JP5370150B2 - 反射防止フィルム、偏光板、表示装置および反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
式(A) (Si−C結合ピーク強度比率)=(Si−C結合ピーク強度)/{(Si−C結合ピーク強度)+(Si−O結合ピーク強度)}
(1)透明支持体上に少なくとも反射防止層を有する反射防止フィルムであって、最表面に、少なくとも中空シリカ粒子およびシリコーンを含有する屈折率が1.20〜1.49である低屈折率層を有し、該中空シリカ粒子が固形分中30〜80質量%含有され、最表面から5nmまでの深さ範囲における、X線光電子分光分析装置により測定され、下記式(A)により表されるSi−C結合ピーク強度比率の平均値Rosが0.40以上であり、かつ最表面から深さ10〜25nmにおける該Si−C結合ピーク強度比率の平均値Rotが0.0005〜0.10であることを特徴とする反射防止フィルム。
式(A) (Si−C結合ピーク強度比率)=(Si−C結合ピーク強度)/{(Si−C結合ピーク強度)+(Si−O結合ピーク強度)}
(2)前記反射防止フィルムが前記透明支持体上と前記反射防止層の間にハードコート層を有することを特徴とする前記(1)に記載の反射防止フィルム。
(3)前記低屈折率層が、下記一般式(1)で表されるオルガノシランの縮合物を含有することを特徴とする前記(1)または(2)に記載の反射防止フィルム。
X1はアルコキシ基を表す。
(4)透明支持体上に高屈折率層を形成する工程と、該高屈折率層の上に低屈折率層を形成する工程を有する前記(3)に記載の反射防止フィルムの製造方法において、該低屈折率層が、一般式(1)で表されるオルガノシランを加水分解して重量平均分子量が500〜1000の低縮合物を作製する工程、この低縮合物に中空シリカを混合してさらに加水分解および縮合を継続する工程を経て得られる塗布液を塗布乾燥して形成されることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
(5)前記低縮合物に中空シリカ粒子を混合してさらに加水分解を継続する工程において、一般式(2)で表されるオルガノシランを混合することを特徴とする前記(4)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
Rは、加水分解されない有機基を表す。X2はアルコキシ基を表す。mは1〜4の整数を表す。
(6)前記高屈折率層を形成する工程の前にハードコート層を形成する工程を有することを特徴とする前記(4)または(5)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(7)前記透明支持体もしくは前記ハードコート層の表面に凹凸形状を形成して防眩性を付与することを特徴とする前記(6)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(8)前記低屈折率層を形成する工程の後に、前記反射防止フィルムをロール状に巻き取る工程と、ロール状に巻き取った状態で50〜160℃で加熱処理を行う工程を有することを特徴とする前記(4)〜(7)のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(9)前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
(10)前記反射防止フィルムが防眩性を有することを特徴とする前記(9)に記載の偏光板。
(11)前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを用いることを特徴とする表示装置。
(12)前記反射防止フィルムが防眩性を有することを特徴とする前記(11)に記載の表示装置。
<低屈折率層>
本発明に係る低屈折率層の屈折率は、支持体である透明支持体の屈折率より低く、23℃、波長550nmで1.30〜1.45の範囲が好ましい。
本発明において最表面とは、反射防止層の最表面であり低屈折率層の最表面であること意味する。本発明の反射防止フィルムは、最表面に、少なくとも中空シリカ粒子およびシリコーンを含有する。シリコーンは分子内にSi−C結合およびSi−O結合を有し、一方シリカ粒子は分子内にSi−O結合を有する。従って、X線光電子分光分析装置(以下、XPSと略す)を用いて測定される、Si−C結合ピーク強度とSi−O結合ピーク強度の和に対するSi−C結合ピーク強度の比率は反射防止層の最表面におけるシリコーンの存在割合を表す指標となる。
式(A) (Si−C結合ピーク強度比率)=(Si−C結合ピーク強度)/{(Si−C結合ピーク強度)+(Si−O結合ピーク強度)}
なお、Si−C結合ピーク値は、102eV±0.5eV、Si−O結合のピーク値は、103eV±0.5eVである。
(エッチング条件)
装置 :アルバックファイ社製06−C60
加速電圧 :10kV
イオンビーム電流:15mA
イオン入射角度 :45°
エッチング速度 :1.5nm/min(SiOにおいて)
エッチング領域 :2.5mm角
(XPS測定条件)
装置 :アルバックファイ社製 Quantera SXM
X線 :Al(モノクロ)25W15kV
ビーム径:100μm
Rosとは、最表面から5nmまでの深さ範囲でのSi−C結合ピーク強度比率の平均値であり、つまり上記条件によるエッチング時間0秒での分子比率をいう。XPSは、最表面での測定により5nmの深さまでの情報が得られるからである。
前記内部が多孔質または空洞である中空シリカ粒子(以下、単に中空粒子ともいう)について説明する。
本発明に好ましく用いられるコロイダルシリカは、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、球状、針状または数珠状である。
本発明において使用されるシリコーンとは、シロキサン結合に有機基が結合したオルガノポリシロキサンである。
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等
1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
