TWI242545B - Production and use of octafluoropropane - Google Patents

Production and use of octafluoropropane Download PDF

Info

Publication number
TWI242545B
TWI242545B TW090121209A TW90121209A TWI242545B TW I242545 B TWI242545 B TW I242545B TW 090121209 A TW090121209 A TW 090121209A TW 90121209 A TW90121209 A TW 90121209A TW I242545 B TWI242545 B TW I242545B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
gas
propane
heptafluoropropane
scope
patent application
Prior art date
Application number
TW090121209A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromoto Ohno
Toshio Ohi
Original Assignee
Showa Denko Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko Kk filed Critical Showa Denko Kk
Application granted granted Critical
Publication of TWI242545B publication Critical patent/TWI242545B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C19/00Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
    • C07C19/08Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/07Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides
    • C07C17/087Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides to unsaturated halogenated hydrocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/10Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/20Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
    • C07C17/202Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
    • C07C17/206Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/20Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
    • C07C17/21Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms with simultaneous increase of the number of halogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/38Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/38Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C17/383Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by distillation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

1242545 A7 _ __________ 五、發明説明(1) 技術領域 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關八氟化丙烷之製造方法,八氟化丙烷產 品及其用途。 先行技術 八氟化丙烷係用作例如半導體裝置製程中之乾式鈾刻 氣體,洗淨氣體等。其製造方法已知有, (1 )將六氟丙烯以氟氣直接氟化反應之方法(日本 專利特公昭6 2 — 6 1 5 7 2號公報) (2 )六氟丙烯於氟化氫中電解氟化之方法(特公昭 6 2 — 6 1 1 1 5號公報) (3 )六氟丙烯與氟於觸媒存在下反應之方法(特公 平1 一 45455號公報) (4 )以六氟丙烯與高級金屬氟化物反應之方法(特 公昭62—54777號公報) 等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 然而,這些方法中,四氟甲烷(CF4),六氟乙烷( C 2 F 6 )等副產物之經裂解產生,經自由基加成產生 C 6 F i 2,c 6 F i 4等,或環化加成產生四員環等,均使 目標八氟化丙烷之收率及選擇率下降。而且這些雜質中, 有難以藉蒸餾分離之化合物,隨之有難以製得高純度八氟 化丙烷之問題。尤以用六氟丙烯爲起始原料時,所含雜質 氯五氟乙烷(CFC - 1 1 5 )幾乎不與氟氣反應,混在 目標之八氟化丙烷中,因沸點接近難藉蒸餾分離,難以製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -4- 1242545 A7 B7 五、發明説明(2) 取高純度八氟化丙烷。 發明所欲解決之課題 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明即在此一背景下完成,係以提供用於半導體裝 置之製程的八氟化丙院之製造方法,高純度八氟化丙烷及 其用途爲本發明之課題。 用以解決課題之手段 本發明人等’對上述課題之解決精心探討,結果發現 若用包括(1 )於氟化觸媒存在下,以六氟丙烯與氟化氫 於氣相1 5 0至4 5 0 °C反應,得2H -七氟丙烷之步驟 ’及(2)無觸媒下使步驟(1 )所得之2H -七氟丙烷 於氣相2 5 0至5 0 0 °C反應得八氟化丙烷之步驟之製造 方法’即可製得筒純度八氟^化丙院,而完成本發明。