TWI421316B - 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及顯示器 - Google Patents
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Description
本發明係有關透明導電膜形成用組成物、透明導電膜、以及於顯示面具有透明導電膜之顯示器,更詳而言之,係有關一種塗佈或印刷於多樣的透明基材的表面,特別是於液晶顯示器或電漿顯示器等的顯示面,使其乾燥或硬化,而具有絕佳的帶電防止效果,且由於無吸收色相的情形,所以膜的可見光透過率非常地高,且透過影像的色相自然,而且,依照其組成,能夠形成在耐擦傷性上的表現亦出色、具有高防眩效果、或是膜的折射率控制係為可能的透明導電膜之組成物、如上述般的透明導電膜、以及於顯示面具有如上述般的透明導電膜之顯示器。
由於用來做為電視的布勞恩管(Braun tube)或電腦的顯示器等顯示元件的陰極射線管係以電子束撞擊發出紅光、綠光、藍光的螢光面來於顯示面播放出文字或影像,故於該顯示面產生的靜電使得塵埃附著而造成可見度下降。此外,最近發展做為壁掛式電視等應用的電漿顯示器,亦被指出有靜電的產生。其對策係對平面顯示器(FPD)顯示面所貼之光學薄膜賦予導電性,以要求防止塵埃附著的功能。此外,由於螢光燈等的外部光映入而使影像難以看到的問題,其對策係謀求既保有高透過率亦付予防眩功能。
為了解決上述問題,習知技術係將銀、金等金屬的微粒子均一地分散在塗佈液中,將該塗佈液塗佈於顯示裝置的顯示面上使其乾燥,或以濺鍍法、蒸鍍法來形成導電性透明金屬薄膜,於該透明金屬薄膜的上層及/或下層積層與該透明金屬薄膜不同折射率之透明層來謀求帶電防止及反射防止。例如,在電磁波遮蔽效果及反射防止效果方面有不錯表現的透明導電膜,被提出有由平均粒徑2nm至200nm的金屬微粒子所形成之透明導電性微粒子層與相異折射率的透明被膜形成者(參照如專利文獻1)。此外,亦提案有積層添加二氧化矽、丙烯酸酯、胺基甲酸乙酯粒子等有機或無機粒子而付予防眩性之膜者(參照如專利文獻2)。
此外,氧化物半導體透明膜由於一般狀況下對可見光表現出高光透過率、低電阻、且膜強度強,所以被利用於液晶顯示器等元件的透明電極或太陽能電池的窗材料、熱線反射膜、帶電防止膜等多方面。做為上述的氧化物半導體者已知有氧化錫、含有銻的氧化錫(以下記載為ATO)、含有錫的氧化銦(以下記載為ITO)等化學物質(參照如專利文獻3)。
習知技術已知有以真空蒸鍍、濺鍍法、離子披覆等氣相沉積技術來堆積金屬或半導體性金屬氧化物於絕緣體之方法、以及將樹脂溶液(結合劑成分)中分散有金屬或半導體性金屬氧化物之分散液做為塗料或是油墨來塗佈或印刷之塗覆法等方法。
專利文獻1:日本特開平8-77832號公報專利文獻2:日本特開平11-115087號公報專利文獻3:日本特開平5-289313號公報專利文獻4:日本特開平6-295666號公報專利文獻5:日本特開平7-242844號公報專利文獻6:日本特開平8-143792號公報專利文獻7:日本特開平8-199096號公報專利文獻8:日本特開平11-181335號公報
然而,使用銀做為金屬粒子時所得到之導電膜,因銀的光透過頻譜而對波長400nm至500nm的透過光產生吸收作用,使導電膜著上黃色,有透過影像的色相不自然變化之問題,亦有由於膜的可見光平均透過率低而使因膜厚分布不同而造成之透過色不均勻的現象顯而易見、以及為了防止上述情形而讓生產性劣化之問題。
此外,即使是以使用含有錫的氧化銦之導電膜形成用組成物而製得之透明導電膜,導電膜同樣有著上黃色或藍色、透過影像的色相不自然變化等問題。ATO或ITO的氧化物半導體透明膜係於紅外線範圍有吸收作用,特別是於近紅外線範圍有大幅吸收作用,故帶有藍色。此外,即使是氧化錫等於紅外線範圍無吸收作用的氧化物半導體透明膜,在波長400nm附近的光透過率低而帶有黃色。故習知的氧化物半導體透明膜有可見光範圍的分光曲線不平整、透過光的色相不自然變化之問題(參照第1圖中所顯示ITO的波長與光透過率的相關關係以及SnO2
的波長與光透過率的相關關係之圖)。因此,即使是使用透明基板,仍難以得到透明性高、導電性等膜特性達到實用上必要的水準之透明導電膜。此外,到目前為止,雖然有以組合ATO或ITO等氧化物半導體與透光性微粒子來付予防眩效果者,但因帶有顏色而難以得到具有高透明性之防眩性透明導電膜。
近年來,在大力追求電子產品的顯示畫面或光學產品等表面反射降低之技術領域中,係使用反射防止膜。形成該反射防止膜之多層膜的中間層,係使用金屬氧化物等高折射率的無機材料,謀求依據不同用途分別控制膜的折射率。
本發明乃為了解決上述諸問題而研創者,其目的在於提供具有絕佳的帶電防止效果,且由於無吸收色相的情形,所以膜的可見光透過率非常地高,且透過的影像的色相自然,並且,依照期望,能夠形成在耐擦傷性上的表現出色、且具有高防眩效果、或膜的折射率可能控制的透明導電膜之組成物、如上述般的透明導電膜、以及於顯示面具有如上述般的透明導電膜之顯示器。
本發明之發明者們為了達成上述目的經致力研究後,發現藉由使用結合劑成分、做為導電性粉體的的氫氧化錫粉體、以及高折射率粉體;或者藉由使氫氧化錫粉體及透光性微粒子以特定的量分散於結合劑成分中;或者藉由使用特定的結合劑成分且以特定的比例使用氫氧化錫粉體與其他的導電性粉體做為導電性粉體能夠獲得所期望的結果,而完成了本發明。
即,本發明的透明導電膜形成用組成物之特徵為:係由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及高折射率粉體所組成。
此外,本發明的防眩性透明導電膜形成用組成物之特徵為:係由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及透光性微粒子所組成,當以氫氧化錫粉體與結合劑成分的合計質量為X、透光性微粒子的質量為Y時,X/Y的質量比係在99.9/0.1至50/50的範圍內。
並且,本發明的透明導電膜形成用組成物之特徵亦為:係由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之導電性粉體所組成,該結合劑成分係活性能量射線硬化性結合劑成分,該導電性粉體係由氫氧化錫粉體與其他導電性粉體所組成,該氫氧化錫粉體係佔全導電性粉體的45至99質量%。
此外,本發明的透明導電膜或防眩性透明導電膜之特徵為:係分別塗佈或印刷上述透明導電膜形成用組成物或防眩性透明導電膜形成用組成物的其中任一者,使其乾燥或硬化而得者。
並且,本發明的顯示器之特徵為:於顯示面上具有使用上述透明導電膜形成用組成物或防眩性透明導電膜形成用組成物(以下,總稱兩者為透明導電膜形成用組成物)的其中任一者形成之上述透明導電膜或防眩性透明導電膜的其中任一者。
本發明的透明導電膜形成用組成物,係做為塗料或油墨塗佈或印刷於基板,接著使其乾燥或硬化,例如照射活性能量射線使其硬化,而能夠於基板上形成透明導電膜或防眩性透明導電膜。因此,亦適用於耐熱性較低的樹脂基板或各種形狀的基板,能夠連續大量生產透明導電膜或防眩性透明導電膜,此外大面積化亦容易。
針對使用由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及高折射率粉體所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物而得之透明導電膜,係利用調整高折射率粉體的相對的配合量而使透明導電膜的折射率控制成為可能。此外,利用調整成膜條件而形成例如表面電阻值最好為107
至1012
Ω/□,107
至1011
Ω/□更好、光透過率最好為85%以上、模糊度(haze)最好為2.5%以下的透明性、導電性及耐擦傷性皆優異的透明導電膜。
