WO2013054786A1 - 金属フィルターの製造方法 - Google Patents

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metal filter
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copper substrate
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鈴木 崇裕
上原 寿茂
得仁 菊原
鈴木 恭介
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日立化成株式会社
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    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a metal filter. More specifically, the present invention relates to a method for producing a metal filter that can efficiently capture circulating cancer cells in the blood.
  • CTC circulating tumor cells
  • Blood contains many blood cell components such as red blood cells, white blood cells, and platelets, and the number is said to be 3.5 to 9 ⁇ 10 9 in 1 mL of blood. Among them, there are only a few CTCs. In order to efficiently detect CTC from blood cell components, it was necessary to separate the blood cell components, and observation and measurement were very difficult.
  • Cancer cells such as CTC are slightly larger in size than blood cells in blood, such as red blood cells, white blood cells, or platelets. Therefore, theoretically, it is possible to apply these mechanical filtration methods to remove these blood cell components and concentrate the cancer cells.
  • leukocytes there are cells having the same size as CTC, and only CTC may not be distinguished with high accuracy only by the difference in size.
  • leukocytes are more deformable than cancer cells, they can pass through smaller pores and can be separated from CTCs by an external force such as suction or pressurization. It is conceivable to use a metal filter as a filter for performing the mechanical filtration method.
  • an electroforming (electroforming) plating method using photolithography is known.
  • a first photosensitive resin layer is formed on a conductive substrate, and a first photomask on which a mesh pattern is formed is overlaid on the first photosensitive resin layer.
  • the first plated layer is exposed and developed to remove unnecessary portions, and the removed portion is electroformed using the substrate as one electrode so that the thickness does not exceed the first photosensitive resin layer.
  • a conductive thin film is formed on the surfaces of the first plating layer and the first photosensitive resin layer by a sputtering method, and a second photosensitive resin layer is formed on the surface of the thin film.
  • a second photomask formed with a layer is exposed on the second photosensitive resin layer, exposed, developed to remove unnecessary portions, and the thin film is used as one electrode for the removed portions by electroforming.
  • the thickness does not exceed the second photosensitive resin layer
  • the substrate is peeled after the second plating layer is formed, and the exposed portion of the first photosensitive resin layer, the second photosensitive resin layer, and the thin film is removed.
  • a method for manufacturing a metal mask is described
  • Patent Document 2 discloses a step of laminating or coating a photoresist on the surface of a base made of a flat plate, and a pattern film overlaid on the photoresist, and the photoresist is irradiated with light that goes straight to the base. Exposing the pattern film, peeling the pattern film and transferring the photoresist to the electroforming mother mold side, developing and drying to form a pattern resist film on the electroforming mother mold, and electroforming A method for manufacturing a metal mask is described which includes a step of forming an electrodeposited metal on a surface not covered with a matrix pattern resist film and a step of peeling the electrodeposited metal from the electroformed mother die.
  • an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a metal filter that does not cause damage such as wrinkles, breakage, scratches, curls, or deformation of fine through holes.
  • the present invention relates to a method for producing a metal filter, comprising a step of laminating a photosensitive resin composition on a copper substrate to form a photosensitive resin composition layer, and an active portion of the photosensitive resin composition layer.
  • the substrate is removed by chemical dissolution to obtain a structure composed of a plated layer and a cured product of the photosensitive resin composition, and the cured product of the photosensitive resin composition is removed from the structure to form a plated layer.
  • a peeling step to obtain Plated layer is a metal filter, to provide
  • the plating layer that becomes a metal filter can be collected without removing the copper substrate by chemical dissolution, regardless of manual work (hand peeling). For this reason, a metal filter can be manufactured without causing damage such as wrinkles, creases, scratches, and curls, and deformation of fine through holes. Since the metal filter produced by the production method of the present invention has little variation in the size of the through-holes, cancer cells can be separated and concentrated with high separation accuracy.
  • the adhesion between the substrate and the photosensitive resin composition is not sufficient, it is necessary to increase the adhesion area of the resist pattern, which may make it difficult to produce a metal filter having fine through holes. .
  • a copper substrate is used as the substrate. Since copper is excellent in adhesive strength with a photoresist, sufficient adhesive strength with the photosensitive resin composition can be obtained. For this reason, according to the manufacturing method of the present invention using a copper substrate, it is possible to manufacture a metal filter having fine through holes.
  • the metal filter has a plurality of through holes, and the opening shape of the through holes is preferably one or more shapes selected from the group consisting of a circle, an ellipse, a rounded rectangle, a rectangle, and a square. Further, the opening shape of the through hole includes a rectangular shape or a rounded rectangular shape, and the length of the short side of the rectangular shape or the rounded rectangular shape is preferably 5 to 15 ⁇ m.
  • the rounded rectangle is a shape composed of two long sides of equal length and two semicircles, and is a shape shown in FIG. The length of the short side of the rounded rectangle is the length indicated by a in FIG.
  • the thickness of the metal filter is preferably 3 to 50 ⁇ m.
  • cancer cells are less likely to clog the through-holes, and the concentration efficiency of cancer cells can be further improved.
  • the thickness of the plating layer is preferably thinner than the thickness of the photosensitive resin composition layer (the thickness of the cured product of the photosensitive resin composition). Thereby, the through-hole of a metal filter can be formed reliably. If the thickness of the plating layer becomes thicker than the thickness of the photosensitive resin composition layer, the plating layer is connected at a portion thicker than the thickness of the cured product of the photosensitive resin composition, and no through hole is formed. There is a case.
  • the copper substrate is preferably a peelable copper foil.
  • peelable copper foil By using peelable copper foil, the amount of copper can be reduced, the amount and time of the chemical dissolving agent required for removing the copper substrate can be reduced, and productivity can be improved.
  • the metal filter is preferably a cancer cell concentration metal filter.
  • the metal filter has a structure particularly suitable for concentration of cancer cells. That is, the present invention also provides use of a metal filter produced by the above production method for cancer cell concentration.
  • the cancer cell concentration metal filter is preferably a metal filter for concentration of cancer cells circulating in blood.
  • the metal filter has a structure particularly suitable for separating cancer cells and blood cell components circulating in blood and concentrating the cancer cells. That is, the present invention also provides the use of the metal filter produced by the above production method for the concentration of cancer cells circulating in the blood.
  • FIGS. 1 to (H) are process diagrams for explaining an embodiment of the production method of the present invention.
  • FIG. 1 is the schematic which shows one Embodiment of a filter.
  • FIG. 1 is a top view of the through hole of the filter of one embodiment.
  • the method for producing a metal filter according to the embodiment includes a laminating step of laminating a photosensitive resin composition on a copper substrate to form a photosensitive resin composition layer, and an actinic ray at a predetermined portion of the photosensitive resin composition layer. Irradiation and photocuring the exposed portion to form a cured product of the photosensitive resin composition, and removing portions other than the cured product of the photosensitive resin composition from the photosensitive resin composition layer by development A development process for forming a resist pattern made of a cured product of the photosensitive resin composition on a copper substrate, a plating process for forming a plating layer by metal plating the copper substrate on which the resist pattern is formed, and a copper substrate.
  • Plating layer is a metal filter.
  • FIGS. 1A to 1H are process diagrams for explaining an embodiment of the production method of the present invention.
  • a peelable copper foil is used as the copper substrate.
  • FIG. 1A shows a peelable copper foil composed of a carrier layer 1 and a copper foil layer 2.
  • the photosensitive resin composition is laminated on the copper foil layer 2 to form the photosensitive resin composition layer 3.
  • the photosensitive resin composition layer 3 is irradiated with active light (UV light) through the photomask 4, and the exposed portion is photocured to form a photosensitive resin composition.
  • the cured product 3a is formed.
