洁放电单元26。通过将预转印放电单元25设置在转印区的上游侧以及将预清洁放电单元26设置在该转印区的下游侧和清洁模块6的上游侧，并且衰减感光体3上的电荷，从而便于转印和清洁。特别的是，预清洁放电单元26便于对没有转印到感光体3上的残余调色剂的清洁。发光装置，例如激光器二极管(LD)、LED、场致发光(EL)和荧光灯，可以使用为预转印放电单元25和预清洁放电单元26，从而使感光体3被从上述发光装置发出的光曝光并且衰减感光体3上的电荷。LD或EL优选地用作发光装置，并且更优选地将El用作发光装置，原因是其具有简单的结构。当然，预充电放电单元可以设置在充电模块4的上游侧以在充电之前实现放电，从而消除感光体3上的残余电位并且均匀地将感光体3充电。

图4是示出了感光体的总体结构的透视图。图5是总体示出装配到成像装置中的处理盒的后侧状态的视图，并且图6是总体示出装配到成像装置中的处理盒的前侧状态的视图。

如图4所示，感光体3在圆柱状铝衬底35上设置有感光层36。在感光体3具有圆柱状的情况中，凸缘31和32设置在圆柱内部上的两端上。

如图5所示，处理盒1的后侧上的凸缘32的中心部形成有轴承33，该轴承用于接收设置在成像装置100的主体中的驱动轴101。在轴承33的内表面上形成齿轮34，并且齿轮34与设置在驱动轴101上的齿轮102啮合。

如图6所示，处理盒1的前侧上的凸缘31的中心部形成有结合部37f。当将感光体3装载到处理盒1中时，结合部37f与安装在第一框体2a上的定位部2e结合。定位部2e被弹簧(未示出)沿着向回推感光体3的方向施力。在将凸缘32的结合部37r推压在定位部2e上的同时将感光体3装入处理盒框体2中，从而可将感光体3装入到处理盒1中，并且感光体3可以按照相反的顺序从处理盒1中拆卸(或卸出)。在感光体3由设置在处理盒框体2的侧板11上的支撑部12简单支撑的状态中，感光体3的定位不是非常精确，使得成像在该状态下完成。成像装置100在成像装置100的主体的后侧板111r上设置有轴承103，其与设置在处理盒1的处理盒框体2的后侧板11r中的孔部13对应。驱动轴101配合在处理盒1的孔部13中，从而使成像装置100和处理盒1定位。

驱动轴101***在感光体3的凸缘31的轴承中，并且驱动轴101的齿轮102与凸缘31的齿轮34啮合。当设置在成像装置100的主体中的驱动轴101转动时，驱动轴101的齿轮102通过感光体3的齿轮34使感光体转动。另外，感光体3不是固定在处理盒1的支撑部11上，而是仅由支撑部11支撑。通过将成像装置100的驱动轴101配合在感光体3中来定位感光体3。成像装置100的驱动轴101还同时将处理盒1和感光体3定位。为了高精度地驱动感光体3，应该有效地支撑感光体3的转动轴，但在该实施例中，驱动轴101设置在成像装置100的主体中，并且驱动轴101***到处理盒1中并定位处理盒。因此，可以使感光体3和处理盒1价格低廉，并且还可以高精度转动地驱动感光体3和处理盒1。

图7是示出了感光体的感光层的总体结构的剖面图。

在图7中所示的感光体3的衬底35由例如铝、铜和钢或这些金属的合金制成。衬底35通过使金属或金属合金经受例如挤压和拉拔的工艺而形成大致柱状管型，并且接下来经受例如切削、超级研磨和抛光的表面处理，从而形成柱状鼓。

感光层36由电荷产生层36a和电荷转移层36b形成，所述电荷产生层具有作为主要成分的电荷产生材料，所述电荷转移层36b将所产生的电荷转移给感光体3的表面或衬底35。电荷产生层36a可以通过如下方法形成，即，通过使用球磨机、磨碎机、砂磨机、超声波等将电荷产生材料分散在合适的溶剂里，如果需要的话可以与粘合树脂(binding resin)一起，并且将电荷产生材料涂覆在导电支撑上以在其上干燥。所公知的电荷产生材料可以使用为电荷产生层36a。可用作电荷产生层36a的典型的电荷产生材料包括单偶氮颜料、重氮颜料、三偶氮颜料、基于苝的颜料、基于perynone的颜料、基于喹吖啶酮的颜料、基于醌的缩合多环化合物、基于君子氨酸(squalic acid)的染料、基于酞菁的颜料、基于萘酞菁的颜料和基于azulnenium盐的染料。该偶氮颜料和/或基于酞菁的颜料特别适合用作电荷产生材料。

电荷转移层36a可以由如下方法形成，即，将电荷产生(或传送)材料和粘合树脂溶解或分散到合适的溶剂中，并且将电荷产生材料涂覆在电荷产生层36a上以在其上干燥。如果必要，增塑剂、平整剂、抗氧化剂等可以加入到电荷产生材料中。电荷产生材料可以分类为空穴产生(或传送)材料和电子产生(或传送)材料。例如，电荷产生材料包括四氯代苯对醌(chloranyl)、四溴代对苯醌(bromanyl)和四氰基乙烯，且空穴产生化合物包括聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物、聚-γ-咔唑乙基谷氨酸酯及其衍生物、芘-甲醛缩合材料及其衍生物、聚乙烯基芘和聚乙烯基菲。

为了保护感光层36，保护层36c可以设置在感光层36上。出于改善耐磨损(或磨耗)的目的，可以在保护层36c上加入填充物。从填充物的硬度方面来讲，有益的是采用无机填充材料。硅石、氧化钛和氧化铝可以特别有效地用作为无机填充材料。

图8A和8B分别是总体示出充电模块的透视图和侧视图。图9是示出了充电模块的总体结构的透视图。

如图8A、8B和9所示，充电模块4包括：充电构件42，其设置成面对于感光体3；充电清洁滚筒44，其防止充电构件44振动并且清洁弹簧构件43和充电构件42上的污物；隔离件45；支撑构件46；和外壳41，所述外壳41容纳上述构件42至46。充电构件42和充电清洁滚筒44由支撑构件46可转动地支撑。支撑构件46被弹簧推向与外壳41分开的方向，即，向感光体3的转动轴的方向，并且其移动由形成在外壳41上的限制构件41a所限制。因此，通过采用上述结构，当充电模块4装载到处理盒1中时，通过提供分隔构件，充电构件42与感光体3保持适当的距离，并且另外，防止了充电模块42的振动。不管感光体3是在装载状态还是在卸载状态，形成充电装置或单元的充电模块4可独立地被替换。

图10是放大比例的透视图，示出了与充电模块的充电构件接触的电极部件的总体结构。

如图10所示，电极部件47设置在充电模块4的外壳41上。电极部件47具有转动地支撑滚筒形充电构件42的轴承47a和包括接触型供电部件48c的供电终端48，该供电终端与设置在处理盒1外部的高压电(未示出)连接。

供电终端48从接触型供电部件48c向充电构件42的方向沿充电模块4的外壳41延伸。滑动型供电部件48a设置在供电终端48的一端上，并且配设为，当其被形成供电终端48的材料的弹性推压在充电构件42的轴上的状态下，与该轴的外边缘表面滑动地接触的同时向充电构件42的这个轴供电。在另一方面，滑动型供电部件48b设置在供电终端48的另一端上，并且配设为，在其被形成供电终端48的材料的弹性推压在充电构件42的轴的端面上的状态下，与该轴的端面滑动地接触的同时向充电构件42的该轴供电。设置两个滑动型供电部件48a和48b不是必须的，并且可以仅设置滑动型供电部件48a和48b的其中一个。然而，当滑动类型电源部件48a和48b均设置时，采用多个部件供电可以更确定地供电。

齿轮42e固定在充电构件42的轴部。在将要说明的充电模块4装载到处理盒1中的状态中，齿轮42e与驱动机构(未示出)啮合，该驱动机构经由齿轮42e使充电构件42转动。支撑构件46具有支撑充电构件42的轴的支撑部件46b。在图8B中，支撑构件46沿设置在外壳41上的导向部件41b竖直地可移动。弹簧构件43作为驱使件设置在支撑构件46和外壳4之间。支撑构件46被弹簧构件43在与外壳41分开的方向推动，即，在朝向感光体3的转动轴的方向上推动，并且支撑构件46的移动由形成在外壳41上的限制部件41a来限制。通过采用上述结构，分隔构件45使充电构件42与感光体3保持适当的距离，并且还在充电模块4装入处理盒1时防止了充电构件42的振动。此外，当拆卸充电模块4时，可以独立地操作充电模块4本身。

用于接触和清洁充电构件42的表面的清洁机构设置在充电模块4的外壳41的内部。在该实施例中，充电清洁滚筒44设置为清洁机构。在图9中所示的充电清洁滚筒44***在设置在图8B中所示的充电模块4的外壳41的测板中的支撑件46a中，并且由支撑件46a可转动地支撑。充电清洁滚筒44与充电滚筒42接触并且清洁充电滚筒42的外边缘表面。当例如调色剂、纸屑和各构件碎片的外来的微粒粘附在充电滚筒42的表面上时，可能发生不正常的放电。然而，可以通过充电清洁滚筒42清洁充电滚筒44的表面来防止这样的不正常放电。优选地，充电清洁滚筒44具有如图9所示的滚筒形状并且在转动时清洁充电滚筒42的表面。各充电清洁滚筒44由于其自身重量而接触充电构件42。然而，可以通过弹簧的推压或施加重量而使各清洁滚筒44与充电构件42接触。当然，充电清洁滚筒44可以由刷构件或连续多孔构件形成。