針對使用由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及透光性微粒子所組成,當以氫氧化錫粉體與結合劑成分的合計質量為X、透光性微粒子的質量為Y時,X/Y的質量比係在99.9/0.1至50/50的範圍內之本發明的防眩性透明導電膜形成用組成物而得之透明導電膜,係利用調整成膜條件而形成例如表面電阻值最好為107
至1012
Ω/□,107
至1011
Ω/□更好、光透過率最好為85%以上、模糊度最好為3%至50%,8%至40%更好的透明性、導電性、還有防眩性皆優異的防眩性透明導電膜。
針對使用由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之導電性粉體所組成,該結合劑成分係活性能量射線硬化性結合劑成分,該導電性粉體係由氫氧化錫粉體與其他的導電性粉體所組成,該氫氧化錫粉體係佔全導電性粉體的45至99質量%之本發明的透明導電膜形成用組成物而得之透明導電膜,係利用調整成膜條件而形成例如表面電阻值最好為106
至1011
Ω/□,106
至1010
Ω/□更好、光透過率最好為85%以上、模糊度最好為2.5%以下的透明性、導電性、以及耐擦傷性皆優異的透明導電膜。
因此,本發明的透明導電膜形成用組成物,係能夠利用於液晶等的透明電極、太陽能電池的窗材料、紅外線反射膜、帶電防止膜、觸控式面板、面發熱體、電子照相記錄等廣泛的領域,能夠在各領域展現優異的性能。
本發明的透明導電膜形成用組成物,係氫氧化錫粉體及高折射率粉體係分散於結合劑成分中,或者氫氧化錫粉體及透光性微粒子係分散於結合劑成分中,或者氫氧化錫粉體及其他的導電性粉體係分散於結合劑成分中。能夠使用氫氧化錫自體的粉體或者是含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻其中至少一種之氫氧化錫粉體做為上述氫氧化錫粉體。
本發明能夠使用的氫氧化錫粉體如第1圖所示,係跨越大範圍的波長具有絕佳光透過率者,如此的氫氧化錫粉體能夠使用市售品,或者亦能夠以公知的方法(例如,以鹼中和溶解有錫的氯化物之酸性溶液,使氫氧化物共沉澱,乾燥該共沉澱物)來製造。該氫氧化錫粉體係雖然當其平均一次粒徑為0.2 μm以下時可以獲得透明膜,但一旦超過0.2 μm,所獲得之膜的透明性有降低的傾性,所以氫氧化錫粉體最好為平均一次粒徑為0.2 μm以下的超微粒子。但對於所獲得之透明膜的透明性係不重要之用途,亦能夠使用粒徑比0.2 μm大的氫氧化錫粉體。還有,所使用之氫氧化錫粉體其結晶性以X射線繞射分析來判斷,最好為非結晶狀態,但亦可一部分結晶化。此外,氫氧化錫的壓粉體電阻最好為1×109
Ω.cm以下。
做為本發明能夠使用的含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻其中至少一種之氫氧化錫粉體,能夠由市售品取得,此外,亦能夠以公知的方法(例如以鹼中和溶解有磷與錫的各種氯化物之酸性溶液,使磷/錫的氫氧化物共沉澱下來,乾燥該共沉澱物)來製造。在含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻其中至少一種之氫氧化錫粉體中,相對於(摻雜劑+錫)之摻雜劑的量最好係在0.1至20at%(atomic%,原子量百分比)的範圍內,1至15at%的範圍內更好。摻雜劑含量不滿0.1at%時,無法充分得到含有摻雜劑的效果,摻雜劑含量超過20%時,由於含有摻雜劑之氫氧化錫粒子自體的電阻變大,形成膜的導電性有降低的傾向。含有做為上述摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻其中至少一種之氫氧化錫粉體,最好與上述同樣為平均一次粒徑0.2 μm以下的超微粒子。
在由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及高折射率粉體所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物中,高折射率粉體係為了控制所獲得之透明導電膜的折射率而添加者,只要能夠達成該目的,高折射率粉體的種類並無特別限定,能夠使用市售品等公知的高折射率粉體。例如能夠為氧化鋯、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋅、氧化錫、ATO、ITO、氧化銦、氧化鋅鋁、五氧化銻、銻氧化鋅等金屬氧化物。更好為氧化鋯、氧化鈦、氧化鈰。這些高折射率粉體最好與上述氫氧化錫粉體同樣為平均一次粒徑0.2 μm以下的超微粒子。
在本發明的透明導電膜形成用組成物中,導電性粉體與高折射率粉體的質量比(導電性粉體/高折射率粉體)最好在30/70至90/10的範圍內,在35/65至85/15的範圍內更好。導電性粉體的量若使上述質量比少於30/70,所得之膜的折射率雖然變高,但有導電性變差之傾向。相反的,導電性粉體的量若使上述質量比多於90/10,導電性雖然變好,但無法獲得目的折射率。
在本發明的透明導電膜形成用組成物中,(導電性粉體+高折射率粉體)與結合劑成分的質量比〔(導電性粉體+高折射率粉體)/結合劑成分〕最好在5/95至95/5的範圍內,在20/80至90/10的範圍內更好,在30/70至85/15的範圍內又更好。導電性粉體與高折射率粉體的合計量若使上述質量比少於5/95,即使所得之膜的透明性足夠,導電性也有變差的傾向。相反的,導電性粉體與高折射率粉体的合計量若使上述質量比多於95/5,粉體的分散性變差,所得之膜的透明性、與基板的密著性變低,有膜性能降低的傾向。
在由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及透光性微粒子所組成之本發明的防眩性透明導電膜形成用組成物中,從由氫氧化錫粉自體的粉體及含有做為該摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻其中至少一種之氫氧化錫粉體所成之群所選出之氫氧化錫粉體(以下,僅記載為氫氧化錫粉體)與結合劑成分的質量比(氫氧化錫粉體/結合劑成分)最好在5/95至95/5的範圍內,在15/85至90/10的範圍內更好,在25/75至85/15的範圍內又更好。氫氧化錫粉體的量若使上述質量比少於5/95,即使所得之膜的透明性足夠,導電性也有變差的傾向。相反的,導電性粉體與高折射率粉体的量若使上述質量比多於95/5,粉體的分散性變差,所得之膜的透明性、與基板的密著性變低,有膜性能降低的傾向。
在本發明的防眩性透明導電膜形成用組成物中,透光性微粒子能夠使用例如從由無機填料及樹脂填料所成之群所選出之至少一種。無機填料可為例如二氧化矽、氧化鋁、滑石、氧化鋯、氧化鋅或氧化鈦所組成之填料。缺乏透光性的無機填料可能經由微粒化使其具有透光性。此外,樹脂填料可為例如丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、環氧樹脂或聚矽氧樹脂所組成之填料。能夠使用市售品做為上述的透光性微粒子。透光性微粒子的形狀最好為球形。此外,透光性微粒子的粒徑最好為0.1至10 μm,2至8 μm更好。使用這些粒子形成具有均一凹凸形狀之膜,或者使用上述無機填料經微粒化後之微粒或樹脂填料形成具有內部薄霧(haze)之膜,即可使塗膜具有防眩性。並且,當以氫氧化錫粉體與結合劑成分的合計質量為X,以透光性微粒子的的質量為Y時,X/Y的質量比必須在99.9/0.1至50/50的範圍內,在99/1至80/20的範圍內更好。透光性微粒子的量若少於上述X/Y的質量比範圍,由於所得之防眩性透明導電膜的光擴散效果不足,即使獲得高透明性與導電性,亦難以獲得足夠的防眩效果。此外,透光性微粒子的量若多於上述X/Y的質量比範圍,雖然所得之防眩性透明導電膜的防眩性提升,但模糊(haze)度過高,透過影像的鮮明度變低且光的透過率亦變低。
