WO1987003356A1 - Clean room - Google Patents
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- WO1987003356A1 WO1987003356A1 PCT/JP1986/000603 JP8600603W WO8703356A1 WO 1987003356 A1 WO1987003356 A1 WO 1987003356A1 JP 8600603 W JP8600603 W JP 8600603W WO 8703356 A1 WO8703356 A1 WO 8703356A1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
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- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
Definitions
- the present invention relates to a clean room used in the field of manufacturing semiconductors such as ultra LSI and IC when it is desired to maintain the production environment at ultra-high cleanliness.
- This partially laminar-type clean room has air outlets for air supply ducts almost all over the ceiling, and the air is blown into the room from these air outlets.
- Ultra-clean air flows in a generally laminar flow downward and in one direction toward the floor, and is sucked from an air inlet provided on almost the entire surface of the floor, and then circulated to the air outlet. It has been done.
- the floor is a perforated floor made of a grating, a perforated metal or the like, and a large number of holes of the perforated floor function as air inlets.
- the air suction port is provided with a high-performance dust filter such as an ULPA filter.
- an object of the present invention is to provide an energy-saving clean room. .
- Another object of the present invention is to provide a clean room that reduces the amount of dust entering the installation area of a semiconductor manufacturing apparatus and increases product yield. .
- Still another object of the present invention is to suppress vibration of a floor of a passage when an operator walks the passage and to prevent the vibration from being transmitted to a semiconductor manufacturing apparatus or the like. It is to provide a clean room.
- Still another object of the present invention is to provide a maintenance room such as a semiconductor manufacturing equipment installed in a room, and a clean room in which objects can be easily brought into and out of the installation area. It is to be. DISCLOSURE OF THE INVENTION-To these ends, the present invention provides a ceiling, a floor, an interior space between the ceiling and the floor, and ultra-clean air to the interior space.
- a clean room provided with a means for supplying air to be lined and an air discharging means for discharging air supplied to the indoor space.
- the indoor space is located in a first area (for example, a passage area) where high cleanliness is required, and is adjacent to the first area, and is higher than the first area.
- the second area where cleanliness is required for example, Storage area).
- the air supply means includes an air outlet which is disposed on the ceiling of the second area and blows air downward, and the air discharge means is disposed on the ceiling of the first area. It has a first air inlet that sucks air upwards.
- an airflow having a large velocity component in the direction from the second region to the first region is generated, and the airflow is generated from the first region. It prevents dust from entering the second area.
- a vortex is generated on the surface of the panel on the passage area side, and the cleanliness of the passage area is likely to be impaired.
- the clean room of the present invention is provided with a flow straightening means for smoothly forming a streamline of the air flowing into the air suction port.
- the rectifying means may be a rectifying plate provided between the air outlet and the air inlet, or may be provided between the air outlet and the air inlet. It may be a catching outlet that is provided and blows air obliquely downward toward the first area.
- the floor in the first area be a fixed floor, so that vibration of the floor when the worker walks is suppressed.
- the fixed floor is the floor that is connected to the foundation of the building equipped with the clean room.
- the floor fixed to the wall for example, the concrete floor. That is, the first The elimination of outlets on the ceiling in the first area eliminates the need for the floor in the first area to be a perforated floor.
- the floor in the second area is also a fixed floor, in other words, if the entire floor of the clean room is a fixed floor, the necessary underfloor free space below the perforated floor can be obtained. Since the cess floor is not required, the height of the clean room (from the floor to the ceiling) can be designed to be small.
- the floor in the first area and the floor in the second area may be separated from each other so that vibrations generated in the first area are not easily transmitted to the second area. If the floor of the first area and the floor of the second area are separated, the second air inlet of the air discharge means may be arranged between the floor of the first area and the floor of the second area. Good. Further, a perforated floor may be bridged between the floor in the first area and the floor in the second area.
- the clean room of the present invention may include a partition member for partitioning the first region and the second region.
- this partition member has ventilation means for flowing air from the second region to the first region via the partition member.
- the partition member is preferably a partition plate or a partition sheet disposed between the first area and the second area.
- the ventilation means is preferably a plurality of through-holes arranged almost uniformly on the entire surface of the partition plate or the partition sheet.
- the partition may be movable to the side, and the partition sheet may be rolled to the side, upward or downward.
- the second area and the first air inlet An air flow path for communication may be provided, and the upper part of the partition plate may be disposed in the air flow path so that dust at the upper end of the partition member is positively discharged to the suction port.
- FIG. 1 is a schematic sectional view of a clean room according to the present invention
- FIG. 2 is a schematic sectional view of another embodiment of the present invention
- FIG. 3 is a schematic sectional view of still another embodiment according to the present invention
- FIG. 4 is a perspective view of a partition plate shown in FIG. 3,
- FIG. 5 is an enlarged sectional view of the upper part of the partition plate shown in FIG. 4,
- FIG. 6 is a perspective view of a modification of the partition plate shown in FIG. 4,
- FIG. 7 is a perspective view of another modification of the partition plate shown in FIG. 4
- FIG. 8 is a perspective view of another modification of the partition plate shown in FIG. 4
- FIG. 9 is a perspective view of the present invention.
- FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a clean room provided with a transfer device for an object to be added, and FIG.
- FIG. 11 is a perspective view of a main part of the transfer device shown in FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
- common portions are denoted by the same reference numerals, and the description of the common portions is prevented from being duplicated.
- FIG. 1 shows a clean room according to the present invention.
- a ceiling plate 23 is placed below the upper floor slab 21, and a floor plate 28 is placed above the lower floor slab 22. Yes.
- air supply ducts (air supply means) 24 and 24 communicating with a main air conditioner (not shown).
- the interior space between the ceiling plate 23 and the floor plate 28 is made up of two partition panels (back panels) 29, 29, which form a central work room 30 and two working rooms on both sides. It is divided into utility rooms 31 and 31.
- a first area B serving as a passage for workers, and a first area B adjacent to both sides of the first area B and a manufacturing apparatus 32 such as an LSI are installed.
- a first air inlet 25 is provided below the ceiling plate 23 and above the first area B, and above the second area A on both sides thereof.
- An air supply chamber 26 26 that is an air outlet is provided. These lined air chambers 26, 26 provide rapid communication with the air supply ducts 24, 24 above, respectively, and are also lined air chambers 26, 26. It communicates with the lower indoor space via ULPA filters (or HEPA filters) 27, 27 provided at the lower part of the building.
- the portion serving as the floor of the second area B in the floor plate 28 and the portion where the manufacturing apparatus 32 is supported are fixed floors 42 made of concrete. 4 2
- the fixed bed 42 of the first area B and the fixed bed 42 of the second area A are separated from each other with a gap therebetween, and the gap is provided with a grating.
- perforated floors such as panmetals: 1, 41 are provided.
- the holes serve as a second air suction port for discharging air
- the second air suction port is provided with a floor plate 28 and a lower floor slide. Free between It communicates with the utility room 31 via the access floor 28a.
- third air suction ports 33, 33 are formed at the lower end of the partition plate 29.
- the manufacturing equipment 32 If the size of the manufacturing equipment 32 is too long to protrude from the work chamber 30 into the utility chamber 31, put a gutter on the partition 29 near the upper part of the manufacturing equipment 32. And use this as the third air inlet.
- a gallery is provided on the partition plate 29 near the upper part of the floor plate 28, and this is used as the third air. Use as a suction port.
- the air chambers 26, 26 are provided with air-conditioners 35, 35 with built-in fans in the utility rooms 31, 31.
- air-conditioners 35, 35 with built-in fans in the utility rooms 31, 31 On both sides of the lower portion of the first air suction port 25, streamlines of air flowing from the air supply chambers 26, 26 to the first air suction port 25 are formed smoothly.
- the flow straightening plates 36, 36 are fixed to the side surfaces of the air supply chambers 26, 26.
- the luminaires 37, 37 illuminating the second area A and the illuminators 38, 38 illuminating the first area B are arranged. Has been done.
- a gallery 39 is provided between the rectifiers 36, 36, and an exhaust fan is provided on a side of the upper supply chambers 26, 26. 40, 40 (air discharge means) is installed.
- the air sent from the main air conditioner through the lined air ducts 24, 24 is supplied to the left and right lined air chambers 2 provided on the ceiling. 6 and 26 are supplied.
- the air supplied to the lined air chambers 26, 26 is supplied to the ULPA filters 27, 27. Is cleaned and blown into the working room 30.
- the blown clean air is returned to the air supply chambers 26 and 26 again through three main routes.
- the clean air blown out from the air supply chamber 26 hits the upper surface of the manufacturing apparatus 32, and then passes through the third air inlet 33. Then, it reaches the utility room 31, and then returns to the lined air chamber 26 via the air conditioner 35.
- the worker 34 is wrapped around the clean air. From the second suction port of the perforated floor 41, passes through the underfloor free access passage ⁇ a 28a, reaches the utility room 3 ⁇ , and then passes through the air conditioner 35 Lined ⁇ Route to return to chamber 26.
- the third flow path ...
- the area where the cleanest environment is desired to be maintained is the upper area of the manufacturing apparatus 32, that is, the second area including the wafer cassette load and the unload part. A. Therefore, blow clean air As a result, the second area A is directly excluded from the dust, and the intrusion of dust due to the entrainment of air from the first area B is prevented. is necessary.
- a vortex is likely to be generated at the upper part of the worker. If dust generated by the worker enters this vortex, it takes time to remove the dust, and the dust enters the second area as the worker moves and works. Therefore, it is necessary to prevent the generation of the vortex.
- the purified air flowing through the route]! Has an airflow shape having a large velocity component in the ⁇ direction from the second area A to the first area B. This makes it possible to almost completely prevent dust from entering the first area B.