由隔离件将充电构件42和感光体3之间的间隙设置为小于或等于100μm，或优选地在20μm到50μm的范围之间。通过保持该间隙，可以抑制在充电模块4工作时不正常成像。该间隙可以通过配合处理盒1和充电模块4的配件15来调整。设置在由低摩擦系数的树脂制成的轴承上的弹簧构件43将充电滚筒42推向感光体3的表面的方向。因此，即使发生机械振动或芯金属偏离，上述间隙可以保持不变。

图11为示出了充电模块的总体机构的透视图。如图11所示，把手部41a大致设置在充电模块4的外壳41的中心部。把手部41通过改变几何构型而形成，例如设置在外壳41的一部分上的凸部和/或凹部，从而便于操纵充电模块4自身。

图12是透视图，其总地示出了充电模块装入到处理盒中的阶段。如图12所示，充电模块4被***到设置在处理盒1的侧板11f和11r上的配件15f和15r之间。充电模块4通过配合在配件15f和15r之间而定位，并且固定在第二框体2b上。在附图标记“11”和“15”之后添加的符号“f”指示处理盒1的前侧，并且在附图标记“11”和“15”之后添加的符号“r”指示处理盒1的后侧。

图13为示出了充电构件的总体结构的视图。充电模块4的充电构件42可以具有任何合适的结构，并优选为滚筒的形状。如图13所示的充电构件42包括由芯金属制成且设置在中心的轴部42a，和主体部42b。主体部42b由绕轴部42a设置的中间电阻层42c和绕中间电阻层42c设置且形成最外层的表面层42d组成。例如，轴部42a由例如不锈钢和铝的具有高硬度和高导电性的金属组成，其直径为8mm到20mm。可替代地，轴部42a由具有高硬度且体积电阻率小于或等于1×10³Ω.cm并且优选小于或等于1×10²Ω.cm的导电树脂等制成。优选地，中间电阻层42c具有范围在大约1mm到2mm之间的厚度和范围在1×10⁵Ω.cm和1×10⁹Ω.cm之间的体积电阻率。优选地，表面层42d具有大约1μm的厚度和范围在1×10⁶Ω.cm到1×10¹²Ω.cm之间的体积电阻率。表面层42d的体积电阻率优选地大于中间电阻层42c的电阻率。虽然该实施例的主体部42b具有由中间电阻层42c和表面层42d组成的两层结构，主体部42b当然不限于这样的结构，并且主体部42b可以由单层结构或例如三层结构的多层结构形成。

图14A和14B分别为示出了显影模块的总体结构的透视图和侧视图。

显影模块5如图1所示装入到第一框体2a中。显影模块5包括显影套管51，该套管靠近于感光体3而设置并且形成显影剂承载构件；使显影套管52转动的磁铁组512，其示出在图16中并将在随后说明；驱动轴511，其设置在磁铁组512的转动轴的端部并且具有D形横截面，该横截面用于确定主磁极方向的角度，这将在随后说明；突出的导杆59；供料开口58，调色剂通过该开口由调色剂容器(未示出)供给，所述调色剂容器与显影模块5分开设置；混合螺杆55，其用于混合和搅动所供给的调色剂；以及供料滚筒56，其用于将混合的显影剂供给显影套管51。显影模块5的上述结构使显影剂能被供给感光体3。磁铁组512具有指示磁通量密度的最大值的预定主磁极方向，并且磁铁组512相对于感光体3而定位，磁铁组的主磁极方向的角度取决于各单个的成像装置100的操作条件而确定。

图15是示出了显影模块的另一总体结构的剖视图。在图15中所示的显影模块5包括调色剂储料器，其用于容纳将被供给的调色剂；供料滚筒54，其用于将调色剂从调色剂储料器52供给显影剂容纳部53；混合螺杆55，其用于混合和搅拌所供给的调色剂和磁性载体；供料滚筒56，其用于将混合的显影剂供给显影套管51；以及限制构件57，其用于限制所供给显影套管51的显影剂的量。

当显影套管51转动时，沿显影剂的输送方向设置在显影区域上游侧的限制构件57限制显影剂链的耳部(ear)的耳部高度(ear height)，即，显影套管51上的显影剂的量。限制构件57和显影套管51精确地定位以精确地确定在显影区域中限制构件57和显影套管51之间的间隙，因此可以高质量地成像。

图16是示出了显影套管的结构的剖视图。在图16中所示的显影套管51具有柱状形状并且由例如铝、黄铜、不锈钢和导电树脂的非磁性材料制成。显影套管51由形成转动驱动机构(未示出)的驱动轴511驱动。磁铁组512施加足以将磁载体吸引在显影套管51的表面上的磁力。驱动轴511设置在磁铁组512的中心并且使磁铁组512转动。驱动轴511由设置在显影套管51的各端部的轴承514和515支撑，并且独立于显影套管可以转动，从而能调整主磁极方向。

图17是总地示出了显影模块被装载状态时的透视图，并且图18是总地示出了显影模块被装载状态时的透视图。

显影模块5被装载到第一框体2a中并且由分别形成显影位置确定构件的定位构件71和角度定位构件72定位。如图17和18所示，当将显影模块5装载到第一框体2a中时，显影模块5的突出的导杆59配合到设置在第一框体2a中的导槽2g中，突出的导杆59***到定位构件71的孔部71a中，形成在第一框体2a上的突出导杆28***到定位构件71的孔部71c中，并且驱动轴511***到定位构件71的孔部71b中，从而将显影套管51支撑在其外周表面相对于感光体3的表面定位的转动状态。

图19是示出了角度位置确定构件的总体结构的透视图。驱动轴511的各端部穿透定位构件71的孔部71b并且配合到如图19所示的角度定位构件72的D形孔(或轴承)中。由于驱动轴511的端部具有D形横截面，驱动轴511定位到预定的角位置(或转动位置)并且通过与D形孔721啮合而防止转动。当然，驱动轴511的端部不限于D形横截面，并且孔721不限于D形，只要其可以防止驱动轴511转动并且将驱动轴511定位在预定的角位置。磁铁组512相对于感光体3的主磁极方向可以通过角度定位构件72来调整。此外，通过使用穿过角度定位构件72中的固定孔722的螺钉将角度定位构件72安装在定位构件71上，可以将主磁极方向固定在所调整的位置。

另外，成像装置100的感光体3的驱动轴101穿过定位构件71中的孔71d。结果是，可以将感光体3和显影模块5相对于彼此定位。因此，定位构件71可以用作将感光体3和显影套管51定位的主要基准，并且显影套管51和感光体3之间的间隙(或显影间隙)可以基于该基准得以调整。

因此，通过确定磁铁组512相对于感光体3的角位置以及确定显影套管51相对于感光体3的位置，可以容易得使显影模块5相对于处理盒1高精度地定位。特别是在可替代的显影模块5的情况中，感光体3和显影套管51之间的间隙极大影响成像的质量，并且甚至在显影模块5被另一显影模块5所替代后，精确地保持该间隙还很重要。由于主磁极方向是在由定位构件71将显影套管51和感光体3定位来确定显影间隙之后由角度定位构件72确定，所以显影模块5可以相对于感光体3高精度地定位。在该实施例中，该精确定位可以通过角度定位构件72中的D形孔(或轴承)721来保持。

显影模块5的突出导杆59配合在第一框体2a的引导部2g中，而驱动轴511配合在第一框体2a的引导部2f中、处理盒框体2的每一侧上。同时，显影模块5的突出导杆59和第一框体2a的突出导杆28安装在定位构件71的相应的孔部71a和71c中，而驱动轴511配合在定位构件71的孔部71b中。因此，显影模块5的突出导杆59形成了相对于定位基准定位的部分，而第一框体2a的突出导杆28形成了相对于定位基准定位的部分，因此，可以实现磁体512等在显影模块5内的稳定转动。突出导杆59和28可以具有D形横截面，并且定位构件71中的相应的孔部71a和71c可以具有D形，因此显影模块5和处理盒框体2可以相对于彼此精确地定位。

通过将角度定位构件72和定位构件71按照与上述相反的顺序拆除，可以容易得将显影模块5与处理盒框体2分离。

在该实施例中，显影模块5采用了干类型的两种成分的显影剂。然而，显影模块5不限于此，并且重复利用的调色剂可以用作干类型的显影剂。另外，显影模块5可以使用单一成分的磁性显影剂或单一成分的非磁性显影剂。

如在本实施例的情况中，显影模块5可以具有用于供给调色剂的供料开口58。处理盒1在供料开口58处于被密封条、盖子等密封的状态下运输，而在使用处理盒1时，供料开口58被第一次打开。在供料开口58被打开并且处理盒1内的调色剂被使用后，当处理盒1内的调色剂的量变少时，调色剂可以经由供料开口58供给处理盒1，从而使处理盒1可以再使用。处理盒1可以将新供给的调色剂容纳在显影剂容纳部53内。所供给的调色剂可以使新供给的调色剂，或可以是用于再利用的回收调色剂。用于容纳将要供给的调色剂的容纳部(未示出)可以设置在成像装置100的主体中。另外，这样的容纳部可以设置在处理盒1内。在该情况中，通过在必要时将调色剂供给显影模块5，显影模块5可以重复使用，而不必替换显影模块。