在由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之導電性粉體所組成、該結合劑成分係活性能量射線硬化性結合劑成分、該導電性粉體係氫氧化錫粉體與其他導電性粉體所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物中,氫氧化錫以外的其他的導電性粉體係用來增強所得之透明導電膜的導電性而添加者,只要為能夠達成目的者,上述其他導電性粉體的種類並無特別限定,能夠使用市售品等公知之物。例如能夠使用氧化錫、ATO、ITO、氧化鋅鋁、五氧化銻、銻氧化鋅等金屬氧化物。為了得到高導電性與透明性,最好為氧化錫、ATO、ITO。這些其他的導電性粉體最好與上述同樣為平均一次粒徑0.2 μm以下的超微粒子。
在本發明的透明導電膜形成用組成物中,導電性粉體係由氫氧化錫自身的粉體及含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻其中至少一種之氫氧化錫粉體所成之群所選出之氫氧化錫粉體(以下,僅記載為氫氧化錫粉體)與其他的導電性粉體所組成。該氫氧化錫粉體為全體導電性粉體的45至99質量%,最好佔有50至95質量%。當氫氧化錫粉體的比例少於45質量%時,即使所得之透明導電膜的導電性足夠,但有透明性降低之傾向。相反的,當氫氧化錫粉的比例多於99質量%時,即使所得之透明導電膜的透明性足夠,但無法獲得導電性的提升。
在本發明的透明導電膜形成用組成物中,導電性粉體與結合劑成分的質量比(導電性粉體/結合劑成分)最好在5/95至95/5的範圍內,在10/90至90/10的範圍內更好,在10/90至85/15的範圍內又更好。導電性粉體的量若使上述質量比少於5/95時,即使所得之膜的透明性足夠,導電性也有變差的傾向。相反的,導電性粉體的量若使上述質量比多於95/5時,粉體的分散性變差,所得之膜的透明性、與基板的密著性變低,有膜性能降低的傾向。
在由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及高折射率粉體所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物中,只要為能夠溶解於使用之溶媒、能夠使導電性粉體高折射率粉體分散、能夠結合導電性粉體及高折射率粉體而能夠形成透明導電膜之結合劑成分,一般可在塗料中使用之任意的結合劑成分皆能夠使用,並無特別限制。在本發明中,最好為活性能量射線硬化性結合劑成分。
結合劑成分例如可為酸醇樹脂、聚酯樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚樹脂、聚矽氧樹脂、氟樹脂、酞酸樹脂、胺基樹脂、聚醯胺樹脂、聚丙烯酸聚矽氧樹脂、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂或者將這些改質後之結合劑樹脂單獨1種使用或者2種以上併用。
上述結合劑成分中還可以依需要來含有交聯劑,例如能夠使用1分子中含有2個以上的胺基等鹼性官能基、羥基等中性官能基、羧基等酸性官能基、異氰酸酯基等反應性官能基之任意交聯劑。
此外,上述結合劑成分亦可為自由基聚合性單體,若為具有自由基聚合性的不飽和基(α,β-乙烯性不飽和基)之單體,則具有胺基等鹼性官能基者、具有羥基等中性官能基者、具有羧基等酸性官能基者、或者不具有上述官能基者等其中任一者皆可。
本發明的透明導電膜形成用組成物能使用之活性能量射線硬化性結合劑成分,能夠為例如丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯化合物。在以下的記載中,將該丙烯酸酯化合物與甲基丙烯酸酯化合物總稱為(甲基)丙烯酸酯化合物。
本發明的透明導電膜形成用組成物能使用之活性能量射線硬化性結合劑成分,除了上述的(甲基)丙烯酸酯化合物外,尚能夠為自由基聚合性單體及/或寡聚物。若為具有自由基聚合性的不飽和基(α,β-乙烯性不飽和基)之單體,則具有胺基等鹼性官能基者、具有羥基等中性官能基者、具有羧基等酸性官能基者、或者不具有上述官能基者其中之任一者皆可。
以下為自由基聚合性單體的具體例:苯乙烯、乙烯基甲苯、乙酸乙烯酯、乙烯吡咯啶酮、丙烯腈、烯丙醇等(甲基)丙烯酸酯以外的自由基聚合性單體;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、N-乙烯吡咯啶酮、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇聚丁二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等單官能(甲基)丙烯酸酯;乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚環氧乙烷改質雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等二官能(甲基)丙烯酸酯;三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、乙烯改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等三官能以上的(甲基)丙烯酸酯。
以下為自由基聚合性寡聚物的具體例:聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚胺酯(甲基)丙烯酸酯、環氧基(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、寡(甲基)丙烯酸酯、醇酸(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等至少含有1個(甲基)丙烯醯基之預聚合物。較佳的自由基聚合性寡聚物為聚酯、環氧基、聚胺酯的各(甲基)丙烯酸酯。
為了讓本發明的透明導電膜形成用組成物成為方便的活性能量射線硬化型,最好添加聚合起始劑(光增感劑)於組成物中。由於該添加,而能夠以少量的活性能量射線的照線來使組成物硬化。但是,由於本發明的透明導電膜形成用組成物亦能夠熱硬化,故當做為熱硬化型來使用時,亦可變更光增感劑配合適當的自由基聚合起始劑(例如,偶氮雙異丁睛)。
用來讓本發明的透明導電膜形成用組成物成為活性能量射線硬化型之聚合起始劑,可為例如1-羥基環己基苯基甲酮、二苯甲酮、苯甲基二甲基酮、安息香甲醚、安息香***、P-氯二苯甲酮、4-苯甲醯基-4-甲基二苯硫、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙酮-1。聚合起始劑可單獨1種使用、亦可2種以上併用。聚合起始劑的配合量相對於結合劑成分100質量份最好為0.1至20質量份,1至15質量份的範圍內更好。
在由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及透光性微粒子所組成之本發明的防眩性透明導電膜形成用組成物中,只要為能夠溶解於使用之溶劑、能夠使氫氧化錫粉體及透光性微粒子分散、能夠成膜之結合劑成分等一般在塗料中使用之任意的結合劑成分等皆能夠使用,並無特別限制。例如酸醇樹脂、聚酯樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚樹脂、聚矽氧樹脂、氟樹脂、酞酸樹脂、胺基樹脂、聚醯胺樹脂、聚丙烯酸聚矽氧樹脂、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、或者這些樹脂改質後之結合劑樹脂等,可單獨1種使用,亦能夠2種以上併用。