- the route IE from the supply chambers 26 and 26 to the first air suction port 25 is provided. Since the streamline of the clean air flowing through is smoothly formed, no air vortex is generated near the ceiling surface, and the fine particles in the air are diffused. Without slipping into the area A of the first part, and is smoothly sucked into the first suction port 25.
- the clean air flowing out of the second area A has a higher degree of cleanliness than the clean air of the first area B, and flows out of the second area A.
- the first area B can be purified using clean air.
- the second region ⁇ which is an ultra-high cleanliness region, becomes a positive pressure, while the first region B and the utility room 31 are shaded.
- the second area A is made to have a desired cleanliness, and the first area B is prevented from entraining ⁇ ⁇ air to prevent dust from entering.
- High cleanliness can be maintained stably.
- the air supply outlets 26, 26, which are air outlets, are provided only above the second areas A, ⁇ , and clean air is blown from the entire ceiling. Therefore, it is possible to reduce the blowing amount (about 30% in the present embodiment), and the ULPA filter 27 can supply air to the supply chamber 2. Since it is only necessary to provide them in 6, 26, energy costs such as fan operating costs can be reduced, and equipment costs can be reduced.
- the worker 34 is in the work room 30. Operation is not restricted, and the operability on the manufacturing apparatus 32 can be improved. You can work closely.
- the entire surface of the floor plate 28 does not need to be a perforated floor 41. That is, only a small gap is provided between the floor of the first area and the floor of the second area, and the fixed area 4 2 is provided immediately below the first area B and the manufacturing equipment 32, 32. be able to.
- the worker 34 suppresses the generation of vibration by walking on the fixed floor 42 of the first area B during walking, and also fixes the first area B.
- the separation of the floor 4 2 and the fixed floor 4 2 of the manufacturing equipment 32, 32 prevents the vibration from being transmitted to the manufacturing equipment 32, 32. Wear.
- the worker 34 does not feel discomfort when walking on the entire grating floor when walking. ⁇
- FIG. 2 shows another embodiment of the present invention.
- the clean air flows so that clean air flows from the clean air chambers 26, 26 to the first air inlet 25 without any swirling.
- Each of the members 26, 26 on the side of the first air suction port 25 is gradually bent toward the first air suction port 25 to form a curved surface.
- the ULPA filters 27 and 27 in this portion are also partially curved in shape according to the curved shape. That is, the bent portion forms a catching outlet 99 for blowing air obliquely downward toward the first region B.
- the gallery 39 of the first air inlet 25 is designed so that both sides thereof are connected to the curved surfaces of the air supply chambers 26 and 26 so as to be somewhat continuous. They are arranged in a chevron towards the top.
- the perforated floor 41 is scattered so that the entire floor plate 28 becomes a fixed floor 42, and the underfloor free access floor 28a is formed. It has a complicated configuration.
- the clean air blown out from the air supply chambers 26, 26 and flowing through the path I is supplied to the manufacturing apparatuses 32, 32.
- the air that is blown out by the vertical airflow and flows through the path ⁇ has a part of the airflow on the side close to the first air suction port 25 toward the first air suction port 25.
- the air is exhausted in a short-circuit manner, the air is blown obliquely so as to envelop the head of the operator 34 as it moves away from the first air inlet 25. .
- the clean air flowing through the path IV has an airflow shape having a large velocity component in the model direction from the second area A to the first area B, similarly to the air flowing through the path ⁇ . .
- the air of the IV almost completely prevents the ingress of dust from the first area B, and then passes under the manufacturing equipment 32, 32 to be in the utility. After reaching the tee chambers 31 and 31, the air is returned to the air supply chambers 26 and 26 again via the air conditioners 35 and 35.
- the lighting device 38 that illuminates the first area B is the first air inlet.
- Lighting fixtures that illuminate the ceiling panel 23 in 25 and the second areas A, A
- the equipment and the piping ducts, etc., attached to the manufacturing apparatuses 32, 32 can be arranged on the same floor as the manufacturing apparatus. Workability is improved, and floor construction costs can be reduced.
- the catching outlet 99 is a part of the air outlet 26, but a catching outlet independent of the air outlet 26 may be provided.
- FIG. 3 to FIG. 5 show still another embodiment of the present invention.
- the second region A and the first suction port 25 are communicated with both lower sides of the first suction port 25 and the side surfaces of the suction chambers 26 and 26.
- Air passages 50, 50 are provided.
- two rails 52.52 are provided, and by these rails 52, the first area B and the second area B are arranged.
- a plurality of partition plates 53 that divide the area A of 2 are suspended.
- the partition plate 53 has a transparent rectangular plate in which a plurality of ventilation holes 54, 54 are formed almost uniformly over the entire surface.
- the traveling wheels 53a and 53a are attached to the upper part of the partition 53 so that the partition 53 can move on the rail 52. You. Further, the partition plate 53 is dimensioned such that a lower end thereof forms a predetermined gap with the upper surface of the floor plate 28, and the gap is formed in the second area A. An air hole 55 through which the air inside flows out to the first area B is provided. In addition, as shown in FIG. 5, the air holes 54 formed in the partition 53 reduce the resistance of the air passing therethrough. A bell-shaped opening that is continuous with the surface of the partition plate 53, with both side edges of the hole gradually curving and widening in order to prevent the generation of vortices before and after that. Department.
- the clean air blown out from the air outlet 26 passes through the two routes V and VI in addition to the route ⁇ . Circulates to outlet 26.
- the third path V passes through the ventilation holes 5 4, 5 4... of the partition plate 53 and the lower ventilation hole 55 without passing the clean air to the manufacturing apparatus 32, and After flowing into the area B, it rises to reach the first suction port 25 from the ceiling gallery 56 provided at the upper part thereof, and then supplies the air to the first intake port 25 by the exhaust fan 40.
- This route returns to chamber 26.
- the fourth path Y [passes through the air flow path 50 and directly flows out to the first suction port 25, and then is supplied to the air supply chamber 26 by the exhaust fan 40. Return to the road;
- the air flowing through the first passage V flows into the first region B, it passes through the innumerable air holes 54 formed in the partition plate 53 and is uniformly distributed from the entire surface of the partition plate 53.
- To the first area side of the partition plate 53 It is difficult to generate air vortices on the surface of
- by changing the number of ventilation holes 54 of the partition plate 53 and the size of the inner diameter thereof it is possible to control both the outflow of air from the surface of the partition plate 53.
- the second area A which is a high-pressure area, has a positive pressure
- the first area B which is a high-purity area
- the utility chamber 31 have a negative pressure, so that a small amount of clean air is supplied.
- the flow rate of the clean air in the second area A can be set to 0.2 m / s or less
- the second area A is set to a desired cleanliness level. can do.
- the diffusion and inflow of dust from the first region B are completely prevented, and stable ultra-high cleanliness can be maintained.
- the partition plate 53 can be moved to the left and right along the rail 52, the maintenance of the manufacturing equipment 32 and the loading and unloading of objects into the area A of the main unit 32 can be performed. Can be easily carried out. Further, since the upper end of the partition 53 is disposed inside the air flow path 50, dust does not stay near the upper end of the partition 53. Further, since the air supplied to the area A of the second area can be exhausted from the four kinds of flow paths, it is not necessary to make the entire floor plate 28 a perforated floor 41. That is, only a small gap is provided just below the boundary between the second area A and the first area B, and the fixed floor 42 is provided immediately below the first area B and the manufacturing apparatus 32. Can be done.
- FIG. 6 shows a modification of the partition plate of FIG. Since the partition plate 60 has a large number of air holes 61 on the entire surface, a semiconductor housing cassette is provided at a position corresponding to each load position of the processing devices 32, 32. It is provided with an operation hole 62 that is large enough to allow passage of an object.
- FIG. 7 shows another modification of the partition plate shown in FIG.
- This partition plate 63 has a horizontally elongated slit-like operation hole 64.
- the partition plate 63 having the operation holes 64 of such a shape is applied to a processing apparatus in which all loading positions are aligned at the same height, and the ventilation holes 61 are circular. It is not necessary, and it may be a slit like the operation hole 64.
- FIG. 8 shows another embodiment of the partition plate of FIG.
- This partition plate 65 has an operation hole 66 of the same shape as the operation hole 62 of the partition plate 60 shown in FIG. And these operation holes
- An opening / closing shutter mechanism 67 of an operation hole 66 protruding toward the first area B is provided on the upper edge of the opening of the opening 66, and an operation hole 66 of the opening / closing screen 68 is provided. It can be opened and closed.
- FIG. 9 shows still another embodiment of the present invention.
- reference numeral 70 is a partition sheet. This partition sheet
- the partition sheet 70 is provided at the boundary between the second area A and the first area B. You. A large number of fine ventilation holes (not shown) are formed on the entire surface of the partition sheet 70, and the partition sheet 70 is provided with a take-up rod with a rotating mechanism provided at the upper end thereof. According to 72, it can be moved up and down. Further, the take-up rod 72, in other words, the upper part of the partition sheet 7 is arranged in the air passage 50. A weight 74 is attached to the lower end of the partition sheet 70 to prevent the partition sheet 70 from loosening and swaying. A gap 55 is formed between 8 and 8. The partition sheet 70 is provided with an operation hole (not shown) for the operator 34 to operate the manufacturing apparatus, and a lighting device 76 is provided inside the air passage 50. Installed. The floor plate 28 may be provided with a foot switch 78 that controls the rotating mechanism above the partition sheet 70 dynamically to open and close the partition sheet 70 up and down. No.
- the transfer device T is a device for transferring a workpiece, for example, a semiconductor wafer.
- the transport device T is horizontally mounted on a traveling vehicle 81 equipped with traveling wheels 80, a driving device, and a battery, and capable of traveling on its own, and a column 8 2 provided upright on the upper portion of the traveling vehicle 81.
- the traveling carriage 81 of the transport device T is provided with a sensor for detecting a light-reflecting guide tape (guide body) such as an aluminum tape attached to the floor below the traveling carriage 81.