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 亦即,本發明(I )係其特徵爲··包括(1 )於氟化 觸媒存在下,以六氟丙烯與氟化氫於氣相1 5 0至4 5 0 t反應,得2H -七氟丙烷之步驟,及(2 )無觸媒下使 步驟(1 )所得之2H -七氟丙烷於氣相2 5 0至5 0 0 °C反應得八氟化丙烷之步驟的製造方法,本發明(I )中 ,六氟丙烯係以含至少1種選自二氯二氟曱烷,氯二氟甲 烷,氯五氟乙烷,氯四氟乙烷及氯三氟乙烯所成群之化合 物,步驟(1 )中,氟化觸媒係以鉻氧化物爲主要成分, 添加選自銦,鋅及鎳所成群之至少1種之块狀觸媒,而氟 化氫/六氟丙烯之莫耳比在0·8至3之範圍爲較佳實施 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1242545 A7 B7 五、發明説明(3) 形態。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又’本發明(I )係以步驟(2 )之前,包含去除2 Η -七氟丙院所含雜質之步驟,該雜質係至少1種選自四 氟甲烷,三氟甲烷,氯三氟甲烷,六氟乙烷及五氟乙烷所 成群之化合物’該雜質去除步驟係蒸餾步驟,且2 η -七 氟丙烷中所含氯化合物在〇.〇1體積%以下爲較佳實施 形態。 又,本發明(I )係以步驟(2 )是於稀釋氣體存在 下進行,該稀釋氣體係選自氟化氫,四氟甲烷,六氟乙院 及八氟化丙烷所成群之至少1種,步驟(2 )中,氟氣/ 2Η-七氟丙烷之莫耳比在〇·9至1.5之範圍,反應 器入口 2 Η -七氟丙烷濃度在8莫耳%以下爲較佳實施形 態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且,本發明(〗)係以包含將步驟(2 )之出口氣 體的至少一部份循環再使用作步驟(2 )之稀釋氣體,及 使步驟(2 )之出口氣體的至少一部份與氫氟碳類反應, 以去除出口氣體中所含未反應氟氣之步驟,該氫氟碳類係 至少1種選自三氟甲烷,四氟乙烷,五氟乙烷,2Η 一七 氟丙烷所成群之化合物,將含於步驟(2 )之出口氣體的 氟化氫分離,將分離出之氟化氫送返步驟(1 )及/或步 驟(2),從已分離出氟化氫之氣體分離出至少一部份之 八氟化丙烷,其餘氣體送返步驟(1 )及/或步驟(2) 爲較佳實施形態。 本發明(I I )係,其特徵爲:純度9 9 . 9 9 5體 本^張尺度適用中國國家標準(〇呢)八4規格(210乂297公釐) -6 - 1242545 Α7 Β7 五、發明説明(4) 積%以上之八氟化丙烷產品,係以分子內含氯原子之化合 物及运狀化合物總星在5 0體積p p m以下爲較佳實施形 肯皂〇 又,本發明(I I I )係其特徵爲:含上述八氟化丙 烷產品之蝕刻氣體,而本發明(I V )係其特徵爲:含上 述氟化丙烷產品之洗淨氣體。 發明之實施形態 以下詳細說明本發明。 本發明(I )所用之六氟丙烯(C F 3 C F二C F 2 ) ,係例如以氯二氟甲烷(C H C 1 F 2 )之熱裂解製造四氟 乙烯(C F 2二C F 2 )之製程中的副產物,或如特開平4 - 1 4 5 0 3 3號公報所記載,以丙烷,丙烯或部份鹵化 之C 3非環狀烴類之氯氟化脫鹵化方法等製得。然而,這 些方法所得之六氟丙烯,大多混有二氯二氟甲院,氯二氟 甲烷,氯五氟乙烷,氯四氟乙烷,氯三氟乙烯等分子內含 氯原子之化合物之雜質。本發明係在提供,即使含這些雜 質之六氟丙烯亦可用作起始原料的八氟化丙烷之製造方法 ,在此,將中間體2 Η -七氟丙烷,目標產物八氟化丙烷 及各雜質之沸點示於表1。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) r— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1242545 Α7 Β7 五、發明説明(5) 表1 化合物名稱 結構式 沸點 氯二氟甲烷 CHC1F2 -4 1 °C 氯五氟乙烷 CF3CCIF2 ~ 3 9 . 3 °C 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 - 3 6 · 7 t: 二氯二氟甲院 CCI2F2 -2 9 . 2 °C 六氟丙烯 CF3CF = CF2 -2 9 °C 氯三氟乙烯 cf2=ccif -2 7 . 9 °C 2 Η -七氟丙烷 CF.3 CHFCF3 -1 5 . 2 °C 氯四氟乙烷 CF3CHCIF -1 2 t: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如由表1所示之沸點可知,起始原料六氟丙烯中所含 ,分子內有氯原子之化合物,其沸點接近八氟化丙院之沸 點,難以僅藉蒸餾分離。 爲此,本發明(I )八氟化丙烷之製造方法,係先進 行於氟化觸媒存在下,以六氟丙烯與氟化氫於氣相1 5 〇 至4 5 0 °C反應,製得2 Η -七氟丙烷之步驟(i )。步 驟(1 )有以下二個要點。即, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 〔1〕 使六氟丙烯以氟氣直接氟化反應時,或於觸媒, 高級金屬氟化物等之存在下,與氟氣直接氟化反應時,經 碳-碳鍵之斷裂反應,自由基加成反應,環化加成反應等 產生種種副產物。因此,不僅收率,選擇率低,高純度八 氟化丙烷之取得也困難。本發明則係在觸媒存在下,於六 氟丙烯以氟化氫加成,可得收率,選擇率佳之中間體2 Η -七氟丙烷,可藉其反應抑制副產物之產生。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -8- 1242545 A7 B7 五、發明説明(6) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〔2〕 如上述’六氮丙烯大多含分子內有氯原子之化合 物雑貝,迫些化合物難以藉蒸餾分離。本發明係以氟化氫 加成於/、氟丙烯,得中間體2 H 一七氟丙烷的反應之同時 ’以氯化氨將分子內含氯原子之化合物氟化,可轉化爲易 於蒸餾分離之化合物。 於六氯丙烯以氟化氫加成之反應,係於氟化觸媒之存 在下,依下式(1 )進行。 CF3CF = CF2 + HF->CF3CHFCF3 (1) 氟化觸媒可用通常使用之鉻系觸媒。六氟丙烯含氯系 雜質’將該氯系雜質氟化成其它化合物時,因反應溫度較 高,活性(性能),安定性(壽命)優之觸媒,係以主要 成分爲鉻之氧化物,添加銦,鋅及鎳之至少1種的块狀觸 媒爲佳。載持型觸媒(例如氧化鋁載體)亦可,唯基於活 性,安定性仍以块狀觸媒爲佳。這些觸媒用於反應以前, 可藉氟化氫作氟化處理進行活化,再使用於反應。 步驟(1 )中,雖隨六氟丙烯中雜質之種類,含量而 異,反應溫度係在1 5 0至4 5 CTC之範圍,以2 0 0至 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 50 °C爲較佳。六氟丙烯中含雜質CFC - 1 1 5時, 反應溫度宜在3 5〇至4 5〇°C之範圍,以3 5 ◦至 4 0 0 /C爲較佳。