並且,上述結合劑成分中可以依需要來含有交聯劑,例如,能夠使用1分子中有2個以上的胺基等鹼性官能基、羥基等中性官能基、羧基等酸性官能基、異氰酸酯基等反應性官能基之任意交聯劑。
此外,上述結合劑成分亦可為自由基聚合性單體,若為具有自由基聚合性的不飽和基(α,β-乙烯性不飽和基)之單體,則具有胺基等鹼性官能基者、具有羥基等中性官能基者、具有羧基等酸性官能基者、具有異氰酸酯基等反應性官能基者、或者不具有上述官能基者,其中任一者皆可。
在使用活性能量射線硬化性結合劑之本發明的透明導電膜形成用組成物中,活性能量射線硬化性結合劑成分係指結合由氫氧化錫粉與其他的導電性粉體所組成之導電性粉體而可以形成透明導電膜之成分。活性能量射線硬化性結合劑成分係如前述說明。
並且,於本發明的透明導電膜形成用組成物,在不破壞其目的之範圍內,亦可配合上述以外的慣用的各種添加劑。如此的添加劑可為分散劑、分散助劑、聚合禁止劑、硬化觸媒、氧化防止劑、整平劑等。
在本發明的透明導電膜形成用組成物中,只要為能夠使上述結合劑成分溶解或分散,且能夠使導電性粉體、高折射率粉體、以及透光性微粒子等預期使用的成分分散,又不侵損基板之溶劑一般可在塗料中使用之任意的溶劑成分等皆能夠使用,並無特別限制。例如能夠使用己烷、庚烷、環己烷、甲苯、間二甲苯等碳氫化合物,四氯甲烷、三氯乙烯等鹵化碳氫化合物,丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮、異佛酮、環己酮等酮類,二乙基醚、二噁烷、四氫呋喃等醚類,乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異戊酯等酯類,甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、正戊醇、2-乙基己醇、環已醇、二丙酮醇、乙二醇、丙二醇、二乙二醇、甘油等醇類,乙二醇單乙基醚、乙二醇單丁基醚、乙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丙基醚、丙二醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯等醚/醇或醚/酯類,以及這些的混合系。這些溶劑的使用量,係調整為使導電性粉體、高折射率粉體、以及透光性微粒子等預期使用的成分分散而最後所得之組成物的黏性係為適合於塗佈或印刷者。本發明的透明導電膜形成用組成物的黏度最好在2至10000cps(E型黏度計:20℃)的範圍內。
本發明的透明導電膜形成用組成物,能夠以例如在依需要添加有機溶劑至上述結合劑成分而成之稀釋溶液中,使導電性粉體、高折射率粉體、以及透光性微粒子等預期使用的成分分散而製成。此外,亦能夠以使導電性粉體、高折射率粉體、以及透光性微粒子等預期使用的成分分散於有機溶劑,接著添加上述結合劑成分並使分散而製成。當然,亦能夠以將結合劑成分與導電性粉體、高折射率粉體、以及透光性微粒子等預期使用的成分與有機溶劑同時混合並使分散而製成。如此的分散操作係能夠以通常的方式利用塗料振盪器、球磨機、砂磨機、離心磨礦機、三輥研磨機等設備進行。當然,亦能夠以通常的攪拌操作使分散。
塗佈本發明的透明導電膜形成用組成物而形成本發明的透明導電膜或防眩性透明導電膜之基板,係能夠在電氣.電子機器等各種領域中被廣泛使用的各種合成樹脂、玻璃、陶瓷等,這些可為片狀、薄膜狀、板狀等任意形狀。以下為合成樹脂的具體例,但並非以此為限:聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚氯乙烯、聚酯樹脂、聚醯胺樹脂、及酚樹脂等。
塗佈或印刷本發明的透明導電膜形成用組成物到基板係以通常的方式,例如滾筒式塗佈、旋轉塗佈、網板印刷等手法來進行。接著,當結合劑成分不是活性能量射線硬化性結合劑成分時,則依照需要加熱使溶劑蒸發、使塗膜乾燥而使之硬化。上述結合劑成分即聚合而形成以樹脂結合氫氧化錫粉體及透光性微粒子之透明導電膜。這種情況下的透明導電膜的膜厚一般最好在0.5至10 μm的範圍內,2至8 μm的範圍內更好。此外,當結合劑成分是活性能量射線硬化性結合劑成分時,依照需要加熱使溶媒蒸發、使塗膜乾燥,接著照射活性能量射線(紫外線或電子射線)。活性能量射線來源能夠使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵素燈、氙氣燈、準分子雷射、染料雷射等的紫外線源與電子射線加速裝置。活性能量射線的照射量,當使用紫外線時係在50至3000mJ/cm2
的範圍內較適當,當使用電子射線時係在0.2至1000 μ C/cm2
的範圍內較適當。由於該活性能闉射線的照射,上述結合劑成分即聚合而形成以樹脂結合導電性粉體及透光性微粒子之透明導電膜。該透明導電膜的膜厚一般最好在0.1至10.0 μm的範圍內。
由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及高折射率粉體所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物於基板上所形成之本發明的透明導電膜,係為例如表面電阻值較好為107
至1012
Ω/□,107
至1011
Ω/□更好、光透過率最好為85%以上、模糊度最好為2.5%以下的透明性、導電性、耐擦傷性皆優異,且膜的折射率控制係為可能之透明導電膜。如此的透明導電膜係能做為電子照相記錄的塵埃防止膜或帶電防止膜等用途,例如,能夠用於顯示器的顯示面。
由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及透光性微粒子所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物於基板上所形成之本發明的防眩性透明導電膜,係為例如表面電阻值較好為107
至1012
Ω/□,107
至1011
Ω/□更好、光透過率最好為85%以上、模糊度較好為3至50%,8至40%更好的透明性、導電性、還有防眩性皆優異之防眩性透明導電膜。如此的防眩性透明導電膜係能做為電子照相記錄的塵埃防止膜或帶電防止膜等用途,例如,能夠用於顯示器的顯示面。
由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之導電性粉體所組成,該結合劑成分係活性能量射線硬化性結合劑成分,該導電性粉體係由氫氧化錫粉體及其他粉體所組成之本發明的透明導電膜形成用組成物於基板上所形成之本發明的透明導電膜,係為例如表面電阻值較好為106
至1011
Ω/□,106
至1010
Ω/□更好、光透過率最好為85%以上、模糊度最好為2.5%以下的透明性、導電性、耐擦傷性皆優異之透明導電膜。如此的透明導電膜係能做為電子照相記錄的塵埃防止膜或帶電防止膜等用途,例如,能夠用於顯示器的顯示面。
以下,利用實驗例具體地說明本發明。以下的實驗例中的「份」係全部指「質量份」。此外,實驗例1至14使用之氫氧化錫粉體係平均一次粒徑為0.05 μm的粒子、粉體電阻為1×107
Ω.cm,此外,含有磷做為摻雜劑之氫氧化錫粉體,係對錫+磷而言,磷的量為5.0at%、平均一次粒徑為0.05 μm的粒子。
