JP3067633B2 - パーフルオロカーボンの製造方法 - Google Patents
パーフルオロカーボンの製造方法Info
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Description
ルオロカーボンとフッ素ガスとを反応させるパーフルオ
ロカーボンの製造方法において、第一反応帯でハイドロ
フルオロカーボンとフッ素ガスとを気相で、高められた
反応温度で接触させて生成した生成ガスを希釈ガスとし
て第二反応帯へ導き、これに第一反応帯とは異なるハイ
ドロフルオロカーボンと必要に応じてフッ素ガスを供給
し高められた反応温度で接触させることを特徴とするパ
ーフルオロカーボンを製造する方法に関する。パーフル
オロカーボンは常温で気体の化合物は、例えば半導体工
業におけるエッチングガス、クリーニングガス等の用
途、また常温で液体の化合物は冷却用液体等の幅広い用
途を有し、工業的に有用な化合物である。
ては、従来より様々な方法が提案されている。例えば、
炭素原子1個のパーフルオロカーボンのテトラフルオロ
メタン(以下、「FC−14」または「CF4 」とい
う)の場合、クロロトリフルオロメタン(CClF3 )を
触媒の存在下でHFと反応させる方法(特公昭62−1
0211号)、ジクロロジフルオロメタン(CCl
2 F2 )を触媒の存在下でHFと反応させる方法(特公
昭42−3004号)、四塩化炭素(CCl4 )をHFと
反応させる方法(特公昭43−10601号)、トリフ
ルオロメタン(CHF3 )をF2 と反応させる方法(G
B−1116920:1986年)、BrF3 やIF5中で
炭素(C)をF2 と反応させる方法(特開昭58−16
2536号)や、四フッ化エチレン(CF2 =CF2 )
とCO2 とを高温で熱分解する方法(US−43651
02:1982年)等がある。
ロカーボンのヘキサフルオロエタン(以下、「FC−1
16」または「CF3 CF3 」という)の場合、エタン
および/またはエチレンを原料とする電解フッ素化法、
四フッ化エチレン等を熱分解する熱分解法、アセチレ
ン、エチレンおよび/またはエタン等を金属フッ化物を
用いてフッ素化する方法、ジクロロテトラフルオロエタ
ンやクロロペンタフルオロエタン等をフッ化水素を用い
てフッ素化する方法、フッ素ガスを用いてエタン等と反
応させる直接フッ素化法等が知られている。
オロカーボンのオクタフルオロプロパン(以下、「FC
−218」または「C3 F8 」という)の場合、フッ素
ガスを用いてプロパンと反応させる直接フッ素化法(E
P−31519:1981年)等が知られている。
に、(a)ジェットリアクタ−によりフッ素ガスとエタ
ンを反応させFC−14やFC−116を得る方法(・
J.Amer.Chem.Soc.,77,3307(1955)、・J.Amer.Chem.So
c.,82,5827(1960))、(b)多孔質のアルミナ管を持つ
反応器でC−Hをフッ素ガスでフッ素化する方法(EP-3
1519(1981))、(c)多孔質の金属管を持つ反応器(二
重管構造)で、希釈ガス存在下で、直鎖の炭化水素をフ
ッ素ガスでフッ素化する方法:希釈ガスとしてSF6 、
CF4 、C2 F6 、C3 F8 使用(EP-33210(1981))等
が知られている。その他のフッ素ガスを用いる反応例と
して、(d)飽和または不飽和炭化水素または部分的に
フッ素化された炭化水素にフッ素ガスを反応させてハイ
ドロフルオロカーボンを製造する方法(US-5406008(199
5))やアルケンとフッ素ガスを吸着含有する炭素とから
フッ化アルケンを製造する方法(特開平 2-207052 )等
も知られている。
スを使用する直接フッ素化法は、極めて反応性に富むフ
ッ素ガスを用いるため、基質である有機化合物とフッ素
ガスとの爆発や腐食等の危険があり、さらには発熱によ