图20是示出了清洁模块的总体结构的剖视图。如图20所示，清洁模块6由清洁机构6a和涂覆机构6b构成。清洁机构6a清洁感光体3。清洁机构6a包括清洁刀片61，其用于除去感光体3表面上的残留调色剂；支撑构件62，其将清洁刀片61推压在感光体3上；偏压滚筒64，其用于控制残留调色剂的填料量；回收滚筒66，其用于回收粘附在清洁刀片61上的调色剂；搅动器63a，其用于除去粘附在偏压滚筒64上的残留调色剂；以及搅动器63b，其用于除去粘附在回收滚筒66上的残留调色剂。由清洁刀片61清洁的残留调色剂和由搅动器63a和63b除去的残留调色剂由于其自身重量而落下，并且由输送螺旋65输送到处理盒1的外部，从而回收在废弃调色剂容纳部(未示出)内，所述输送螺旋65与处理盒框体2的转动轴或结合件2c同轴地形成。

涂覆机构6b包括润滑体67和涂覆滚筒66，所述涂覆滚筒66与润滑体67接触并且从润滑体67上涂取润滑油以将润滑油供给感光体3的表面。在该实施例中，回收滚筒66也起涂覆滚筒66的作用，并因此，滚筒66在下文中称作回收和涂覆滚筒66。压力弹簧(未示出)可以设置成以预定推力或压力将润滑体67压靠在回收和涂覆滚筒66上。在该情况中，润滑体67可以具有平行六面体形状并且以如下状态保持在清洁模块6中，该状态即，润滑体67在压力弹簧施加的预定压力的作用下与回收和覆盖滚筒66接触。因此，回收和涂覆滚筒66回收粘附在清洁刀片61上的残留调色剂的同时将润滑剂涂覆在感光体3的表面上。

如图20所示，涂覆机构6b设置在清洁模块6的内部，但涂覆机构6b可以形成为与清洁机构6a分开的可替换的模块。在该情况中，涂覆机构6b的模块可以独立于清洁机构6a而被更换。

回收和涂覆滚筒66具有沿感光体3的轴向延伸的形状。压力弹簧始终将润滑体67压靠在回收和涂覆滚筒66上，以使得可以充分地将整个润滑体67用于润滑涂覆。由于润滑体67为可消耗供给物，其厚度随时间，即随着使用而减薄。然而，通过如下的方法可以使润滑剂以稳定的方式被抹取以供给和涂覆在感光体3上，所述方法即，通过压力弹簧的作用持续地将润滑体67推压在回收和涂覆滚筒66上。

形成润滑体67的润滑剂可为脂肪酸金属盐如油酸铅、油酸锌、油酸铜、硬脂酸锌、硬脂酸钴、硬脂酸铁、硬脂酸铜、棕榈酸锌、棕榈酸铜和亚麻酸锌。润滑剂还可为基于氟的树脂如聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚偏二氟乙烯(polyfluoridevinylidene)、聚三氟氯乙烯(polytrifluorochlorethylene)、二氯二氟乙烯、四氟乙烯-乙烯共聚物和四氟乙烯-氧杂氟代聚芘(oxafluoropolypyrene)共聚物。根据减小感光体3的摩擦的大的效果，润滑剂优选为硬脂酸金属盐，且更优选为硬脂酸锌。

图21是总地示出了清洁模块装载时的状态的透视图。如图21所示的清洁模块6独立于其他的处理装置或单元在处理盒1的水平(或横向)方向相对于处理盒1可装载和可拆卸(或可卸下)。当将清洁模块6与处理盒1连接时，清洁模块6的第一和第二突出导杆68a和68b安装在第二框体2b的相应的第一和第二孔部25a和25b中，并且通过清洁位置确定构件73将第一和第二突出导杆68a和68b固定，所述清洁位置确定构件73具有用于接收第一和第二突出导杆68a和68b的柱状导槽73a。当清洁模块6安装在第二框体2b上时，通过清洁位置确定构件73调整清洁刀片61等相对于感光体3的接触状况。当将清洁模块6紧固在处理盒1上时，还可以将输送螺旋65***到第二框体2b的结合件2c中。

图22是总地示出了另一清洁模块装载到第二框体中的状态的透视图。在图22中，清洁模块6由包括涂覆滚筒66等的清洁子模块6c和包括清洁刀片61等的清洁子模块6d组成。如图22所示，清洁模块6a和6d经由当第二框体2b相对于第一框体2a转动时所形成的敞开空间可替换。通过由这样的清洁子模块6c和6d形成清洁模块6，可以将各子模块设计成由具有近似使用寿命的部件组成。例如，具有相对长的使用寿命的清洁刀片61、支撑构件62等可以设置在清洁模块6d中，而具有相对较短的使用寿命的涂覆滚筒66等可以设置在清洁子模块6c中，因此，可以采用由具有近似使用寿命的部件组成的各子模块为单位来替换清洁模块6的各部件。所以，可以将清洁模块6的各部件使用到其使用寿命大约结束为止，从而避免能用部件的浪费，这在替换整个清洁模块6的情况下是不可能的。

图23是示出了清洁模块内的清洁子模块的总体结构的透视图。清洁子模块6c包括偏压滚筒64以及回收和涂覆滚筒66等，所述偏压滚筒与回收和涂覆滚筒66转动且容易磨损。因此，偏压滚筒64、回收和涂覆滚筒66等可以在该子模块6c的单元中同时被更换。除了用于控制残留调色剂装料量的偏压滚筒64和用于涂覆和回收润滑剂的回收和涂覆滚筒66以外，具有相对较短更换间隔的部件，例如，用于去除粘附在偏压滚筒64上的残留调色剂的搅动器63a和用于去除粘附在回收(和涂覆)滚筒66上的残留调色剂的搅动器63b也可以包括在清洁子模块6c中。

另一方面，清洁刀片64和支撑构件62等可以同时在清洁子模块6d中更换。包括在清洁子模块6d中的部件具有比包括在清洁子模块6c中的部件更长的更换间隔，并且与包括在清洁子模块6c中的部件相比可以相对的贵。

图24是透视图，其总地示出了第二框体被转动而形成敞开空间且清洁子模块从该敞开空间被拆卸时的状态。在图24中所示的状态中，第二框体2b相对于第一框体2a转动以形成敞开的空间，并且清洁子模块6c和6d经由该敞开空间被拆卸。通过各自具有两销的清洁位置确定构件75将清洁子模块6c安装在第二框体2b上，并且偏压滚筒64与回收和涂覆滚筒66定位成在感光体3上的合适接触状态。清洁子模块6d通过刀片定位构件76安装在第二框体2b上，以使得清洁刀片61定位为在感光体3上的合适接触状态。在该情况中，润滑体67***到形成在第二框体2b中的孔部中，并且润滑体67在拆除清洁子模块6c之后更换。

清洁子模块6c和/或清洁子模块6d在第二框体2b相对于第一框体2a转动大约90度并且打开时的状态下被更换。通过转动第二框体2b，清洁子模块6c和6d可以在如下的状态下被更换，即，从感光体3中除去的残留调色剂保持在第二框体2b中，并且残留调色剂的分散得以有效地抑制。

对于处理盒1，感光体3、充电模块4、显影模块5和清洁模块(或清洁子模块6c和6d)的每一个都可以独立地拆卸和更换。此外，被更换的感光体3、充电模块4、显影模块5和清洁模块(或清洁子模块6c和6d)的每一个都可以相对于处理盒1精确地定位。

另外，用于将显影模块5定位的定位构件71和角度定位构件72和用于将感光体3定位的框体定位构件74在处理盒框体2上不重叠。出于该原因，定位构件71和71可以独立于定位构件74而被更换，因此，显影模块5和感光体3可以独立于彼此被更换。

此外，用于定位显影模块5的定位构件71和角度定位构件71以及用于定位清洁模块6的清洁位置确定构件73在处理盒1上不重叠。因此，定位构件71和72可以独立于清洁位置确定构件73被替换，从而使显影模块5和清洁模块6可以独立于彼此被替换。

此外，在框体定位构件74被拆除并且第二框体2b相对于第一框体2a转动大约90度的状态下，用于使显影模块5定位的定位构件71和角度定位构件72以及使清洁子模块6c和6d定位的清洁位置确定构件75和刀片定位构件76在处理盒框体2上没有重叠。因此，定位构件71和72可以独立于定位确定构件75和76被替换，从而使显影模块5和清洁模块6c和6d可以独立于彼此而被更换。

使显影模块5定位的定位构件71和角度定位构件72、使充电模块4在处理盒框体2上定位的配件15f，以及使清洁模块6定位的清洁位置确定构件75(或使清洁子模块6c和6d定位的清洁位置确定构件75和刀片定位构件76)的每一个和与另一模块相关联的另一定位或位置确定构件不重叠。因此，定位或位置确定构件以及其相关联的模块可以独立于其他的定位或位置确定构件以及其相关联模块被拆卸和装载(即，替换)。

换句话说，可以通过从处理盒1的配件15向上拉充电模块来拆卸充电模块4。从图17和18可看出，可以通过拆卸角度定位构件72并且进一步拆卸定位构件71而将显影模块5从处理盒框体2中拆卸。通过拆卸清洁位置确定构件73，清洁模块6可以沿水平方向被拆卸。在清洁模块6由清洁子模块6c和6d组成的情况中，当框体定位构件74被拆卸，并且第二框体2b被转动和打开时，可以通过拆卸清洁位置确定构件75来拆卸清洁子模块6c，并且可以通过拆卸刀片定位构件76来拆卸清洁子模块6d。

图25是总地示出了感光体被拆卸并且与处理盒分开的状态的透视图，以及图26是总地示出了感光体被拆卸并且与处理盒分开的状态的透视图。感光体3可以如图25和26所示被拆卸。即，固定第二框体2b的定位构件74被拆除，并且第二框体2b绕结合件2c转动以形成处理盒1上的敞开空间，如图25所示。在该状态中，感光体3仅由处理盒框体2的支撑部13支撑，并且没有固定在处理盒1上。因此，在将感光体3推压在框体定位构件74上的同时，通过如图26所示向上拉感光体3，可以容易地拆卸感光体3。

