WO2009001723A1 - Film antireflet, polarisateur, affichage, et procédé pour produire un film antireflet - Google Patents

Film antireflet, polarisateur, affichage, et procédé pour produire un film antireflet Download PDF

Info

Publication number
WO2009001723A1
WO2009001723A1 PCT/JP2008/061112 JP2008061112W WO2009001723A1 WO 2009001723 A1 WO2009001723 A1 WO 2009001723A1 JP 2008061112 W JP2008061112 W JP 2008061112W WO 2009001723 A1 WO2009001723 A1 WO 2009001723A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
peak intensity
antireflection film
bond peak
depth
polarizer
Prior art date
Application number
PCT/JP2008/061112
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Rieko Ren
Shinichiro Suzuki
Original Assignee
Konica Minolta Opto, Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Opto, Inc. filed Critical Konica Minolta Opto, Inc.
Priority to JP2009520503A priority Critical patent/JP5370150B2/ja
Publication of WO2009001723A1 publication Critical patent/WO2009001723A1/fr

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/107—Porous materials, e.g. for reducing the refractive index
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/38—Anti-reflection arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

L'invention concerne un film antireflet qui comprend un support transparent et une ou plusieurs couches formées sur celui-ci comprenant une couche antireflet. Le film antireflet est caractérisé en ce qu'il présente, comme couche la plus externe, une couche à faible indice de réfraction comprenant des particules de silice creuses et une silicone et ayant un indice de réfraction de 1,20 à 1,49 et en ce que les particules de silice creuses sont contenues dans une quantité de 30 à 80 % en masse par rapport aux composants solides. Le film antireflet est en outre caractérisé en ce que, lorsque le film est examiné par spectroscopie de photoélectrons X, cette proportion moyenne de l'intensité crête de la liaison Si-C (Ros) pour la plage de profondeurs allant de la surface la plus externe à une profondeur de 5 nm qui est représentée par l'équation suivante (A) est supérieure ou égale à 0,40 et la proportion moyenne de l'intensité crête de la liaison Si-C (Rot) pour la plage allant de la surface la plus externe à une profondeur de 10 à 25 nm va de 0,0005 à 0,10. Equation (A) : (Proportion de l'intensité crête de la liaison Si-C) = (intensité crête de la liaison Si-C)/{(intensité crête de la liaison Si-C)+(intensité crête de la liaison Si-O)}
PCT/JP2008/061112 2007-06-28 2008-06-18 Film antireflet, polarisateur, affichage, et procédé pour produire un film antireflet WO2009001723A1 (fr)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009520503A JP5370150B2 (ja) 2007-06-28 2008-06-18 反射防止フィルム、偏光板、表示装置および反射防止フィルムの製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007170259 2007-06-28
JP2007-170259 2007-06-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2009001723A1 true WO2009001723A1 (fr) 2008-12-31

Family

ID=40185540

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/061112 WO2009001723A1 (fr) 2007-06-28 2008-06-18 Film antireflet, polarisateur, affichage, et procédé pour produire un film antireflet

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP5370150B2 (fr)
TW (1) TWI437255B (fr)
WO (1) WO2009001723A1 (fr)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010231860A (ja) * 2009-03-28 2010-10-14 Hoya Corp 磁気ディスク
JP3177810U (ja) * 2012-03-30 2012-08-16 ▲ぎょく▼璽科技股▲ふん▼有限公司 電子機器用の保護シート
JP2013007928A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Seiko Epson Corp 成膜用塗布液および塗膜
JP2013246433A (ja) * 2012-05-24 2013-12-09 Eternal Chemical Co Ltd 反射防止組成物とその製造方法および使用
JP5527482B2 (ja) * 2011-04-28 2014-06-18 旭硝子株式会社 反射防止積層体
JP2014126662A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイ
EP2806293A3 (fr) * 2013-05-22 2014-12-10 Carl Zeiss Vision International GmbH Procédé chimique en solution de formation d'un revêtement anti-buée et anti-réfléchissant avec une processabilité améliorée
JP2016075807A (ja) * 2014-10-07 2016-05-12 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド ディスプレイ用フィルム、ディスプレイおよびそれらの製造方法
US11249223B2 (en) 2015-05-12 2022-02-15 AGC Inc. Base with low-reflection film
EP3909764A4 (fr) * 2019-01-10 2022-09-14 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Élément antireflet, et plaque polarisante, dispositif d'affichage d'image et article antireflet équipés chacun de ce dernier