るC−C結合の切断や重合、また炭素(C)の生成、堆
積等による急激な反応や爆発等の副反応も危険である。
例えば、直鎖の炭化水素化合物とフッ素ガスとを反応さ
せる直接フッ素化法によるパーフルオロカーボンの合成
の場合、次のような非常に大きな反応熱を伴う。
は、約−110Kcal/mol の反応熱が発生する。プロパ
ンとフッ素ガスとを反応させる直接フッ素化法はΔHが
約−880Kcal/molとなる。
1モルにつき4モルのフッ素が、エタンを原料とする場
合(式3)はエタン1モルにつき6モルのフッ素が必要
である。このように、反応熱は使用するフッ素のモル数
に比例し、フッ素量が多いほど反応熱が大きくなる。こ
のため発熱によるC−C結合の切断や爆発等が起こりや
すく、さらには収率の低下をもたらし、工業的製造、操
業上の問題となる。このため、直接フッ素化法における
反応熱の急激な発生を抑える方法として、フッ素を他の
不活性ガス(窒素やヘリウム等)で希釈する方法、基質
である有機化合物をフッ素に対して不活性な溶媒に低濃
度に溶かしておく方法、反応を低温領域で行う方法や、
反応を気相で行うときは、基質である有機化合物にフッ
素が少しずつ接触するようにジェットリアクタ−などに
装置を工夫する方法等が考えられていた。
するためになされたものであり、従ってその目的は、基
質である有機化合物とフッ素ガスを使用する直接フッ素
化法において、工業的に安全かつ効率よく経済的にパー
フルオロカーボンを製造することができる製造方法を提
供することにある。
相でハイドロフルオロカーボンとフッ素ガスとを反応さ
せるパーフルオロカーボンの製造方法において、第一反
応帯でハイドロフルオロカーボンとフッ素ガスとを気相
で、高められた反応温度で接触させて生成した生成ガス
を希釈ガスとして第二反応帯へ導き、これに第一反応帯
とは異なるハイドロフルオロカーボンと必要に応じてフ
ッ素ガスを供給し高められた反応温度で接触させること
を特徴とし、さらに第二反応帯の生成ガスの少なくとも
一部を循環させ、第一反応帯の希釈ガスとして使用す
る。
ン、ヘキサフルオロエタン、オクタフルオロプロパンお
よびフッ化水素であり、好ましくはテトラフルオロメタ
ン、ヘキサフルオロエタンおよびフッ化水素であり、さ
らに好ましくはフッ化水素に富む成分である。
イドロフルオロカーボンはそれぞれの反応帯入口濃度で
8モルパーセント以下で反応を実施する必要がある。ま
た、反応温度は高められた温度範囲で、好ましくはそれ
ぞれの反応帯で200〜550℃の範囲とすることが望
ましい。反応圧力もそれぞれの反応帯で0〜5MPaの
範囲内で実施することが望ましい。本反応で得られるパ
ーフルオロカーボンは2種類以上であり、FC−14、
FC−116およびFC−218であり、好ましくはF
C−14およびFC−116である。
の一般式、CxHyFz(1≦x≦3、1≦y≦4、1
≦z≦7かつxが1のときy+z=4、xが2のときy
+z=6、xが3のときy+z=8を充す整数であ
る。)で表わされるハイドロフルオロカーボン類の2種
類以上で、好ましくはフルオロメタン(CH3 F)、ジ
フルオロメタン(CH2 F2 )、トリフルオロメタン
(CHF3 )、トリフルオロエタン(C2 H3 F3 )、
テトラフルオロエタン(C2 H2 F4 )、ペンタフルオ
ロエタン(C2 HF5 )、ペンタフルオロプロパン(C
3 H3 F5 )、ヘキサフルオロプロパン(C3 H
2 F6 )およびヘプタフルオロプロパン(C3 HF7)
の群から選ばれ、より好ましくはフルオロメタン、ジフ
ルオロメタン、トリフルオロメタン、トリフルオロエタ
ン、テトラフルオロエタンおよびペンタフルオロエタン
であり、更に好ましくはジフルオロメタン、トリフルオ
ロメタン、テトラフルオロエタンおよびペンタフルオロ
エタンである。また、供給するハイドロフルオロカーボ