- a light-reflecting guide tape such as an aluminum tape attached to the floor below the traveling carriage 81.
- the traveling carriage 31 travels along the light reflection draft tape detected by this sensor.
- the dust removing device 86 includes a housing 89 and a dust removing filter 96 and a blower.
- An opening below the upper front plate 93 and an opening below the upper rear plate 94 serve as an entrance R.
- the housing 89 is provided at the front end of the support base 83 with the upper front plate 93 facing the front end of the support base 83 and toward the front side, and the housing 89 is supported below the housing 89.
- a wafer case H accommodating a large number of wafers (workpieces) U is provided on the upper surface of the table 83. Inside the housing 89, an upper back plate 94 is formed. A blower (not shown) that draws air from the formed intake holes 95 and blows it to the lower side of the housing 89 is housed, and a ULPA fi ve is located beneath the blower. A dust filter 96, such as a filter, is provided so that the cleaning air can be blown toward the lower side of the housing 89.
- the blower in the housing 89 uses the battery provided in the traveling vehicle 81 as a power source, and the direction of the air blow is indicated by the arrow in Fig. 11 in the housing 89. As shown in the figure, the air is blown backward and downward, and the clean air passes through the inside of the housing 89 and is blown out from the entrance R below the upper rear surface ⁇ 94. It is something that causes it.
- the gripping arm 84 is horizontally movable by a driving device provided on the support column 82, and the tip of the gripping arm 84 is moved by the gripping arm 84. Accordingly, a hamochi hand 97 is provided which can pass through between the both side plates 92292 of the housing 89 and hold the wafer case H.
- the gripping arm 84 extends and contracts so that the gripping hand 97 is moved to the front of the arm 89 after passing through the nose 89.
- the transport device T When the wafer U is transported from the wafer storage portion such as a stocker to the processing device 32 using the transport device T having such a configuration, firstly, The host computer, which is connected to the processing device 32 online, transfers the wafer U from the wafer storage to the processing device 32. Command in the following manner. Then, the transfer device T starts operating based on this command. First, the transport device removes the wafer cassette H taken out from the wafer storage section by the gripping arm 84. It is placed on the tip of the support under the wedge 89, and the wafer is stored from the wafer storage along the light reflecting tape attached to the floor plate 28 in the first area B. Move toward device 32.
- the blower inside the housing 89 blows clean air to the wafer U, and has an effect of surrounding the wafer U with clean air. Due to this action, even when the transport device T moves in the first area B having low cleanliness, dust does not adhere to the wafer U. Therefore, even if the first area B is under the condition of class 100 or less, the wafer U can be transported without being contaminated.
- the flow direction of the clean air in the nozzle 89 is from the upper front plate 93 side to the upper back plate 94 side as shown by the arrow in FIG.
- the sides ⁇ 92 and 92 should be directed forward in the traveling direction, or the upper rear surface ⁇ 94 should be directed forward in the traveling direction. You.
- the reason for this is that, when the transport device T is moved forward with the upper front plate 93 facing forward in the moving direction of the transport device T, the air in the first area B having low cleanliness is removed from the housing. This is because it will be inhaled into the ring 89.
- the floor in the first area B is a fixed floor 42, and the fixed floors 42, 42 on which the processing devices 32, 32 are installed are the same as the perforated floors 41, 41. As a result, the vibration generated by the transfer device T is prevented from being transmitted to the processing devices 32 and 32.
- the transport device T which has moved before the processing device 32, stops at the position shown in Fig. 10 in front of the partition plate 60 in front of the processing device 32, and separates the upper front plate 93. ⁇ ⁇ Orient it toward operation hole 62 of 60. Then carry The feeding device T extends the gripping arm 84 and moves the wafer set gripped by the gripping hand 97 away from the support base 83 to move the partition. It is moved to the front side of the processing device 32 through the operation hole 62 of the plate 60 and set to the loading position of the processing device 32.
- the clean air in the second area ⁇ is moving toward the first area B via the operation hole 62.
- a transmitter for infrared rays or a laser beam is attached to the periphery of the operation hole 62, and the housing is mounted.