  • the development step shown in FIG. 1D a portion other than the cured product 3a of the photosensitive resin composition is removed from the photosensitive resin composition layer 3 to form the cured product 3a of the photosensitive resin composition.
  • a resist pattern is formed.
  • a plating layer 5 is formed on the copper foil layer 2 on which a resist pattern made of the cured product 3a of the photosensitive resin composition is formed.
  • the copper foil layer 2 and the carrier layer 1 of the peelable copper foil are peeled off.
  • the copper foil layer 2 is removed by chemical dissolution.
  • the cured product 3a of the photosensitive resin composition and the plating layer 5 remain.
  • the peeling step shown in FIG. 1 (H) the resist pattern made of the cured product 3a of the photosensitive resin composition is removed, and the metal filter made of the plating layer 5 is collected.
  • a through hole 6 is formed in the metal filter.
  • FIG. 1 F
  • the copper substrate 2 ′ is thicker than the copper foil layer 2 of the above embodiment, in the step of removing the copper substrate 2 ′ by chemical dissolution in the melting step, more chemical dissolving agent and time than the above embodiment are required. Is required.
  • the copper substrate is not particularly limited as long as it has copper or copper on the surface, and examples thereof include a copper foil having a thickness of 1 to 100 ⁇ m, a copper foil tape, and a peelable copper foil. From the viewpoint of workability, peelable copper foil is preferable.
  • the peelable copper foil is a copper foil composed of at least two layers of an ultrathin copper foil and a carrier layer.
  • the photosensitive resin composition either a negative type or a positive type can be used, but a negative type photosensitive resin composition is preferable.
  • the negative photosensitive resin composition preferably contains at least a binder resin, a photopolymerizable compound having an unsaturated bond, and a photopolymerization initiator.
  • a positive photosensitive resin composition since the solubility with respect to the developing solution of the part exposed by irradiation of actinic light among photosensitive resin composition layers increases, in a development process, The exposed part will be removed.
  • a negative photosensitive resin composition is used will be described.
  • the thickness of the manufactured metal filter is equal to or less than the thickness of the photosensitive resin composition layer. For this reason, it is necessary to form the photosensitive resin composition layer having a thickness suitable for the thickness of the target metal filter. For example, when producing a metal filter having a thickness of 15 ⁇ m or less, it is preferable to use a photosensitive resin composition having a thickness of 15 ⁇ m. In the case of producing a metal filter having a thickness of more than 15 ⁇ m and not more than 25 ⁇ m, it is preferable to use a photosensitive resin composition having a thickness of 25 ⁇ m. Moreover, it is preferable to use the photosensitive resin composition with a thin film thickness, so that the hole diameter of a through-hole becomes small.
  • Lamination of the photosensitive resin composition on the copper substrate is performed, for example, after removing the protective film of the sheet-like photosensitive element comprising the support film, the photosensitive resin composition and the protective film, and then the photosensitive resin of the photosensitive element. This is performed by pressure-bonding the composition layer to a copper substrate while heating. Thereby, the laminated body which consists of a copper substrate, the photosensitive resin composition layer, and the support film, and these were laminated
  • This stacking operation is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of adhesion and followability.
  • the conditions such as the heating temperature and pressure for the photosensitive resin composition layer and / or the copper substrate during the pressure bonding, but it is preferably performed at a temperature of 70 to 130 ° C., and the pressure bonding is performed at a pressure of about 100 to 1000 kPa. It is preferable to do.
  • the copper substrate may be preheated in order to improve the lamination property.
  • a predetermined portion of the photosensitive resin composition layer on the copper substrate is irradiated with actinic rays, and the exposed portion is photocured to form a cured product of the photosensitive resin composition.
  • the support film present on the photosensitive resin composition layer is transparent to actinic rays, it can be irradiated with actinic rays through the support film.
  • the photosensitive resin composition layer is irradiated with actinic rays after removing the support film.
  • Examples of the exposure method include a method of irradiating an image with active light through a negative or positive mask pattern called an artwork (mask exposure method).
  • a method of irradiating actinic rays in an image form by a direct drawing exposure method such as an LDI (Laser Direct Imaging) exposure method or a DLP (Digital Light Processing) exposure method may be employed.
  • LDI Laser Direct Imaging
  • DLP Digital Light Processing
  • a known light source can be used.
  • a gas laser such as an argon laser
  • a solid laser such as a YAG laser
  • semiconductor laser etc.
  • the wavelength of the actinic ray is preferably in the range of 350 to 410 nm, and more preferably in the range of 390 to 410 nm.
  • development is performed by a known development method using a developer corresponding to the photosensitive resin composition.
  • development methods include dip method, battle method, spray method, brushing, slapping, scrapping, rocking immersion, etc., and high-pressure spray method is most suitable from the viewpoint of improving resolution. Yes. These may be developed by combining two or more methods.
  • Examples of the developer include an alkaline aqueous solution, an aqueous developer, and an organic solvent developer.
  • the alkaline aqueous solution is safe and stable when used as a developer, and has good operability.
  • Examples of the base of the alkaline aqueous solution include alkali metal hydroxides such as lithium, sodium or potassium hydroxide; carbonates or bicarbonates of lithium, sodium, potassium or ammonium; alkali metals such as potassium phosphate and sodium phosphate Phosphate: Alkali metal pyrophosphates such as sodium pyrophosphate and potassium pyrophosphate are used.
  • Examples of the alkaline aqueous solution include a dilute solution of 0.1 to 5% by mass sodium carbonate, a dilute solution of 0.1 to 5% by mass potassium carbonate, a dilute solution of 0.1 to 5% by mass sodium hydroxide, and 0.1 to 5%.
  • a dilute solution of mass% sodium tetraborate is preferred.
  • the pH of the alkaline aqueous solution is preferably in the range of 9 to 11, and the temperature is adjusted according to the alkali developability of the photosensitive resin composition layer.
  • a surfactant, an antifoaming agent, a small amount of an organic solvent for promoting development, and the like may be mixed.
  • the portions other than the cured product of the photosensitive resin composition are removed by development to form a resist pattern made of the cured product of the photosensitive resin composition on the copper substrate, and then heated at about 60 to 250 ° C. as necessary.
  • the resist pattern may be further cured by performing exposure at about 0.2 to 10 J / cm 2 .
  • plating process Next, the plating process will be described. After the development step, plating is performed on the copper substrate to form a plating layer. Examples of the plating method include solder plating, nickel plating, and gold plating. This plating layer finally becomes a metal filter.
  • the material for the metal filter examples include, but are not limited to, noble metals such as gold and silver, base metals such as aluminum, tungsten, nickel and chromium, and alloys of these metals.
  • the metal may be used alone, or may be used as an alloy with another metal or an oxide of a metal in order to impart functionality.
  • nickel and a metal containing nickel as a main component because corrosion is prevented and the processability and cost are excellent.
  • the main component means a component occupying 50% by weight or more of the material.
  • the dissolution process After forming the plating layer, the copper substrate is chemically dissolved and removed. Thereby, the structure which consists of the plating layer used as a metal filter and the hardened
  • MEC BRIGHT SF-5420B (trade name, manufactured by MEC Co., Ltd.), copper selective etching solution-CSS (Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), or the like can be used.
  • the resist pattern is peeled off with a stronger alkaline aqueous solution than the alkaline aqueous solution used for development, for example.
  • a stronger alkaline aqueous solution for example, a 1 to 10% by mass aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution is preferably used, and a 1 to 5% by mass aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution is more preferably used.
  • This plating layer is a metal filter.
  • Examples of the resist pattern peeling method include an immersion method, a spray method, a method using ultrasonic waves, and the like, and these may be used alone or in combination.