ン中に含有される不純物としての含塩素化合物の濃度が
2モルパーセント以下のハイドロフルオロカーボンを使
用するのが好ましい。
ーボンの製造方法を更に詳しく説明する。本発明は、第
一反応帯でハイドロフルオロカーボンとフッ素ガスとを
気相で、高められた反応温度で接触させて生成した生成
ガス(パーフルオロカーボンおよび/またはフッ化水
素)を希釈ガスとして第二反応帯へ導き、これに第一反
応帯とは異なるハイドロフルオロカーボンと必要に応じ
てフッ素ガスを供給し高められた反応温度で接触させる
パーフルオロカーボンの製造方法で、さらに第二反応帯
の生成ガス(パーフルオロカーボンおよび/またはフッ
化水素)の少なくとも一部を循環させ第一反応帯の希釈
ガスとして使用することで、従来の直接フッ素法の問題
や課題を克服し工業的に安全かつ効率よく経済的に有用
なパーフルオロカーボンを製造することができる。
る。本反応のハイドロフルオロカーボンとフッ素ガスに
よるパーフルオロカーボンの製造の場合、反応式と反応
熱は以下のようになる。
ムやアルゴン等の不活性ガスが使用されるが、目的物の
パーフルオロカーボンとこれらの不活性ガスとの蒸留工
程での分離、精製等を考慮すると、コスト面から有利な
方法ではなく、希釈ガスとしては、生成ガスであるテト
ラフルオロメタン、ヘキサフルオロエタン、オクタフル
オロプロパンおよびフッ化水素を含有するガスで、好ま
しくはテトラフルオロメタン、ヘキサフルオロエタンお
よびフッ化水素を含有するガスで、より好ましくはフッ
化水素に富む成分が経済的である。
うに、副生成物としてフッ化水素(沸点:20℃)が生
成する。例えば、原料の有機化合物としてジフルオロメ
タンを使用すると、FC−14が1モルとフッ化水素が
2モル生成する。また、ペンタフルオロエタンの場合、
FC−116が1モルとフッ化水素が1モル生成し、目
的物であるFC−14(沸点:−127.9℃)やFC
−116(沸点:−78.5℃)と副生成物であるフッ
化水素とは沸点差が約100℃あり、蒸留、精製工程で
フッ化水素を容易に分離することができ、またヘリウム
(沸点:−286.9℃)等と比較してこれらはいずれ
も高沸点であり、分離、精製のエネルギーコストが有利
となる。
ボンおよびフッ化水素)をそのまま希釈ガスとして使用
することでコスト的により有利である。また、フッ化水
素は希釈ガスとして蒸留、精製工程でフッ化水素として
回収し循環使用されてもよいが、通常は他の用途に使用
される。フッ素ガスを用いる直接フッ素化法では長期間
の反応で前述したようにC−C結合の切断や重合物等に
より炭素の生成、堆積等がおこる。この炭素の生成、堆
積等はフッ素ガスとの急激な反応や爆発の危険性がある
が、フッ化水素に富む成分を希釈ガスとして使用するこ
とで炭素の生成や堆積を抑えることができる。フッ化水
素に富む成分とはフッ化水素を主成分とするという意味
である。
質)、フッ素ガスおよび希釈ガスの存在下で反応を行う
が、反応器に導入する前に反応の基質、フッ素ガスのい
ずれか又はどちらも希釈ガスで希釈された後、反応器へ
導入することが一般的である。安全性を考慮すれば、反
応の基質もフッ素ガスも共にできるだけ希釈ガスで低濃
度とすることが望ましい。
のハイドロフルオロカーボンを反応器入口濃度で8モル
パーセント以下にして反応を行うことである。前述のよ
うにフッ素ガスを使用する直接フッ素化法は、極めて反
応性に富むフッ素ガスを用いるため、基質である有機化
合物(特に水素を含有する化合物)は、フッ素にさらさ
れると燃焼あるいは爆発する危険がある。本反応では、
基質である有機化合物として水素を含有するハイドロフ
ルオロカーボンを用いるため、ハイドロフルオロカーボ
ンとフッ素の爆発防止が重要なポイントである。爆発を
防ぐためには混合ガスの組成が爆発範囲の中に入らない
ようにする必要がある。本発明者等はハイドロフルオロ