反應溫度在4 5 0 °C以上時,觸媒安定 性趨於下降而不佳。若在1 5 0 °C以下則目標反應之轉化 率低,雜質化合物之氟化反應慢,亦不佳。 又,氟化氫與六氟丙烯(F C - 1 2 1 6)之莫耳比 (HF/FC — 1216)以在 〇 . 8 至 3 . 0 爲佳, 本紙張尺度適用中國國家標準㈤奶:^料見格⑺^撕公瘦) -9 - 1242545 A7 B7 五、發明説明(7) 1 . 0至2 _ 0爲更佳。氟化氫與六氟丙烯之莫耳比在 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇· 8以下時,六氟丙烯之轉化率低,在3 . 0以上時有 未反應H F之回收設備等成本需求而不佳。 如上述,原料六氟丙烯中可含雜質,分子內有氯原子 之化合物,這些雜質通常難以藉蒸餾分離。分子內含氯原 子之化合物有氯二氟甲烷,氯五氟乙烷,二氯二氟甲烷, 氯三氟乙烯,氯四氟乙烷等。本發明(I )係於氟化觸媒 存在下,以主要反應六氟丙烯與氟化氫反應得2 Η -七氟 丙烷之步驟,將這些含氯化合物轉換爲易於蒸餾分離之其 它含氟化合物。 例如’可經下式(2 )至(5 )之反應,將氯化合物 轉化爲其它含氟化合物。 CHC1 F2 + HF-> C Η F a + Η C 1 (2) CF2=CC 1 F+HF^CFaCHC 1 F ( 3 ) CF3CHC 1 F+HF~^CF3CHF2 + HC 1 (4) CF3CC 1 F2 + HF->CF3CF3 + HC 1 (5) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 迫些經赢化之化合物及中間體2 H -七氟丙院之沸點 示於表2。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -10- 1242545 Α7 Β7 五、發明説明(8) 表2 化 入 σ 物 名 稱 結構式 沸點 四 氟 甲 院 CF4 -1 2 8 °C 三 氟 甲 烷 CHF3 -8 4 _ 4 °C 氯 三 氟 甲 焼 CC1F3 一 8 1 • 4 °c Γ . /、 氟 乙 烷 CF3CF3 一 7 8 1 °c 五 氟 乙 院 CFsCHFi -4 8 • 5 °c 2 Η — 七 氟丙烷 CF3CHFCF3 -1 5 _ 2 °c (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如由表2可知,中間體2 Η -七氟丙烷與經上述反應 氟化之化合物其沸點之差大幅加大,可輕易以蒸餾分離。 其次,得自步驟(1),主要成分爲2Η -七氟丙烷 之氣體’係導入將氟化氫及未反應之氟化氫分離之脫酸步 驟。氟化氫及氟化氫再以蒸餾分離,以鹼水溶液作氯化氫 之中和處理。又,氟化氫可送回六氟丙烯之氟化步驟,亦 可用鹼水溶液作中和處理。於脫酸步驟分離氯化氫及氟化 氫後,以2 Η -七氟丙烷爲主要成分之氣體接著進行步驟 (2),但以之前先導入蒸餾塔,去除2Η-七氟丙烷中 所含雜質爲佳。 含於2 Η -七氟丙烷之雜質,有四氟甲烷,三氟曱烷 ,氯三氟甲烷,六氟丙烯,五氟乙烷等,這些雜質係以藉 蒸I留去除爲佳。於熬餾塔,有低沸分四氟甲院,三氟甲院 ,氯三氟甲烷,六氟乙烷,五氟乙烷由塔頂取出,2Η-七氟丙烷由塔底取出。以2 Η -七氟丙烷爲主要成分之氣 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公餐) -11 - 1242545 A7 B7 五、發明説明(9) 體可用作以氟氣直接氟化反應之原料,但無論脫酸步驟是 否蒸餾,2 Η -七氟丙烷中所含之氯化合物雜質之在 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 0 · 01體積%以下爲佳,0 . 005體積%以下爲更佳 0 其次說明步驟(2 )。 步驟(2 )係將得自上述步驟(1 )之氟化步驟的 2 Η -七氟丙烷與氟氣在無觸媒下,於氣相反應溫度 2 5 0至5 0 0°C反應,得八氟化丙烷之直接氟化反應步 驟,有以下三要點。即,〔1〕以氫氟碳化物與氟氣反應 製造全氟碳化物時,伴隨有非常大之反應熱。反應熱與每 分子所反應之氟的莫耳數成正比,氟量愈多反應熱愈大, 易起碳-碳鍵之斷裂,聚合,環化加成,甚至有時會*** ,收率降低而成爲工業製造,操作上之問題。因此,抑制 直接氟化法中激烈產生反應熱之方法,有以其它惰性氣體 (例如氮,氯等)將氟稀釋之方法,及利用基質有機物稀 釋之方法。氮,氦等惰性氣體,從以蒸餾與目標物全氟碳 化物分離’純化等及成本考量,並非有利方法,本發明( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 )因用選自氟化氫,四氟甲院,六氟乙院,八氟化丙院 之至少1種作爲稀釋氣體,可以解決上述問題。 〔2〕 本發明(I )係將反應基質2H -七氟丙烷之反 應器入口濃度以稀釋氣體調爲***範圍以下進行反應,具 體言之係在8莫耳%以下進行反應。如上述使用氟氣之直 接氟化反應,因用反應性極高之氟氣,基質有機化合物( 尤以含氫之化合物)有因氟氣更具燃燒或***之危險性。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12- 1242545 A7 ____B7 五、發明説明( (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 步驟(2 )中因用含氫原子之2 Η -七氟丙烷作爲基質, 防止2 Η -七氟丙烷與氟氣之***成爲要點。爲防***, 混合氣體組成須在***範圍外,本發明人等對2 η -七氟 丙烷及氟氣之***範圍加以探討得知,2 Η -七氟丙烷之 ***範圍下限値係在8莫耳%以下,可將2 Η -七氟丙烷 之反應器入口濃度設定於安全範圍內。 〔3〕 以2Η -七氟丙烷與氟氣反應之直接氟化反應, 雖相對於氟氣使用過量之2 Η -七氟丙烷,而不需去除氟 氣之步驟,然而卻爲其後之分離純化帶來極大困難。本發 明(I )之步驟(2 ),爲提高反應效率可相對於2 Η -七氟丙烷使用過量莫耳之氟氣,使用過量莫耳之氟氣時, 由反應步驟流出之反應產物氣體主要含全氟碳化物,及氟 化氫以外的過量氟氣。剩餘氟氣之處理方法,已知有以氧 化鋁,鹼石灰等無機氧化物反應之方法,該方法因反應中 產生水,成爲裝置材料之腐蝕等之原因而不佳。本發明( I )係,對於過量之氟氣,以化學當量比1 . 1倍莫耳之 氫氟碳化物接觸,即可去除過剩之氟氣。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 Η -七氟丙烷與氟氣反應之直接氟化反應,係依下 式(6 )進行。 CF3CHFCF3+F2— CF3CF2CF3 + HF (6) 該反應可用觸媒,但無觸媒亦可進行。