图27是示出了根据本发明的成像装置实施例的总体结构的视图。在该实施例中，本发明运用到采用电子照相技术以形成全色图像的成像装置100中。成像装置100为串联类型，其具有沿例如纸的纪录介质的输送方向排列的4个处理盒1。传送单元106的环形的中间转印带106a绕3个支撑滚筒106c、106d和106f设置。4个处理盒1形成黄色、青色、深红色和黑色调色剂图像，并且这些图像被由转印滚筒106b提供的静电转印以重叠的方式转印到中间转印带106a上，所述转印滚筒106b经由中间转印带106a与处理盒1的感光体3面对。转印区域由各感光体3和中间转印带106a上被转印滚筒106b所压的相应部分形成。记录介质由传送带106g传送，并且在将中间转印带106a上的调色剂图像转印到在传送带106g上运转的纪录介质上时，正极性偏压施加在转印滚筒106e上。结果是，由各处理盒1的感光体3所形成的调色剂图像相继地和静电地从中间转印带106a转印到纪录介质上，并且由定影单元108定影。当然，带清洁单元可以设置在中间转印带106a的外缘以去除中间转印带106a的表面上的残留调色剂。曝光单元104在感光体3上形成潜像，这将在随后说明。

介质供给盒109容纳纪录介质，并且各纪录介质由阻力滚筒对109a进给，并由传送带106g传送。在该实施例中，在纪录介质上形成的重叠调色剂图像由定影单元108施加的热和压力定影，并且由弹出滚筒120弹出在成像装置100外的弹出托盘上。

在成像装置100中，优选地使用平均园度等于或大于0.93的调色剂。在调色剂由干研磨制造的情况中，可以采用使调色剂微粒(或颗粒)形成近似球形的热或机械工艺来调整园度。当采用热工艺来形成调色剂微粒时，调色剂微粒可以和热空气一起喷射成雾状或类似物。另一方面，当采用机械工艺来形成调色剂微粒时，调色剂微粒可以和例如玻璃的具有低比重的混合介质一起供给例如球磨机的搅拌器并且搅动。由于较大的调色剂微粒由热工艺形成而细小调色剂微粒由机械工艺形成，因此需要实行分类工艺。在调色剂在水溶剂内制造的情况中，调色剂微粒的形状可以通过在去除溶剂的工艺期间剧烈地搅动调色剂微粒来得以控制。

圆度SR可以定义为SR＝[(具有与微粒映射面积相同面积的圆周的周长)/(微粒映射图像的周长)×100]％，并且随着圆度SR趋近100％，调色剂微粒趋近于真正的球形，其中，周长是指周边长度。具有较高圆度SR的调色剂微粒容易地被载体或显影套管51上的电力线影响，并且沿静电潜像的电力线正确地显影。当再现细小的潜像点时，可更容易地获得精确和均匀的调色剂排列，从而可以获得细线的高再现性。另外，因为具有高圆度SR的调色剂微粒具有平滑的表面和合适的流度(或流动性)，所以这些调色剂微粒容易被电力线影响并且沿电力线正确地移动，并且转印效率(传送率)变高以能形成高质量的图像。即使在中间转印带106d推压在感光体3上的情况中，具有高圆度SR的调色剂微粒与中间转印带106a接触，并且均匀接触区域促进了转印效率的改善。然而，当调色剂微粒的平均圆度小于0.93时，不能获得正确的显影和高传送效率的传送。这是因为在具有不确定形状的调色剂微粒的情况中，调色剂表面上的电荷不均匀，并且由于重心和带电的中心不一致，从而难以使调色剂微粒相对于电磁场正确地移动。

接下来，将要针对一个处理盒1对成像装置100的成像操作进行说明。当成像操作开始时，首先，充电模块1均匀地将感光体3充电成负极性。然后，曝光单元104采用基于与所要形成的图像相关的图像数据的激光束来扫描感光体3的表面，从而在感光体3上形成潜像。显影模块5将潜像显现成调色剂图像。在该状态，带有调色剂图像的感光体3转动并且进入转印区域，并且由于中间转印带106同步于感光体3的转动而移动，因此由转印滚筒106b施加的偏压将调色剂图像转印到转印区域中的中间转印带106上。在转印区域中，感光体3上的显影调色剂图像受到转印电场和辊隙压力的作用。

在使用了容纳有相互不同颜色的调色剂的4个处理盒1的串联型成像装置100中，不同颜色的调色剂图像形成在4个处理盒1的各自感光体3上，并且以重叠方式相继地转印到中间转印带106a上，从而形成全色调色剂图像。当来自介质供给盒109的纪录介质由阻力滚筒对109a向供料滚筒106f进给时，记录介质与中间转印带106a的移动同步地到达第二转印区域。在第二转印区域中，由转印滚筒106e施加的偏压将全色调色剂图像从中间转印带106a转印到纪录介质上。记录介质上的全色调色剂图像由定影单元108熔化和定影，并且由喷出滚筒120弹出在弹出托盘125上。

在图像在感光体3上形成后，涂覆机构6b的回收和涂覆滚筒66将硬脂酸锌润滑剂从润滑体67上擦去，并且通过与感光体3滑动地接触将该润滑剂涂覆在感光体3的表面上。然后，与感光体3接触的清洁刀片61挤压润滑剂，从而在感光体3的表面上形成薄润滑层。通过形成薄润滑层，感光体3上的残留调色剂变得更加容易清洁(或可去除)，并且甚至当调色剂微粒具有高的圆度时残留调色剂也可以被去除。

通过清洁模块6的清洁刀片形成在感光体3的表面上的波润滑剂层减小了感光体3的表面的摩擦系数。感光体3的表面的摩擦系数μ优选地设定为0.4或更小。感光体3的表面的摩擦系数μ可以控制涂覆机构6b的设定条件，例如通过压力弹簧施加在润滑体67上的压力，以及刷子密度，刷子直径，回收和涂覆滚筒66的转动速度和转动方向。

通过将感光体3的表面的摩擦系数设定为0.4或更小，可以防止清洁刀片61和感光体3之间的摩擦变大，抑制清洁刀片61的变形或转动，防止调色剂滑过清洁刀片61，以及防止产生质量不好的清洁。此外，上述摩擦系数μ更优选为小于或等于0.3。感光体3的表面的摩擦系数μ被设置在成像装置100内的其他部件、模块或单元所影响，并且摩擦系数的数值μ在成像后立即发生变化。然而，对于涉及大约1000个记录介质的成像来说，即，A4尺寸的纪录介质，摩擦系数μ保持基本不变。因此，在本实施例中的摩擦系数μ指的是在稳定状态下基本上不变的摩擦系数。

由于当调色剂的体积平均微粒大小(直径)Dv变得更小时，细线再现性得以改善，所以用在该实施例中的调色剂的体积平均微粒大小Dv为8μm或更小。但另一方面，当体积平均微粒大小Dv较小时，显影特性和清洁特性变坏，并且体积平均微粒大小Dv优选为大于或等于3μm以防止显影和清洁特性变坏。当体积平均微粒大小Dv小于3μm时，不容易被显影出的细小调色剂微粒的量趋向在载体或显影套管51的表面上增加，从而导致其他的调色剂微粒与载体或显影套管51的接触和摩擦不充分并且导致被相反充电的微粒增加，因此产生例如图像不清的不正常图像。

由体积平均微粒大小Dv与数量平均微粒大小Dn的比值来表示的微粒大小散布优选地在1.05到1.40的范围内。通过缩小微粒大小散布，微粒的带电散布变得均匀。当比值(Dv/Dn)超过1.40，调色剂的带电散布变宽并且相反极性的带电调色剂微粒增加，从而难以获得高质量的图像。比值(Dv/Dn)小于1.05的调色剂不实用，原因是难以制造这样的调色剂。通过使用Koltar计数器多重筛选器(Koltar counter multisizer)(由Koltar制造)以如下方法来测量色剂的大小，即，选择性地使用50μm孔作为与所要测量的调色剂大小一致的测量孔，并且采用平均50,000个调色剂微粒。

对于圆度来说，调色剂优选地具有在大于或等于100且小于或等于180的范围内的形状因数SF1，和在大于或等于100且小于或等于180的形状因数SF2。图28A和28B是分别示出了用于说明形状因数SF-1和形状因数SF-2的调色剂形状的视图。形状因数SF-1指的是调色剂微粒的圆度的比例并且由如下公式(1)表示。通过将调色剂微粒投影在两维的平面中所得形状的最大长度MXLNG的平方除以图形的面积AREA并且接下来乘以100∏/4，从而获得形状因数SF-1的数值。

SF-1＝{(MXLNG)²/AREA}×(100∏/4)----(1)

当SF-1的数值等于100时，调色剂微粒的形状为完全的圆形，并且随着SF-1的数值增加，调色剂微粒的形状变得更加不确定。

形状因数SF-2指的是调色剂微粒的表面的不均匀度的比例，并且由如下公式(2)表示。通过将调色剂微粒投影在两维的平面中所得形状的周长PERI的平方除以图形的面积AREA并且接下来乘以100∏/4，从而获得形状因数SF-2的数值。

SF-2＝{(PERI)²/AREA}×(100∏/4)----(2)