將由三羥甲基丙烷三丙烯酸酯20份及聚酯丙烯酸酯10份所組成之結合劑成分,與氫氧化錫粉體25份、氧化鋯粉體45份、做為溶劑的異丁醇150份、以及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後加入3份做為光起始劑的2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,完全溶解後去除玻璃珠得到黏稠的液狀物。接著,使用滾筒式塗佈機將該黏稠的液狀物塗佈於膜厚100 μm的聚酯薄膜(東洋紡A4100)上,有機溶媒蒸發後以高壓水銀燈照射500mJ/cm2
的紫外線,製作厚度5 μm的透明硬化被膜。
將由三羥甲基丙烷三丙烯酸酯30份所組成之結合劑成分與含有磷做為摻雜劑之氫氧化錫粉體70份、做為溶劑的異丁醇150份、以及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後加入3份做為光起始劑的2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,完全溶解後,去除玻璃珠得到黏稠的液狀物(組成物A)。此外,除了使用氧化鈦粉體70份取代氫氧化錫粉體70份之外,其餘進行與組成物A的調製過程相同的處理,得到黏稠的液狀物(組成物B)。將所得之組成物A80份與組成物B20份充分混合來調製塗覆液。接著,進行與實驗1相同的處理,製作厚度5 μm的透明硬化被膜。
將由二季戊四醇六丙烯酸酯20部及聚酯丙烯酸酯10部所組成之結合劑成分,與氫氧化錫粉體70部、做為溶劑的異丁醇150部、以及玻璃珠250部一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後,加入3部做為光起始劑的2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,完全溶解後去除玻璃珠得到黏稠的液狀物。接著,使用滾筒式塗佈機將該黏稠的液狀物塗佈於膜厚100 μm的聚酯薄膜(東洋紡A4100)上,有機溶媒蒸發後以高壓水銀燈照射500mJ/cm2
的紫外線,製作厚度5 μm的透明硬化被膜。
針對實驗例1至3獲得之透明硬化膜,以東京電色技技術中心製TC-HIII DPK測定其全光線透過率(%)及模糊度(%)。測定值係為包含基材之值。此外,以三菱化學股份有限公司製的表面電阻儀Hiresta IP MCP-HT260來測定表面電阻值(Ω/□)。並且,以下記的基準目視評價耐擦傷性。並且,膜的折射率係使用棒塗機將實驗例1至3獲得之塗覆液塗佈於矽晶圓基板上,有機溶媒蒸發後以高壓水銀燈照射500mJ/cm2
的紫外線,製作厚度0.2 μm的透明硬化被膜,使用SCI公司製Filmtek3000測定其折射率。於第1表歸納顯示這些測定結果。第1表亦顯示導電性粉體及高折射率粉體的種類、組成、(導電性粉體+高折射率粉體)/結合劑成分。
<耐擦傷性評價基準>將以鋼絲絨(#1000)1000g荷重來回10次擦傷後之透明硬化被膜面的表面狀態以下記基準進行目視評價。
○:無傷痕△:稍微有點傷痕×:有傷痕
第1表中,P係指導電性粉體+高折射率粉體的相對量,B係指結合劑成分的相對量。
從第1表所顯示之資料可明白,當塗佈了含有氫氧化錫粉體及高折射率粉體之透明導電膜形成用組成物(實驗例1至2)時,能得到表面電阻值為107
至1011
Ω/□、光透過率為85%以上、模糊度為2.5%以下的透明性、導電性、耐擦傷性皆優異之透明導電膜,且透明膜的折射率控制係為可能。但當塗佈了未含有高折射率粉體之透明導電膜形成用組成物(實驗例3)時,耐擦傷性不足且透明膜的折射率不高。
將做為結合劑的丙烯酸樹脂溶液(DIANAL LR-90/固形物30%/三菱RAYON公司製)230份與氫氧化錫粉體30份、做為溶劑的異丙醇150份、以及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後去除玻璃珠得到黏稠的液狀物。另外,於該黏稠的液狀物添加於異丙醇中分散有透光性微粒子Sylophobic#200(無機填料/粒徑4.0 μm/富士Silysia公司製)之透光性微粒子分散液(NV.20%)50份。接著,使用滾筒式塗佈機將該黏稠的液狀物塗佈於膜厚75 μm的聚酯薄膜(東洋紡A4300/光透過率91%/模糊度0.7%)上,有機溶媒蒸發後以60℃乾燥10分鐘,製成厚度3 μm的防眩性透明導電膜。
除了添加於異丙醇中分散有有機填料MX-300(粒徑2.8 μm/綜研化學股份有限公司製)之透光性微粒子分散液(NV.10%)100份以取代於異丙醇中分散有透光性微粒子Sylophobic#200之透光性微粒子分散液(NV.20%)50份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度2.5 μm的防眩性透明導電膜。
除了將於異丙醇中分散有透光性微粒子Sylophobic#200之透光性微粒子分散液(NV.20%)的添加量從50份變更為100份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度3 μm的防眩性透明導電膜。
除了添加含有磷做為摻雜劑之氫氧化錫粉體30份添加取代氫氧化錫粉體30份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度3 μm的防眩性透明導電膜。
將氫氧化錫粉體30份、做為溶劑的乙酸丁酯200份、以及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後去除玻璃珠,利用分散器將該分散液與做為結合劑的丙烯酸樹脂(DIANAL HR-633/固形物50%/三菱RAYON公司製商品名)70份及三聚氰胺樹脂(U-VAN225/固形物60%/三井化學公司製商品名)58份充分攪拌混合得到黏稠的液狀物。另外,於該黏稠的液狀物添加於異丙醇中分散有透光性微粒子上述Sylophobic#200之透光性微粒子分散液(NV.20%)50份。接著,使用滾筒式塗佈機將該黏稠的液狀物塗佈於膜厚75 μm的聚酯薄膜(東洋紡A4300/光透過率91%/模糊度0.7%)上,有機溶媒蒸發後以120℃乾燥15分鐘,製成厚度3 μm的防眩性透明導電膜。
除了將做為結合劑的丙烯酸樹脂溶液(DIANAL LR-90/固形物30%/三菱RAYON公司製商品名)的量從230份變更為100份、氫氧化錫粉體的量從30份變更為70份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度5 μm的防眩性透明導電膜。
除了使用ITO粉體30份取代氫氧化錫粉體30份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度5μm的防眩性透明導電膜。
除了使用氧化錫粉體30份取代氫氧化錫粉體30份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度5μm的防眩性透明導電膜。
除了不添加透光性微粒子分散液之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度3μm的防眩性透明導電膜。
除了透光性微粒子分散液(NV.20%)的添加量從50份變更為600份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度3μm的防眩性透明導電膜。
除了透光性微粒子分散液(NV.20%)的添加量從50份變更為0.25份之外,其餘進行與實驗例4相同的處理,製成厚度3μm的防眩性透明導電膜。
針對實驗例4至14獲得之防眩性透明導電膜,將其全光線透過率、模糊度、以及表面電阻值進行與實驗例1同樣的測定。於第2表歸納顯示這些測定結果。
第2表中,P係指導電性粉體(氫氧化錫粉體等),B係指結合劑成分,X係指導電性粉體與結合劑成分的合計質量,Y係指透光性微粒子的質量。