2−1.非反応性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等、アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基あるいはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤、高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、カルボキシル変性あるいはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基あるいは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
2−2.反応性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等が挙げられる。
低屈折率層は、低屈折率層全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空粒子、コロイダルシリカおよびシリコーンを結合し、空隙を含む低屈折率層の構造を形成する機能を有する。
式中、X1はアルコキシ基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基である。具体的化合物化合物には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
Rは加水分解されない有機基を表す。X2はアルコキシ基を表す。mは1〜4の整数を表す。
(フッ素系界面活性剤)
低屈折率層にはフッ素系界面活性剤を含有することが好ましい。塗布ムラを低減したり膜表面の防汚性を向上させるのに有効である。
本発明の低屈折率層の形成には、基本的には一般的な公知の方法をそのまま使用することができ、オルガノシランの加水分解液を含有する塗布液を塗布乾燥することが行われる。
GPCによる重量平均分子量測定方法は、試料固形分濃度が0.8質量%となるようにTHFを用いて希釈し、カラム温度25℃で、以下の条件により測定を行う。
カラム;東ソー社 TSKgelG5000HXL−TSKgelG2000HXL
溶離液;THF
ポンプ;L6000(日立製作所(株)製)
流量 :1.0ml/min
検出 ;RI Model 504(GLサイエンス社製)
試料濃度;0.8%
標準試料・校正曲線;標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用する。
<反射防止フィルムの層構成>
本発明の反射防止フィルムにおいて、反射防止機能を有する反射防止層としては、本発明の低屈折率層が必須であるが、その他に中屈折率層、高屈折率層を設けてより反射防止機能を向上させることができる。
<ハードコート層>
本発明の反射防止フィルムには、透明支持体と、高屈折率層や低屈折率層等の反射防止層との間にハードコート層を設けることが好ましい。ハードコート層は活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムは防眩性であることが好ましい。防眩性とは、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に反射像の映り込みが気にならないようにするものである。表面に適切な凹凸を設けることによって、このような性質を持たせることができる。
(1)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
(2)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
(3)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線または電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明支持体を被覆したまま紫外線または電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した透明支持体とをネガ型から剥離する方法。
(4)目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
(5)光または加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光または加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
(6)透明支持体表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して透明支持体表面を凹凸形状にする方法。
(7)表面を工作機械等で切削加工する方法。
(8)球、多角体等各種形状の粒子を、透明支持体表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、透明支持体表面を凹凸形状にする方法。
(9)球、多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものを透明支持体表面に塗布し、透明支持体表面を凹凸形状にする方法。
(10)透明支持体表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体等各種形状の粒子を散布し、透明支持体表面を凹凸形状にする方法。
<バックコート層>
本発明の反射防止フィルムでは、透明支持体にハードコート層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。
<透明支持体>
次に、本発明で用いることのできる透明支持体について説明する。
本発明においては、透明支持体としてはセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。
0.1≦Y≦1.2
であることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。
本発明の低反射積層体用の長尺フィルムには、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
また、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するため、微粒子を用いることができる。
次に、セルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。本発明にかかるセルロースエステルフィルムは、公知の溶液流延方法、溶融流延方法、フィルム延伸方法のいずれも好ましく採用することができる。