  • the opening shape of the through hole of the metal filter examples include a circle, an ellipse, a rounded rectangle, a rectangle, a square, and a polygon. From the viewpoint of efficiently capturing cancer cells, a circle, rectangle, or rounded rectangle is preferable. Further, from the viewpoint of preventing clogging of the metal filter, a rectangle or a rounded rectangle is particularly preferable.
  • the hole diameter of the through hole is set according to the size of the cancer cell to be captured.
  • the hole diameter when the opening shape is other than a circle such as an ellipse, a rectangle, or a polygon means the maximum value of the diameter of a sphere that can pass through each through hole.
  • the diameter of the through hole is, for example, the length of the short side of the rectangle when the opening shape is a rectangle, and the diameter of the inscribed circle of the polygon when the opening shape is a polygon.
  • the average aperture ratio of the through holes of the metal filter is preferably 0.1 to 50%, more preferably 0.5 to 40%, still more preferably 1 to 30%, and most preferably 1 to 10%.
  • the aperture ratio refers to the area occupied by the through hole with respect to the area of the predetermined area on the filter.
  • the average aperture ratio refers to the area occupied by the through-holes relative to the entire filter area. If the average aperture ratio is 0.1 to 50%, sufficient filter strength can be secured and processing is easy. Moreover, the occurrence of clogging of the filter can be prevented, and the concentration performance of the filter can be ensured.
  • the thickness of the metal filter is preferably 3 to 50 ⁇ m, more preferably 5 to 40 ⁇ m, and particularly preferably 5 to 30 ⁇ m.
  • the film thickness of the filter is 3 to 50 ⁇ m, the strength of the filter is ensured and the handleability is also good.
  • the productivity of the filter is good, and the fine processing is easy without being disadvantageous in terms of cost due to the consumption of materials more than necessary.
  • FIG. 3A is a schematic view showing an embodiment of a metal filter that can be manufactured by the manufacturing method of the present invention.
  • the metal filter 100 includes a substrate (plating layer) 20 in which a plurality of through holes 10 are formed.
  • the opening shape of the through hole 10 is a rounded rectangle.
  • the arrangement of the through holes 10 may be an arrangement as shown in FIG. 1A, a zigzag arrangement in which the arrangement is shifted for each column, or a random arrangement arbitrarily arranged.
  • FIG. 3B is a top view of the through hole 10 of the metal filter of the above embodiment.
  • the opening shape of the through-hole 10 is a rounded rectangle, and is a shape in which two semicircles having a radius of c are adjacent to a short side of a rectangle having a short side of a and a long side of b.
  • a, b and c are 8, 22 and 4 ⁇ m, respectively.
  • Example 1 A photosensitive element (PHOTEC RD-1225: thickness 25 ⁇ m, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is a 250 mm square substrate (MCL-E679F t0.5 ⁇ 250 ⁇ 250 N3DB: (MCL-E679F t0.5 ⁇ 250 ⁇ 250 18D). ), A pressure-sensitive adhesive resin composition layer was formed on the copper foil layer of Hitachi Chemical Co., Ltd.). The pressure bonding was performed under the conditions of a roll temperature of 90 ° C., a pressure of 0.3 MPa, and a conveyor speed of 2.0 m / min.
  • the shape of the light transmitting portion was a rounded rectangle, and the rounded rectangle was aligned in the same direction at a pitch of 60 ⁇ m in both the major axis and minor axis directions.
  • the size of the rounded rectangle was 8 ⁇ m for a, 22 ⁇ m for b, and 4 ⁇ m for c in FIG.
  • ultraviolet rays having an exposure amount of 30 mJ / cm 2 were irradiated from above the photomask by an ultraviolet irradiation device.
  • the copper foil layer on which the nickel plating layer was formed was peeled from the carrier of the peelable copper foil. Subsequently, the copper foil layer on which the nickel plating layer is formed is immersed in a chemical solubilizer (MEC BRIGHT SF-5420B, manufactured by MEC Co., Ltd.) and stirred at 40 ° C. for about 120 minutes to dissolve and remove the copper foil layer.
  • a chemical solubilizer MEC BRIGHT SF-5420B, manufactured by MEC Co., Ltd.
  • the recovered structure was immersed in a resist stripping solution (P3 Poleve, manufactured by Henkel) and subjected to ultrasonic treatment at 60 ° C. for about 40 minutes to remove the cured product of the photosensitive resin composition.
  • a resist stripping solution P3 Poleve, manufactured by Henkel
  • the metal filter of Example 1 having through holes with sufficient accuracy without damage such as wrinkles, bending, scratches, and curls was produced.
  • Example 2 is the same as Example 1 except that the shape of the light transmitting portion of the photomask is changed to a rounded rectangle with a of 5 ⁇ m, b of 15 ⁇ m, and c of 2.5 ⁇ m in FIG. A metal filter was prepared.
  • Example 3 A metal filter of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the shape of the light transmission part of the photomask was changed to a circle of ⁇ 5 ⁇ m.
  • Example 4 A metal filter of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the nickel plating time was changed to about 3 minutes.
  • the thickness of the metal filter was 3 ⁇ m as a result of measuring the thickness of the metal filter by sandwiching the filter between the measuring element (Digimatic Indicator ID-C112C, manufactured by Mitutoyo Corporation) and the pedestal.
  • Comparative Example 1 Other than changing the copper substrate to a stainless steel plate (SUS304, finish 3 / 4H, thickness 100 ⁇ m, manufactured by Nisshin Steel Co., Ltd.) and peeling the filter from the substrate by hand instead of chemical dissolution removal by chemicals A metal filter of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1.
  • Example 1 Glass beads (high-precision unibeads SPM-16: particle size 16 ⁇ 2 ⁇ m, titanium barium-based glass, manufactured by Union Co., Ltd.) were mixed with physiological saline, and the filtration test using the metal filter of Example 1 was performed. Glass beads were used as a replacement for cancer cells.
  • the metal filter of Example 1 was set in a filter holder (Swinnex 13, manufactured by MILLIPORE), and a mixed solution of physiological saline and glass beads was injected with a syringe and filtered.
  • a filter holder (Swinnex 13, manufactured by MILLIPORE)
  • a mixed solution of physiological saline and glass beads was injected with a syringe and filtered.
  • the glass beads having a particle size of about 16 ⁇ m did not pass through the holes having a short side of 8 ⁇ m and remained on the filter surface in a state of closing the holes.
  • Table 2 shows the result of counting the number of supplements with respect to the number of glass beads introduced at this time. It was confirmed that the metal filter of Example 1 has a sufficient capture ability of glass beads. From this result, it is predicted that sufficient capture ability is shown even when cancer cells are used.