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6571403B2 (ja) * 2014-06-30 2019-09-04 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． シリカ膜、光学部材および偏光部材
FR3054550B1 (fr) * 2016-07-29 2020-03-27 Arkema France Composition (meth)acrylique comprenant des particules, son procede de preparation et son utilisation en tant que melange maitre
JP6910774B2 (ja) * 2016-09-20 2021-07-28 キヤノン株式会社 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス
CN110603295A (zh) * 2017-05-24 2019-12-20 陶氏东丽株式会社 固体有机硅材料、使用其而成的层积体和发光器件
JP2023135949A (ja) 2022-03-16 2023-09-29 日揮触媒化成株式会社 膜形成用の塗布液、およびその製造方法、並びに、膜付基材の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172896A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Konica Minolta Opto Inc 反射防止膜形成用塗布液及び反射防止フィルム
JP2006212549A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Nitto Denko Corp ハードコートフィルムの製造方法
JP2006328367A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 硬化性組成物、硬化膜、反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005208477A (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2006030544A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置
JP4834990B2 (ja) * 2004-12-24 2011-12-14 凸版印刷株式会社 防眩性積層体及び表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172896A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Konica Minolta Opto Inc 反射防止膜形成用塗布液及び反射防止フィルム
JP2006212549A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Nitto Denko Corp ハードコートフィルムの製造方法
JP2006328367A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 硬化性組成物、硬化膜、反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010231860A (ja) * 2009-03-28 2010-10-14 Hoya Corp 磁気ディスク
JP5527482B2 (ja) * 2011-04-28 2014-06-18 旭硝子株式会社 反射防止積層体
JPWO2012147876A1 (ja) * 2011-04-28 2014-07-28 旭硝子株式会社 反射防止積層体
US9025248B2 (en) 2011-04-28 2015-05-05 Asahi Glass Company, Limited Antireflection stack
JP2013007928A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Seiko Epson Corp 成膜用塗布液および塗膜
JP3177810U (ja) * 2012-03-30 2012-08-16 ▲ぎょく▼璽科技股▲ふん▼有限公司 電子機器用の保護シート
JP2013246433A (ja) * 2012-05-24 2013-12-09 Eternal Chemical Co Ltd 反射防止組成物とその製造方法および使用
JP2014126662A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイ
EP2806293A3 (fr) * 2013-05-22 2014-12-10 Carl Zeiss Vision International GmbH Procédé chimique en solution de formation d'un revêtement anti-buée et anti-réfléchissant avec une processabilité améliorée
JP2016075807A (ja) * 2014-10-07 2016-05-12 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド ディスプレイ用フィルム、ディスプレイおよびそれらの製造方法
US11249223B2 (en) 2015-05-12 2022-02-15 AGC Inc. Base with low-reflection film
EP3909764A4 (fr) * 2019-01-10 2022-09-14 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Élément antireflet, et plaque polarisante, dispositif d'affichage d'image et article antireflet équipés chacun de ce dernier

Also Published As

Publication number Publication date
JP5370150B2 (ja) 2013-12-18
JP5505474B2 (ja) 2014-05-28
TWI437255B (zh) 2014-05-11
TW200921141A (en) 2009-05-16
JPWO2009001723A1 (ja) 2010-08-26
JP2012256067A (ja) 2012-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009001723A1 (fr) Film antireflet, polarisateur, affichage, et procédé pour produire un film antireflet
JP6714758B2 (ja) シリカ層形成用塗布溶液およびシリカ層の形成方法
US7629400B2 (en) Image making medium
US20180244876A1 (en) A robust smart film: reversibly switching from high transparency to angle-independent structural color display
WO2010141261A3 (fr) Film de redirection de lumière et système d'affichage l'incorporant
GB0616755D0 (en) A composite light guiding device
WO2009127406A8 (fr) Pigments nacrés à base de substrats fins et minces
JP2015033854A5 (fr)
WO2008024475A3 (fr) Articles d'optique comprenant de fines couches hydrophobes
EP2708922A3 (fr) Revêtement antireflet, élément optique comprenant celui-ci et équipement optique comprenant ledit élément optique
WO2009015119A3 (fr) Procédés de fabrication de revêtements d'organosilicate à faible indice de réfraction et/ou à faible indice k
MY149707A (en) Optical semiconductor sealing resin composition and optical semiconductor device using same
WO2009041448A1 (fr) Film blanc et sources de lumière de surface le comprenant
WO2009016859A1 (fr) Stratifié anti-reflet
WO2010012836A3 (fr) Couche de biocompatibilité et objets revêtus
TWI642964B (zh) 防散射膜及其製備方法
WO2012169761A3 (fr) Procédé de fabrication d'un film ignifuge et transparent, et film ignifuge et transparent obtenu par ledit procédé
CN106893463A (zh) 抗污、防眩光、防蓝光辐射固化涂料组合物及其制备方法
WO2012165766A3 (fr) Composite creux à faible indice de réfraction, son procédé de fabrication et liquide de revêtement en contenant
TW201129831A (en) Transparent conductive laminate comprising visual light adjustment layers
WO2014003733A1 (fr) Film pouvant commander un éclairage
WO2008053705A3 (fr) Procédé de détachage de matières étrangères de la surface d'un substrat
WO2009117029A3 (fr) Films antiréfléchissants bicouches contenant des nanoparticules dans les deux couches
MY148582A (en) Composition, transfer sheet, melamine decorative board, and method for producing melamine decorative board
WO2009137220A3 (fr) Liaison optique avec composition pouvant être photopolymérisée contenant du silicium

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08790551

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2009520503

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08790551

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1