又,如上述, 氫氟碳化物與氟氣反應之直接氟化反應其反應熱大,而以 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -13- 1242545 A7 B7 五、發明説明(1) 在稀釋氣體存在下進行反應爲佳。稀釋氣體可用選自氟化 氫,四氟甲院,六氟乙烷,八氟化丙烷之至少1種,以氟 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 化氫及/或八氟化丙烷爲較佳,以用富含氟化氫之氣體爲 更佳。 稀釋氣體之導入方法,係在將2 Η -七氟丙烷及氟氣 導入反應器以前,其任一或二者先以稀釋氣體稀釋後導入 反應器。基質2 Η -七氟丙烷之反應器入口濃度以在*** 範圍以下之8莫耳%以下爲佳,6 %以下爲更佳。氟氣的 反應器入口濃度,係以氟氣/2 Η -七氟丙烷莫耳比在 〇 _ 9至1 · 5之範圍的濃度爲佳,〇 . 9至1 . 2之範 圍爲更佳。氟氣/2 Η -七氟丙烷莫耳比在〇 · 9以下時 之氟氣濃度,因2Η-七氟丙烷之轉化率低,而1.5以 上時須負擔未反應氟氣之去除成本,故均不佳。又,氟氣 /2Η-七氟丙烷之莫耳比在1·5以上時,將步驟(2 )之出口氣體循環再使用作步驟(2 )之稀釋氣體時,循 環氣體(稀釋氣體)中氟濃度變高,會有***等問題而不 佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以稀釋氣體稀釋成爲***範圍以下之濃度的2 Η -七 氟丙烷及氟氣可於氣相反應。反應溫度可在2 5 0至 50CTC,以35〇至45CTC爲佳。反應溫度在25〇 °C以下時反應慢,在5 0 0 °C以上時目標物八氟化丙烷之 碳-碳鍵有斷裂之傾向而不佳。 該步驟(2 )之出口氣體主要係氟化氫,八氟丙烷, 本發明(I )可將該出口氣體之至少一部份循環,再使用 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公釐) -14- 1242545 A7 __B7 五、發明説明(Θ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 作爲步驟(2 )之稀釋氣體。而出口氣體中,因有時含未 反應之氟氣,檢測未反應氟氣濃度之方法,可用將出口氣 體一部份連續導入連續流動之含金屬碘化物之溶液,生成 碘,測定該溶液在特定波長範圍之可見光穿透度以連續定 量生成之碘,算出未反應氟氣濃度之方法。又,檢測氟化 合物以求出反應率之方法,可用以紅外分光法測定混合氣 體中所含之全赢化物’氣氧碳化物,赢化氣濃度之方法 ,而能作工業上安全條件下的連續操作。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又,步驟(2 )之出口氣體,除循環再使用作稀釋氣 體以外,含未反應氟氣時,係以例如取出與所供給之2 Η -七氟丙烷大約等量的反應出口氣體,導入去除未反應氟 氣之步驟,’與對過剩氟氣之化學當量比1 . 1倍莫耳之氫 氟碳化物接觸,去除氟氣爲佳。氟氣去除步驟之接觸溫度 隨氫氟碳化物之種類而異,但較佳者在2 5 0至5 0 0 °C ,更佳者在3 5 0至4 5 Ot。氟氣去除步驟後之出口氣 體中氟之濃度通常在5 0 p p m以下,依條件可爲1〇 p p m以下。與過剩氟氣反應之氫氟碳化物,可用三氟甲 烷,四氟乙烷,五氟乙烷,2H -七氟丙烷。 步驟(2 )之出口氣體除一部份循環再使用作步驟( 2 )之稀釋氣體外,有氟氣殘留時經氟去除步驟後導入分 餾步驟。氣體之主要成分係氟化氫及八氟化丙烷。於分餾 步驟以冷卻分離出氟化氫液體,及主要爲八氟化丙烷之氣 體。經分離之氟化氫送返氟化步驟(1 )及/或直接氟化 步驟(2 ),可循再利用。分離出之氣體,主要含八氟化 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)~' ~ -15- 1242545 A7 B7 五、發明説明( 丙院,經脫水步驟,以壓縮機升壓導入蒸衝塔。 r— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 導入蒸餾塔,主要含八氟化丙烷之氣體,於例如第一 蒸餾塔以低沸分自塔頂取出。低沸分乃係惰性氣體,四氟 甲烷,六氟乙烷等,可利用作直接氟化步驟(2)之稀釋 氣體。另一方面,由底部取出之以八氟化丙院爲主要成分 之氣體則導入第二蒸餾塔,八氟化丙烷係以低沸分由第二 蒸餾塔之塔頂取出,導入產品步驟。由第二蒸餾塔底部取 出之高沸分,可以送返步驟(Z)用作稀釋氣體,而依情 況用除害劑等加以分解處理亦可。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 導入產品步驟之目標物八氟化丙烷,必要時予以純化 ,依情況或經脫水步驟導入產品桶。導入產品桶之八氟化 丙烷可用(1)氣相層析法(GC)之TCD法,F ID 法及E C D法,(2 )氣相層析一質譜儀(G C - M S ) 等分析方法求出純度。本發明(I I )係用本發明(I ) 之製造方法所得,純度9 9 _ 9 9 5體積%以上之高純度 八氟化丙烷,其所含雜質分子由含氯原子之化合物及環狀 化合物,總量在5 0體積p p m以下,亦可將該雜質總量 降到1 0體積P P m以下。 其次說明本發明(I I I )及(I V ),用本發明( I )之製造方法所得高純度八氟化丙烷之用途。 本發明(I I )之高純度八氟化丙烷,可用作半導體 裝置製程中鈾刻步驟的鈾刻氣體。又,亦用作半導體裝置 製程中洗淨步驟之洗淨氣體。L I S,T F T等半導體裝 置之製程中,係用C V D法,濺鍍法或蒸鍍法形成薄膜, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16- 1242545 A7 B7 五、發明説明(你 表3 化合物名稱 化學式 組成(V 0 1 % ) 六氟丙烯 CF3CF = CF2 99.9685 四氟乙烯 CF2 = CF2 0.0033 氯三氟乙烯 CF2 = CC1F 0.0008 二氯四氟乙院 CF3CC12F 0.0011 氯五氟乙院 CF3CC1F2 0.0192 五氟乙烷 CF3CHF2 0.0028 氯三氟乙院 CF3CH2C1 0.0004 氯二氟甲院 CHC1F2 0.0039 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〔原料例2〕 市售六氟丙烯加以分析,具表4之組成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表4 化合物名稱 化學式 組成(V 0 1 % ) 六氟丙烯 CF3CF = CF2 99.9196 四氟乙烯 CF2 = CF2 0.0008 氯三氟乙烯 cf2=ccif 0.0004 氯五氟乙院 CF3CC1F2 0.00414 二氯二氟甲院 CC12F2 0.0248 氯二氟曱院 CHC1F2 0.0069 氯二氟乙烷 CF2 = CHC1 0.0042 四氟乙院 CF3CH2F 0.0019 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21 OX 297公釐) -18- 1242545 A7 B7 五、發明説明(1$ [氟化觸媒之製造] (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 內有純水0 · 6公升之1 0公升容器,以4 5 2公克 之Cr (Ν〇3)3·9Η2〇及42公克之 I η ( Ν〇3 ) 3 · η Η 2〇(η約爲5 )溶解於1 · 2公 升純水之溶液,及0 . 