本発明の反射防止フィルムの製造において、反射防止層を積層する前にアルカリ処理をすることが好ましい。
本発明では、大気圧またはその近傍の圧力下で、対向する電極の間に周波数が50kHz〜150MHzの高周波電圧を印加して放電を形成し、該放電により形成された励起ガスを、透明支持体または透明支持体上にハードコート層を有するフィルムの表面に接触させた後に、反射防止層を塗布により形成することが好ましい。
<反射防止フィルムの製造方法>
本発明の反射防止層の積層は、公知の方法で製造することができ、例えば透明支持体上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することができる。
<偏光板>
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板について述べる。
<画像表示装置>
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の反射防止フィルム面を画像表示装置の鑑賞面側に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
以下の様にして、基材であるセルロースエステルフィルムにハードコート層、反射防止層を設けた。
(ハードコート用塗布組成物1)
ペンタエリスリトールトリアクリレート 30質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 45質量部
ウレタンアクリレート(U−4HA、新中村化学工業(株)製) 25質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン(イルガキュア907、チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 3質量部
ポリオキシエチレンオレイルエーテル(エマルゲン404、花王(株)製)
0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
酢酸メチル 45質量部
アセトン 45質量部
ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4μm) 20質量部
<ハードコートフィルムH−1の形成>
基材に、ハードコート用塗布組成物1をダイコートし、80℃で乾燥した後、0.30J/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が12μmになるようにハードコート層1を塗設した。
(バックコート層用塗布組成物)
アセトン 30質量部
酢酸エチル 45質量部
イソプロピルアルコール 10質量部
ジアセチルセルロース 0.6質量部
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
<防眩性ハードコートフィルムH−2の作製>
H−1の作成において、ハードコート用塗布組成物1を下記防眩性ハードコート用塗布組成物2に変更した。
(防眩性ハードコート用塗布組成物2)
アセトン 35質量部
酢酸エチル 35質量部
シクロヘキサノン 15質量部
トルエン 15質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 30質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 45質量部
ウレタンアクリレート 25質量部
(商品名U−4HA 新中村化学工業社製)
1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトン 8質量部
(イルガキュア184 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノホリノプロパン−1−オン(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 8質量部
フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子(根上工業製)、平均粒径3.5μm
2質量部
<防眩性ハードコートフィルムH−3の作製>
H−2の作製において、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子を5質量部に変更した。
<防眩性ハードコートフィルムH−4の作製>
H−3の作製において、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子を10質量部に変更した。
<防眩性ハードコートフィルムH−5の作製>
H−2の作製において、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子を15質量部に変更した。
(中間体フィルムM−1の作製)
〈大気圧プラズマ処理〉
特願2005−351829号の図7記載の大気圧プラズマ処理装置を用い、上記作製したH−1の表面に、下記の大気圧プラズマ処理を行った。
窒素ガス 80.0体積%
酸素ガス 20.0体積%
上記大気圧プラズマ処理を行ったH−1の表面に、下記高屈折率層塗布液1をダイコートし、50℃で乾燥した後、高圧水銀灯で120mJ/cm2の紫外線を照射して、硬化後の膜厚が130nmとなるように高屈折率層を設け、高屈折率層までを有する中間体フィルムM−1を得た。高屈折率層の屈折率は1.56であった。
アンチモン酸亜鉛ゾル(CX−Z610M−F2、日産化学工業(株)製)
50質量部
ジオキサングリコールジアクリレート(NKエステル A−DOG、新中村化学工業(株)製) 12質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 2質量部
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製) 3質量部
ポリオキシアルキレンジメチルポリシロキサンコポリマー(FZ−2207、東レ・ダウコーニング(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液
2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 360質量部
イソプロピルアルコール 360質量部
メチルエチルケトン 200質量部