從第2表所顯示之資料可明白,當塗佈了含有氫氧化錫粉體及透光性微粒子之防眩性透明導電膜形成用組成物(實驗例4至9)時,能得到表面電阻值為107
至1012
Ω/□、光透過率為85%以上、模糊度為3%至50%的透明性、導電性、還有防眩性皆優異之防眩性透明導電膜,為充份滿足平面顯示器用光學薄膜的機能者。當塗佈了含有ITO粉體或氧化錫粉體之防眩性透明導電膜形成用組成物(實驗例10至11)時,光透過率係不滿85%。此外,當透光性微粒子的添加量不在適當範圍時(實驗例12至14)則無法獲得期望的防眩功能。
以下的實驗例15至21使用之氫氧化錫粉體係平均一次粒徑為0.04 μm的粒子、粉體電阻為1×107
Ω.cm,含有磷做為摻雜劑之氫氧化錫粉體相對於錫+磷之磷的量為5.0at%、平均一次粒徑為0.04 μm的粒子,氧化錫係平均一次粒徑為0.04 μm的粒子,ATO係平均一次粒徑為0.02 μm的粒子,ITO係平均一次粒徑為0.04 μm的粒子。
將由三羥甲基丙烷三丙烯酸酯10份及聚酯丙烯酸酯5份所組成之結合劑成分,與做為導電性粉體的氫氧化錫粉體65份及氧化錫粉體20份、做為溶劑的乙醇150份及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後加入3份做為光起始劑的2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,完全溶解後去除玻璃珠得到黏稠的液狀物。接著,使用滾筒式塗佈機將該黏稠的液狀物塗佈於膜厚100 μm的聚酯薄膜(東洋紡A4100)上,有機溶媒蒸發後以高壓水銀燈照射500mJ/cm2
的紫外線,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
將做為結合劑成分的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯25份及聚胺酯丙烯酸酯5份與做為導電性粉體的含有磷做為摻雜劑之氫氧化錫粉體70份、做為溶劑的異丁醇150份、以及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後加入3份做為光起始劑的2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,完全溶解後去除玻璃珠得到黏稠的液狀物(透明導電膜形成用組成物A)。此外,除了使用ATO粉體70份取代含有做為摻雜劑的磷之氫氧化錫粉體70份之外,其餘進行與透明導電膜形成用組成物A的調製過程相同的處理,得到黏稠的液狀物(透明導電膜形成用組成物B)。將所得之透明導電膜形成用組成物A 65份與透明導電膜形成用組成物B 5份充分混合調製成塗覆液。接著,進行與實驗例15相同的處理,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
除了使用做為結合劑成分的二季戊四醇六丙烯酸酯60份、做為導電性粉體的氫氧化錫粉體30份、氧化錫粉體5份及ITO粉體5份、做為溶劑的異丙醇120份及甲基乙基酮30份之外,其餘進行與實驗例15相同的處理,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
除了使用做為結合劑成分的二季戊四醇六丙烯酸酯75份及聚酯丙烯酸酯15份、做為導電性粉體的氫氧化錫粉體5份及氧化錫粉體5份、做為溶劑的二丙酮醇150份之外,其餘進行與實驗例15相同的處理,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
將做為結合劑的丙烯酸樹脂溶液(DIANAL LR-90/固形物30%/三菱RAYON公司製)30份與做為導電性粉末的ITO粉體70份、做為溶劑的二丙酮醇150份及玻璃珠250份一起放入容器,以塗料振盪器一邊利用粒徑測量儀確認分散狀態同時進行5小時攪拌混合。攪拌混合後去除玻璃珠得到黏稠的液狀物。接著,使用滾筒式塗佈機將該黏稠的液狀物塗佈於膜厚100 μm的聚酯薄膜(東洋紡A4100)上,有機溶媒蒸發後以60℃乾燥10分鐘,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
除了使用氫氧化錫粉體30份及氧化錫粉體40份做為導電性粉末之外,其餘進行與實驗例15相同的處理,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
除了使用氧化錫粉體2份及ATO粉體8份做為導電性粉末之外,其餘進行與實驗例15相同的處理,製成厚度5 μm的透明硬化被膜。
針對實驗例15至21獲得之透明硬化被膜,將其全光線透過率、模糊度、表面電阻值及耐擦傷性進行與實驗例1同樣的測定並評價。於第3表歸納顯示這些測定結果。第3表亦顯示導電性粉體的組成、氫氧化錫粉體比例(質量%)及P/B。
第3表中,P係指導電性粉體,B係指結合劑成分。
從第3表所顯示之資料可明白,當塗佈了其導電性粉體係由氫氧化錫粉體及其他導電性粉體所組成之透明導電膜形成用組成物(實驗例15至18)時,能得到表面電阻值為106
至1010
Ω/□、光透過率為85%以上、模糊度為2.5%以下的透明性、導電性、耐擦傷性皆優異之透明導電膜。但當塗佈了其ITO粉體或氫氧化錫粉體係為全部導電性粉體的45至99質量%的範圍外之透明導電膜形成用組成物(實驗例19至21)時,光透過率係不滿85%。當塗佈了未含有活性能量射線硬化性結合劑成分之透明導電膜形成用組成物(實驗例19)時,耐擦傷性低。
第1圖係顯示各種導電性粉體的波長與光透過率的相關關係之圖。
無元件符號
Claims (63)
- 一種透明導電膜形成用組成物,其特徵為:由結合劑成分及分散於該結合劑成分中以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體及高折射率粉體所組成。
- 如申請專利範圍第1項之透明導電膜形成用組成物,其中,氫氧化錫粉體係含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種之氫氧化錫粉體。
- 如申請專利範圍第2項之透明導電膜形成用組成物,其中,磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種的摻雜劑的量相對於(摻雜劑+錫)係0.1至20 at%者。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項之透明導電膜形成用組成物,其中,高折射率粉體係從氧化鋯、氧化鈦、及氧化鈰所成之群選出之至少一種者。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項之透明導電膜形成用組成物,其中,以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體/高折射率粉體的質量比係在30/70至90/10的範圍內者。
- 如申請專利範圍第4項之透明導電膜形成用組成物,其中,以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體/高折射率粉體的質量比係在30/70至90/10的範圍內者。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項之透明導電膜形成用組成物,其中,(以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體+高折射率粉體)/結合劑成分的質量比係在5/95至95/5的範圍內者。