  • SYMBOLS 1 Carrier layer, 2 ... Copper foil layer, 2 '... Copper plate, 3 ... Photosensitive resin composition layer, 3a ... Hardened

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Abstract

銅基板上に感光性樹脂組成物を積層して感光性樹脂組成物層を形成する積層工程と、感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射し、露光された部分を光硬化させて感光性樹脂組成物の硬化物を形成する露光工程と、感光性樹脂組成物層のうち感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分を現像により除去し、銅基板上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、レジストパターンが形成された銅基板を金属めっきしてめっき層を形成するめっき工程と、銅基板を化学的溶解によって除去して、めっき層及び感光性樹脂組成物の硬化物からなる構造物を得る溶解工程と、構造物から感光性樹脂組成物の硬化物を除去して、めっき層を得る剥離工程と、を含み、めっき層が金属フィルターである、金属フィルターの製造方法は、シワ・折れ・キズ・カール等のダメージ、及び、微細な貫通孔の変形のない金属フィルターを製造可能であるため有用である。

Description

金属フィルターの製造方法
 本発明は金属フィルターの製造方法に関する。より詳細には、血中循環癌細胞を効率良く捕獲できる金属フィルターの製造方法に関する。
 癌は世界各国で死因の上位を占め、わが国においては年間30万人以上が癌によって死亡しており、その早期発見および治療が望まれている。癌による人の死亡は、癌の転移再発によるものがほとんどである。癌の転移再発は、癌細胞が原発巣から血管またはリンパ管を経由して、別臓器組織の血管壁に定着、浸潤して微小転移巣を形成することで起こる。このような血管やリンパ管を通じての人の体内を循環する癌細胞は、血中循環癌細胞(Circulating Tumor Cell、以下、場合により「CTC」という。)と呼ばれている。
 血液には赤血球や白血球および血小板等の血球成分が多く含まれ、その個数は血液1mL中に3.5~9×10個ともいわれている。その中でCTCは僅か数個程度しか存在しない。血球成分の中からCTCを効率的に検出するためには血球成分を分離する必要があり、観察および測定が非常に困難であった。
 CTC等の癌細胞は、血液中の血球細胞、例えば赤血球や白血球、あるいは血小板等に比べてサイズが一回り大きい。したがって、理論的には、機械的濾過法を適用してこれらの血球成分を除去し、癌細胞を濃縮することが可能である。白血球の中にはCTCと同じ程度のサイズを有する細胞が存在し、サイズの違いだけではCTCのみを高精度で区別できない場合がある。しかしながら、白血球は癌細胞よりも変形能が大きいため、吸引や加圧などによる外部の力により、自分より小さな孔を通過することができ、CTCと分離することが可能となる。機械的濾過法を行うためのフィルターとして、金属フィルターを使用することが考えられる。
 金属フィルターの製造方法としては、フォトリソグラフィーを用いた電気鋳造(電鋳)めっきの方法が知られている。
 例えば、特許文献1には、導電性を有する基板上に第1の感光性樹脂層を形成し、メッシュパターンが形成された第1のフォトマスクを上記第1の感光性樹脂層上に重ねて露光し、現像処理をおこなって不要部分を除去し、該除去部分に上記基板を一方の電極として電鋳により、厚さが上記第1の感光性樹脂層を越えないように第1のメッキ層を形成し、該第1のメッキ層及び上記第1の感光樹脂層の表面にスパッタリング法によって導電性の薄膜を形成し、該薄膜の表面に第2の感光性樹脂層を形成し、印刷パターンが形成された第2のフォトマスクを上記第2の感光性樹脂層上に重ねて露光し、現像処理をおこなって不要部分を除去し、該除去部分に上記薄膜を一方の電極として電鋳により、厚さが上記第2の感光性樹脂層を越えないように第2のメッキ層を形成した後に上記基板を剥離し、かつ上記第1の感光性樹脂層、上記第2の感光性樹脂層、及び上記薄膜の露出部分を除去して成ることを特徴とするメタルマスクの製造方法が記載されている。
 また、特許文献2には、平板からなるベースの表面上にフォトレジストを剥離可能にラミネート又は塗布する工程と、フォトレジストの上にパターンフィルムを重ね、ベースに対し垂直に直進する光でフォトレジストを露光する工程と、パターンフィルムを剥がして、フォトレジストを電鋳母型側に転写する工程と、現像、乾燥処理してパターンレジスト膜を電鋳母型の上に形成する工程と、電鋳母型のパターンレジスト膜で覆われていない表面に電着金属を形成する工程と、電着金属を電鋳母型から剥離する工程とからなるメタルマスクの製造方法が記載されている。
特許第3786313号 特許第3934723号
 しかしながら、特許文献1や2の製造方法では、メタルマスクとなる電鋳めっき層の基板からの剥離を人手作業(手剥がし)によって行っている。このため、メタルマスクにシワ・折れ・キズ・カール等のダメージが発生する場合があった。
 したがって、特許文献1や2の製造方法で金属フィルターを製造した場合、金属フィルターにシワ・折れ・キズ・カール等のダメージが発生し、金属フィルターの貫通孔が変形し、貫通孔のサイズにばらつき(拡大、縮小)が生じる場合があった。貫通孔のサイズにばらつきが生じると、癌細胞の分離精度が低下することが想定される。
 そこで、本発明は、シワ・折れ・キズ・カール等のダメージや、微細な貫通孔の変形が発生しない金属フィルターの製造方法を提供することを目的とする。
 本発明は、金属フィルターの製造方法であって、銅基板上に感光性樹脂組成物を積層して感光性樹脂組成物層を形成する積層工程と、感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射し、露光された部分を光硬化させて感光性樹脂組成物の硬化物を形成する露光工程と、感光性樹脂組成物層のうち感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分を現像により除去し、銅基板上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、レジストパターンが形成された銅基板を金属めっきしてめっき層を形成するめっき工程と、銅基板を化学的溶解によって除去して、めっき層及び感光性樹脂組成物の硬化物からなる構造物を得る溶解工程と、構造物から感光性樹脂組成物の硬化物を除去して、めっき層を得る剥離工程と、を含み、めっき層が金属フィルターである、金属フィルターの製造方法を提供する。
 上記本発明の製造方法によれば、銅基板を化学的溶解によって除去することにより、人手作業(手剥がし)によらずに金属フィルターとなるめっき層を回収することができる。このため、シワ・折れ・キズ・カール等のダメージや、微細な貫通孔の変形を生じることなく、金属フィルターを製造することができる。上記本発明の製造方法により製造された金属フィルターは、貫通孔のサイズにばらつきが少ないため、高い分離精度で癌細胞を分離・濃縮することができる。
 基板と感光性樹脂組成物(フォトレジスト)の密着力が十分でない場合、レジストパターンの密着面積を大きくする必要があり、微細な貫通孔を有する金属フィルターを製造することが困難となる場合がある。微細な貫通孔を形成するためには、貫通孔のサイズに相当する小さな密着面積のレジストパターンを形成することが必要である。
 上記本発明の製造方法では、基板として銅基板を使用する。銅は、フォトレジストとの密着力に優れていることから、感光性樹脂組成物との十分な密着力を得ることができる。このため、銅基板を使用する上記本発明の製造方法によれば、微細な貫通孔を有する金属フィルターを製造することができる。
 上記金属フィルターは、複数の貫通孔を有し、貫通孔の開口形状は、円、楕円、角丸長方形、長方形及び正方形からなる群より選択される1種以上の形状であることが好ましい。さらに、貫通孔の開口形状は、長方形又は角丸長方形の形状を含み、長方形又は角丸長方形の短辺の長さは5~15μmであることが好ましい。ここで、角丸長方形とは、2つの等しい長さの長辺と2つの半円形からなる形状であり、図3(B)に示す形状である。角丸長方形の短辺の長さとは、図3(B)のaで示される長さである。また、金属フィルターの厚さは、3~50μmであることが好ましい。
 このような開口形状及びサイズであることにより、癌細胞が貫通孔に目詰まりしにくく、癌細胞の濃縮効率を更に向上させることができる。
 上記のめっき層の厚さは、上記の感光性樹脂組成物層の厚さ(感光性樹脂組成物の硬化物の厚さ)よりも薄いことが好ましい。これにより、金属フィルターの貫通孔を確実に形成することができる。めっき層の厚さが感光性樹脂組成物層の厚さよりも厚くなってしまうと、めっき層が感光性樹脂組成物の硬化物の厚さよりも厚い部分で連結してしまい、貫通孔が形成されない場合がある。
 上記銅基板は、ピーラブル銅箔であることが好ましい。ピーラブル銅箔を使用することによって銅の量を削減し、銅基板の除去に要する化学的溶解剤の量及び時間を削減し、生産性を向上させることができる。
 上記金属フィルターは、癌細胞濃縮用金属フィルターであることが好ましい。上記金属フィルターは、癌細胞の濃縮に特に適した構造を有している。すなわち、本発明はまた、上記の製造方法により製造される金属フィルターの癌細胞濃縮のための使用を提供する。
 上記癌細胞濃縮用金属フィルターは、血液中に循環する癌細胞の濃縮用金属フィルターであることが好ましい。上記金属フィルターは、血液中に循環する癌細胞と血球成分とを分離し、癌細胞を濃縮するのに特に適した構造を有している。すなわち、本発明はまた、上記の製造方法により製造される金属フィルターの血液中に循環する癌細胞の濃縮のための使用を提供する。
 本発明により、シワ・折れ・キズ・カール等のダメージや、微細な貫通孔の変形が発生しない金属フィルターの製造方法を提供することができる。
(A)~(H)は、本発明の製造方法の一実施形態を説明する工程図である。 (A)~(G)は、本発明の製造方法の一実施形態を説明する工程図である。 (A)は、フィルターの一実施形態を示す概略図である。(B)は、一実施形態のフィルターの貫通孔の上面図である。