(中間体フィルムM−2〜M−5の作製)
M−1の作製において、ハードコートフィルムをH−2〜H−5に変更し、中間体フィルムM−2〜M−5を作製した。
(M−6の作製)
M−1の作製において、高屈折率層塗布液1の粒子分散液Aの調製に使用したアンチモン酸亜鉛ゾルをリンドープ酸化スズ(SnO2(P2O5)x)ゾルに変更して中間体フィルムM−6を作製した。
《低屈折率層を塗設し反射防止フィルムの作製》
(反射防止フィルム101の作製)
上記作製した中間体フィルムM−1上に、下記低屈折率層塗布液1をダイコートし、50℃で乾燥した後、高圧水銀灯で120mJ/cm2の紫外線を照射し、更に120℃で熱処理を行って膜厚が92nmになるように低屈折率層を設け、反射防止フィルム101(比較1)を作製した。
プロピレングリコールモノメチルエーテル 437質量部
イソプロピルアルコール 437質量部
酢酸 3.00質量部
加水分解物A(固形分8.6%換算) 75.0質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(KBM503、信越化学工業社製) 1.25質量部
α−ブチル−ω−[3−(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブトキシ)プロピル]ポリジメチルシロキサン(FM−DA21 チッソ株式会社製) 1.05質量部
ELCOM V−8209
(触媒化学工業(株)製のイソプロピルアルコール分散中空シリカ系微粒子、固形分20%) 30.0質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート(川研ファインケミカル社製ALCH)のイソプロピルアルコール希釈液(固形分10%) 2.25質量部
FZ−2207(10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液、東レ・ダウコーニング社製) 2.40質量部
〈加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン147g(商品名:KBE04、信越化学工業社製)にエタノールと酢酸水溶液を添加して500gとし、室温(25℃)にて25時間攪拌して加水分解物Aを調製した。シランの縮合物の重量平均分子量Mwは2000であり、シランは全て加水分解され残っていなかった。
(反射防止フィルム102の作製)
反射防止フィルム101の作製において、低屈折率層塗布液1を下記低屈折率層塗布液2に変更し、他は同様に作製した。
プロピレングリコールモノメチルエーテル 437質量部
イソプロピルアルコール 347質量部
酢酸 3.00質量部
加水分解物B(固形分8.6%換算) 165質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(KBM503、信越化学工業社製) 1.25質量部
α−ブチル−ω−[3−(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブトキシ)プロピル]ポリジメチルシロキサン(FM−DA21 チッソ株式会社製) 1.05質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート(川研ファインケミカル社製ALCH)のイソプロピルアルコール希釈液(固形分10%) 2.25質量部
FZ−2207(10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液、東レ・ダウコーニング社製) 2.40質量部
〈加水分解物Bの調製〉
テトラエトキシシラン147g(商品名:KBE04、信越化学工業社製)にエタノールと酢酸水溶液を添加して500gとし、室温(25℃)にて15時間攪拌して加水分解物を調製した。シランの縮合物の重量平均分子量Mwは800であった。
(反射防止フィルム103の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bのシラン重量平均分子量Mwが500になった時点で中空シリカ粒子を混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム104の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bのシラン重量平均分子量Mwが1000になった時点で中空シリカ粒子を系に混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム105の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bのシラン重量平均分子量Mwが450になった時点で中空シリカ粒子を系に混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム106の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bのシラン重量平均分子量Mwが1100になった時点で中空シリカ粒子を系に混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム107の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bの中空シリカ粒子を混合するのと同時に、α−ブチル−ω−[3−(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブトキシ)プロピル]ポリジメチルシロキサン(FM−DA21 チッソ株式会社製)1.05質量部も混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム108の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bの中空シリカ粒子を混合するのと同時に、α−ブチル−ω−[3−(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブトキシ)プロピル]ポリジメチルシロキサン(FM−DA21 チッソ株式会社製)およびγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM503、信越化学工業社製)を同時に混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム109の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bの中空シリカ粒子を混合するのと同時に、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM503、信越化学工業社製)を同時に混合し、他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム110の作製)