- 如申請專利範圍第4項之透明導電膜形成用組成物,其中,(以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體+高折射率粉體)/ 結合劑成分的質量比係在5/95至95/5的範圍內者。
- 如申請專利範圍第5項之透明導電膜形成用組成物,其中,(以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體+高折射率粉體)/結合劑成分的質量比係在5/95至95/5的範圍內者。
- 如申請專利範圍第6項之透明導電膜形成用組成物,其中,(以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體+高折射率粉體)/結合劑成分的質量比係在5/95至95/5的範圍內者。
- 一種防眩性透明導電膜形成用組成物,其特徵為:由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之氫氧化錫粉體及透光性微粒子所組成,當以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體與結合劑成分的合計質量為X、透光性微粒子的質量為Y時,X/Y的質量比係在99.9/0.1至50/50的範圍內。
- 如申請專利範圍第11項之防眩性透明導電膜形成用組成物,其中,氫氧化錫粉體/結合劑成分的質量比係在5/95至95/5的範圍內者。
- 如申請專利範圍第11或12項之防眩性透明導電膜形成用組成物,其中,透光性微粒子係從無機填料及樹脂填料所成之群選出之至少一種者。
- 如申請專利範圍第11或12項之防眩性透明導電膜形成用組成物,其中,氫氧化錫粉體係含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種之氫氧化錫粉體。
- 如申請專利範圍第13項之防眩性透明導電膜形成用組成物,其中,氫氧化錫粉體係含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種之氫氧化錫粉體。
- 如申請專利範圍第14項之防眩性透明導電膜形成用組 成物,其中,磷、鋁、銦、鋅及銻其中之至少一種摻雜劑的量相對於(摻雜劑+錫)係0.1至20 at%者。
- 如申請專利範圍第15項之防眩性透明導電膜形成用組成物,其中,磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種摻雜劑的量相對於(摻雜劑+錫)係0.1至20 at%者。
- 一種透明導電膜形成用組成物,其特徵為:由結合劑成分及分散於該結合劑成分中之導電性粉體所組成,該結合劑成分係活性能量射線硬化性結合劑成分,該導電性粉體係由以Sn(OH)4 表示之氫氧化錫粉體與其他導電性粉體所組成,該氫氧化錫粉體係佔全部導電性粉體的45至99質量%。
- 如申請專利範圍第18項之透明導電膜形成用組成物,其中,氫氧化錫粉體係含有做為摻雜劑的磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種之氫氧化錫粉體。
- 如申請專利範圍第19項之透明導電膜形成用組成物,其中,磷、鋁、銦、鋅及銻中之至少一種摻雜劑的量相對於(摻雜劑+錫)係0.1至20 at%者。
- 如申請專利範圍第18至20項中任一項之透明導電膜形成用組成物,其中,其他導電性粉體係從氧化錫、氧化銦錫及氧化銻錫所成之群選出之至少一種者。
- 如申請專利範圍第18至20項中任一項之透明導電膜形成用組成物,其中,導電性粉體/結合劑成分的質量比係在5/95至95/5的範圍內者。
- 如申請專利範圍第21項之透明導電膜形成用組成物,其中,導電性粉體/結合劑成分的質量比係在5/95至 95/5的範圍內者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第1至3、6、8、9或10項中任一項之透明導電膜形成用組成物並使其硬化而得者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第4項之透明導電膜形成用組成物並使其硬化而得者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第5項之透明導電膜形成用組成物並使其硬化而得者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第7項之透明導電膜形成用組成物並使其硬化而得者。
- 如申請專利範圍第24項之透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1011 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為2.5%以下者。
- 如申請專利範圍第25項之透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1011 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度(haze)為2.5%以下者。
- 如申請專利範圍第26項之透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1011 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為2.5%以下者。
- 如申請專利範圍第27項之透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1011 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為2.5%以下者。
- 一種防眩性透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第11、12、15至17項之防眩性透明導電膜形成用組成物並使其乾燥而得者。
- 一種防眩性透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第13項之防眩性透明導電膜形成用組成物並使其乾燥而得者。
- 一種防眩性透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第14項之防眩性透明導電膜形成用組成物並使其乾燥而得者。
- 如申請專利範圍第32項之防眩性透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1012 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為3%至50%者。
- 如申請專利範圍第33項之防眩性透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1012 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為3%至50%者。
- 如申請專利範圍第34項之防眩性透明導電膜,其中,表面電阻值為107 至1012 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為3%至50%者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第18至20、23項之透明導電膜形成用組成物且照射活性能量射線,並使其硬化而得者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第21項之透明導電膜形成用組成物且照射活性能量射線、並使其硬化而得者。