3 1公升之2 8 %氨水,一面攪拌 一面*保持反應液之pH於7.5至8.5之範圍內,以 約1小時滴入。過濾所得氫氧化物之漿液,以純水詳加洗 淨後,於1 2 0 t經1 2小時乾燥。將所得固體粉碎後與 石墨混合’以打旋成形器粒料化。在氮氣流下,將該粒料 於4 0 0 °C煅燒4小時,得觸媒前驅物。將觸媒前驅物充 塡於Inconel製之反應器,於常壓3 5 〇。(:,在氮稀釋之 H F氣流下,再於1 〇 〇 % H F氣流下進行氟化處理(觸 媒之活化處理),調製觸媒。 (實施例1 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以上述〔氟化觸媒之製造〕之方法調製之觸媒1 〇〇 毫升,充塡於內徑1英吋,長1米之Inconel 600反應器,一 面通熱热一*面日13溫爲4 0 0 C。以6 · 3 2標準公升/小 時供給氟化氫,其次以3 · 2 4標準公升/小時供給〔原 料例1〕之六氟丙烯爲主要成分之氣體。停止氮氣之供給 開始反應。2小時後,排氣以氫氧化鈉水溶液洗淨去除酸 分後’以氣相層析法分析氣體組成,得表5之組成。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -19- 1242545 A7 B7 五、發明説明(1> 表5 化合物名稱 化學式 組成(v 0 1 % ) 2 Η -七氟丙院 CF3CHFCF3 99.9611 三氟甲烷 CHF3 0.0053 六氟乙焼 CF3CF3 0.0192 五氟乙院 CF3CHF2 0.0071 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 0.0004 六氟丙烯 CF3CF = CF2 0.0052 氯五氟乙烷 CF3CCIF2 0.0008 四氟乙烷 CF3CH2F 0.0008 氯三氟乙烷 CF3CH2CI 0.0001 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 酸分去除後之氣體用筒狀容器冷卻捕集,以習知方法 蒸餾純化分爲低沸分及高沸分。蒸餾純化後之組成物以氣 相層析法分析,得表6之組成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表6 化合物名稱 化學式 組成(v 0 1 % ) 2 Η -七氟丙烷 CF3CHFCF3 99.9965 五氟乙烷 CF3CHF2 0.0003 八氟化丙焼 CF3CF2CF3 0.0001 六氟丙烯 CF3CF = CF2 0.0019 氯五氟乙烷 CF3CC1F2 0.0007 四氟乙烷 CF3CH2F 0.0005 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -20 - 1242545 Α7 Β7 五、發明説明( 由表6之結果可知,2 Η -七氯丙院中所含雑質氯化合 物,藉蒸餾可減至0 . 〇 1體積%以下。 (實施例2 ) 用實施例1所得之蒸餾後以2 Η -七氟丙烷爲主要成 分之氣體,與氟氣進行直接氟化反應。 內徑2 0 . 6毫米0,長5 0 0毫米之鎳製反應器( 電熱器加熱:反應器係以氟氣於溫度5 0 0 °C施行鈍態化 處理)以2 0標準公升/小時供給氮氣,一面升溫至 4 0 0 〇C。 其次,以氟化氫(稀釋氣體)於6 0標準公升/小時 分二支供給,於其一以3 · 2 4標準公升/小時供給上述 2 Η -七氟丙院爲主要成分之氣體。之後於另一氟化氫氣 流以3 . 5 5標準公升/小時供給氟氣,停止氮氣之供給 進行直接氟化反應。3小時後,用氫氧化鈉水溶液及碘化 鉀水溶液洗淨反應產生之氣體,分析氟化氫及未反應氟氣 ,其次於這些酸分去除後以氣相層析法分析,得有機物氣 體組成如表7。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) '21 - 1242545 B7 五、發明説明(1令 表7 化合物名稱 化學式 組成(v 0 1 % ) 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 99.1042 四氟甲烷 CF4 0.0011 六氟乙烷 CF3CF3 0.0017 2 Η -七氟丙烷 CFsCHFCFs 0.8762 氯五氟乙烷 CF3CC1F2 0.0006 全氟己院 C6Fl4 0.0162 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另一方面,反應出□氣體中未反應氟氣量爲〇 · 2 6 標準公升/小時。 酸分去除後之氣體以筒狀容器冷卻捕集,用已知方法 進行蒸餾純化分出低沸分及高沸分。蒸餾純化後所得之組 成物以氣相層析法分析,得表8之組成。 表8 化合物名稱 化學式 組成(ν ο 1 % ) 八氟化丙院 CF3CF2CF3 99.9992 2 Η -七氟丙院 CF3CHFCF3 0.0002 氯五氟乙烷 CF3CCIF2 0.0006 由表8之結果可知,所得八氟化丙烷之純度在 9 9 . 9 9 9體積%以上。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -22- 1242545 A7 B7 五、發明説明(20 C實施例3 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將實施例2所得之含未反應氟氣的直接氟化反應之出 口氣體,導入內徑20 · 6毫米0 ’長500毫米之鎳製 反應器。氣體組成爲氟化氫6 2 . 8 2標準公升/小時’ 有機物3 . 1 6標準公升/小時’未反應氟氣約〇 . 2 6 標準公升/小時,將反應器升溫至3 9 0 °C,從反應器入 口部,以約0 . 2 8 6標準公升/小時供給氫氟碳化物三 氟甲烷,未反應氟及有機物組成物各以滴定及氣相層析法 分析。與三氟甲烷反應後的出口氣體中之未反應氟氣量在 5 0 ρ p m以下,該氣體組成如表9所不。 表9 化合物名稱 化學式 組成(v 0 1 % ) 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 91.6849 四氟曱烷 CF4 5.2707 三氟甲烷 CHF3 3.0232 六氟乙烷 CF3CF3 0.0028 2 Η -七氟丙烷 CF3CHFCF3 0.0029 氯五氟乙烷 CF3CCIF2 0.0006 全氟己烷 CeF 14 0.0149 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次,殘餘氟氣已去除之出口氣體用氫氧化鉀水溶液 洗淨,去除氟化氫。