- the partition plate 60 is movably hung on the bottom of the air supply chamber 26 along the length direction of the second area A (the direction perpendicular to the plane of FIG. 10). In addition, the bottom of the partition 60 is laid on the floor plate 28 so that the partition 60 does not vibrate due to pressure fluctuations in the second area A and the first area B. On rail 98.
- the wafer when the wafer is transported by the transport device T, the wafer is transferred from the wafer storage unit to the loading position of the processing device 32 via the first area ⁇ .
- the wafer U can be transported without contaminating it.
- the wafer U since the wafer U can be transported without contaminating the wafer U even in an area under the condition of class 1000 or less, not only in the processing step but also in the cleanliness. It has the effect that it can be used for transportation between low processes.
- the transfer route of the transfer device ⁇ can be freely changed by replacing a guide such as a light reflecting tape attached to the floor plate 28 with the transfer device ⁇ ⁇ . Therefore, even if the processing equipment is changed or the manufacturing process is changed, the replacement of the light-reflecting tape can be performed easily and inexpensively. This makes the device extremely responsive. Further, the transport device ⁇ can take out the wafer U from the storage part, move it in the clean room, and set the wafer U at the loading position for the processing device 32. For this reason, general robots and the like for gripping and moving were required separately from the transfer device This has the effect of reducing equipment costs as compared to conventional conventional devices. Industrial applicability ''
- the clean room of the present invention is extremely effective in the field of manufacturing semiconductors such as ultra-LSI and IC when it is desired to maintain the manufacturing environment at ultra-high cleanliness.
Landscapes
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Description
明 細 書 ク リ ー ン ル ー ム
技術分野
本発明は、 超 L S I 、 I C等の半導体製造分野で、 そ の製造 環境を超高清浄度に維持 し たい場合に用 い られる ク リ ー ンルー ムに関す る も のであ る。 背景技術
従来、 室内が超高清浄度に維持さ れる ク リ ー ン ル ー ム と して は、 例えば部分層流型ク リ ー ンルームが知 られてい る。
こ の部分層流型ク リ ー ン ル ー ム は、 その天井の ほぼ全面に空 気供給ダ ク ト の空気吹出 口を有 し、 こ れ ら 空気吹出 口か ら室内 に吹き 出 さ れた超高清浄度の空気が、 ほぼ層流状態で下向 き一 方向に床へ向けて流れ、 床の ほぼ全面に設け ら れた空気吸込口 か ら吸い込ま れた後に、 前記空気吹出 口 に循環す る よ う にな つ てい る。 一般に、 前記床は グ レ ーチ ン グゃパ ンチ メ タ ル等か ら な る有孔床であ り 、 こ の有孔床の多数の孔が空気吸込口 と し て 機能す る。 ま た、 前記空気吸込口 は U L P A フ ィ ルタ 等の高性 能除塵フ ィ ル タ を備えてい る。
と こ ろ で、 上記従来の ク リ ー ン ル ー ムは、 天井の全面か ら 空 気を吹 き 出すために空気の絶対供給量が多 く な り 、 そ の分、 送 風機等の運転費が増大 し て、 エネルギー多消費型の ク リ ー ンル
ーム と な っ て い る。 しか も、 天丼か ら吹き 出す空気は床へ向つ て一方向へ し か流れな い ため、 通路等で発生 し た塵が作業者の 動作に よ り ク リ 一ンルーム内で特に超高清浄度が要求さ れる 領 域、 例えば半導体製造装置の設置領域へ拡散す る おそれがあ る 従っ て、 本発明の 目 的は、 省エネ ルギー型の ク リ ー ンルーム を提供す る こ と であ る。
ま た、 本発明の他の 目 的は、 半導体製造装置の設置領域への 塵埃侵入量を減少さ せて、 製品の歩留 り を高め る ク リ ー ンルー ムを提供する こ と であ る。
本発明の さ ら に他の 目 的は、 作業者が通路を歩 く 際に、 通路 の床の振動を抑制する と と も に、 半導体製造装置等に振動が伝 達 し に く い ク リ ー ンルームを提供す る こ とであ る。
本発明の さ ら に他の 目 的は、 室内に設置さ れた半導体製造装 置等のメ ンテナ ン スや、 その設置領域への物の搬入、 搬出が容 易な ク リ ー ンルームを提供す る こ と であ る。 発明の開示 - こ れ らの 目的に則 し て本発明は、 天井と、 床と、 こ れ ら天井 と床と の間の室内空間と、 こ の室内空間に超高清浄度の空気を 供袷す る 空気供袷手段と、 室内空間に供给さ れた空気を排出す る 空気排出手段と を備え た ク リ ー ンルームを提供する。 室内空 間は、 高清浄度が要求さ れる 第 1 の領域( 例えば通路領域 )と こ の第 1 の領域に隣り 合 う と と も に第 1 の領域よ り も さ ら に高 い超高清浄度が要求さ れる第 2 の領域( 例えば半導体装置の設
置領域 )と に区分さ れる てい る。 そ して、 空気供袷手段は、 第 2 の領域の天井に配置さ れて下向 き に空気を吹き 出す空気吹出 口を備え、 空気排出手段は、 前記第 1 の領域の天井に配置さ れ て上向 き に空気を吸い込む第 1 の空気吸込口を備えて い る。 つ ま り 、 こ の構成に よ り 第 2 の領域か ら第 1 の領域へ向か う 撗方 向の大 き な速度成分を有す る 空気流を発生さ せて第 1 の領域か ら第 2 の領域への塵埃の侵入を防止す る も のであ る。 通路領域 と装置設置領域と の間をパネルで仕切 っ たタ イ プの ク リ ー ンル ームでは通路領域の天井に空気吸込口を設け る こ と が公知であ る が、 こ の公知の構成ではパネ ルが障害と な っ て横方向の空気 流が生 じ な い。 ま た、 こ の公知の構成では通路領域側の パネル の表面に渦流が生 じて通路領域の清浄度が損なわれ易い。
本発明の ク リ ー ン ルー ム は、 空気吸込口へ流れ込む空気の流 線を滑 ら かに形成す る ため の整流手段を備えてい る こ と が好ま し い。 こ の整流手段は、 空気吹出 口 と 空気吸込口 と の間に配設 さ れ る 整流板であ っ て も よ い し 、 あ る い は、 空気吹出 口 と 空気 吸込口 と の間に配設さ れて第 1 の領域に向けて斜め下方に空気 を吹き 出す捕助吹出 口であ っ て も よ い。 こ の よ う な整流手段に よ り 、 吹出 口 と吸込口 と の間に渦流を生 じ る こ と な く 、 ク リ 一 ン ル ー ム内の空気が滑 ら かに吸込口 に吸い込ま れる。
一方、 前記第 1 の領域の床を固定床と し 、 こ れに よ り 作業者 の歩行時に床の振動を抑制す る のが好ま し い。 固定床と はその ク リ ー ンルームを備え た建物の基礎に連な る 拄ゃ壁に固定さ れ てい る 床、 例えばコ ン ク リ ー ト の床の こ と であ る。 つ ま り 、 第
1 の領域の天井に吹出 口が無 く な る こ と に よ り 、 第 1 の領域の 床を有孔床と する必要がな く な る も のであ る。 さ ら に、 第 2 の 領域の床を も固定床と すれば、 言い替えれば、 ク リ ー ンルーム の床全体を固定床と すれば、 有孔床の下側に必要な床下フ リ ー ア ク セス フ ロ アが不要と な る ので、 ク リ.ー ンルームの階高( 床 か ら天井ま での高さ )を小さ く 設計す る こ と が可能と な る。 ま た、 第 1 の領域の床と第 2 の領域の床と は互いに分離し、 第 1 の領域で生じ た振動が第 2 の領域に伝達 し に く い よ う に して も よ い。 第 1 の領域の床と第 2 の領域の床を分離 し た場合は、 第 1 の領域の床と第 2 の領域の床の間に空気排出手段の第 2 の空 気吸込口を配置し て も よ い。 さ ら に、 前記第 1 の領域の床と 第 2 の領域の床の間に有孔床を架け渡して も よ い.。