カーボンとフッ素ガスとの爆発範囲を検討したところ、
ハイドロフルオロカーボンの種類によって値が異なる
が、これらのハイドロフルオロカーボンの爆発範囲の下
限値が8モルパーセント以下であることが判明し本反応
の有機化合物入口濃度の安全な範囲が設定できる。
際し重要な条件の一つであり、反応温度は接触時間や原
料のハイドロフルオロカーボンの種類によって最適範囲
が変化する。例えば、1,1,1,2−テトラフルオロ
エタンとフッ素を希釈ガスの存在下で反応する場合、接
触時間が大きい時(接触時間15秒)は反応温度約50
℃から反応が起こり、約250℃で転化率は約100%
である。反応温度は高められた温度範囲で、第一反応帯
および第二反応帯ともそれぞれ好ましくは200〜55
0℃の範囲内である。
ルオロカーボンの転化率が低下し、550℃を越えると
C−C結合の切断や重合等が生じ収率が低下し、また反
応器等の腐食やエネルギーコスト嵩む等の問題があり好
ましくない。接触時間は特に限定されないが、例えば
0.1〜120秒の範囲で、接触時間を大きくすると反
応器が大きくなり経済的でないので、一般には1〜30
秒、より好ましくは3〜30秒の範囲が望ましく、また
反応基質とフッ素ガスとの混合を良くすることも重要で
ある。
カーボンとフッ素ガスとのモル比は0.5〜5.0の範
囲内とすることが好ましく、より好ましくは1.0〜
3.0の範囲内である。フッ素ガスの供給モル比が0.
5未満では反応が進行せず効率が悪く、5.0を越える
とフッ素ガスが過剰となり、その回収のための設備等が
必要で経済的でない。フッ素ガスの供給方法は特に限定
されないが、例えば第一反応帯に過剰量を供給し、残り
の未反応フッ素ガスで第二反応帯の反応を行うこともで
きるが、通常は第一反応帯および第二反応帯とも供給す
るのが安全面から好ましい。
の危険防止の上で重要である。圧力が高くなればなるほ
ど爆発範囲は一般に広くなるため、反応はより低圧で行
うことが望ましく、第一反応帯および第二反応帯とも反
応圧力としては0〜5MPaの範囲内が好ましい。
耐性を有するものが好ましく、その例としてはニッケ
ル,インコネルやハステロイ等を挙げることができる。
前述したように基質としての有機化合物とフッ素ガスと
の直接フッ素化法は非常に大きな反応熱を伴い、反応熱
は使用するフッ素ガスのモル数に比例し、フッ素量が多
いほど反応熱が大きくなることから、C−H結合をC−
F結合に置換する数が少ないほど問題となる反応熱の制
御が容易となり、また高価なフッ素ガスの使用量を少な
くすることができ、経済的である。
の有機化合物を前記のようにC−H結合をC−F結合に
置換する数が多い直鎖の炭化水素を使用せず、部分的に
フッ素化されたハイドロフルオロカーボン(HFC)を
用いることにより、C−H結合をC−F結合に置換する
数を少なくし反応熱の制御を容易とし、更にハイドロフ
ルオロカーボンを2種類以上供給して、2種類以上のパ
ーフルオロカーボンを製造することである。使用される
ハイドロフルオロカーボンとしては、次の一般式で、 CxHyFz (一般式) (式中、x、y、zはそれぞれ、1≦x≦3、1≦y≦
4、1≦z≦7であり、かつxが1のときy+z=4、
xが2のときy+z=6、xが3のときy+z=8を充
す整数である)で表されるハイドロフルオロカーボンで
ある。
換する数が3以内であるフルオロメタン、ジフルオロメ
タン、トリフルオロメタン、トリフルオロエタン、テト
ラフルオロエタン、ペンタフルオロエタン、ペンタフル
オロプロパン、ヘキサフルオロプロパンおよびヘプタフ
ルオロプロパンの群から選ばれ、より好ましくは原料の
入手等よりフルオロメタン、ジフルオロメタン、トリフ
ルオロメタン、トリフルオロエタン、テトラフルオロエ
タンおよびペンタフルオロエタンであり、更に好ましく
はC−H結合をC−F結合に置換する数が2以内である
ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、トリフルオロ
エタン、テトラフルオロエタンおよびペンタフルオロエ
タンであリ、これらのハイドロフルオロカーボン類は例
えば、クロロフルオロカーボン(CFC)やハイドロク
ロロフルオロカーボン(HCFC)の代替品として、ま
た冷媒として工業生産されており、入手も容易であり純
分も99.9%以上と良好である。
素ガスによるパーフルオロカーボンの製造(式2および
式3)と比較すると、上記のようなハイドロフルオロカ
ーボンを使用することで反応熱を約1/2から1/6
(式4から式7)に抑えることができる。これらのハイ
ドロフルオロカーボンは単独でも混合物でも使用可能で
あり、これらから得られる目的物のパーフルオロカーボ
ンは2種類以上で、好ましくはテトラフルオロメタン、
ヘキサフルオロエタンおよび/またはオクタフルオロプ
ロパンであり、さらに好ましくはテトラフルオロメタン
およびヘキサフルオロエタンである。
フルオロカーボンは含塩素化合物が含有されないことが
望ましく、含塩素化合物が含有されると反応で塩素やフ
ッ化塩素を生成し、装置材質や蒸留操作上好ましくな
い。含塩素化合物の混合の濃度としては2モル%以下が
良く、好ましくは1モル%以下、さらに好ましくは0.
1モル%以下である。
の三つのポイントと反応条件をプラスした経済的で安全
かつ効率のよい製造方法の提供で、気相で第一反応帯で
ハイドロフルオロカーボンとフッ素ガスとを、高められ
た反応温度で接触させて第一のパーフルオロカーボンと
フッ化水素を生成させ、これらの一部または全部を希釈
ガスとして第二反応帯に導き、これに第一反応帯に供給
したのと異なるハイドロフルオロカーボンと必要に応じ
てフッ素ガスを供給し、高められた反応温度で接触させ
て第二のパーフルオロカーボンとフッ化水素を生成さ
せ、これらの一部を希釈ガスとして第一反応帯および/
または第二反応帯にリサイクル使用する製造方法であ
る。
として1,1,1,2−テトラフルオロエタンとフッ素
ガスとを希釈ガスとしてフッ化水素に富む成分と共に高
められた温度の第一反応帯に供給し、第一反応帯でパー
フルオロカーボンとしてFC−116とフッ化水素を生
成さる。反応器出口ガスはその一部をそのまま希釈ガス
として使用することもでき、また蒸留工程に導くことも
可能であるが、通常は第二反応器に導かれる。第二反応
器の入口で異なるハイドロフルオロカーボンとして、例
えばジフルオロメタンと必要に応じてフッ素ガスが第一
反応帯の出口ガスに混合され高められた反応温度の第二
反応帯へ供給され、パーフルオロカーボンとしてFC−
14とフッ化水素を生成させる。
ボンとしてFC−116とFC−14、副生成物として
パーフルオロカーボンに対して過剰のフッ化水素を含む
混合物が得られる。この第二反応帯の出口ガスの混合物
はその一部をそのまま希釈ガスとして第一反応帯および
/または第二反応帯に循環使用され、残りは蒸留、精製
工程にてパーフルオロカーボンとフッ化水素に分離され
る。
ロカーボンから2種類以上のパーフルオロカーボンを製
造する本製造方法は、通常の一つのハイドロフルオロカ
ーボンから一つのパーフルオロカーボンの製造に比較
し、蒸留工程等の設備の簡素化やエネルギーコスト等が
経済的である。
ともできるが、通常は操作性や安全性から二つ以上の反
応器を使用するのが好ましい。反応器の組み合わせ方は
並列でも直列でも選べるが、通常は直列が好ましい。ま
た、2種以上のハイドロフルオロカーボン、例えばジフ
ルオロメタンとトリフルオロメタンとから1種類のパー
フルオロ化合物、例えばFC−14を製造することも可
能であり、更に、1つのハイドロフルオロカーボン、例
えばジフルオロメタンを第一反応帯と第二反応帯に分割
供給し、反応をマイルドにすることも可能である。この
ように、本製造方法は工業的に安全かつ効率のよい経済