酸分去除後之氣體用筒狀容器冷卻捕 集,用已知方法進行蒸餾純化分出低沸分及高沸分。蒸餾 純化後之氣體以氣相層析法分析,得表1 0之組成。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -23 - 1242545 A7 B7 五、發明説明(2) 表1 0 丄匕合物名稱 化學式 組成(ν 〇 1 % ) 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 99.9993 2 Η -七氟丙烷 CF3CHFCF3 0.0001 氯五氟乙烷 CF3CCIF2 0.0006 (比較例1 ) 以六氟丙烯與氟氣反應進行直接氟化反應。內徑 2 0 . 6毫米0,長5 0 0毫米之鎳製反應器(電熱器加 熱:反應器以氟氣於5 0 0 °C施行鈍態化處理)以氮氣 6〇標準公升/小時分二支供給,一面§周溫爲5 〇 〇。 於一氮氣流以3 . 2 4標準公升/小時供給〔原料例1 ] 之以六氟丙烯爲主要成分之氣體,其次於另一氮氣流以 3 . 5 5標準公升/小時供給氟氣,進行直接氟化反應。 2小時後,反應產生之氣體用氫氧化鉀水溶液及碘化鉀水 溶液洗淨,去除未反應氟氣,以氣相層析法分析,氣體組 成如表1 1所示。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -24 - 1242545 A7 _ _ B7 五、發明説明(2会 表1 1 化合物名稱 ------ 化學甘 組成(V 0 1 % ) 八氟化丙烷 ---------- —CF3CF2CF3 93.3515 六氟乙烷 CF3CF, 0.0063 氯三氟甲烷 ------- CC1F, 0.0039 氯五氟乙烷 _ cf3CC1F2 0.0204 二氯四氟乙烷 ChccuF 0.0011 全氟己烷 CM 6.6122 八氟環丁烷 ~—----^ C4F, 0.0046 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 如由表1 1之結果可知,六氟丙烯與氟氣直接氟化反 應製造八氟化丙烷之方法’會有聚合,環化加成等發生, 收率低。 其次,酸分去除後之氣體用筒狀容器冷卻捕集,用已 知方法進行蒸餾純化分爲低沸分丹离她^ 〃 力及问沸分。蒸餾純化後之 組成物以氣相層析法分析,得表i 2之組成。 表1 2 化合物名稱 ~~--—^ 化學式 —組成(v 0 1 % ) 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 一99.9768 氯五氟乙烷 —----- CF3CC1F2 0 02 1 8 八氟環丁烷 C4F8 —---J 0.0022 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 訂
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -25 - 1242545 A7 B7 五、發明説明(2$ 如由表1 2之結果可知,八氟化丙烷與氯化合物氯五 氟乙烷及環狀化合物八氟環丁烷難以分離而高度純化。 (實施例4 ) 除六氟丙烯原料改用〔原料例2〕以外,如同(寶施 例1 )反應,酸分去除後之氣體分析後得表i 3之組成。 表1 化合物名稱 化學式 組成(v 0 1 2 Η -七氟丙烷 CF3CHFCF3 99.9079 三氟甲烷 CHF3 0.0098 六氟乙烷 CF3CF3 0.0414 五氟乙烷 CF3CHF2 0.0028 氯三氟甲院 CCIFs 0.0236 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 0.005 六氟化丙烷 CF3CF-CF2 0.0049 氯五氟乙院 CF3CCIF2 0.0004 四氯乙院 CF3CH2F 0.0029 二氯二氟甲烷 CChFa 0.0012 氯四氟乙烷 CF3CHC1F 0.0005 氯三氟乙院 CF3CH2C1 0.0041 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 酸分去除後之氣體用筒狀容器冷卻捕集,用已知方法 進行蒸餾純化分爲低沸分及高沸分,蒸餾純化物之組成物 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公釐) -26- 1242545 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(2) 以氣相層析法分析,得表1 4之組成。 表1 4 化合物名稱 化學式 組成(V 0 1 % ) 2. Η -七氟丙院 CF3CHFCF3 99.9925 五氟乙烷 CF3CHF2 ----- 0.0009 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 0.0002 六氟丙烯 CF3CF = CF2 0.0016 氯五氟乙烷 CF3CC1F2 -- —---- 0.0014 四氟乙烷 CF3CH2F 0.0025 二氯二氟甲烷 CC12F2 0.0009 由表1 4之結果可知,2H -七氟丙烷中所含之雜質 氯化合物,以蒸餾可降至〇 · 0 1體積%以下。 (實施例5 ) 除2 Η -七氟丙院改用(實施例4 )之蒸餾純化物以 外,如同(實施例2 )反應,酸分去除後之氣體冷卻捕集 於鋼瓶,用已知方法蒸餾純化分爲高沸分及低沸分,所得 組成物以氣相層析法分析,知具表1 5之組成。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) ,------訂------— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -27- 1242545 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(2令 表1 5 化合物名稱 化學式 組成(v 〇 1 % ) 八氟化丙烷 CF3CF2CF3 99.9979 氯五氟乙烷 CF3CC1F2 0.0015 二氯二氟甲焼 CC12F2 0.0006 如由表1 5之結果可知,可得純度9 9 . 9 9 5體積 %以上之八氟化丙烷。 發明之效果 如以上說明,用本發明之方法時,使用或含氯系雜質 之六氟丙烯,可製造高純度之八氟化丙烷;用本發明製造 之高純度八氟化丙烷,可以用作半導體裝置之製程中之鈾 刻氣體或洗淨氣體。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
- 28-

Claims (1)

  1. Τ24254Τ:]公告