さ ら に、 本発明の ク リ ー ンルームは、 第 1 の領域と第 2 の領 域ども仕切る 仕切部材を備えていて も よ い。 ただ し、 こ の仕切 部材は、 第 2 の領域か ら仕切部材を介し て第 1 の領域へ空気を 流すための通気手段を有する も のであ る。 仕切部材は第 1 の頜 域と第 2 の領域と の間に配設さ れた仕切板、 あ る い は仕切 シ ー ト であ る こ と が好ま し い。 前記通気手段は仕切板、 あ る いは仕 切 シ ー 卜 の全面に ほぼ均一に配さ れた複数の貫通孔であ る の力 好ま し い。 仕切扳は側方に移動自在であ っ て も よ く 、 ま た、 仕 切 シ ー ト は側方、 上方あ る い は下方に巻き取り 自在であ っ て も よ い。 こ の よ う に仕切部材を移動あ る い は巻き取り 自在とす る こ と に よ り 、 第 2 の領域への物品の搬入あ る いは搬出も容易に 行え る よ う にな る。 さ ら に、 第 2 の領域と第 1 の空気吸込口を
連通さ せる 空気流路を設け、 こ の空気流路内に仕切板の上緣部 を配置 して、 仕切部材上端部の塵埃を積極的に吸込口へ排出す る よ う に して も よ い。 図面の簡単な説明
第 1 図は本発明 係る ク リ 一ンルー ムの概略断面図、 第 2 図は本発明 係る 他の実施例の概略断面図、
第 3 図は本発明 係る さ ら に他の実施例の概略断面図、 第 4 図は第 3 図 示す仕切板の斜視図、
第 5 図は第 4 図 示す仕切板の上部の拡大断面図、
第 6 図は第 4 図 示す仕切板の変形例の斜視図、
第 7 図は第 4 図 示す仕切板の他の変形例の斜視図、 第 8 図は第 4 図 示す仕切板の さ ら に他の変形例の斜視図、 第 9 図は本発明 係る さ ら に他の実施例の概略断面図、 第 1 0 図は、 被加ェ物の搬送装置を備え た ク リ ー ンルームの 概略断面図、
第 1 1 図は第 1 0 図に示す搬送装置の要部の斜視図であ る。 発明を実施す る ための最良の形態 図面中、 共通す る 部分に つ いては同一符号を付 し 、 共通部分 の説明が重複す る こ と を避け る。
第 1 図は本.発明に係る ク リ ー ンルームを示 してい る。 こ の ク リ ー ンルーム においては、 上側床ス ラ ブ 2 1 の下方に天井板 2 3 が、 ま た、 下側床ス ラ ブ 2 2 の上方に床板 2 8 が配置さ れて
い る。 天井板 2 3 と上側床ス ラ ブ 2 1 と の間に は主空調機( 図 示略 )に連通 し た空気供給ダク ト ( 空気供給手段 ) 2 4 · 2 4 が配設さ れてい る。 ま た、 天井板 2 3 と床板 2 8 との間の室内 空間は二枚の間仕切板( バ ッ ク パネル ) 2 9 , 2 9 に よ り 、 中 央の作業室 3 0 と、 その両側のユーテ ィ リ テ ィ 室 3 1 , 3 1 と に仕切 られてい る。 ま た、 作業室 3 0 内は、 作業者の通路と な る第 1 の領域 B と 、 こ の第 1 の領域 B の両側に隣 り 合いかつ L S I 等の製造装置 3 2 が設置さ れる第 2 の領域 A , A と に区分 さ れてい る。 そ し て、 天井板 2 3 の下側、 かつ、 第 1 の領域 B の上部には第 1 の空気吸込口 2 5 が設け られてお り 、 その両側 の第 2 の領域 Aの上部に は空気吹出 口であ る 給気チャ ンバ 2 6 2 6 が設け られてい る。 こ れ ら袷気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 は、 そ れぞれ上方の空気供给ダ ク ト 2 4 , 2 4 と 急通す る と と も に、 袷気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の下部に設け られた U L P A フ ィ ル タ ( ま たは H E P A フ ィ ル タ ) 2 7 , 2 7 を介 し て下方の室内空間 と連通 し てい る。
一方、 前記床板 2 8 にお け る 第 〖 の領域 B の床と な る 部分、 およ び製造装置 3 2 が支持さ れる 部分は、 コ ン ク リ ー ト製の固 定床 4 2 , 4 2 と さ れてい る。 こ れ ら第 1 の領域 B の固定床 4 2 と第 2 の領域 Aの固定床 4 2 と は間隙をお いて互い に分離さ れてお り 、 こ の間隙に は グ レ ーチ ン グま たはパ ンチ メ タ ル等の 有孔床 : 1 , 4 1 が配設さ れてい る。 こ れ ら有孔床 4 1 は、 そ の孔が空気排出用の第 2 の空気吸込口 と な っ てお り 、 こ の第 2 の空気吸込口は、 床板 2 8 と 下側床ス ラ ブ 2 2 と の間の フ リ ー
ア ク セス フ ロ ア 2 8 aを介 し てユーテ ィ リ テ ィ 室 3 1 に連通 し てい る。 ま た、 前記間仕切板 2 9 の下端部に は第 3 の空気吸込 口 3 3 , 3 3 が形成さ れてい る。 製造装置 3 2 の寸法が長い た めに作業室 3 0 か らユーテ ィ リ テ ィ 室 3 1 に はみ出す場合は、 製造装置 3 2 の上部 と 接す る 付近の間仕切扳 2 9 にガラ リ を設 けて、 こ れを第 3 の空気吸込口 と す る。 ま た、 製造装置 3 2 が 作業室 3 0 内に納ま る 場合に は、 床板 2 8 の上部 と接す る 付近 の間仕切板 2 9 に ガラ リ を設けて、 こ れを第 3 の空気吸込口 と す る。
さ ら に、 前記给気チ ャ ンパ 2 6 , 2 6 に は、 ユーテ ィ リ テ ィ 室 3 1 , 3 1 側に フ ァ ン内蔵型の空調機 3 5 , 3 5 が設け られて お り 、 第 1 の空気吸込口 2 5 の下部両側には、 給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 か ら第 1 の空気吸込口 2 5 へ流れ る 空気の流線が滑 ら かに形成さ れ る よ う に、 整流板 3 6 , 3 6 が給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の側面に固定さ れて設け られて い る。 整流板 3 6 , 3 6 の 内部に :ま第 2 の領域 Aを照 ら す照明具 3 7 , 3 7 と 第 1 の領域 B を照 ら す照明具 3 8 , 3 8 と が配設さ れてい る。 さ ら に、 整 流扳 3 6 , 3 6 の間にはガラ リ 3 9 が架設さ れてお り 、 その上 方の給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の側面に は排気フ ァ ン 4 0 , 4 0 ( 空気排出手段 )が取 り 付け られて い る。
前記構成の ク リ ー ンルーム においては、 ま ず、 主空調機か ら 袷気ダク ト 2 4 , 2 4 を通っ て送 られた空気が、 天井に設け ら れた左右の袷気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 へ供給さ れる。 袷気チ ャ ン . バ 2 6 , 2 6 へ供給さ れた空気は、 U L P A フ ィ ルタ 2 7 , 2 7
を通過 して清浄化さ れ、 作業室 3 0 内へ吹き 出 さ れる。 吹き 出 さ れた清浄空気は、 主に 3 種類の径路を通っ て、 再び、 給気チ ヤ ンバ 2 6 , 2 6 へ還気さ れる。
ま ず、 第 1 の経路 I は、 給気チ ャ ンバ 2 6 か ら吹き 出 さ れた 清浄空気が製造装置 3 2 の上面に当た っ た後、 第 3 の空気吸込 口 3 3 を通過 してユーテ ィ リ ティ 室 3 1 に達 し、 次いで空調機 3 5 を経て袷気チ ャ ンパ 2 6 へ還気する径路であ る。 ま た、 第 2 の経路 - II は、 袷気チ ャ ンバ 2 6 か ら吹き 出さ れた清浄空気が 製造装置 3 2 の上面に当た っ た後、 作業者 3 4 を包み込むよ う に して有孔床 4 1 の第 2 の吸込口か ら床下フ リ ー ア ク セス フ σ ァ 2 8 aを通過 してユーテ ィ リ テ ィ 室 3 〖 に達 し、 次いで空調 機 3 5 を経て袷 ^チ ャ ンバ 2 6 へ還気する経路であ る。 さ ら に、 第 3 の流路 .は、 給気チ ャ ンパ 2 6 か ら吹き 出 し た清浄空気が 製造装置 3 2 に当 た ら ず主に作業者 3 4 の頭部等を包むよ う に して流れ、 第 1 の領域 B の上部を通過 し た天井ガラ リ 3 9 か ら 第 1 の吸込口 2 5 に達 し、 次いで、 排気フ ァ ン 4 0 に よ り 給気 チ ャ ンバ 2 6 へ還気する経路であ る。 なお、 室外への排気を必 要と す る装置( 図示略 )がク リ ー ンルーム内に設置さ れてい る 場合には、 経路 I , II 流れる い ずれかの空気が装置内へ取り 込 ま れ、 装置内部を通過し た後、 排気ダク ト ( 図示略 )を通 じて 建物外へ排出 さ れ る。
こ こ で、 最も清浄な環境を維持し たい領域は、 製造装置 3 2 の上面、 即ち、 ウ ェハ一カ セ ッ ト の ロ ー ド、 ア ン ロ ー ドの部分 を含む第 2 の領域 Aであ る。 し たがっ て、 清浄空気を吹き 付け
る こ と によ っ て、 第 2 の領域 Aを塵埃を直接的に排除す る と と も に、 第 1 の領域 B か ら の空気の巻き込みに よ る塵埃の侵入を 阻止す る こ と が必要であ る。 特に、 第 2 の領域 A と第 1 の領域 B と の天井部分が照明具や垂れ壁等で分離さ れてい る場合、 作 業者の上部には渦が発生 し やすい。 こ の渦に作業者が発生さ せ た塵が侵入 し た場合、 その排除には時.間を要 し、 作業者の移動 や作業に伴い、 こ の塵埃が第 2 の領域.へ侵入す る恐れが大であ る ため、 前記渦の発生を防止す る必要があ る。
本実施例においては、 前記条件を満たすよ う に、 第 2 の領域 Aの塵埃の排除は経路 I , Π を流れる 清浄空気で行な い、 第 1 の領域 B か ら の塵埃の侵入防止は経路 ]! , ΠΙを流れる 清浄空気 で行な う 。 特に、 経路 ]! , を流れる清净空気は、 第 2 の領域 Aか ら第 1 の領域 B へ向か う 、 撗方向の大き な速度成分を有 し た気流形状と な っ てお り 、 こ れに よ つ て、 第 1 の領域 B か ら の 塵埃の侵入を ほぼ完全に防止す る こ と がで き る。 さ ら に、 第 1 の空気吸込口 2 5 に整流板 3 6 , 3 6 を設けてあ る ため、 供給 チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 か ら第 1 の空気吸込口 2 5 へ経路 IEを通つ て流れる 清净空気の流線が滑 ら かに形成 さ れる ため、 天井面近 傍においては、 空気の渦を生 じ る こ と がな く 、 空気中の微粒子 が拡散 し た り 第 2 の領域 A に侵入 し た り す る こ と な く 、 滑 ら か に第 1 の吸込口 2 5 へ吸い込ま れてい く 。
ま た、 部分層流型 ク リ ー ンルーム に代表さ れ る 、 ス ー パ ー ク リ ー ンルームの必要清浄度は、 第 2 の領域 Aで ク ラ ス 1 0 ( 対 象粒子怪 = 0 . 1 m以上 )、 第 1 の領域 B で ク ラ ス 1 0 0 (