当SF-2的数值等于100时，调色剂微粒的表面上不存在不均匀，而随着SF-2的数值的减小，调色剂微粒的表面不均匀变得更加明显。

通过使用电子扫描显微镜(由HITACHI SEISAKUSHO制造的S-800)对调色剂微粒进行照相，采用图像分析仪(由NIRECO Co.，LTD.制造的LUSEX3)对其进行分析，并且计算形状因数，从而使形状因数得以测量。

调色剂微粒优选地具有在100到180的范围内的形状因数SF-1和在100到180范围内的形状因数SF-2。当调色剂微粒的形状接近于圆形时，调色剂微粒与其他调色剂的接触或调色剂微粒与感光体3的接触为点接触，这改善了调色剂的流动性。因此，调色剂微粒之间的相互附着力变弱并且流动性得以改善，从而改善了转印效率和便于清洁在感光体3上的残留调色剂。

因此，形状因数SF-1和SF-2优选地等于或大于100。此外，随着SF-1和SF-2的增加，调色剂微粒的形状变得更加不确定，调色剂的带电散布变宽，对潜像的显影不再保真，并且在传送电场作用下的传送不再保真，从而损坏了图像的质量。另外，传送效率下降并且传送后的残留调色剂增加，从而需要较大的清洁模块6，这从对成像装置100的设计来讲是不希望的。因此，形状因数SF-1和SF-2优选地不超过180。

调色剂微粒可以为球形的并且可以以如下形状规则来表示。图29A到29A是说明调色剂微粒的形状的视图。图29A是示出了调色剂的一般形状的透视图，并且图29B和29C分别是沿x-y平面和y-z平面截取的剖视图。

在图29A到29C中，当近似球形的调色剂微粒由长轴r1、短轴r2和厚度r3限定(假定r1≥r2≥r3)，长轴r1与短轴r2(见图29B)的比值优选地在0.5到1.0的范围内并且厚度r 3与短轴r2(见图29C)的比值优选地在0.7到1.0的范围内。如果r2/r1的比值小于0.5，带电散布因为调色剂微粒的形状变得不确定而变宽。此外，如果比值r3/r2小于0.7，调色剂微粒的带电散布因为调色剂微粒的形状变得不确定而变宽。特别是，如果比值r3/r2等于1.0，调色剂微粒的带电散布由于调色剂微粒的形状变为近似球形而变窄。

通过采用电子扫描显微镜(SEM)在改变视觉张角的情况下进行照相并同时观察来测量调色剂微粒的大小。

可以通过制造方法来控制调色剂的形状。例如，在使用干研磨的方法制造调色剂的情况下，调色剂的表面不均匀并且调色剂微粒形状不确定。但是，甚至这种由干研磨方法制造的调色剂的形成可以通过热或机械的方法来调整，所述热或机械的方法使调色剂微粒形成与真实球形接近的近似球形。通过悬浮聚合方法或乳液聚合方法形成小滴而制造成的调色剂微粒具有平滑的表面并且具有与真实球形接近的近似球形。另外，通过在反应过程中在溶剂内强烈地搅动调色剂微粒来施加剪切作用力，从而使调色剂微粒形成橄榄球形。

近似(或大约)球形的调色剂微粒优选地由如下方法来制成，即，使调色剂材料溶剂在水介质中进行交联反应和/或延伸反应，其中，调色剂材料溶剂通过在有机溶剂中溶解或分散这样的物质来获得，所述物质即，至少一种具有包括氮原子、聚酯、着色剂和脱模剂的功能团的聚酯预聚物。

现在将要对调色剂的组成元素和其优选的制造方法进行说明。

在该实施方式中的调色剂包含改性聚酯(i)作为粘合剂树脂。改性聚酯是指这样的聚酯，其中在聚酯树脂中存在不同于酯键的结合基团，且在聚酯树脂中具有不同结构的树脂要素(resinous principle)通过如共价键和离子键的键结合。更具体地说，其是指通过向聚酯末端引入与羧酸基团、羟基反应的官能团(如异氰酸酯基团)进行改性，然后与含活性氢的化合物反应的聚酯末端。

改性聚酯(i)的实例为脲改性树脂，其是通过将具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)与胺(B)反应而获得的。具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)的实例为多元醇(PO)与多元羧酸(polyhydric acid，PC)的缩合物以及通过将具有活性氢基团的聚酯与多元异氰酸酯化合物(PIC)反应获得的聚酯预聚物。活性氢基团的实例为羟基(醇羟基和酚羟基)、氨基、羧基、巯基，其中醇羟基是期望的。

按如下所述制备脲改性聚合物。多元醇化合物(PO)的实例为二元醇(DIO)和不低于三元醇(TO)的多元醇。单独的二元醇(DIO)或少量三元醇(TO)和二元醇(DIO)的混合物是期望的。二元醇(DIO)的实例为，亚烷基二醇(例如，乙二醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇和1，6-己二醇)，亚烷基醚二醇(例如，二甘醇、三甘醇、双丙甘醇、聚乙二醇、聚丙二醇和聚四亚甲基醚乙二醇)，脂环族二醇(例如，1，4-环己烷二甲醇和氢加成的双酚A)，双酚(例如，双酚A、双酚F和双酚S)，这些脂环族二醇的烯化氧加合物(例如，环氧乙烷、环氧丙烷和环氧丁烷)，以及所述酚的烯化氧加合物(例如，环氧乙烷、环氧丙烷和环氧丁烷)。双酚和具有2-12碳数的亚烷基二醇的烯化氧加合物是期望的。双酚的烯化氧加合物和双酚与具有2-12碳数的亚烷基二醇的烯化氧加合物是特别期望的。不低于三元醇(TO)的多元醇的实例为从三元至八元醇及以上的脂族多元醇(例如，甘油、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、季戊四醇和山梨糖醇)，不低于三元酚的酚(例如，三苯酚PA、苯酚线型酚醛清漆和甲酚线型酚醛清漆)，和不低于三元多酚的多酚的烯化氧加合物。

多元羧酸(PC)的实例为二元羧酸(DIC)和不低于三元羧酸(TC)的多元羧酸。单独的二元羧酸(DIC)或少量三元羧酸(TC)与二元羧酸(DIC)的混合物是期望的。二元羧酸的实例为亚烷基二羧酸(例如，琥珀酸、己二酸和癸二酸)，亚烯基二羧酸(例如，马来酸和富马酸)，和芳族二羧酸(例如，邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸和萘二甲酸)。其中，具有4-20碳数的亚烯基二羧酸和具有8-20碳数的芳族二羧酸是期望的。不低于三元羧酸的多元羧酸的实例为具有9-20碳数的芳族多元羧酸(例如，偏苯三酸和均苯四酸)。这些酸的酸酐和低级烷基酯可用作多元羧酸且可容许与多元醇(PO)进行反应。

多元醇(PO)与多元羧酸(PC)的比例为羟基[OH]与羧基[COOH]的当量比[OH]/[COOH]，且通常在2/1至1/1的范围内。期望的比例为1.5/1至1/1，且特别期望为1.3/1至1.02/1。

在已知的酯化催化剂(如四丁氧基钛酸酯和氧化二丁锡)的存在下，通过加热至150℃-280℃的温度，如有必要同时进行水的真空蒸馏，进行多元醇(PO)与多元羧酸(PC)的缩聚反应，以获得具有羟基的聚酯。该聚酯的羟基值优选为5或更大，且聚酯的酸值通常为1-30，且优选为5-20。通过使聚酯具有这样的酸值，聚酯可容易地带负电。另外，当将调色剂图像定影在记录介质上时，调色剂和记录介质的亲和力改善，由此改善低温定影性能。但是，当酸值超过30时，带电稳定性(electrification stability)趋于劣化，特别是对于环境变化带电稳定性趋于劣化。

聚酯的重均分子量为10,000-400,000，且优选为20,000-200,000。重均分子量小于10,000是不合需要的，因为耐偏移性(offset resistance)劣化。此外，重均分子量超过400,000是不合需要的，因为低温定影性能劣化。

除了通过上述缩聚反应获得的未改性聚酯以外，聚酯还优选包括脲改性聚酯。脲改性聚酯可如下获得：将通过上述缩聚反应获得的聚酯的末端官能团的羧基、羟基等与多元异氰酸酯化合物(PIC)反应，以获得具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)，且将其与胺反应，导致分子链的交联反应和/或伸长反应。

多元异氰酸酯化合物(PIC)的实例为脂族多元异氰酸酯(例如，二异氰酸四亚甲酯、二异氰酸六亚甲酯和2，6-二异氰酸酯甲基己酸酯)，脂环族多异氰酸酯(例如，异佛尔酮二异氰酸酯和环己基甲烷二异氰酸酯)，芳族二异氰酸酯(例如，甲苯二异氰酸酯和二苯甲烷二异氰酸酯)，芳族脂族二异氰酸酯(例如，α，α，α’，α’-四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯)，异氰酸酯，通过由酚衍生物、肟和己内酰胺(caprolactum)封闭这些多异氰酸酯形成的化合物，以及这些中不止一种的组合。

多元异氰酸酯化合物(PIC)的比例为异氰酸酯基团[NCO]与聚酯的羟基[OH]的当量比[NCO]/[OH]，且通常为5/1至1/1。期望的比例为4/1至1.2/1，且特别期望2.5/1至1.5/1。如果比例[NCO]/[OH]大于5，影响低温下图像的定影。如果[NCO]的摩尔比小于1，在使用脲未改性聚酯的情况下，在酯中的脲含量变低，由此影响耐偏移性。

在具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)中，多元异氰酸酯化合物(PIC)的含量，通常为0.5重量％-40重量％。多元异氰酸酯化合物的含量的期望范围为1重量％-30重量％，且更期望为2重量％-20重量％。如果多元异氰酸酯化合物的含量小于0.5重量％，则耐热偏移性劣化，且从耐热保存性和低温定影性能的相容性的观点看来，这是不利的。另一方面，如果多元异氰酸酯化合物的含量大于40重量％，则低温定影性能劣化。