 以下、場合により図面を参照しながら好適な実施形態を説明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、図面の説明において同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は理解を容易にするため一部を誇張して描いており、寸法比率は説明のものとは必ずしも一致しない。
 実施形態に係る金属フィルターの製造方法は、銅基板上に感光性樹脂組成物を積層して感光性樹脂組成物層を形成する積層工程と、感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射し、露光された部分を光硬化させて感光性樹脂組成物の硬化物を形成する露光工程と、感光性樹脂組成物層のうち感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分を現像により除去し、銅基板上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、レジストパターンが形成された銅基板を金属めっきしてめっき層を形成するめっき工程と、銅基板を化学的溶解によって除去して、めっき層及び前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる構造物を得る溶解工程と、構造物から感光性樹脂組成物の硬化物を除去して、めっき層を得る剥離工程と、を含み、めっき層が金属フィルターである。
 図1(A)~(H)は、本発明の製造方法の一実施形態を説明する工程図である。本実施形態では、銅基板としてピーラブル銅箔を使用する。
 図1(A)は、キャリア層1及び銅箔層2からなるピーラブル銅箔を示す。図1(B)に示す積層工程において、銅箔層2に感光性樹脂組成物を積層し、感光性樹脂組成物層3を形成する。続いて、図1(C)に示す露光工程において、フォトマスク4を通して感光性樹脂組成物層3に活性光線(UV光)を照射し、露光された部分を光硬化させて感光性樹脂組成物の硬化物3aを形成する。続いて、図1(D)に示す現像工程において、感光性樹脂組成物層3のうち感光性樹脂組成物の硬化物3a以外の部分を除去し、感光性樹脂組成物の硬化物3aからなるレジストパターンを形成する。続いて、図1(E)に示すめっき工程において、感光性樹脂組成物の硬化物3aからなるレジストパターンが形成された銅箔層2上にめっき層5を形成する。続いて、図1(F)に示すように、ピーラブル銅箔の銅箔層2とキャリア層1とを剥離する。続いて、図1(G)に示す溶解工程において、銅箔層2を化学的溶解により除去する。この結果、感光性樹脂組成物の硬化物3a及びめっき層5が残る。続いて、図1(H)に示す剥離工程において、感光性樹脂組成物の硬化物3aからなるレジストパターンを除去し、めっき層5からなる金属フィルターを回収する。金属フィルターには貫通孔6が形成されている。
 図2(A)~(G)は、本発明の製造方法の一実施形態を説明する工程図である。本実施形態では、上記実施形態のピーラブル銅箔の代わりに銅基板2’を使用する。本実施形態の製造方法は、図1(F)に示す、ピーラブル銅箔の銅箔層2とキャリア層1とを剥離する工程が存在しない点以外は上記実施形態と同様である。但し、銅基板2’は上記実施形態の銅箔層2よりも厚いため、溶解工程において銅基板2’を化学的溶解により除去する工程において、上記実施形態よりも多くの化学的溶解剤と時間が必要になる。
 続いて、実施形態に係る金属フィルターの製造方法の各工程をより詳細に説明する。
(積層工程)
 まず、積層工程について説明する。銅基板としては、銅又は表面に銅を有するものであれば特に制限はないが、例えば、厚さ1~100μmの銅箔、銅箔テープ、ピーラブル銅箔等が挙げられる。作業性の観点からは、ピーラブル銅箔が好ましい。ピーラブル銅箔とは、極薄銅箔とキャリア層の少なくとも2層からなる銅箔である。
 感光性樹脂組成物としては、ネガ型及びポジ型のいずれも使用可能であるが、ネガ型感光性樹脂組成物が好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物は、少なくとも、バインダー樹脂、不飽和結合を有する光重合性化合物、光重合開始剤を含むものであることが好ましい。なお、ポジ型の感光性樹脂組成物を使用する場合には、感光性樹脂組成物層のうち、活性光線の照射により露光された部分の現像液に対する溶解性が増大するため、現像工程において、露光された部分が除去されることになる。以下、ネガ型感光性樹脂組成物を使用した場合について説明する。
 製造される金属フィルターの厚さは、感光性樹脂組成物層の厚さ以下となる。このため、目的とする金属フィルターの厚さに適した膜厚の感光性樹脂組成物層を形成する必要がある。例えば、15μm以下の厚さの金属フィルターを製造する場合には膜厚15μmの感光性樹脂組成物を使用することが好ましい。また、15μmを超え25μm以下の厚さの金属フィルターを製造する場合には膜厚25μmの感光性樹脂組成物を使用することが好ましい。また、貫通孔の孔径が小さくなるほど膜厚の薄い感光性樹脂組成物を使用することが好ましい。
 感光性樹脂組成物の銅基板上への積層は、例えば、支持フィルム、感光性樹脂組成物及び保護フィルムからなるシート状の感光性エレメントの保護フィルムを除去した後、感光性エレメントの感光性樹脂組成物層を加熱しながら銅基板に圧着することにより行われる。これにより、銅基板と感光性樹脂組成物層と支持フィルムとからなり、これらが順に積層された積層体が得られる。
 この積層作業は、密着性及び追従性の見地から、減圧下で行うことが好ましい。圧着の際の感光性樹脂組成物層及び/又は銅基板に対する加熱温度、圧力等の条件に特に制限はないが、70~130℃の温度で行うことが好ましく、100~1000kPa程度の圧力で圧着することが好ましい。なお、感光性樹脂組成物層の圧着において、積層性を向上させるために、銅基板を予熱処理してもよい。
(露光工程)
 続いて、露光工程について説明する。銅基板上の感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射し、露光された部分を光硬化させて感光性樹脂組成物の硬化物を形成する。この際、感光性樹脂組成物層上に存在する支持フィルムが活性光線に対して透過性を有する場合には、支持フィルムを通して活性光線を照射することができるが、支持フィルムが活性光線に対して遮光性を有する場合には、支持フィルムを除去した後に感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する。
 露光方法としては、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線を画像上に照射する方法(マスク露光法)が挙げられる。また、LDI(Laser Direct Imaging)露光法やDLP(Digital Light Processing)露光法等の直接描画露光法により活性光線を画像状に照射する方法を採用してもよい。
 活性光線の光源としては、公知の光源を用いることができ、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、アルゴンレーザ等のガスレーザ、YAGレーザ等の固体レーザ、半導体レーザ等の紫外線、可視光等を有効に放射するものが用いられる。
 活性光線の波長(露光波長)としては、350~410nmの範囲内とすることが好ましく、390~410nmの範囲内とすることがより好ましい。
(現像工程)
 続いて、現像工程について説明する。感光性樹脂組成物層のうち、感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分を銅基板上から除去することにより、銅基板上に、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する。感光性樹脂組成物層上に支持フィルムが存在している場合には、支持フィルムを除去してから、上記感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分の除去(現像)を行う。現像方法には、ウェット現像とドライ現像とがあるが、ウェット現像が広く用いられている。
 ウェット現像による場合、感光性樹脂組成物に対応した現像液を用いて、公知の現像方法により現像する。現像方法としては、ディップ方式、バトル方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング、スクラッピング、揺動浸漬等を用いた方法が挙げられ、解像性向上の観点からは、高圧スプレー方式が最も適している。これらは、2種以上の方法を組み合わせて現像を行ってもよい。
 現像液としては、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤系現像液等が挙げられる。アルカリ性水溶液は、現像液として用いられる場合、安全且つ安定であり、操作性が良好である。アルカリ性水溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等のアルカリ金属水酸化物;リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩;ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩等が用いられる。
 アルカリ性水溶液としては、0.1~5質量%炭酸ナトリウムの希薄溶液、0.1~5質量%炭酸カリウムの希薄溶液、0.1~5質量%水酸化ナトリウムの希薄溶液、0.1~5質量%四ホウ酸ナトリウムの希薄溶液等が好ましい。アルカリ性水溶液のpHは9~11の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層のアルカリ現像性に合わせて調節される。アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
 感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分を現像により除去し、銅基板上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成した後、必要に応じて60~250℃程度の加熱又は0.2~10J/cm程度の露光を行うことにより、レジストパターンを更に硬化してもよい。