対象粒子怪 = 0 . 以上 )であ り 、 第 2 の領域 Aか ら流れ 出 る清浄空気は第 1 の領域 B の清浄空気に比べて清浄度が高 く 、 第 2 の領域 Aか ら流れ出 る清浄空気を用 いて第 1 の領域 Bを瘠 浄化す る こ と ができ る。
なお、 本実施例においては、 作業室 3 0 に供給さ れる清浄空 気の量を 1 0 m3/minと し た場合、 前記 3種類の径路 Ι , Π , ΠΙ を流れて排出 さ れる排出量の比率は、 経路 I :経路 Ε :経路 ΠΙ = 1 : 4 : 5 と な る こ と が望ま し い。
し たがっ て、 こ の ク リ ー ンルーム においては、 超高清浄度域 であ る第 2 の領域 Αが陽圧にな る 一方、 第 1 の領域 Bやユーテ ィ リ テ ィ 室 3 1 は陰 と な り 、 こ れに よ り 第 2 の領域 Aを所望の 清浄度にす る と と も.に、 第 1 の領域 B か ら φ空気の巻き込みを 防止 し て塵埃の侵入を無 く し高清浄度を安定に保持す る こ とが でき る。 ま た、 空気吹出 口であ る 給気チ ャ ンパ 2 6 , 2 6 が第 2 の領域 A , Αの上部に し か設け られてお ら ず、 天井の全面か ら清浄空気が吹き 出す こ と がな いので、 吹き 出 し量を減少( 本 実施例においては約 3 0 % )さ せる こ と が可能と な る と と も に、 U L P Aフ ィ ルタ 2 7 は給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 に設け る だけ でよ いので、 フ ァ ンの運転費等のエネ ルギー コ ス ト を低減で き る と と も に、 設備費も も低減で き る。
さ ら に、 作業室 3 0 は、 ス ク リ ー ン等に よ っ て第 2 の領域 A が第 1 の領域 B と 区画 さ れてい な いため、 作業者 3 4 は作業室 3 0 内での行動を制約 さ せる こ とがな い と と も に、 製造装置 3 2上における 操作性を向上さ せる こ と ができ、 正確かつ迅速に
ち密な作業を行 う こ とがで き る。
ま た、 作業室 3 0 に供給さ れた空気を 3 種類の経路か ら排気 す る こ と がで き る ので、 床板 2 8 の全面を有孔床 4 1 と す る必 要がな く な り 、 第 1 の領域の床と第 2 の領域の床の間に僅かな 隙間を設け る だけで、 第 1 の領域 B と製造装置 3 2 , 3 2 の直 下は固定床 4 2 と す る こ と がで き る。 その結果、 作業者 3 4 は 歩行時に第 1 の領域 B の固定床 4 2 を歩 く こ と に よ り 、 振動が 発生す る のを押 さ え、 ま た、 第 1 の領域 B の固定床 4 2 と製造 装置 3 2 , 3 2 の固定床 4 2 と が分離 してい る こ と に よ り 、 振 動が製造装置 3 2 , 3 2 へ伝わ る のを防止す る こ と がで き る。 さ ら に、 歩行時の作業者 3 4 に全面グ レ ーチ ン グ床を歩 く 時に 感 じ られる不快感を与え る こ と がな い。 ·
第 2 図は本発明の他の実施例を示 してい る。 こ の図において は、 清浄空気が袷気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 か ら第 1 の空気吸込口 2 5 へ全 く 渦を生 じ る こ と な く 流れる よ う に、 袷気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の第 1 の空気吸込口 2 5 側の緣部を、 第 1 の吸込口 2 5 に向けて漸次曲げて曲面を形成 し た構成と な っ て い る。 こ の 部分の U L P A フ ィ ルタ 2 7 , 2 7 も 前記曲面形状に合わせて 一部曲面型の形状と さ れてい る。 すなわ ち、 こ の曲げら れた部 分が、 第 1 の領域 B に向けて斜め下方に空気を吹き 出す捕助吹 出 口 9 9 と な っ てい る。 さ ら に、 第 1 の空気吸込口 2 5 のガラ リ 3 9 は、 その両側部が給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の緣部の曲面 と な だ ら かに連続す る よ う に上方に向けて山形に配列 さ れてい る。
一方、 こ の実施例では有孔床 4 1 が撒去さ れて床板 2 8 全体 が固定床 4 2 と さ れる と と も に、 床下フ リ ーア ク セス フ ロ ア 2 8 aをな く し た構成と さ れてい る。
こ の よ う な構成とす る こ と に よ り 、 給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 か ら吹き 出 さ れ清浄空気は、 経路 I を流れる も のは製造装置 3 2 , 3 2 にむか っ て垂直気流で吹き 出 し、 経路 ΠΙを流れる 空気 は、 第 1 の空気吸込口 2 5 に近接す る側の気流の一部が第 1 の 空気吸込口 2 5 へ向けて癀方向に短絡的に排気さ れる と と も に . 第 1 の空気吸込口 2 5 か ら離れる に従っ て、 作業者 3 4 の頭部 を包み込むよ う に斜め方向に吹き 出 さ れる こ と と な る。
ま た、 径路 IVを流れる清浄空気は経路 ΙΠを流れる 空気同様第 2 の領域 Aか ら第 1 の領域 B に向か う 模方向の大き な速度成分 を有 し た気流形状と な っ てい る。 こ れに よ つ て、 IVの空気は第 1 の領域 B か ら の塵埃の侵入をほぼ完全に防止 し た後、 製造装 置 3 2 , 3 2 の下を通過してュ一テ ィ リ テ ィ 室 3 1 , 3 1 に達し、 つ いで、 空調機 3 5 , 3 5 を経て再び給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 へ 還気す る。
ま た、 第 1 の領域 B を照 ら す照明具 3 8 が第 1 の空気吸込口
2 5 内の天井板 2 3 に、 ま た第 2 の領域 A , Aを照 らす照明具
3 7 , 3 7 が間仕切板 2 9 , 2 9 の上部背面に それぞれ配設さ れ てい る ので、 作業室 3 0 内の気流を乱さ ずに、 必要な照度を得 る こ と がで き る。 さ ら に、 第 1 の空気吸込口 2 5 のガラ リ 3 9 を透明な ダンパ付き排気口 と す る こ と に よ り 、 ル一バ と しての 機能を持たせ、 第 1 の領域 B を均一に明る く 照明する こ と がで
き る
さ ら に、 本実施例では、 製造装置 3 2 , 3 2 に付設さ れる装 置や配管ゃ ダク ト 等を製造装置と 同一フ ロ ア に配置す る こ と が で き る こ と か ら作業性が向上 し、 ま た、 床部の施工コ ス ト を低 減す る こ と がで き る。
なお、 上記実施例において、 捕助吹出 口 9 9 は空気吹出 口 2 6 の一部であ る が、 空気吹出 口 2 6 と は別の独立し た捕助吹出 口を設けて も よ い。
第 3 図な い し第 5 図は、 本発明の さ ら に他の実施例を示 して い る。 こ の図において、 第 1 の吸込口 2 5 の下部両側、 かつ、 吸気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の側面に は、 第 2 の領域 A と第 1 の吸 込口 2 5 と を連通さ せ る 空気流路 5 0 , 5 0 が設け られてい る。 こ の空気流路 5 0 . 5 0 内には、 二本の レ ール 5 2 . 5 2 が配設 さ れ、 こ れ ら レ ール 5 2 によ り 、 第 1 の領域 B と 第 2 の領域 A とを仕切る 複数枚の仕切板 5 3 が吊持さ れてい る。 こ の仕切板 5 3 は、 第 4 図、 第 5 図に示すよ う に、 透明 な矩形の板に複数 の通気孔 5 4 , 5 4 …を全面に亙っ てほぼ均一に形成 し た も の であ り 、 仕切扳 5 3 の上部には、 前記 レ ール 5 2 上を仕切板 5 3 が移動で き る よ う に走行車輪 5 3 a , 5 3 aが取 り 付け られて い る。 さ ら に、 仕切板 5 3 は、 その下端部が床板 2 8 の上面 と の間に所定の隙間を形成す る よ う な寸法と さ れてお り 、 その隙 間は第 2 の領域 A内の空気が第 1 の領域 B へ流出す る ための通 気口 5 5 と な っ てい る。 ま た、 仕切扳 5 3 に形成さ れた通気孔 5 4 は、 第 5 図に示すよ う に、 そ こ を通過す る 空気の抵抗を軽
減さ せる と と も に、 その前後にお いて渦の発生を防止する ため に、 孔の両側端部が曲線を描いて次第に広がり なが ら仕切板 5 3 の表面と連続す るベル型開口部 と な っ てい る。 つま り 、 通気 孔 5 4 の内径およ び数を変化さ せる こ と に よ り 、 第 1 の領域 B へ流出す る 空気の流量を制御す る こ と が可能な構成とさ れてい る。 さ ら に、 仕切板 5 3 の所定の場所には、 作業者 3 4 が製造 装置 3 2 を操作す る ための操作孔ま たは作業用窓( 図示略 )が 形成さ れてい る。 ま た、 第 3 図に示すよ う に、 第 1 の吸込口 2 5 の下部付近で給気チ ャ ンバ 2 6 , 2 6 の間には、 ダ ンパ付き のガラ リ 5 6 が架設さ れてい る。
こ の よ う な構成の ク リ ー ンルーム において、 空気吹出 口 2 6 か ら吹き 出 し た清浄空気は、 経路 Ι . Π を通る他に二通り の経 路 V , VIを通っ て、 再び空気吹出 口 2 6 に循環す る。 第 3 の経 路 V は、 清浄空気が製造装置 3 2 に当た ら ず仕切板 5 3 の通気 孔 5 4 , 5 4 …およ びその下部の通気口 5 5 を通過して、 第 1 の領域 B へ流出 し た後、 上昇 してその上部に設け られた天井ガ ラ リ 5 6 か ら第 1 の吸込口 2 5 に達 し、 次いで、 排気フ ァ ン 4 0 に よ り 給気チ ャ ンバ 2 6 へ還気する経路であ る。 ま た、 第 4 の経路 Y [は、 空気流路 5 0 を通過 して第 1 の吸込口 2 5 へ直接 流出 し た後、 排気フ ァ ン 4 0 によ り 給気チ ャ ンバ 2 6 へ還気す る ;^路で ¾ る。
前期経路 Vを流れる 空気は、 第 1 の.領域 B へ流出す る際、 仕 切板 5 3 に無数に形成さ れた通気孔 5 4 …を通過 して仕切板 5 3 の全面か ら均一に流出する ため、 仕切板 5 3 の第 1 の領域側