    Α8 Β8 C8 D8 3L· Μ ^ i 尸; 已 I 、申 $青專利 圍 I-------------— —咖j 第90 1 2 1 209號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國94年8月1 日修正 1 . 一種八氟化丙烷之製造方法,其特徵爲包含以下 二步驟:步驟(1 )於氟化觸媒存在下,以六氟丙烯與氣 化氫於氣相中,Ο · 1〜1 ·〇Mpa壓力' 150至 4 5 0 °C下反應,而得2 Η -七氟丙烷,該氟化觸媒係以 鉻之氧化物爲主要成分,添加選自銦、鋅及鎳所成群之至 少1種而成的塊狀觸媒,於步驟(2 )之前,去除2 Η -七氟丙烷中所含之雜質,該雜質係至少1種選自四氟甲烷 、三氟甲烷、氯三氟甲烷、六氟乙烷及五氟乙烷所成群之 化合物; 步驟C 2 )得自步驟(丨)之2 Η -七氟丙烷之反應 器入口濃度在8莫耳%以下,於無觸媒下,氣相中, 〇 · 1 〜1 . OMpa 壓力、250 至 500 t:下,使 2 Η -七氟丙烷與氟氣反應,而得八氟化丙烷。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 .如申請專利範圍第1項之八氟化丙烷之製造方法 ’其中六氟丙烯含有至少1種選自二氯二氟甲烷,氯二氟 甲院’氯五氟乙烷,氯四氟乙烷及氯三氟乙烯所成群之化 合物。 3 .如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製造 方法’其中步驟(1 )之氟化氫/六氟丙烯之莫耳比在 〇 · 8至3之範圍。 4 ·如甲旨靑專利範圍第1項之八氟化丙烷之製造方法 本紙張尺度適用"中國國家標準(CNS ) Α4^Τ77〇_χ297ϋ~不 1242545 Α8 Β8 C8 D8 7、申請專利範圍 ’其中去除2 Η -七氟丙烷中所含之雜質的步驟係蒸餾步 驟。 5 ·如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製造 方法’其中2Η-七氟丙烷中所含氯化合物在〇·〇1體 積%以下。 6 ·如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製造 方法’其中步驟(2 )係於稀釋氣體存在下進行,該稀釋 氣體係選自氟化氫,四氟甲烷,六氟乙烷及八氟化丙烷所 成群之至少1種。 7 ·如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製造 方法’其中步驟(2 )之氟氣/2Η —七氟丙烷之莫耳比 在0-9至1.5之範圍。 8 ·如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製造 方法’其中將步驟(2 )之出口氣體至少一部份循環,以 再使用作步驟(2 )之稀釋氣體。 9 ·如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製造 方法,其中包含將步驟(2 )之出口氣體至少一部分與氫 氟碳化物反應,去除出口氣體中之未反應氟氣之步驟。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之八氟化丙烷之製造方 法,其中氫氟碳化物係至少1種選自三氟甲烷、四氟乙烷 、五氟乙烷,2 Η -七氟丙烷所成群之化合物。 1 1 ·如申請專利範圍第1或2項之八氟化丙烷之製 造方法,其中分離步驟(2 )出口氣體所含之氟化氫後, 將分離之氟化氫送返步驟(1 )及/或步驟(2 )。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21〇χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 裝. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1242545 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 2 ·如申請專利範圍第i或2項之八氟化丙烷之製 造方法,其中從已分離氟化氫出之氣體分離出至少一部分 之八氟化丙烷,將其餘氣體送返步驟(1 )及/或歩驟( (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝- 訂
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I張 A Ns c /—\ i準標 家 國 國 中 一用 k. 釐 公 7 9 2 X 3
TW090121209A 2000-08-30 2001-08-28 Production and use of octafluoropropane TWI242545B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000260205A JP4539793B2 (ja) 2000-08-30 2000-08-30 オクタフルオロプロパンの製造方法及びその用途

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI242545B true TWI242545B (en) 2005-11-01

Family

ID=18748248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW090121209A TWI242545B (en) 2000-08-30 2001-08-28 Production and use of octafluoropropane

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4539793B2 (zh)
KR (1) KR100502996B1 (zh)
TW (1) TWI242545B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI700266B (zh) * 2017-12-28 2020-08-01 日商昭和電工股份有限公司 四氟甲烷之製造方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007176842A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Showa Denko Kk オクタフルオロプロパンの製造方法
ES2682937T3 (es) * 2015-09-30 2018-09-24 Arkema France Composiciones estables de trifluoroetileno
WO2019116789A1 (ja) 2017-12-12 2019-06-20 昭和電工株式会社 含フッ素有機化合物の製造方法及び製造装置