在具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)中，每分子的异氰酸酯基团含量通常为1。异氰酸酯基团的含量的期望范围平均为1.5-3，且更期望为1.8-2.5。如果每分子异氰酸酯基团的含量小于1，那么脲改性聚酯的分子量变低，且耐热偏移性劣化。

此外，与聚酯预聚物(A)反应的胺(B)的实例为二元胺化合物(B 1)、不低于三元胺的多元胺化合物(B2)、氨基醇(B3)、氨基硫醇(B4)、氨基酸(B5)和其中来自B 1-B5的氨基被封端的化合物(B6)。

二元胺化合物(B1)的实例为芳族二胺(例如，苯二胺、哌嗪(diethylenediamine)和4，4’-二氨基二苯基甲烷)，脂环族(acrylic)二胺(例如，4，4’-二氨基-3，3’-二甲基二环己基甲烷、二胺环己烷和异佛尔酮二胺)，和脂族二胺(例如，乙二胺、四亚甲基二胺和六亚甲基二胺)。不低于三元胺的多元胺化合物(B2)的实例为二亚乙基三胺和三亚乙基四胺。氨基醇(B3)的实例为乙醇胺和羟乙基苯胺。氨基硫醇(B4)的实例为氨基乙硫醇和氨基丙硫醇。氨基酸(B5)的实例为氨基丙酸和氨基己酸。其中来自B1-B5的氨基被封端的化合物(B6)的实例为由酮和以上B1-B5中的胺获得的酮亚胺化合物和唑烷化合物(例如，丙酮、丁酮和甲基异丁基酮)。在胺(B)中，期望的胺为B1和B1与少量B2的混合物。

胺的比例为在具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)中的异氰酸酯基团[NCO]与在胺(B)中的胺基[NHx]的当量比[NCO]/[NHx]，且通常为1/2至2/1。期望的比例为1.5/1至1/1.5，且特别期望为1.2/1至1/1.2。如果比例[NCO]/[NHx]大于2或小于1/2，则脲改性聚酯的分子量降低，且耐热偏移性劣化。

而且，脲改性聚酯中包括氨基甲酸酯键(urethane bond)和脲键(urreabond)。脲键含量与氨基甲酸酯键含量的摩尔比通常为100/0至10/90。期望的比例为80/20至20/80，且更期望为60/40至30/70。如果脲键的摩尔比低于10％，耐热偏移性劣化。

脲改性聚酯(i)可通过如一步(one-shot)法和预聚物法的方法来制造。在已知的酯化催化剂(如四丁氧基钛酸酯和氧化二丁锡)的存在下，将多元醇(PO)和多元羧酸(PC)加热至150℃-280℃的温度，如有必要同时进行水的真空蒸馏，以获得具有羟基的聚酯。然后，将多元异氰酸酯化合物(PIC)在40℃-140℃的温度下反应，以获得具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)。此外，在0℃-140℃的温度下，将胺(B)与聚酯预聚物(A)进行反应，以获得脲改性聚酯。

当将多元异氰酸酯化合物(PIC)与具有羟基的聚酯反应时，且当将聚酯预聚物(A)与胺(B)反应时，如有必要可使用溶剂。可使用的溶剂包括芳族溶剂(甲苯、二甲苯等)、酮(丙酮、丁酮、甲基异丁基酮等)、酯(乙酸酯等)、酰胺(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)和醚(四氢呋喃等)，这些溶剂对多元异氰酸酯化合物(PIC)是惰性的。

在聚酯预聚物(A)与胺(B)之间的交联反应和/或伸长反应中，如有必要可使用反应抑制剂，以调节获得的脲改性聚酯的分子量。反应抑制剂的实例为单胺(例如，二乙胺、二丁胺、丁胺、月桂胺等)和其中这些被封端的化合物(例如，酮亚胺化合物)。

改性聚酯(i)的重均分子量通常不小于10,000。期望的重均分子量为20,000-10,000,000，且更期望的重均分子量为30,000-1,000,000。这里，峰值分子量(peak molecular weight)的期望范围为1,000-10,000。如果其小于1,000，难以进行伸长反应，因此调色剂的弹性低，从而使耐热偏移性劣化。如果峰值分子量大于10,000，图像的定影劣化，且在对于小粒径和粉碎的制造方面有问题。改性聚酯(i)的数均分子量仅在使用下面将描述的未改性聚酯(ii)的情况下不受限制，且可为适于获得该重均分子量的数均分子量。如果单独使用改性聚酯(i)，数均分子量通常不大于20,000，且期望为1,000-10,000。更期望2,000-8,000。如果数均分子量大于20,000，则低温定影性能和当使用全色元件时的光泽劣化。

在为获得改性聚酯(i)而在聚酯预聚物(A)与胺(B)之间进行的交联反应和/或伸长反应中，如有必要可使用反应抑制剂，以调节获得的脲改性聚酯的分子量。反应抑制剂的实例为单胺(例如，二乙胺、二丁胺、丁胺、月桂胺等)和其中这些被封端的化合物(例如，酮亚胺化合物)。

改性聚酯(i)不仅可单独使用，还可与包含作为粘合剂树脂要素的未改性聚酯(ii)一起混合。通过一起使用(i)与(ii)，低温定影性能和当使用全色元件时的光泽方面有改善。因此，与单独使用(i)相比，一起使用(i)与(ii)是期望的。(ii)的实例为与(i)的聚酯组分类似的多元醇(PO)和多元羧酸(PC)的缩聚物。而且，(ii)不限于未改性聚酯，且可为通过不同于脲键改性的化合物，如通过氨基甲酸酯键改性的组分。考虑到低温定影性能和耐热偏移性，期望(i)和(ii)是至少部分相容的。因此，期望(ii)和(i)的聚酯组分具有类似的组成。当(ii)包含在(i)中时，(i)和(ii)的重量比通常为5/95-80/20。期望重量比为5/95-30/70，且更期望为5/95-25/75。还更期望重量比为7/93-20/80。如果(i)的重量比小于5％，耐热偏移性劣化，且从耐热保存性和低温定影性能的相容性的观点来看，其是不利的。

(ii)的峰值分子量通常为1,000-10,000。期望的范围为2000-8000，且更期望为2000-5000。如果峰值分子量低于1000，则耐热保存性劣化，且如果其大于10000，则低温定影性能劣化。期望(ii)的羟基值不小于5。对于(ii)的羟基值，更期望该值为10-120，且特别期望为20-80。如果羟基值小于5，那么从耐热保存性和低温定影性能的相容性的观点来看是不利的。期望(ii)的酸值为1-5，更期望为2-4。由于使用具有高酸值的蜡，所以粘合剂为低酸值粘合剂，导致充电和高体积电阻。因此，容易匹配粘合剂，该粘合剂与双组分显影剂中使用的调色剂匹配。

粘合剂树脂的玻璃化转变点(Tg)通常为45℃-65℃，且期望的范围为45℃-60℃。如果玻璃化转变点(Tg)小于45℃，调色剂的耐热保存性劣化，且如果大于65℃，低温定影性能不足。

由于脲改性聚酯趋于存在于获得的调色剂的母体颗粒(host particle)的表面上，因此与已知的基于聚酯的调色剂相比，即使该玻璃化转变点(Tg)较低，其也有具有良好耐热保存性的趋势。

对于着色剂、电荷控制剂、脱模剂(mold release agent)等，可适当地选择已知的材料。

下面将给出制造调色剂的方法的描述。下面描述的方法为期望的方法，但调色剂的制造方法不限于此。

制造调色剂的方法包括以下步骤。

1)通过将着色剂、未改性聚酯、具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物和脱模剂分散在有机溶剂中，制备调色剂材料溶液。期望使用沸点低于100℃的挥发性有机溶剂，因为在形成调色剂的母体颗粒后的容易去除。更具体地说，可使用甲苯、二甲苯、苯、四氯化碳、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、1，1，2-三氯乙烷、三氯乙烯、氯仿、一氯代苯、1，1-二氯乙烷(dichloroethylidine)、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丁酮、甲基异丁基酮等，其可单独使用或使用这些的两种或多种的组合。甲苯、二甲苯等的芳族溶剂和二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿、四氯化碳等的卤代烃是特别期望的。所用的有机溶剂的量通常为0-300重量份，相对于每100重量份聚酯预聚物。期望的量为0-100重量份，且更期望25-70重量份。

2)在表面活性剂和树脂的细粒存在下，在含水介质中乳化调色剂材料溶液。含水介质可仅为水或含有机溶剂的含水介质，该有机溶剂如醇(甲醇、异丙醇、乙二醇等)、二甲基甲酰胺、四氢呋喃、溶纤剂(cellosorb)(甲基溶纤剂等)和低级酮(丙酮、丁酮等)。

每100重量份调色剂材料溶液，含水介质的用量通常为50-2000重量份，且期望该量为100-1000重量份。如果该量小于50重量份，则它影响调色剂材料溶液的分散，且不能获得预定粒径的调色剂颗粒。大于20000重量份的量是不经济的。