の表面に空気の渦を生 じ に く い。 ま た、 仕切板 5 3 の通気孔 5 4 の数と その内径の大き さ を変え る こ と に よ り 、 仕切板 5 3 の 面か ら の空気の流出両を制御す る こ とがで き、 かつ、 仕切板 5 3 の下の通気口 5 5 か ら の空気の流量を制御す る こ と が可能と な る。 従っ て、 こ の通気口 5 5 か ら の空気の流量を適切に調節 す る こ と に よ り 、 こ こ を流れる 気流に よ っ て床板 2 8 に堆積 し た塵埃の舞い上が り を確実に防止す る こ と ができ る。
ま た、 前記経路 Iを流れる 空気は、 空気流路 5 0 を通過す る 際、 仕切扳 5 3 の上端部付近に停辯する 塵埃を第 1 の吸込口 2 5 へ排出す る。
こ の よ う な構成の ク リ ー ンルーム にお いては、 第 2 の領域 A がバ ッ ク パネル 2 9 お よ び仕切板 5 3 に よ っ て囲ま れてい る た め、 超高清浄度域であ る 第 2 の領域 Aが陽圧にな る一方、 高清 净度域であ る 第 1 の領域 B やユーテ ィ リ テ ィ 室 3 1 は陰圧と な り 、 少量の清浄空気を供給す る だけで( 本実施例においては第 2 の領域 Aの清浄空気の流速を 0 . 2 m / s以下 と す る こ と がで き る )第 2 の領域 Aを所望の清浄度と す る こ と がで き る。 しか も、 第 1 の領域 B か ら の塵埃の拡散およ び流入が完全に防止さ れ、 安定 し た超高清浄度を保持す る こ と がで き る。
ま た、 仕切板 5 3 は レ ール 5 2 に沿っ て左右に移動さ せる こ と がで き る ので、 製造装置 3 2 の メ ンテナ ンスや だい 2 の領域 Aへの物の搬入およ び搬出を容易に行 う こ と がで き る。 さ ら に 仕切扳 5 3 の上端部が空気流路 5 0 の内部に配置さ れてい る た めに、 仕切板 5 3 の上端部付近に塵埃が停滞す る こ と がな い。
さ ら にま た、 だい 2 の領域 A に供給さ れた空気を 4 種類の流 路か ら排気する こ とができ る ので、 床板 2 8 全体を有孔床 4 1 と する 必要がな く な り 、 第 2 の領域 A と第 1 の領域 B の境界面 付近の真下に僅かな隙間を設ける だけで、 第 1 の領域 B と製造 装置 3 2 の真下は固定床 4 2 と する こ と ができ る。
第. 6 図は第 4 図の仕切板の変形例を示してい る。 こ の仕切板 6 0 は扳面全体に多数の通気孔 6 1 を有する も ので、 加工装置 3 2 , 3 2 の各ロ ー ド位置に対応する 位置に、 半導体収容用の カ セ .ソ ト 等が通過可能な大き さ の操作孔 6 2 を具備 してい る。
ま た、 第 7 図は第 4 図の仕切板の他の変形例を示 してい る。 こ の仕切板 6 3 は横長のス リ ッ ト 状の操作孔 6 4 を有す る も の であ る。 こ の よ う な形状の操作孔 6 4 を有する仕切板 6 3 は、 ロ ー ド位置が全て同一高さ に揃っ てい る 加工装置に適用 さ れる ま た、 通気孔 6 1 は円形であ る必要はな く 、 操作孔 6 4 と 同様 にス リ ッ ト 状で も良い。
第 8 図は第 4 図の仕切板の さ ら に他の実施例を示す も のであ る。 こ の仕切板 6 5 は、 第 6 図に示す仕切板 6 0 の操作孔 6 2 と 同 じ形状の操作孔 6 6 を有 してい る。 そ し て、 こ れ ら操作孔
6 6 の開口部上縁に、 第 1 の領域 B側に突き 出す操作孔 6 6 の 開閉用 シ ャ ツ タ機構 6 7 が設け られ、 開閉ス ク リ ー ン 6 8 で操 作孔 6 6 を開閉でき る構成と な っ てい る。
一方、 第 9 図は本発明の さ ら に他の実施例を示 してい る。 こ の図において、 符号 7 0 は仕切 シ ー ト であ る。 こ の仕切 シ ー ト
7 0 は、 第 2 の領域 A と第 1 の領域 B と の境界に設け られてい
る。 仕切 シ ー ト 7 0 の全面には多数の微細な通気孔( 図示略 ) が形成さ れてお り 、 仕切 シ ー ト 7 0 はその上端部に設け られた 回転機構付き の巻き取 り 棒 7 2 に よ っ て、 上下方向に移動自在 と な っ てい る。 ま た、 巻き取 り 棒 7 2 、 言い替えれば仕切 シ ー ト 7 ひ の上緣部は、 空気通路 5 0 内に配置さ れて い る。 さ ら に . 仕切 シ ー ト 7 0 の下端部に は仕切 シ 一 ト の 7 0 の弛みや揺れを 防止す る ための重り 7 4 が取 り 付け られてお り 、 その下端部 と 床板 2 8 と の間に は隙間 5 5 が形成さ れてい る。 ま た、 仕切 シ 一 ト 7 0 には作業者 3 4 が製造装置を操作する ための操作孔 図示略 )が設け ら れてお り 、 空気流路 5 0 の内部には照明具 7 6 が取り 付け られてい る。 なお、 床板 2 8 には仕切 シ ー ト 7 0 の上部の 回転機構を次動的に制御 して仕切シ 一 ト 7 0 を上下に 開閉す る足踏みス ィ ッ チ 7 8 を設けて も よ い。
こ の よ う な ク リ ー ンルー ム にお いては、 経路 Vを流れる 空気 は第 1 の領域 B へ流出す る 際、 仕切 シ ー ト 7 0 に形成さ れた通 気孔を通過 して仕切 シ ー ト 7 0 の全面か ら均一に流出す る ため 仕切 シ ー ト 7 0 の第 1 の領域側の表面付近に空気の渦を生 じ る こ と がな い。 ま た、 仕切 シ ー ト 7 0 に形成さ れた通気孔の径ゃ 数を変え る こ と に よ り 、 通気孔 5 5 か ら排出 さ れる 空気の流量 や流速を制御す る こ と が可能であ る。 ま た、 経路 VIを流れる 空 気は空気流路 5 0 を通過す る 際、 照明具 7 6 や仕切 シ ー ト 7 0 の上端部吹き に に停滞す る塵埃を第 1 の吸込口 2 5 へ排出す る さ ら に、 仕切 シ ー ト 7 0 は施工が簡単であ り 、 開閉作業が容 易に行え る も のであ る。
第 1 0 図および第 1 1 図は、 上記実施例に示したよ う な ク リ ー ンルームで使用 される搬送装置 Tを示し してい る。 こ の搬送 装置 T は被加工物、 例えば半導体ウェハ等を搬送する た.めの装 置であ る。 搬送装置 T は、 走行車輪 8 0 と駆動装置と電池を具 備して自力走行自在な走行台車 8 1 と、 走行台車 8 1 の上部に 立設さ れた支柱 8 2 に水平に取り 付け られた板状の支持台 8 3 と、 この支持台 8 3 の上面に沿って水平方向に移動する把持ァ ーム 8 4 と、 支持台 8 3 の先端部上面に設け られた除塵装置 8 6 を主体と して構成さ れている。
前記搬送装置 Tの走行台車 8 1 には、 走行台車 8 1 の下方の 床に阽着されたアル ミ テー プ等の光反射案内テー プ( 案内体 ) を検知する セ ン》サが設け られ、 こ のセ ンサが検知 した光反射案 内テープに沿って走行台車 3 1 が走行する よ う にな っ ている。
前記除塵装置 8 6 は、 第 1 1 図に示すよ う に、 ハ ウ ジ ン グ 8 9 に除塵フ ィ ルタ 9 6 や送風機を備えて構成さ れた ものであ る ハウ ジ ン グ 8 9 は、 天井板 9 0 と、 両側板 9 2 と、 両側板 4 2 の上半部に掛け渡さ れた上部前面板 9 3 および上部背面板 9 4 と から なる底部が解放し た箱伏の ものであ る。 上部前面板 9 3 の下方の開口部と上部背面板 9 4 の下方の開口部は出入口 R と な っ ている。 ま た、 ハ ウ ジ ン グ 8 9 は上部前面板 9 3 を支持台 8 3 の先端郐前方側に向けて支持台 8 3 の先端部に設けられ、 ハウ ジ ン グ 8 9 の下方の支持台 8 3 の上面に、 ウェハ( 被加工 物 ) Uを多数収納し たウェハケー ス Hが設置される よ う にな つ ている。 前記ハウ ジ ング 8 9 の内部には、 上部背面板 9 4 に形
成さ れた吸気孔 9 5 か ら空気を吸入してハ ウ ジ ン グ 8 9 の下方 側に吹き 付け る 送風機( 図示略 )が収納さ れ、 こ の送風機の下 方には U L P A フ ィ ル タ 等の除塵フ ィ ル タ 9 6 が設け られ、 清 净空気をハ ウ ジ ン グ 8 9 の下方側に向けて吹き 付け る こ と がで き る よ う にな っ てい る。 なお、 ハ ウ ジ ン グ 8 9 内の送風機は、 走行台車 8 1 内に設け られた電池を電源 と し、 そ の送風方向を ハ ウ ジ ン グ 8 9 内で第 1 1 図の矢印に示すよ う に、 後方下向 き にな る よ う に送風 し、 清浄空気をハ ウ ジ ン グ 8 9 の内部を通過 さ せて上部背面扳 9 4 の下方の 出入口 Rか ら吹き 出 さ せる も の であ る。
前記把持ア ーム 8 4 は、 支持柱 8 2 に備え られた駆動装置に よ っ て水平方向に移動自在に さ れた も ので、 その先端部には、 把持ァ ー'ム 8 4 の移動に よ り 前記ハ ウ ジ ン グ 8 9 の両側板 9 2 9 2 間を通過 して ウ ェハケ ー ス Hを把持で き る杷持ハ ン ド 9 7 が設け られてい る。 なお、 把持ア ーム 8 4 は ノ、 ウ ジ ン グ 8 9 を 通過さ せてそ の前方ま で把持ハ ン ド 9 7 を移動さ せる よ う に伸 縮す る も の で あ る 。
こ の よ う な構成の搬送装置 T を用 いて、 ス ト ッ カ ー等の ゥ ェ ハの収納部か ら加工装置 3 2 ま でウ ェハ Uを搬送す る場合は、 ま ず、 各加工装置 3 2 と オ ン ラ イ ン で接続さ れて い る ホ ス ト コ ン ピ ュ ー タ が、 ウ ェハの収納部か ら加工装置 3 2 に ウ ェハ Uを 搬送す る よ う に司令を出す。 そ して、 こ の司令に基づいて搬送 装置 T が作動を開始す る。 搬送装置 は、 ま ず、 ウ ェハ収納部 か ら把持ア ーム 8 4 に よ っ て取り 出 し た ウ ェハカ セ 'ソ ト Hをハ
ウ ジ ン グ 8 9 の下の支持台先端部に載置し、 第 1 の領域 B の床 板 2 8 に阽着さ れた光反射テー プに沿っ て ウ ェハ収納部か ら加 ェ装置 3 2 に向 っ て移動す る。 こ の際、 ハ ウ ジ ン グ 8 9 の内部 の送風機は清^空気を ウ ェハ U に吹き 付け、 ウ ェハ Uの周囲を 清浄空気で囲む作用を奏す る。 こ の作用 に よ っ て、 清浄度の低 い第 1 の領域 B を搬送装置 T が移動す る 場合であ っ て も、 ゥ ェ ハ U に塵を付着さ せる こ と はな い。 こ の ため、 第 1 の領域 B が ク ラ ス 1 0 0 0 以下の条件であ っ て も、 ウ ェハ Uを汚染さ せず に搬送する こ と 力 でき る。 なお、 ノヽ ウ ジ ン グ 8 9 内において、 清浄空気の流動方向は、 第 1 1 図矢印に示すよ う に、 上部前面 板 9 3 側か ら上部背面板 9 4 側に向いてい る ため に、 搬送装置 T を走行さ せる場合には、 側扳 9 2 , 9 2 を走行方向前方側に 向ける か、 あ る いは、 上部背面扳 9 4 を走行方向前方側に向け る こ と にす る。 こ の理由は、 上部前面板 9 3 を搬送装置 T の移 動方向前方側に向けて搬送装置 T を前進さ せた場合に は、 清浄 度の低い第 1 の領域 B の空気をハ ウ ジ ン グ 8 9 内に吸入す る こ と にな る ためであ る。 ま た、 第 1 の領域 B の床は固定床 4 2 で あ り 、 加工装置 3 2 , 3 2 を設置 し た固定床 4 2 , 4 2 と は有孔 床 4 1 , 4 1 に よ っ て分離さ れてい る ために、 搬送装置 T の発 生さ せる 振動が加工装置 3 2 , 3 2 へ伝達す る の は防止さ れて い る。