性に富むパーフルオロカーボンの製造方法である。
に使用した原料のハイドロフルオロカーボンを以下に示
す。 [ジフルオロメタン]現在、HCFC−22(CHClF
2 )の代替品として供給されているジフルオロメタン
(CH2 F2 )・エコロエ−ス32(商品名:昭和電工
製)を用いた。純分は99.95%以上で、不純物とし
て1,1,1−トリフルオロエタン(CF3 CH3 )お
よびフルオロメタン(CH3 F)を含み、含塩素化合物
はほとんど検出されない。
供給されているトリフルオロメタン(CHF3 )・エコ
ロエ−ス23(商品名:昭和電工製)を用いた。純分は
99.95%以上で、不純物としてクロロジフルオロメ
タン(CHClF2 )やクロロトリフルオロメタン(CCl
F3 )等の含塩素化合物を含んでいる。
ン]現在、CFC−12(CClF2 )の代替品として供
給されている1,1,1,2−テトラフルオロエタン
(CF3 CH2 F)・エコロエ−ス134a(商品名:
昭和電工製)を用いた。純分は99.99%以上で、異
性体の1,1,2,2−テトラフルオロエタンを含み、
含塩素化合物は検出されない。
−22(CHClF2 )の代替品として供給されているペ
ンタフルオロエタン(CF3 CHF2 )・エコロエ−ス
125(商品名:昭和電工製)を用いた。純分は99.
95%以上で、不純物としてCF3 CH2 F、CF3 C
H3 や含塩素化合物としてクロロペンタフルオロエタン
(CF3 CClF2 )、1−クロロ−1,2,2,2−テ
トラフルオロエタン(CHClFCF3 )を含んでいる。
ルオロカーボンの製造方法のフロ−を示す図である。ハ
イドロフルオロカーボン(図中符号12)として前記の
トリフルオロメタンとフッ素ガス(図中符号11)を希
釈ガス(図中符号19)と混合し混合ガス(図中符号1
3)を第一反応帯(図中符号1)に導入した。第一反応
帯は反応圧力1.5MPa、反応温度400℃、F2 /
トリフルオロメタンのモル比=1.51およびトリフル
オロメタンの入口濃度2.1モル%の条件で反応させ、
第一反応帯の出口ガス(図中符号14)を得た。
ーボン(図中符号16)として、1,1,1,2−テト
ラフルオロエタンとフッ素ガス(図中符号15)を混合
し混合ガス(図中符号17)を第二反応帯(図中符号
2)に導入した。第二反応帯は反応圧力1.5MPa、
反応温度370℃、F2 /1,1,1,2−テトラフル
オロエタンのモル比=2.06および1,1,1,2−
テトラフルオロエタンの入口濃度1.35モル%の条件
で反応させ、第二反応帯の出口ガス(図中符号18)を
得た。この出口ガスを希釈ガス(図中符号19)と蒸
留、精製工程へ導くかれるガス(図中符号20)に分け
た。その結果を表1に示す。表のNO. は図1の番号であ
る。
フローで、ハイドロフルオロカーボン(図中符号12)
としてペンタフルオロエタンとフッ素ガス(図中符号1
1)を希釈ガス(図中符号19)と混合し混合ガス(図
中符号13)を第一反応帯(図中符号1)に導入した。
第一反応帯は反応圧力1.5MPa、反応温度370
℃、F2 /ペンタフルオロエタンのモル比=1.47お
よびペンタフルオロエタンの入口濃度3.2モル%の条
件で反応させ、第一反応帯の出口ガス(図中符号14)
を得た。
ーボン(図中符号16)としてジフルオロメタンとフッ
素ガス(図中符号15)を混合し混合ガス(図中符号1
7)を第二反応帯(図中符号2)に導入した。第二反応
帯は反応圧力1.5MPa、反応温度350℃、F2 /
ジフルオロメタンのモル比=2.01およびジフルオロ
メタンの入口濃度2.05モル%の条件で反応させ、第
二反応帯の出口ガス(図中符号18)を得た。この出口
ガスを、希釈ガス(図中符号19)と蒸留、精製工程へ
導かれるガス(図中符号20)とに分離した。その結果
を表2に示す。