(めっき工程)
 続いて、めっき工程について説明する。現像工程の後、銅基板上にめっきを行い、めっき層を形成する。めっきの方法としては、例えば、はんだめっき、ニッケルめっき、金めっきなどが挙げられる。このめっき層が最終的に金属フィルターとなる。
 金属フィルターの材質としては金、銀等の貴金属、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロム等の卑金属、及びこれらの金属の合金が例示できるがこれらに限定するものではない。金属は単体で用いてもよく、機能性を付与するために他の金属との合金又は金属の酸化物として用いてもよい。これらの中でも、腐食等の発生を防止し、加工性・コスト面にも優れることから、ニッケル及びニッケルを主成分とする金属を用いることが好ましい。ここで主成分とは、材料のうち50重量%以上を占める成分をいう。
(溶解工程)
 続いて、溶解工程について説明する。めっき層を形成した後、銅基板を化学的に溶解して除去する。これにより、人手作業(手剥がし)によらずに金属フィルターとなるめっき層及び感光性樹脂組成物の硬化物からなる構造物を回収することができる。このため、シワ・折れ・キズ・カール等のダメージや、微細な貫通孔の変形を生じることなく、金属フィルターを製造することができる。銅基板を溶解する化学的溶解剤としては、メックブライトSF-5420B(商品名、メック株式会社製)、銅選択エッチング液-CSS(日本化学産業株式会社)等を使用することができる。
(剥離工程)
 続いて、剥離工程について説明する。溶解工程の後、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液により剥離する。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、1~10質量%水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることが好ましく、1~5質量%水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることがより好ましい。レジストパターン(感光性樹脂組成物の硬化物)を剥離することにより、めっき層のみを回収することができる。このめっき層が金属フィルターである。
 レジストパターンの剥離方式としては、浸漬方式、スプレー方式、超音波を用いる方式等が挙げられ、これらは単独で用いても併用してもよい。
(金属フィルター)
 続いて、金属フィルターの形状について説明する。金属フィルターの貫通孔の開口形状として円、楕円、角丸長方形、長方形、正方形、多角形等が例示できる。効率良く癌細胞を捕獲できる観点からは、円、長方形又は角丸長方形が好ましい。また、金属フィルターの目詰まり防止の観点からは、長方形又は角丸長方形が特に好ましい。
 貫通孔の孔径は、捕獲対象とする癌細胞のサイズに応じて設定する。本明細書において、開口形状が楕円、長方形、多角形等の円以外の形状における孔径とは、それぞれの貫通孔を通過できる球の直径の最大値を意味する。貫通孔の孔径は、例えば開口形状が長方形の場合、その長方形の短辺の長さとなり、開口形状が多角形の場合、その多角形の内接円の直径となる。開口形状が長方形や角丸長方形の場合、捕獲対象とする成分が貫通孔に捕獲された状態であっても、開口部において開口形状の長辺方向に隙間ができる。この隙間を通して液体が通過可能である為、フィルターの目詰まりを防止することができる。
 金属フィルターの貫通孔の平均開口率は0.1~50%が好ましく、0.5~40%がより好ましく、1~30%が更に好ましく、1~10%が最も好ましい。ここで、開口率とは、フィルター上の所定の領域において、当該領域の面積に対する貫通孔が占める面積をいう。平均開口率とは、フィルター全体の面積に対する貫通孔が占める面積をいう。平均開口率が0.1~50%であれば、フィルターの強度を十分に確保でき、加工も容易である。また、フィルターの目詰まりの発生も防止でき、フィルターの濃縮性能を確保することができる。
 金属フィルターの厚さは3~50μmであることが好ましく、5~40μmであることがより好ましく、5~30μmであることが特に好ましい。フィルターの膜厚が3~50μmであれば、フィルターの強度が確保され、取り扱い性も良好である。また、フィルターの生産性も良好であり、必要以上の材料消費によりコスト的に不利になることもなく、微細加工も容易である。
 図3(A)は、本発明の製造方法により製造することのできる金属フィルターの一実施形態を示す概略図である。金属フィルター100は、複数の貫通孔10が形成された基板(めっき層)20からなる。貫通孔10の開口形状は角丸長方形である。貫通孔10の配置は、図1(A)のような整列配置でもよく、列毎に配置がずれた千鳥配置でもよく、任意に配置されたランダム配置であってもよい。
 図3(B)は、上記実施形態の金属フィルターの貫通孔10の上面図である。貫通孔10の開口形状は、角丸長方形であり、短辺がa、長辺がbである長方形の短辺に隣接して、半径がcである2つの半円形が結合した形状である。一実施形態において、a、b、cはそれぞれ8、22及び4μmである。
 以下、本発明の実施例を示して、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲での種々の変更が可能である。
(実施例1)
 感光性エレメント(PHOTEC RD-1225:厚さ25μm、日立化成工業株式会社製)を250mm角の基板(MCL-E679F t0.5×250×250 N3DB:(MCL-E679F t0.5×250×250 18D)の表面にピーラブル銅箔t18μmを貼り合わせた基板、日立化成工業株式会社製)の銅箔層上に圧着し、感光性樹脂組成物層を形成した。圧着は、ロール温度90℃、圧力0.3MPa、コンベア速度2.0m/分の条件で行った。
 次に、ガラス製のフォトマスクを上記の感光性樹脂組成物層の上に静置した。フォトマスクは、光の透過部の形状が角丸長方形であり、この角丸長方形が、長軸及び短軸方向にいずれも60μmのピッチで同一の方向を向いて整列した形状であった。また、角丸長方形のサイズは、図3(B)におけるaが8μm、bが22μm、cが4μmであった。続いて、80kPa以下の真空下において、上記のフォトマスクの上側から紫外線照射装置によって露光量30mJ/cmの紫外線を照射した。
 次に、1.0%炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、銅基板上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成した。このレジストパターンが形成された銅基板を、pHを4.5に調整したニッケルめっき液に浸し、温度55℃で約20分間めっきを行った。ニッケルめっき液の組成を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 次に、ニッケルめっき層が形成された銅箔層を、ピーラブル銅箔のキャリアから剥離した。続いて、ニッケルめっき層が形成された銅箔層を、化学的溶解剤(メックブライトSF-5420B、メック株式会社製)に浸して40℃で約120分間攪拌し、銅箔層を溶解除去することにより、めっき層及び感光性樹脂組成物の硬化物からなる構造物を回収した。
 最後に、回収した構造物をレジスト剥離液(P3 Poleve、Henkel製)に浸し、60℃で約40分間超音波処理することにより、感光性樹脂組成物の硬化物を除去した。
 以上の操作により、シワ・折れ・キズ・カール等のダメージがなく、十分な精度の貫通孔を有する、実施例1の金属フィルターを作製した。
(実施例2)
 フォトマスクの光の透過部の形状を、図3(B)におけるaが5μm、bが15μm、cが2.5μmの角丸長方形に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例2の金属フィルターを作製した。
(実施例3)
 フォトマスクの光の透過部の形状をφ5μmの円に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例3の金属フィルターを作製した。
(実施例4)
 ニッケルめっきの時間を約3分間に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例4の金属フィルターを作製した。金属フィルターの膜厚を膜厚測定器(デジマチックインジケータID-C112C、株式会社Mitutoyo製)の測定子と台座でフィルターを挟むようにして測定した結果、3μmであった。
(比較例1)
 銅基板をステンレス板(SUS304、仕上げ3/4H、厚さ100μm、日新製鋼株式会社製)に変更し、基板からのフィルターの剥離を薬液による化学的溶解除去の代わりに手で剥がした以外は実施例1と同様にして、比較例1の金属フィルターを作製した。
 この結果、シワ・折れ・キズ等のダメージが生じ、貫通孔の変形等によるサイズばらつき(拡大、縮小)が発生した。特に、カールの発生が酷く、フィルターとしては使用できないレベルだった。
 また、比較例1の金属フィルターは、レジストパターン形成後に、感光性樹脂組成物の硬化物とステンレス板との密着不足によるレジスト倒れ、脱落が発生した。これが原因となり、貫通孔の変形や配列崩れが発生した。
(実験例1)
 生理食塩水にガラスビーズ(高精度ユニビーズSPM-16:粒径16±2μm、チタンバリウム系ガラス、株式会社ユニオン製)を混合し、実施例1の金属フィルターによる濾過試験を実施した。ガラスビーズは、癌細胞の代わりとして使用した。
 フィルターホルダー(Swinnex13、MILLIPORE製)に実施例1の金属フィルターをセットし、生理食塩水とガラスビーズとの混合液をシリンジで注入して濾過した。濾過後の金属フィルターの表面を光学顕微鏡で確認した結果、粒径約16μmのガラスビーズは短辺8μmの孔を通過することはなく、孔を塞ぐような状態でフィルター表面に残っていた。表2に、この時のガラスビーズの投入数に対する補足数をカウントした結果を示す。実施例1の金属フィルターは、ガラスビーズの十分な捕捉能力を有することが確認された。この結果から、癌細胞を用いた場合にも、十分な捕捉能力が示されることが予測される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 1…キャリア層、2…銅箔層、2’…銅板、3…感光性樹脂組成物層、3a…感光性樹脂組成物の硬化物、4…フォトマスク、5…めっき層、6,10…貫通孔、20…基板(めっき層)、100…フィルター、a…短辺、b…長辺、c…半径。