此外，为了改善在含水介质中的分散，加入适当的分散剂如表面活性剂和树脂的细粒。

表面活性剂的实例为阴离子表面活性剂，如烷基苯磺酸盐、α-烯烃磺酸盐、磷酸酯，胺盐如烷基胺盐，氨基醇脂肪酸衍生物，多胺(polyamine)脂肪酸衍生物，咪唑啉；阳离子表面活性剂，如烷基三甲基铵盐、二烷基二甲基铵盐、烷基二甲基苄基铵盐、吡啶盐、烷基异喹啉盐、苄索氯铵；脂肪酸酰胺衍生物和多元醇衍生物的非离子表面活性剂如丙氨酸、十二烷基二(氨基乙基)甘氨酸、二(辛基氨基乙基)甘氨酸和两性表面活性剂如N-烷基-N，N-二甲基铵甜菜碱等。

此外，通过使用具有氟代烷基的表面活性剂，非常少量的表面活性剂就可实现期望的效果。期望的具有2-10的碳数的氟代烷基和氟代烷基羧酸及其金属盐的阴离子表面活性剂的实例，全氟辛烷磺酰基谷氨酸二钠、3[ω-氟代烷基(C6至C11)氧基]-1-烷基(C3至C4)磺酸钠、3[ω-氟烷酰基(C6至C8)-N-乙基氨基]-1-丙磺酸钠、氟代烷基(C11至C20)羧酸及其金属盐、全氟烷基羧酸(C7至C13)及其金属盐、全氟烷基(C4至C12)磺酸及其金属盐、全氟辛烷磺酸二乙醇酰胺、N-丙基-N-(2-羟乙基)全氟辛烷磺酰胺、全氟烷基(C6至C10)磺酰胺丙基三甲基铵盐、全氟烷基(C6至C10)-N-乙基磺酰基甘氨酸(glysine)盐、单-全氟烷基(C6至C10)乙基磷酸酯。

商业产品实例为SURFLON S-111、S-112、S-113(由ASAHI GLASS CO.，LTD.制造)，FLUORAD FC-93、FC-95、FC-98、FC-129(由SUMITOMO 3MCo.，LTD.制造)，UNIDINE DS-101、DS-102(由DAIKIN INDUSTRIES，LTD.制造)，MEGAFACE F-110、F-120、F-113、F-191、F-812、F-833(由DAI NIPPONINK&CHEMICALS，INC.制造)，EKTOP EF-102、103、104、10对氯邻硝基苯胺红、立索坚牢猩红G、亮坚牢猩红、亮洋红BS、永久5、112、123A、123B、306A、501、201和204(由TOCHEM PRODUCTS，CO.，LTD.制造)，和FTERGENT F-100和F-150(由NEOS CO.，LTD.制造)。

阳离子表面活性剂的实例为具有氟代烷基的脂族伯酸、脂族仲酸和仲氨基酸、脂族季铵盐如全氟烷基(C6至C10)磺酰胺丙基三甲基铵盐等、苄烷铵盐、苄索氯铵、吡啶盐和咪唑盐。商业产品的实例为SURFLON S-121(由ASAHI GLASS CO.，LTD.制造)，FLUORAD FC-135(由SUMITOMO 3M CO.，LTD.制造)，UNIDINE DS-202(由DAIKIN INDUSTRIES，LTD.制造)，MEGAFACE F-150、F-824(由DAI NIPPON INK&CHEMICALS，INC.制造)，EKTOP EF-132(由TOCHEM PRODUCTS，CO.，LTD.制造)，和FTERGENTF-300(由NEOS CO.，LTD.制造)。

树脂的细粒可由能够形成含水分散剂的任意种类的树脂制成，且对其可使用热塑性树脂或热固性树脂。这种树脂的实例包括乙烯类树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺树脂、硅基树脂、酚醛树脂、蜜胺树脂、尿素树脂、苯胺树脂、离聚物(iononer)树脂、聚碳酸酯树脂等。当然，可使用两种或多种这种树脂的组合。从可容易地获得具有细小球形树脂颗粒的含水分散剂的观点来看，乙烯类树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、聚酯树脂和两种或多种这种树脂的组合优选用作树脂。乙烯类树脂的实例包括通过乙烯类单体聚合或共聚得到的聚合物，如苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、(甲基)丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、苯乙烯-(甲基)丙烯酸共聚物等。细树脂颗粒的平均粒径为5nm-200nm，且优选为20nm-30nm。

加入树脂的细粒以使在含水介质中形成的调色剂母体颗粒稳定。因此，期望加入树脂的细粒以在调色剂母体颗粒的表面上得到10-90％的覆盖。实例为平均粒径为0.5μm-2μm的聚甲基丙烯酸甲酯的细粒、平均粒径为1μm的聚(苯乙烯-丙烯腈)的细粒。商业产品的实例为PB-200H(由KAOCORPORATION 制造)，SGP(由SOKEN  CO.，LTD.制造)，TECHPOLYMER-SB(由SEKISUI CHEMICAL CO.，LTD.制造)，SGP-3G(由SOKEN CO.，LTD.制造)，和MICRO PEARL(由SEKISUI CHEMICAL CO.，LTD.制造)。而且，还可使用无机分散剂如磷酸三钙(calciumphosphate-tribasic)、碳酸钙、氧化钛、胶态氧化硅和羟磷灰石。

分散液液滴可通过作为分散剂的高聚物保护胶体稳定化，高聚物保护胶体既可用作树脂的细粒，又可用作无机分散剂。例如，使用酸，如丙烯酸、甲基丙烯酸、α-氰基丙烯酸、α-氰基甲基丙烯酸、衣康酸(itanoic acid)、巴豆酸、富马酸、马来酸或无水马来酸(anhydrous meliec acid)、或含有羟基的(甲基)丙烯酸类单体(例如丙烯酸β-羟乙酯、甲基丙烯酸β-羟乙酯、丙烯酸β-羟丙酯、甲基丙烯酸β-羟丙酯、丙烯酸γ-羟丙酯、甲基丙烯酸γ-羟丙酯、丙烯酸3-氯-2-羟丙酯、甲基丙烯酸3-氯-2-羟丙酯、二甘醇单丙烯酸酯、二甘醇单甲基丙烯酸酯、甘油单丙烯酸酯、甘油单甲基丙烯酸酯、N-羟甲基丙烯酰胺、N-羟甲基甲基丙烯酰胺)、乙烯基醇或乙烯基醇的醚，如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙烯基丙基醚、或包括乙烯基醇或羧基的化合物的酯，如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、双丙酮丙烯酰胺及其羟甲基化合物；酰基氯，如丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯；含氮物质如乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷、乙烯基咪唑、哌嗪和具有这些物质的杂环的化合物的均聚物或共聚物、聚氧乙烯、聚氧丙烯、聚氧乙烯烷基胺、聚氧丙烯烷基胺、聚氧乙烯烷基酰胺、聚氧丙烯烷基酰胺、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯月桂基苯基醚、聚氧乙烯硬脂基苯基酯、聚氧乙烯壬基苯基酯、纤维素如甲基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素等。

分散方法不限于具体的方法，且可使用已知的设备如低速剪切分散器、高速剪切分散器、摩擦分散器、高压喷射分散器和超声分散器。其中，为使分散成分的粒径为2μm-20μm，高速剪切分散器是期望的。如果使用高速剪切，每分钟旋转数(rpm)不限于特定的值，但通常为1000rpm-30000rpm。每分钟旋转数的期望范围为5000rpm-20000rpm。分散时间不限于具体的值。但是，在间歇分散的情况下，分散时间通常为0.1分钟-5分钟。在分散过程中的温度通常为0℃-150℃(在压力下)，且温度的期望范围为40℃-98℃。

3)当制备乳化液体的同时，加入胺(B)，并让其与具有异氰酸酯基团的聚酯预聚物(A)发生反应。该反应包括分子链的交联反应和/或伸长反应。根据胺(B)与聚酯预聚物(A)的异氰酸酯基团的结构的反应性选择反应时间，且该反应时间通常为10分钟-40小时。期望的反应时间为2小时-24小时。反应温度通常为0℃-150℃，且期望温度为40℃-98℃。而且，根据需要，可使用已知的催化剂。催化剂的具体实例为月桂酸二丁基锡和月桂酸二辛基锡。

4)在反应完成时，从乳化的分散成分(反应化合物)中除去有机溶剂，洗涤，并干燥，以获得调色剂母体颗粒。为了除去有机溶剂，加热整个体系，同时层流搅拌。在特定温度左右，强烈搅拌混合物，然后通过进行脱溶剂(diliquoring)制备调色剂的纺锤形母体颗粒。此外，如果使用溶于酸或碱的化合物如磷酸钙盐作为分散稳定剂时，在磷酸钙盐溶于酸如盐酸后，根据清洁的方法从调色剂母体颗粒中除去磷酸钙盐。还可通过酶的分解除去。

5)将电荷控制剂渗入由此获得的调色剂母体颗粒中，且外部加入无机细粒如氧化硅、氧化钛等的细粒以获得调色剂。电荷控制剂的渗入和无机细粒的加入通过使用混合器等的已知方法进行。从而，可容易地获得具有尖锐粒径分布且具有小粒径的调色剂。而且，通过强烈搅拌以除去有机溶剂，可控制颗粒的形状，从完美的球形到橄榄球形。此外，还可将颗粒表面的形态控制在光滑至粗糙之间。

无机细粒可用作外添加剂以有助于调色剂颗粒的流动性、显影和充电。疏水氧化硅和/或疏水氧化钛细粒特别期望用作无机细粒。无机细粒的初级粒径为5×10^-3μm-2μm，且特别期望为5×10^-3μm-0.5μm。此外，期望根据BET法的比表面积为20m²/g-500m²/g。期望所用的无机细粒的比例为调色剂的0.01重量％-5重量％，且特别期望为0.01重量％-2.0重量％。