- 一種透明導電膜,其係塗佈或印刷申請專利範圍第22項之透明導電膜形成用組成物且照射活性能量射線、並使其硬化而得者。
- 如申請專利範圍第38項之透明導電膜,其中,表面電 阻值為106 至1010 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為2.5%以下者。
- 如申請專利範圍第39項之透明導電膜,其中,表面電阻值為106 至1010 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為2.5%以下者。
- 如申請專利範圍第40項之透明導電膜,其中,表面電阻值為106 至1010 Ω/□,光透過率為85%以上,模糊度為2.5%以下者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第24項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第25項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第26項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第27項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第28項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第29項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第30項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第31項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第 32項之防眩性透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第33項之防眩性透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第34項之防眩性透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第35項之防眩性透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第36項之防眩性透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第37項之防眩性透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第38項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第39項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第40項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第41項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第42項之透明導電膜者。
- 一種顯示器,其特徵為:於顯示面具有申請專利範圍第43項之透明導電膜者。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006161587A JP4373997B2 (ja) | 2006-06-09 | 2006-06-09 | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ |
JP2006161586A JP4373996B2 (ja) | 2006-06-09 | 2006-06-09 | 導電性防眩膜形成用組成物、導電性防眩膜及びディスプレイ |
JP2006161588A JP4373998B2 (ja) | 2006-06-09 | 2006-06-09 | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200808926A TW200808926A (en) | 2008-02-16 |
TWI421316B true TWI421316B (zh) | 2014-01-01 |
Family
ID=38801519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096120474A TWI421316B (zh) | 2006-06-09 | 2007-06-07 | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及顯示器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100232024A1 (zh) |
EP (1) | EP2031030A4 (zh) |
KR (1) | KR101000436B1 (zh) |
TW (1) | TWI421316B (zh) |
WO (1) | WO2007142272A1 (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5060781B2 (ja) * | 2006-12-26 | 2012-10-31 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ |
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- 2007-06-06 US US12/304,005 patent/US20100232024A1/en not_active Abandoned
- 2007-06-06 KR KR1020087031519A patent/KR101000436B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-06-06 WO PCT/JP2007/061474 patent/WO2007142272A1/ja active Application Filing
- 2007-06-06 EP EP07744817A patent/EP2031030A4/en not_active Withdrawn
- 2007-06-07 TW TW096120474A patent/TWI421316B/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP2031030A4 (en) | 2012-06-06 |
KR20090021189A (ko) | 2009-02-27 |
WO2007142272A1 (ja) | 2007-12-13 |
US20100232024A1 (en) | 2010-09-16 |
TW200808926A (en) | 2008-02-16 |
EP2031030A1 (en) | 2009-03-04 |
KR101000436B1 (ko) | 2010-12-13 |
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---|---|---|---|
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