法は、工業的に安全かつ効率よく経済性に富むパーフル
オロカーボンを製造する方法を提供できる。
ン 13 第一反応帯に供給されるガス成分 14 第一反応帯出口ガス成分 15 第二反応帯に供給されるフッ素ガス 16 第二反応帯に供給されるハイドロフルオロカーボ
ン 17 第二反応帯に供給されるガス成分 18 第二反応帯出口ガス成分 19 希釈ガス 20 蒸留、精製工程へ導かれるガス
Claims (14)
- 【請求項1】 第一反応帯でハイドロフルオロカーボン
とフッ素ガスとを気相で、高められた反応温度で接触さ
せて生成した生成ガスを希釈ガスとして第二反応帯へ導
き、該第二反応帯では第一反応帯とは異なるハイドロフ
ルオロカーボンと必要に応じてフッ素ガスとを供給し高
められた反応温度で接触させることを特徴とするパーフ
ルオロカーボンの製造方法。 - 【請求項2】 第二反応帯の生成ガスの少なくとも一部
を、第一反応帯の希釈ガスとして使用する請求項1に記
載の製造方法。 - 【請求項3】 第一反応帯および/または第二反応帯の
希釈ガスが、テトラフルオロメタン、ヘキサフルオロエ
タン、オクタフルオロプロパンおよびフッ化水素の少な
くとも1種を含有する請求項1または請求項2に記載の
製造方法。 - 【請求項4】 希釈ガスが、フッ化水素に富む成分であ
る請求項1ないし請求項3に記載の製造方法。 - 【請求項5】 ハイドロフルオロカーボンの第一反応帯
および/または第二反応帯の入口濃度が8モルパーセン
ト以下である請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項6】 第一反応帯および/または第二反応帯の
反応温度が200〜550℃の温度範囲である請求項1
に記載の製造方法。 - 【請求項7】 第一反応帯および/または第二反応帯の
反応圧力が0〜5MPaの範囲である請求項1に記載の
製造方法。 - 【請求項8】 得られるパーフルオロカーボンが2種類
以上である請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項9】 得られるパーフルオロカーボンが、テト
ラフルオロメタン、ヘキサフルオロエタンおよびオクタ
フルオロプロパンから選ばれる2種以上である請求項8
に記載の製造方法。 - 【請求項10】 得られるパーフルオロカーボンが、テ
トラフルオロメタンおよびヘキサフルオロエタンである
請求項9に記載の製造方法。 - 【請求項11】 ハイドロフルオロカーボンが次の一般
式(式1)、 CxHyFz………(式1) (式中、x、y、zはそれぞれ、1≦x≦3、1≦y≦
4、1≦z≦7であり、かつxが1のときy+z=4、
xが2のときy+z=6、xが3のときy+z=8を充
す整数である)で表されるハイドロフルオロカーボンで
ある請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項12】 ハイドロフルオロカーボンがフルオロ
メタン、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、トリ
フルオロエタン、テトラフルオロエタン、ペンタフルオ
ロエタン、ペンタフルオロプロパン、ヘキサフルオロプ
ロパンおよびヘプタフルオロプロパンの群から選ばれる
2種以上である請求項11に記載の製造方法。 - 【請求項13】 ハイドロフルオロカーボンがジフルオ
ロメタン、トリフルオロメタン、テトラフルオロエタン
およびペンタフルオロエタンの群から選ばれる2種以上
である請求項13に記載の製造方法。 - 【請求項14】 ハイドロフルオロカーボン中に含有さ
れる不純物として含塩素化合物の濃度が2モルパーセン
ト以下のハイドロフルオロカーボンを使用する請求項1
1に記載の製造方法。
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