Claims (8)

  1.  金属フィルターの製造方法であって、
     銅基板上に感光性樹脂組成物を積層して感光性樹脂組成物層を形成する積層工程と、
     前記感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射し、露光された部分を光硬化させて感光性樹脂組成物の硬化物を形成する露光工程と、
     前記感光性樹脂組成物層のうち前記感光性樹脂組成物の硬化物以外の部分を現像により除去し、前記銅基板上に前記感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、
     前記レジストパターンが形成された銅基板を金属めっきしてめっき層を形成するめっき工程と、
     前記銅基板を化学的溶解によって除去して、前記めっき層及び前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる構造物を得る溶解工程と、
     前記構造物から前記感光性樹脂組成物の硬化物を除去して、前記めっき層を得る剥離工程と、
     を含み、前記めっき層が金属フィルターである、金属フィルターの製造方法。
  2.  前記金属フィルターは、複数の貫通孔を有し、前記貫通孔の開口形状は、円、楕円、角丸長方形、長方形及び正方形からなる群より選択される1種以上の形状である、請求項1に記載の金属フィルターの製造方法。
  3.  前記貫通孔の開口形状は、長方形又は角丸長方形の形状を含み、前記長方形又は前記角丸長方形の短辺の長さは5~15μmである、請求項1又は2に記載の金属フィルターの製造方法。
  4.  前記金属フィルターは、厚さが3~50μmである、請求項1~3のいずれか一項に記載の金属フィルターの製造方法。
  5.  前記銅基板は、ピーラブル銅箔である、請求項1~4のいずれか一項に記載の金属フィルターの製造方法。
  6.  前記金属フィルターは、癌細胞濃縮用金属フィルターである、請求項1~5のいずれか一項に記載の金属フィルターの製造方法。
  7.  前記癌細胞濃縮用金属フィルターは、血液中に循環する癌細胞の濃縮用金属フィルターである、請求項6に記載の金属フィルターの製造方法。
  8.  前記めっき層の厚さは、前記感光性樹脂組成物層の厚さよりも薄い、請求項1~7のいずれか一項に記載の金属フィルターの製造方法。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015188316A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 日立化成株式会社 細胞捕捉金属フィルタシート、細胞捕捉金属フィルタ、細胞捕捉デバイス、及び、細胞捕捉金属フィルタシートの製造方法
JP2015188323A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 日立化成株式会社 細胞捕捉金属フィルタ、細胞捕捉金属フィルタシート、細胞捕捉金属フィルタシートの製造方法、及び、細胞捕捉デバイス
JP2015188314A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 日立化成株式会社 細胞捕捉金属フィルタ、細胞捕捉金属フィルタシート、細胞捕捉デバイス、細胞捕捉金属フィルタの製造方法、及び、細胞捕捉金属フィルタシートの製造方法
USD746467S1 (en) 2014-04-04 2015-12-29 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD747487S1 (en) 2014-04-04 2016-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD748267S1 (en) 2014-04-04 2016-01-26 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD748801S1 (en) 2014-04-04 2016-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD750785S1 (en) 2014-04-04 2016-03-01 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
EP2857495A4 (en) * 2013-07-24 2016-06-29 Optnics Prec Co Ltd DEVICE FOR ISOLATING TUMOR CELLS OR CIRCULATING PERIPHERAL RARE CELLS, AND METHOD FOR ISOLATING TUMOR CELLS OR PERIPHERAL CIRCULATING RARE CELLS
JP2016132251A (ja) * 2015-01-22 2016-07-25 セーレン株式会社 支持体付き多孔金属箔及び透過性金属箔の製造方法
WO2017026348A1 (ja) * 2015-08-07 2017-02-16 株式会社村田製作所 金属製多孔膜、滅菌判別方法及び洗浄判別方法
JP6256669B1 (ja) * 2016-03-18 2018-01-10 株式会社村田製作所 金属製多孔膜、それを用いた分級方法、および分級装置
JP2019039054A (ja) * 2017-08-28 2019-03-14 マクセルホールディングス株式会社 電鋳用母型及びその製造方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG11201700726UA (en) * 2014-07-30 2017-02-27 Hitachi Chemical Co Ltd Method for capturing rare cells in blood
JP6225277B2 (ja) * 2015-08-06 2017-11-01 株式会社オプトニクス精密 細胞分離フィルタ及び細胞培養容器
CN106115609A (zh) * 2016-06-29 2016-11-16 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 微通孔列阵癌细胞检测芯片紫外压印制作方法
EP3508618A4 (en) * 2016-09-01 2020-07-29 Think Laboratory Co., Ltd. MESH FILTER AND MESH FILTER PRODUCTION PROCESS
JP7021761B2 (ja) * 2016-12-09 2022-02-17 Apsジャパン株式会社 金属フィルタ及び該金属フィルタの製造方法
US20180335434A1 (en) * 2017-05-17 2018-11-22 Hitachi Chemical Company, Ltd. Methods of Detecting Circulating Tumor Cells
CN108449927B (zh) * 2018-04-10 2021-11-02 苏州维业达触控科技有限公司 一种金属薄膜及其制作方法
CN110055567B (zh) * 2019-04-18 2021-05-07 中国科学院化学研究所 微孔膜材料的电沉积制备方法和微孔膜材料及其应用
KR102385077B1 (ko) 2019-11-20 2022-04-12 주식회사 한국바이오 셀프 세포 포획 분리 필터, 이를 이용한 세포 분리 장치 및 방법
JP7391719B2 (ja) * 2020-03-05 2023-12-05 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクユニットの作製方法
CN115216177B (zh) * 2022-05-25 2023-04-28 湖南大学 一种改性感光油墨辅助的大面积金属图案化材料及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0751521A (ja) * 1993-08-18 1995-02-28 Nobuhiro Kamisaka 血液検査用フィルター
JPH07331479A (ja) * 1994-06-06 1995-12-19 Tefuko Aomori Kk 電着画像の形成方法
JPH09217191A (ja) * 1996-02-15 1997-08-19 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 電鋳による貴金属の精密加工方法
JP2005212476A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 ▲ぎょく▼徳科技股▲ふん▼有限公司 金属マスクの製作方法
JP2006193825A (ja) * 2004-12-13 2006-07-27 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 孔開き電解金属箔並びにキャリア基材付孔開き電解金属箔及びこれらの製造方法
JP2007070703A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Ricoh Co Ltd 乳化用金属膜の形成方法
JP2011163830A (ja) * 2010-02-05 2011-08-25 Tokyo Univ Of Agriculture & Technology サイズ選択マイクロキャビティアレイを用いた循環腫瘍細胞の検出

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4575406A (en) * 1984-07-23 1986-03-11 Polaroid Corporation Microporous filter
US4772540A (en) * 1985-08-30 1988-09-20 Bar Ilan University Manufacture of microsieves and the resulting microsieves