无机细粒的其他实例包括氧化硅、氧化铝、氧化钛、钛酸钡、钛酸镁、钛酸钙、钛酸锶、氧化锌、氧化锡、石英砂、粘土、云母、硅灰石、硅藻土、氧化铬、二氧化铈、铁丹、三氧化锑、氧化镁、氧化锆、硫酸钡、碳酸钡、碳酸钙、碳化硅和氮化硅。无机细粒的其他实例包括聚合物细粒如无皂(soap-free)乳液聚合物和悬浮聚合物，通过分散聚合得到的聚苯乙烯、甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯共聚物，缩聚物如硅氧烷、苯胍胺和尼龙，和热固性树脂。

通过表面活性剂进行的表面处理改善疏水特性，并即使在高湿度下也防止流动性和充电特性的劣化。适合的表面活性剂的实例包括硅烷偶联剂、甲硅烷化(sillilation)剂、具有氟代烷基的硅烷偶联剂、有机钛酸酯类的偶联剂、铝基偶联剂、硅油和变性硅油。

上述调色剂可与磁性载体混合并用作双组分显影剂。在这种情况下，在显影剂中，相对于磁性载体，调色剂密度优选为1-10重量份，对于每100重量份的磁性载体。另外，上述调色剂可用作不使用载体的单组分磁性调色剂或非磁性调色剂。

此外，本发明不限于上述实施例，而是在不脱离本发明的范畴的情况下可以做各种变化和改动。

Claims (39)

1、一种处理盒(1)，其包括：

框体(2)，其由至少第一和第二框体(2a，2b)组成，所述第一和第二框体(2a，2b)相对于彼此可移动以形成空间；

框体定位构件(2c)，其将所述第一和第二框体(2a，2b)定位；

感光体(3)，其由所述框体支撑，并且经由所述第一和第二框体(2a，2b)形成的所述空间可更换；

显影单元(5)，其将显影剂提供给所述感光体(3)；以及

显影位置确定构件(71，72)，其设置在相对于所述框体定位构件(2c)的非重叠位置，并且将所述显影单元(5)相对于所述框体(2)定位。

2、如权利要求1所述的处理盒(1)，其中，所述显影单元(5)包括传送所述显影剂的显影辊(51)和设置在所述显影辊内并且具有预定主磁极方向的磁铁组(512)；以及所述显影位置确定构件包括将所述感光体和所述显影辊定位的定位构件(71)和确定所述磁铁组相对于所述感光体的所述磁极方向的角度定位构件(72)。

3、如权利要求1所述的处理盒(1)，其还包括：

清洁所述感光体上的残留调色剂的清洁单元(6)；以及

清洁位置确定构件(73)，其设置在相对于所述框***置确定构件和所述显影位置确定构件的非重叠位置，并且将所述清洁单元(6)相对于所述框体(2)定位。

4、如权利要求1所述的处理盒(1)，其还包括：

清洁所述感光体上的残留调色剂的清洁单元(6)；以及

将所述清洁单元相对于所述框体定位的清洁位置确定构件(73)，

所述清洁单元(6)经由所述第一和第二框体(2a，2b)所形成的空间可替换。

5、如权利要求4所述的处理盒(1)，其中：

所述清洁单元(6)包括去除至少所述感光体上的残留调色剂的清洁刀片(61)，控制所述残留调色剂的装料量的偏压滚筒(64)，以及回收粘附在所述偏压滚筒和所述清洁刀片上的调色剂的回收滚筒(66)；

所述清洁位置确定构件(73)包括将所述清洁刀片相对于所述框体、所述偏压滚筒和所述回收滚筒定位的刀片定位构件(76)；以及

所述清洁刀片、所述偏压滚筒和所述回收滚筒独立地可替换。

6、如权利要求1至5中任一项所述的处理盒(1)，还包括：

将所述感光体均匀充电的充电单元(4)，

所述充电单元(4)相对于所述框体(2)定位在相对于所述框***置确定构件、所述显影位置确定构件和所述清洁位置确定构件的非重叠位置。

7、如权利要求6所述的处理盒(1)，其中，所述感光体、所述清洁单元、所述充电单元和所述显影单元的至少一个在将所述处理盒从成像装置的主体中拆卸后可被替换。

8、如权利要求1至5中任一项所述的处理盒(1)，其中，所述感光体(3)中插有设置在成像装置的主体中的驱动轴(101)。

9、如权利要求8所述的处理盒(1)，其中，所述框体(2)具有用于接收所述驱动轴的孔部(13)。

10、如权利要求1至5中任一项所述的处理盒(1)，其中，所述框体(2)包括放电单元(25，26)和检测单元。

11、如权利要求10所述的处理盒(1)，其中，所述放电单元(25，26)包括电致发光灯。

12、如权利要求10所述的处理盒(1)，其中，所述检测单元包括用于检测所述感光体的电位的电位传感器(22)，用于检测所述感光体上的调色剂的量的调色剂密度传感器(23)，以及用于检测所述处理盒内的温度和湿度的温度和湿度传感器(21)。

13、如权利要求1至5中任一项所述的处理盒(1)，其中，用于外部连接的电线经由所述处理盒的一个位置可连接。

14、如权利要求1至5中任一项所述的处理盒(1)，还包括：

容纳调色剂和新供给的调色剂的容纳部(53)。

15、如权利要求1至5中任一项所述的处理盒(1)，该处理盒通过接纳供给的调色剂可以再使用。

16、如权利要求15所述的处理盒(1)，还包括：

容纳所供给的调色剂的容纳部(53)。

17、一种用于将在感光体(3)上形成的潜像显现成调色剂图像的成像装置(100)，其包括：

至少一个如权利要求1至16中任一项所述的可拆卸的处理盒(1)，

相对于所述处理盒(1)可替换的所述感光体(3)和所述显影单元(5)的至少一个。

18、如权利要求17所述的成像装置，还包括：

容纳所供给调色剂的容纳部件(53)。

19、一种构造为相对于成像装置可拆卸的处理盒(1)，其包括：

框体(2)，其由至少第一和第二框体(2a，2b)组成，所述第一和第二框体相对于彼此可移动以形成空间；

由所述框体支撑的感光体(3)；以及

至少一个与所述感光体整体地设置并且由所述框体支撑的处理单元，

所述感光体(3)和所述至少一个处理单元独立地可替换。

20、如权利要求19所述的处理盒(1)，其中，所述至少一个处理单元包括清洁单元(6)、显影单元(5)和充电单元(4)。

21、如权利要求19所述的处理盒(1)，其中，所述感光体(3)和所述至少一个处理单元在不需要将其他处理单元拆除的情况下可替换。

22、如权利要求19所述的处理盒(1)，其中，所述感光体(3)和所述至少一个处理单元在将所述处理盒从所述成像装置(100)中拆卸之后被替换。

23、如权利要求19、21和22中任一项所述的处理盒(1)，其中，所述感光体(3)在不需要将所述至少一个处理单元从所述框体(2)中拆卸的情况下可拆卸。

24、如权利要求19所述的处理盒(1)，包括：

形成一个处理单元的清洁单元(6)，

其中，所述感光体(3)在转动所述清洁单元(6)之后从所述框体(2)中拆卸。

25、如权利要求24所述的处理盒(1)，还包括：

将所述清洁单元(6)相对于所述框体定位的清洁位置确定构件(73)。

26、如权利要求24或25所述的处理盒(1)，其中，所述清洁单元(6)包括涂覆机构(6b)，所述涂覆机构包括涂覆滚筒(66)和润滑体(67)，所述涂覆机构将润滑剂涂覆在感光体(3)上。

27、如权利要求26所述的处理盒(1)，其中，所述清洁单元(6)包括清洁刀片(61)，并且所述润滑体可替换。

28、如权利要求19所述的处理盒(1)，还包括：

形成一个处理单元的充电单元(4)，

其中，所述框体(2)包括接受所述充电单元的凹槽。

29、如权利要求19所述的处理盒(1)，还包括：

显影单元(5)；以及

将所述显影单元相对于所述框体定位的显影定位构件(71，72)。

30、如权利要求29所述的处理盒(1)，其中，所述显影位置确定构件(71，72)将所述显影单元的显影基准轴相对于形成轴承的所述框体中的孔定位。

31、如权利要求19所述的处理盒(1)，其中，所述感光体(3)在所述处理盒装载入所述成像装置中时接纳所述成像装置的驱动轴(101)。

32、如权利要求31所述的处理盒(1)，其中，所述框体(2)包括形成轴承(103)并且接纳所述成像装置的所述驱动轴的孔(13)。

33、如权利要求19所述的处理盒(1)，还包括：

设置在所述框体上的放电单元(25，26)；以及

设置在所述框体上的检测单元。

34、如权利要求33所述处理盒(1)，其中，所述检测单元包括检测所述感光体的电位的电位传感器(22)，检测所述感光体上的调色剂的量的调色剂密度传感器(23)，以及检测所述处理盒内的温度和湿度的温度和湿度传感器(21)。

35、如权利要求19所述的处理盒(1)，还包括：

容纳所调色剂或新供给的调色剂的容纳部。

36、如权利要求19所述的处理盒(1)，该处理盒通过接收调色剂供给而可再使用。

37、如权利要求36所述的处理盒(1)，其还包括：

容纳所供给的调色剂的容纳部件(53)。

38、一种用于将在感光体(3)上形成的潜像显现成调色剂图像的成像装置(100)，其包括：

至少一个如权利要求19至37中任一项所述的可拆卸的处理盒(1)，

相对于所述处理盒(1)可替换的所述感光体、所述显影单元和清洁单元的至少一个。

39、如权利要求38所述的成像装置(100)，还包括：

容纳所供给调色剂的容纳部(53)。

Images