反射防止フィルム102の作製において、加水分解物Bの低屈折率層塗布液2への添加量を1.5倍にした他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム111の作製)
反射防止フィルム101の作製において、加水分解物Aの低屈折率層塗布液1への添加量を半分にした他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム112の作製)
特開2006−117924号明細書[0164]に記載の中空シリカ粒子を調製し、他は反射防止フィルム101の作製と同様にして作製した。
<評価方法>
《反射率》
コニカミノルタ(株)製、分光測色計CM−2500dを用いて、測定径φ8mm、観察視野2°で測定し、SCI(積分反射)を求めた。クリアフィルムでは0.7%以下、防眩フィルムでは1.0%以下が好ましい。
《防汚性》
防汚性は、純水の接触角をもって判断した。接触角の大きい方が防汚性に優れている。23℃、55%RHの環境下で、協和界面化学株式会社製の接触角計CA−X型を用いて純水の接触角を液滴径1.5mmにて測定した。
《耐擦性》
試料に23℃、55%RHの環境下で、#0000のスチールウール(SW)に500g/cm2の荷重をかけ、10往復したときの1cm幅当たりの傷の本数を測定した。なお、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定する。
B :傷の本数が1〜5本未満である
C :傷の本数が5本以上〜10本未満である
D :傷の本数が10本以上である
《鉛筆硬度》
JIS K 5600に従い、試料を既知の硬さの鉛筆を鉛筆硬度試験器(HA−301、クレメンス型引掻硬度試験器、テスター産業(株))にて1kgの荷重にて引掻き、目視にて傷の発生有無を評価する。5回の引掻きで傷が入ったのが1回以下であれば合格とする。(例:5Hの鉛筆で傷が2回以上入り、4Hの鉛筆で傷が1回以下入った場合は4Hとする。)
以下のように高屈折率層およびハードコート層を変更して、防眩性の評価を行った。
(反射防止フィルム200の作製)
反射防止フィルム102の作製において、M−1をM−6に変更し他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム201の作製)
反射防止フィルム102の作製において、H−1をH−2に変更し他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム202の作製)
反射防止フィルム102の作製において、H−1をH−3に変更し他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム203の作製)
反射防止フィルム102の作製において、H−1をH−4に変更し他は同様にして作製した。
(反射防止フィルム204の作製)
反射防止フィルム102の作製において、H−1をH−5に変更し他は同様にして作製した。
《写り込み》
黒画像に試料を貼り付け、蛍光灯の点いた室内で写り込みを下記基準で目視評価した。
B:蛍光灯の輪郭が僅かに認められるがあまり気にならない
C:蛍光灯の輪郭が認められるが許容出来るレベル
D:蛍光灯の輪郭がはっきり分かり写り込みが気になる
《透過写像性》
スガ試験機(株)製、写像性測定器ICM−IDPを用いて、櫛巾0.25mmにおける透過写像性を測定した。透過写像性は鮮鋭性と相関するパラメータである。透過写像性は20%以上(櫛巾0.25mm)が好ましい。
Claims (4)
- 最表面に、中空シリカ粒子およびシリコーンを含有する屈折率が1.20〜1.49である低屈折率層を有し、該中空シリカ粒子が固形分中30〜80質量%含有され、最表面から5nmまでの深さ範囲における、X線光電子分光分析装置により測定され、下記式(A)により表されるSi−C結合ピーク強度比率の平均値Rosが0.40以上であり、かつ最表面から深さ10〜25nmにおける該Si−C結合ピーク強度比率の平均値Rotが0.0005〜0.10である反射防止フィルムの製造方法であって、
透明支持体上に高屈折率層を形成する工程と、該高屈折率層の上に前記低屈折率層を形成する工程を有し、
該低屈折率層が、下記一般式(1)で表されるオルガノシランを加水分解して重量平均分子量が500〜1000の低縮合物を作製する工程、この低縮合物に中空シリカを混合してさらに加水分解および縮合を継続する工程を経て得られる塗布液を塗布乾燥して形成され、
前記さらに加水分解を継続する工程において、一般式(2)で表されるオルガノシランを混合することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
式(A) (Si−C結合ピーク強度比率)=(Si−C結合ピーク強度)/{(
Si−C結合ピーク強度)+(Si−O結合ピーク強度)}
一般式(1) Si(X1)4
X1はアルコキシ基を表す。
一般式(2) (R)mSi(X2)4−m
Rは、加水分解を継続する工程において加水分解されない有機基を表す。X2はアルコキシ基を表す。mは1〜4の整数を表す。 - 前記高屈折率層を形成する工程の前にハードコート層を形成する工程を有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルムの製造方法。
- 前記透明支持体もしくは前記ハードコート層の表面に凹凸形状を形成して防眩性を付与することを特徴とする請求項2に記載の反射防止フィルムの製造方法。
- 前記低屈折率層を形成する工程の後に、前記反射防止フィルムをロール状に巻き取る工程と、ロール状に巻き取った状態で50〜160℃で加熱処理を行う工程を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
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