JPH01279791A (ja) * 1988-04-28 1989-11-10 Hitachi Chem Co Ltd 分級用ふるいの製造方法
CN1088319C (zh) * 1996-06-27 2002-07-24 旭化成株式会社 厚膜导体电路及其制造方法
JP3934723B2 (ja) 1997-02-13 2007-06-20 株式会社オプトニクス精密 メタルマスクの製造方法
JP3786313B2 (ja) 1997-05-08 2006-06-14 九州日立マクセル株式会社 メタルマスクの製造方法
US6862189B2 (en) * 2000-09-26 2005-03-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Electronic component, circuit device, method for manufacturing the circuit device, and semiconductor device
TWI262041B (en) * 2003-11-14 2006-09-11 Hitachi Chemical Co Ltd Formation method of metal layer on resin layer, printed wiring board, and production method thereof
DE102005021048A1 (de) * 2005-05-06 2006-12-28 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum Stabilisieren eines Werkstücks bei einer Bearbeitung
WO2008008515A2 (en) * 2006-07-14 2008-01-17 Aviva Biosciences Corporation Methods and compositions for detecting rare cells from a biological sample
WO2010135603A2 (en) * 2009-05-20 2010-11-25 California Institute Of Technology Method for cancer detection, diagnosis and prognosis
KR20120117733A (ko) * 2010-01-25 2012-10-24 도아고세이가부시키가이샤 도전성 고분자를 포함하는 기재 상의 포토레지스트용 현상액, 및 패턴 형성 방법
NL1038359C2 (en) * 2010-03-31 2012-06-27 Aquamarijn Res B V Device and method for separation of circulating tumor cells.
US9372136B2 (en) * 2011-06-13 2016-06-21 Hitachi Chemical Company, Ltd. Agent for improving cancer cell adhesiveness
JP5854456B2 (ja) * 2011-08-23 2016-02-09 日立化成株式会社 癌細胞濃縮フィルター

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0751521A (ja) * 1993-08-18 1995-02-28 Nobuhiro Kamisaka 血液検査用フィルター
JPH07331479A (ja) * 1994-06-06 1995-12-19 Tefuko Aomori Kk 電着画像の形成方法
JPH09217191A (ja) * 1996-02-15 1997-08-19 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 電鋳による貴金属の精密加工方法
JP2005212476A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 ▲ぎょく▼徳科技股▲ふん▼有限公司 金属マスクの製作方法
JP2006193825A (ja) * 2004-12-13 2006-07-27 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 孔開き電解金属箔並びにキャリア基材付孔開き電解金属箔及びこれらの製造方法
JP2007070703A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Ricoh Co Ltd 乳化用金属膜の形成方法
JP2011163830A (ja) * 2010-02-05 2011-08-25 Tokyo Univ Of Agriculture & Technology サイズ選択マイクロキャビティアレイを用いた循環腫瘍細胞の検出

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10022659B2 (en) 2013-07-24 2018-07-17 Aichi Prefecture Device for isolating periphery circulating tumor cells or rare cells, and method of isolating periphery circulating tumor cells or rare cells
EP2857495A4 (en) * 2013-07-24 2016-06-29 Optnics Prec Co Ltd DEVICE FOR ISOLATING TUMOR CELLS OR CIRCULATING PERIPHERAL RARE CELLS, AND METHOD FOR ISOLATING TUMOR CELLS OR PERIPHERAL CIRCULATING RARE CELLS
JP2015188316A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 日立化成株式会社 細胞捕捉金属フィルタシート、細胞捕捉金属フィルタ、細胞捕捉デバイス、及び、細胞捕捉金属フィルタシートの製造方法
JP2015188323A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 日立化成株式会社 細胞捕捉金属フィルタ、細胞捕捉金属フィルタシート、細胞捕捉金属フィルタシートの製造方法、及び、細胞捕捉デバイス
JP2015188314A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 日立化成株式会社 細胞捕捉金属フィルタ、細胞捕捉金属フィルタシート、細胞捕捉デバイス、細胞捕捉金属フィルタの製造方法、及び、細胞捕捉金属フィルタシートの製造方法
USD748267S1 (en) 2014-04-04 2016-01-26 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD748801S1 (en) 2014-04-04 2016-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD750785S1 (en) 2014-04-04 2016-03-01 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD751189S1 (en) 2014-04-04 2016-03-08 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD752227S1 (en) 2014-04-04 2016-03-22 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD747487S1 (en) 2014-04-04 2016-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD746467S1 (en) 2014-04-04 2015-12-29 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
JP2016132251A (ja) * 2015-01-22 2016-07-25 セーレン株式会社 支持体付き多孔金属箔及び透過性金属箔の製造方法
JP2017038965A (ja) * 2015-08-07 2017-02-23 株式会社村田製作所 金属製多孔膜の滅菌判別方法
JP2017038966A (ja) * 2015-08-07 2017-02-23 株式会社村田製作所 金属製多孔膜の洗浄判別方法
JP6098774B1 (ja) * 2015-08-07 2017-03-22 株式会社村田製作所 金属製多孔膜
WO2017026348A1 (ja) * 2015-08-07 2017-02-16 株式会社村田製作所 金属製多孔膜、滅菌判別方法及び洗浄判別方法
JP6256669B1 (ja) * 2016-03-18 2018-01-10 株式会社村田製作所 金属製多孔膜、それを用いた分級方法、および分級装置
US10889796B2 (en) 2016-03-18 2021-01-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. Metallic porous membrane, classifying method using the same, and classifying device
JP2019039054A (ja) * 2017-08-28 2019-03-14 マクセルホールディングス株式会社 電鋳用母型及びその製造方法
JP2021101046A (ja) * 2017-08-28 2021-07-08 マクセルホールディングス株式会社 電鋳用母型
JP7157841B2 (ja) 2017-08-28 2022-10-20 マクセル株式会社 電鋳用母型

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EP2767618B1 (en) 2017-07-19
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