次に、 加工装置 3 2 の前に移動し た搬送装置 T は、 加工装置 3 2 の手前の仕切板 6 0 の前で第 1 0 図に示す位置に停止し、 上部前面板 9 3 を仕切扳 6 0 の操作孔 6 2 に向け る。 次いで搬
送装置 T は、 把持ア ーム 8 4 を伸長さ せて把持ハ ン ド 9 7 に よ り 把持 してい た ウ ェハカ セ ッ ト Ηを支持台 8 3 か ら離 して移動 さ せ、 仕切板 6 0 の操作孔 6 2 を介 して前方の加工装置 3 2 側 に移動さ せて加工装置 3 2 の ロ ー ド位置にセ ッ ト す る。 こ こ で 仕切板 6 0 の周囲においては、 第 2 の領域 Α内の清浄空気が操 作孔 6 2 を介 して第 1 の領域 B に向 っ て移動 してい る と と も に . ハ ウ ジ ン グ 8 9 の内側では、 上部前面扳 9 3 の下方側か らハ ウ ジ ン グ 8 9 の後方側に向いて清浄空気が移動 していて、 両方の 清浄空気が同一方向に向 く た め に、 両清浄空気は乱れる こ と な く 同 じ流れを形成 して合流す る。 こ の ためハ ウ ジ ン グ 8 9 が仕 切板 6 0 を通過す る 際に もハ ウ ジ ン グ 8 9 の塵の侵入を阻止 で き る。 こ の際、 上部背面扳 9 4 が仕切返 6 0 に向いて い る と ハ ウ ジ ン グ 8 9 内の清浄空気の流れと操作孔 6 2 を通過す る清 净空気の流れが衝突 して乱流を生じ る こ と にな り 、 こ の乱流に よ り 仕切扳 6 0 の周囲の第 1 の領域 B の空気をハ ウ ジ ン グ 8 9 内に吸入 し て し ま う おそれを生じ る こ と に な り 好ま し く な い。
一方、 仕切板 6 0 の操作孔 6 2 とハ ウ ジ ン グ 8 9 と の位置合 わせは、 操作孔 6 2 の周縁部に赤外線や レ ーザ光線の発信機を 取り 付け、 ハ ウ ジ ン グ 8 9 の上部前面扳 9 3 の所要位置に受光 素子を取 り 付けて こ れ ら に よ っ て位置合わせを行 う か、 ハ ウ ジ ン グに ビデオカ メ ラ を備え さ せ、 画像処理を行 う こ と に よ っ て 位置を認識して位置合わせを行 う よ う にすれば良い。 なおま た 加工装置 3 2 , 3 2 か ら ウ ェハカ セ ヅ ト Hを取 り 出す場合には、 把持ア ーム 8 4 を伸長さ せて把持ハ ン ド 9 7 を加工装置の ゥ ェ
ハカ セ ッ ト H に到達さ せ、 把持ノ、 ン ド 9 7 によ っ て ウ ェハカ セ ヅ ト Hを把持 して把持アーム 8 4 を後退さ せて支持台 3 3 に ゥェ ハカ セ ッ ト Hを載置すれば良い。
なお、 前記仕切板 6 0 は、 給気チ ャ ンバ 2 6 の底部に、 第 2 の領域 Aの長さ 方向( 第 1 0 図の紙面に垂直な方向 )に沿っ て 移動自在に 吊 り 下げ られ、 かつ、 第 2 の領域 A と 第 1 の領域 B の圧力変動等に よ り 仕切板 6 0 が振動しな い よ う に、 仕切扳 6 0 の底部は、 床板 2 8 に敷設さ れた レ ール 9 8 の上に載っ てい る。
以上の如 く 搬送装置 T に よ っ て ウ ェハ ϋを搬送す る な らば、 ウ ェハ収納部か ら第 1 の領域 Β を介 して加工装置 3 2 の ロ ー ド 位置ま でウ ェハ Uを汚染さ せる こ と な く 搬送す る こ とがで き る。 ま た、 ク ラ ス 1 0 0 0 以下の条件の領域で も ウ ェハ Uを汚染さ せずに搬送可'能にな る ために、 加工工程内だけではな く 、 .更に 清浄度の低い工程間の搬送に も使用で き る効果があ る。
ま た、 上記.搬送装置 Τ は、 床板 2 8 に阽着 し た光反射テー プ 等の案内体を張り 替え る こ と に よ つ て搬送装置 Τ の移動経路を 自 由に変更で き る た め に、 加工装置の変更や製造プ ロ セ ス の変 更を行っ た場合であ っ て も、 光反射テー プの張り 替えを行う こ と に よ っ て安価にかつ簡単に対応する こ と ができ、 極めて対応 性の高い装置と な っ てい る。 更に、 搬送装置 Τ は収納部か ら ゥ ェハ Uを取り 出 し て ク リ ー ンルー ム内を移動し、 加工装置 3 2 め ロ ー ド位置に ウ ェハ Uを設置で き る も のであ る ために、 搬送 装置と は別個に把持移動用の ロ ボ ヅ ト 等を必要と してい た一般
的な従来装置に比铰 して設備費用を低減で き る効果があ る。 産業上の利用可能性 '
本発明の ク リ ー ンルーム は、 超 L S I 、 I C等の半導体製造 分野で、 その製造環境を超高清浄度に維持 し たい場合に用 いて 極めて効果的であ る。
Claims
1 . 天井と、 床と、 これ ら天井と床との間の室内空間と、 こ の室内空間に超高清浄度の空気を供給する空気供袷手段と、 室 内空間に供給された空気を排出する空気排出手段とを備え、 前 記室内空間は、 高清浄度が要求される第 1 の領域と、 こ の第 1 の領域に隣り 合う と と もに第 1 の領域よ り も さ らに高い超高清 浄度が要求される第 2 の領域と に区分される ク リ ー ンルームに おいて、 前記空気供給手段は、 前記第 2 の領域の天井に配置さ れて下向き に空気を吹き 出す空気吹出口を備.え、 前記空気排出 手段は、 前記第 1 の領域の天井に配置さ れて上向き に空気を吸 い込む第 1 の空気吸込口を備え、 これによ り 第 2 の領域から第 1 の領域へ向かう横方向の空気流が生じ る よ う に したこ とを特 徵とする ク リ ー ンルーム。 '
2 . 前記空気吸込口へ流れ込む空気の流線を滑らかに形成す る ための整流手段を備えている こ とを特徵とする請求の範囲第 1 項記載の ク リ ー ンルーム。 .
3 . 前記整流手段は、 空気吹出口 と空気吸込口 との間に配設 さ れた整流扳であ る こ とを特徵とする請求の範囲第 2 項記載の ク リ ー ンルーム。
4 . 前記整流手段は、 空気吹出口 と空気吸込口 との間に配設 されて第 1 の領域に向けて斜め下方に空気を吹き 出す捕助吹出
口であ る こ と を特徵と す る 請求の範囲第 2 項記載の ク リ ー ンル 一ム
5 . 前記第 1 の領'域は作業者の通路と な る 領域であ り 、 こ の 第 1 の領域の床は固定床であ る こ と を特徵と す る請求の範囲第 1 項、 第 2 項、 第 3 項、 ま たは第 4 項いずれかの項記載の ク リ ー ン ル ー ム。
6 . 前記第 2 の領域は精密加工装置が設置さ れる領域であ り 第 2 の領域の床は固定床であ る こ とを特徵と す る請求の範囲第 5 項記載の ク リ ー ン ル ー ム。
7 . 前記第 1 の領域の床と第 2 の領域の床と は互い に分離さ れてい る こ と を特徵と す る 請求の範囲第 6 項記載の ク リ ー ンル 一ム。
8 . 前記空気排出手段は、 第 1 の領域の床と 第 2 の領域の床 の間に第 2 の空気吸込口を有す る こ と を特徵と す る請求の範囲 第 7 項記載の ク リ ー ン ル ー ム。
9 . 前記第 1 の領域の床と第 2 の領域の床の間に架け渡さ れ た有孔床を備え、 こ の有孔床は こ れを貫通す る多数の孔を有す る こ と を特徵と す る請求の範囲第 8 項記載の ク リ ー ン ル ー ム。
1 0 . 前記第 1 の領域と第 2 の領域とを仕切る 仕切部材を備 え、 こ の仕切部材は、 第 2 の領域か ら仕切部材を介して第 1 の 領域へ空気を流すための通気手段を有す る こ と を特徵とす る請 求の範囲第 1 項、 第 2 項、 第 3 項、 ま たは第 4 項いずれかの項 記載の ク リ ー ンルーム。 -
1 1 . 前記仕切部材は第 1 の領域と第 2 の領域と の間に配設 さ れた仕切板であ り 、 前記通気手段は仕切板の全面にほぼ均一 に配さ れた複数の通気孔であ る こ とを特徵と す る 請求の範囲第 1 0 項記載の ク リ ー ン ルー ム。
1 2 . 前記仕切板はほぼ水平方向に移動自在であ り 、 第 2 の 領域への物品の搬入あ る いは搬出を容易に行え る よ う にな っ て い る こ と を特徴と す る 請求の範囲第 1 2 項記載の ク リ ー ンルー ム。
1 3 . 前記第 2 の領域と第 1 の空気吸込口を連通さ せ る 空気 流路を備え、 こ の空気流路内に仕切板の上緣部が配置さ れてい る こ と を特徵と する請求の範囲第 1 2 項記載の ク リ ー ン ル ー ム
1 4 . 前記仕切部材は第 1 の領域と第 2 の領域の間に配設さ れた仕切シ ー ト であ り 、 前記通気手段は仕切 シ ー ト の全面に ほ ぼ均一に配さ れた複数の通気孔であ る こ と を特徵とす る讃求の 範囲第 1 0 項記載の ク リ ー ン ル ー ム。
1 5 . 前記仕切 シ ー ト は巻き取 り 自在であ り 、 第 2 の領域へ の物品の搬入あ る い は搬出を容易に行え る よ う にな っ てい る こ と を特徵と す る請求の範囲第 1 4 項記載の ク リ ー ン ル ー ム。
1 6 . 前記.第 2 の領域と第 1 の空気吸込口を連通さ せる 空気 流路を備え、 こ の空気流路内に仕切 シ ー ト の上縁部が配置さ れ てい る こ と を特徵と す る請求の範囲第 1 5 項記載の ク リ ー ンル 一ム
1 7 . ク リ ー ン ル ー ム内で被加工物を搬送する方法において、 被加工物を移動さ せ る工程と、 こ の移動工程中继続的に被加工 物に清浄な空気を吹き付けて被加工物を清浄な空気で覆 う よ う にす る 工程と を有す.る こ と を特徵と す る ク リ ー ン ル ー ム におけ る 被加工物の搬送方法。
1 8 . 走行台車と、 こ の走行台車上に設け られた被加工物収 容用の ヽ ゥ ジ ン グと、 こ の ヽ ゥ ジ ン グに取り 付け られた除塵フ ィ ルタ と 、 こ の除塵フ ィ ルタ を介 してハ ウ ジ ン グ内に清浄な空気 を吹き込む送風手段と を備えてい る こ とを特徵と す る ク リ ー ン ル ー ム用被加工物搬送装置。
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