EP3741736B1 (en) * 2018-01-17 2023-08-02 Resonac Corporation Method for producing tetrafluoromethane
WO2019142627A1 (ja) * 2018-01-19 2019-07-25 昭和電工株式会社 テトラフルオロメタンの製造方法
CN110590493A (zh) * 2019-09-24 2019-12-20 浙江三美化工股份有限公司 一种高纯六氟乙烷的制备方法
CN112831798B (zh) * 2020-12-29 2022-11-25 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 一种用于制备八氟丙烷的多级管式电解装置及制备方法
CN114367254B (zh) * 2022-01-20 2023-05-23 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 一种六氟环丙烷制备八氟丙烷的装置及方法
CN116425609B (zh) * 2023-01-17 2024-07-09 福建德尔科技股份有限公司 八氟丙烷的制备方法及装置
CN116283479B (zh) * 2023-03-27 2024-01-26 福建德尔科技股份有限公司 一种制备电子级八氟丙烷的方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2712732C2 (de) * 1977-03-23 1986-03-13 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Oktafluorpropan
JPS5841829A (ja) * 1981-09-08 1983-03-11 Asahi Glass Co Ltd オクタフルオロプロパンの製造方法
JPS6078924A (ja) * 1983-10-03 1985-05-04 Daikin Ind Ltd オクタフルオロプロパンの製法
JPS6081134A (ja) * 1983-10-12 1985-05-09 Showa Denko Kk オクタフルオロプロパンの製造方法
JPH0585967A (ja) * 1991-09-26 1993-04-06 Daikin Ind Ltd フルオロアルカン混合物
JPH09183743A (ja) * 1995-12-29 1997-07-15 Daikin Ind Ltd 低級パーフルオロアルカンの製造方法
JP2947158B2 (ja) * 1996-03-07 1999-09-13 昭和電工株式会社 ヘキサフルオロエタンの製造方法
JP3067633B2 (ja) * 1996-03-26 2000-07-17 昭和電工株式会社 パーフルオロカーボンの製造方法
JP3725298B2 (ja) * 1997-06-18 2005-12-07 昭和電工株式会社 パーフルオロカーボンの製造方法
JP2001512092A (ja) * 1997-07-31 2001-08-21 インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー 1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンの気相製造

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI700266B (zh) * 2017-12-28 2020-08-01 日商昭和電工股份有限公司 四氟甲烷之製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4539793B2 (ja) 2010-09-08
JP2002069014A (ja) 2002-03-08
KR20020060959A (ko) 2002-07-19
KR100502996B1 (ko) 2005-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3130657B2 (ja) 1−クロロ−1,1,3,3,3− ペンタフルオロプロパン及び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンの製造法
TW509666B (en) Process for producing a perfluorocarbon
US6720464B2 (en) Production and use of octafluoropropane
TWI242545B (en) Production and use of octafluoropropane
WO2010090086A1 (ja) (z)-1-クロロ-3,3,3-トリフルオロプロペンの精製方法
JP4851463B2 (ja) フッ化カルボニルの製造方法
CN111875473B (zh) 一种HFC-365mfc和HFC-245fa的制备方法
KR100415739B1 (ko) 플루오르함유에탄의 제조방법
US7214839B2 (en) Method of making hydrofluorocarbons
TW200536812A (en) Process for production of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and/or pentafluoroethane and applications of the same
CN1210846A (zh) 氢氟链烷的制备方法
JP2007176842A (ja) オクタフルオロプロパンの製造方法
AU672210B2 (en) Production of hydrofluoroalkanes
TWI325413B (zh)
TWI298716B (zh)
JP3159043B2 (ja) テトラフルオロメタンの製造方法
KR100570802B1 (ko) 플루오로에탄의 제조 방법 및 제조된 플루오로에탄의 용도
JP4463385B2 (ja) ヘキサフルオロエタンの製造方法及びその用途
WO2020218336A1 (ja) ハイドロクロロフルオロカーボンの製造方法、1-クロロ-2,3,3-トリフルオロプロペンの製造方法、1-クロロ-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロ-1-ペンテンの製造方法
TW409114B (en) Process for the preparation of hexafluoroethane
JPH0776535A (ja) モノヒドロハロゲノエタン類の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees