TW201630803A - 單分散單壁奈米碳管群及用以提供該單分散單壁奈米碳管群之相關方法 - Google Patents

單分散單壁奈米碳管群及用以提供該單分散單壁奈米碳管群之相關方法 Download PDF

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Abstract

本發明係提供一種提供單壁奈米碳管群之方法，其實質上為單分散，在直徑、電性種類及/或不對稱性方面。亦提供單壁奈米碳管群與製造元件，包括此奈米碳管群。

Description

單分散單壁奈米碳管群及用以提供該單分散單壁奈米碳管群之相關方法 發明領域
本申請案係申明美國專利暫時申請案系列號60/840,990，於2006年8月30日申請，其完整內容在此併入本案以作為參考資料，之優先權，並補充之。
美國政府擁有本發明之部分權力，依據國家科學基金會之研究經費補助號EEC-0118025與DMR-0134706，以及西北大學能源系研究經費補助號DE-FG02-00ER54810。
本發明係有關於單分散單壁奈米碳管群及用以提供該單分散單壁奈米碳管群之相關方法。
發明背景
奈米碳管最近受到相當大的注意，由於其奈米及尺寸與傑出之材料特性，如彈道電子傳導性、高電流密度下電子移動效應之豁免性(immunity)，以及透明傳導性。然而，剛-合成之奈米碳管在直徑與不對稱性角度上各有不同，這些物理性變化會導致在其電性與光學性質上有劇烈變化。例如，約三分之一所有可能的單壁奈米碳管(SWNTs)具有 金屬性質，而剩餘的三分之二則為半導體性。此外，半導體性SWNTs之能帶間隙(band gap)尺寸與管直徑成反比。例如，由於雷射剝蝕法製造之半導體性SWNTs直徑範圍為約11Å至約16Å，並具有光學能帶間隙變化自約0.65eV至約0.95eV。目前可獲得的剛-合成之SWNTs無法預防其結構上之異質性，使其無法廣泛應用，作為高表現度之場效應電晶體、光電性近紅外線發射器/偵測器、化學感測器、積體電路連結用材料，以及組成物中之傳導性添加物。因此，SWNTs之利用將受到限制，除非可製造或取得大量之單分散SWNTs。
目前數種SWNT純化法已被報導，但無技術被報導可同時達到直徑與能帶間隙之選擇性，在廣範圍之直徑與能帶間隙、電性種類(金屬對半導體性)敏感性與可量產化方面。此外，大部分之技術係受到有效性之限制，許多僅對於直徑小於約11Å之SWNTs有效。此為一明顯限制，由於對電子裝置最重要的SWNTs，通常在直徑上相當大，由於如此可形成較小之電阻接觸(即，降低Schottky屏障)。介電泳動與經控制之電子崩解皆受會限制量產化，且僅對於電性種類敏感(非直徑或能帶間隙)。此外，該具金屬性SWNTs之二偶氮鹽類之選擇性化學反應，僅於7-12Å之SWNTs直徑範圍中呈現，且此方法並未提供直徑與能帶間隙選擇性。更大的問題是，其化學性亦導致奈米碳管側壁之共價性降解。此外，使用胺基終端界面活性劑於有機溶劑中，亦受到僅具92%半導體性之樣本產生之限制，且該技術僅成功 地應用於具有直徑小於10Å之SWNTs。類似地，當直徑與電性種類選擇性使用陰離子交換層析法觀察時，此類方法僅呈現出SWNTs被DNA特異性寡合物，直徑範圍為7-11Å包覆。
發明概要
經由前述說明，本發明之目的係提供一種組成物，包括實質上為單分散，在直徑、能帶間隙、不對稱性及/或電性種類(金屬性對半導體性)方面。為了提供此種實質上單分散之奈米碳管，本發明亦相關於一或多種方法及/或系統，其可用於分離結構上及/或特徵上異質性之奈米碳管，因而解決各種先前技術之缺陷與缺點，包括上述強調者。
熟習此技術領域者應瞭解到，本發明所揭示之一或多種實施例可符合某些目的，而本發明之一或多個其他實施例則符合其他目的。本發明之每一實施例並非同等應用每一目的，在所有觀點中。因此，下列目的可視為本發明任一實施例之替代。
本發明之另一目的係提供一種分離奈米碳管之方法與相關系統，不論直徑或長度，而與各種奈米碳管製造技術相容，並產生實際尺寸之分離。
本發明之另一目的係提供一種分離奈米碳管之方法與相關系統，其為電性種類之函數，不論直徑及/或不對稱性。
本發明之另一目的係提供一種分離奈米碳管之方法與相關系統，其為直徑之函數，不論不對稱性及/或電性種類。
本發明之另一目的係提供一種分離奈米碳管之方法與相關系統，其為不對稱性之函數，亦與特定直徑及/或電性種類相關。
本發明之另一目的係提供某一範圍之界面活性成分及其用途，以產生該界面活性成分形成之錯合物浮力密度差異，以及異質性奈米碳管樣本，使得該奈米碳管可被分離，為結構及/或特性包括，但不侷限於，不對稱性、直徑、能帶間隙，及/或電性種類之函數。
本發明之另一目的係提供此分離方法與系統，其可用於與現存之自動化技術結合，並可放大規模為工業用量製造。
本發明之其他目的、特徵與優點將由此發明內容與後續某些實施例之說明而更臻清楚，其為奈米碳管特性製造與相關分離技術領域者立即可知。此目的、特徵、助益與優點，結合後述範例、數據、圖示與由其衍生之合理參考資料，不論是單獨或考慮於此併入之參考文獻，將更臻清楚。
部分來說，本發明係相關於一種使用密度梯度以分離單壁奈米碳管之方法，其中該密度梯度係由流體介質提供。此一方法可包括離心一流體介質以及一組成物，該組成物包含一第一界面活性成分、一第二界面活性成分，以及一單壁奈米碳管混合物，以沿著密度梯度分離該混合物，以及自該流體介質單離出一分離分液，其中該分離分液包含經分離之單壁奈米碳管。更特別的是該單壁奈米碳 管混合物可包括某一範圍之奈米碳管直徑尺寸、不對稱性與電性種類，以及該第一界面活性成分與第二界面活性成分之比例不為4：1。
如此所述，應瞭解到單離一分離分液，通常可提供界面活性成分與單壁奈米碳管混合物所形成之錯合物，其中單離後之處理，如移除SWNTs之界面活性成分，如藉由清洗、透析及/或過濾，可提供實質上純或乾淨之單壁奈米碳管。然而，如此處簡要描述，干擾可能是由於單壁奈米碳管混合物造成，而非錯合物，且此種干擾應解釋為包含該錯合物，由此描述可瞭解，除非另有說明其為非錯合化單壁奈米碳管，如乾淨之SWNTs。
在某些實施例中，該第一界面活性成分為一膽鹽，以及該第二界面活性成分為一陰離子性烷基兩親分子(amphiphile)。該流體介質與該組成物可離心一段時間，及/或以足以使混合物至少沿著密度梯度產生部分分離之旋轉速率離心。此分離方法不受到如奈米碳管直徑、不對稱性，及/或電性種類限制。在某些實施例中，混合物中之單壁奈米碳管可獨立地具有直徑至多約20Å或更大。在某些實施例中，尺寸範圍為約7Å至約11Å，而在其他實施例中，尺寸可大於約11Å(例如，範圍為約11Å至約16Å)。不受到限制，經分離之單壁奈米碳管之窄分佈可於分離分液與後續分離中提供。例如，在某些實施例中，大於約70%之經分離單壁奈米碳管可為半導體性。在其他實施例中，大於約50%之經分離單壁奈米碳管可為金屬性。在某些實施例中，該 方法可包括單離後處理該經分離之單壁奈米碳管，以提供乾淨的單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可進一步包括使用該分離分液重複該離心與單離步驟。
部分來說，本發明亦相關於一種使用密度梯度分離單壁奈米碳管之方法，以電性種類為基礎，其中該密度梯度係由流體介質提供。此方法可包括離心一流體介質以及一組成物，該組成物包含一單壁奈米碳管混合物(包括半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管)，以及至少二界面活性成分(如第一界面活性成分與第二界面活性成分)，以沿著密度梯度分離該混合物，並自流體介質單離出實質上半導體性之分離分液，或實質上金屬性之分離分液。使用於此，實質上半導體性之分離分液，係指該分離分液包括大部分或高濃度或高百分比之半導體性單壁奈米碳管。例如，該實質上半導體性之分離分液可包括較高濃度或百分比之半導體性單壁奈米碳管，與該混合物相較。類似地，使用於此，實質上金屬性之分離分液係指一分離分液，包括大部分較高濃度或百分比之金屬性單壁奈米碳管。例如，該實質上金屬性之分離分液可包括較高濃度或百分比之金屬性單壁奈米碳管，與該混合物相較。在某些實施例中，該離心後單離出之分離分液可為實質上半導體性。在其他實施例中，該離心後單離出之分離分液可為實質上金屬性。例如，在某些實施例中，在分離分液中之大於約70%單壁奈米碳管為半導體性單壁奈米碳管。在其他實施例中，分離分液中大於約50%單壁奈米碳管為金屬性單壁奈 米碳管。該流體介質與該組成物可離心一段時間，及/或以足以使混合物至少沿著密度梯度部分分離之旋轉速率離心。在某些實施例中，混合物中之單壁奈米碳管可獨立地具有直徑至多約20Å或更大。在某些實施例中，尺寸範圍為約7Å至約11Å，而在其他實施例中，尺寸可大於約11Å(例如，範圍為約11Å至約20Å，或約11Å至約16Å)。
在某些實施例中，該第一界面活性成分為一膽鹽，以及該第二界面活性成分為一陰離子性烷基兩親分子(amphiphile)。在某些實施例中，該方法可包括單離後處理該經分離之單壁奈米碳管，以提供乾淨之單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括重複該離心與單離步驟，使用該分離分液。例如，第一分離分液離心後，可使用電性種類進行第二次分離。該第二次分離可提供一第二分離分液，其具有較高濃度所希望之電性種類，與第一分離分液相較。除了基於電性種類之分離外，該方法可更包括以奈米碳管直徑尺寸，及/或不對稱性而分離，如，藉由重複離心與單離步驟，使用該分離分液。在某些實施例中，使用實質上半導體性分離分液重複該離心與單離步驟，可提供後續之分離分液，其主要包括具預定範圍窄直徑尺寸之半導體性單壁奈米碳管(例如，直徑尺寸約7.6Å、直徑尺寸約8.3Å、直徑尺寸約9.8/10.3Å等)。
部分來說，本發明係相關於一種增加具有半導體性單壁奈米碳管之單壁奈米碳管群之方法。此一方法可包括自半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物中， 單離出半導體性單壁奈米碳管，而不需要不可逆地修飾該金屬性單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括自半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物中，分離出半導體性單壁奈米碳管，而不需要不可逆地修飾該金屬性單壁奈米碳管(即，在自該混合物單離出該半導體性單壁奈米碳管前)。
在某些實施例中，該方法可包括處理該增加之奈米碳管群，以提供乾淨之單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括離心該半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物。在某些實施例中，該方法可提供一單壁奈米碳管群，其包含至少70%半導體性單壁奈米碳管。除了提供具增加之半導體性單壁奈米碳管之管群外，該方法更可增加具預定奈米碳管直徑尺寸，及/或不對稱性之實質上半導體性之管群。例如，該方法可提供實質上半導體性之管群，其更進一步增加具直徑尺寸約7.6Å、直徑尺寸約8.3Å、直徑尺寸約9.8/10.3Å者等。在某些實施例中，混合物中之單壁奈米碳管(即在分離前)可獨立地具有直徑尺寸至多約20Å或更多。在某些實施例中，該尺寸範圍為約7Å至約11Å，而在其他實施例中，該尺寸可大於約11Å(例如，自約11Å至約20Å，或自約11Å至約16Å)。
部分來說，本發明係相關於一種增加具有金屬性單壁奈米碳管之單壁奈米碳管群之方法。此方法包括自半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物中，單離出金屬性單壁奈米碳管。如前所述，目前用於分離金屬性單 壁奈米碳管之方法係基於電性異質性混合物，已報導會導致奈米碳管側壁之崩解。因此，本發明更部分相關於一種分離單壁奈米碳管之方法，基於電性種類，其中該方法係提供一種實質上金屬性分離分液，其主要包括實質上完整之金屬性單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括自半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物中，分離出該金屬性單壁奈米碳管(即，在自混合物中單離出金屬性單壁奈米碳管之前)。
在某些實施例中，該方法可包括處理經增加之碳管群，以提供單純的單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括離心該半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物。在某些實施例中，該方法可提供一單壁奈米碳管群，其包括至少50%之金屬性單壁奈米碳管。除了提供一群富含金屬性單壁奈米碳管之碳管群外，該方法更可增加實質上金屬性之管群，其具有預定範圍之奈米碳管直徑尺寸，及/或不對稱性。在某些實施例中，混合物中之單壁奈米碳管可獨立地具有直徑至多約20Å或更多。在某些實施例中，尺寸範圍為7Å至約11Å，而在其他實施例中，尺寸可大於約11Å(例如，範圍為約11Å至約20Å，或自約11Å至約16Å)。
部分來說，本發明亦相關於一種使用密度梯度，自該半導體性與金屬性單壁奈米碳管混合物中，單離出金屬性單壁奈米碳管之方法。該方法包括提供一界面活性成分系統，離心一流體介質，其包括密度梯度與組成物，該組成 物包括界面活性成分系統與半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物，以沿著梯度密度分離該混合物，並自流體介質中單離出一實質上金屬性之分離分液。更特別的是，該界面活性成分系統可包括一第一界面活性成分，以及一第二界面活性成分，其中該第一界面活性成分與該第二界面活性成分之比例係經調整，使得當該界面活性成分系統與單壁奈米碳管混合物接觸並離心時，實質上金屬性之含SWNT分離分液具有不同之密度(如較小或較大密度)，與另一含有實質上半導體性之SWNTs分離分液相較。該流體介質與該組成物可離心一段時間，及/或以足以使該混合物至少沿著密度梯度產生部分分離之旋轉速率離心。
在某些實施例中，該第一界面活性成分為一膽鹽，以及該第二界面活性成分為一陰離子性烷基兩親分子(amphiphile)。在某些實施例中，該第一界面活性成分與該第二界面活性成分可小於約1。在某些實施例中，該方法可包括處理該實質上金屬性之分離分液，如清洗，以提供一單純之金屬性單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括重複離心與單離步驟，使用實質上金屬性之分離分液。例如，第一分離分液離心後，可使用電性種類進行第二次分離。該第二次分離可提供一第二分離分液，其具有較高濃度或百分比之金屬性單壁奈米碳管，與第一分離分液相較。除了提供實質上金屬性分離分液，該方法可更包括以奈米碳管直徑尺寸，及/或不對稱性分離，如，藉由重 複該離心與單離步驟，使用實質上金屬性分離分液。在某些實施例中，混合物中之單壁奈米碳管可獨立地具有直徑尺寸至多約20Å或更多。在某些實施例中，尺寸範圍為約7Å至約11Å，而在其他實施例中，尺寸可大於約11Å(例如，自約11Å至約16Å)。在某些實施例中，分離分液中大於約50%之單壁奈米碳管為金屬性。
部分來說，本發明係相關於一種使用密度梯度以自金屬性單壁奈米碳管與半導體性單壁奈米碳管混合物中，單離出半導體性單壁奈米碳管之方法。該方法可包括提供一種界面活性成分系統，離心一流體介質，其包括一密度梯度與一組成物，該組成物包括該界面活性成分系統與一半導體性單壁奈米碳管與金屬性單壁奈米碳管混合物，以沿著密度梯度分離該混合物，並自該流體介質中單離出一實質上半導體性之分離分液。更特別的是，該界面活性成分系統可包括一第一界面活性成分與一第二界面活性成分，其中該第一界面活性成分與該第二界面活性成分之比例係經調整，使得當該界面活性成分系統與單壁奈米碳管混合物接觸並離心時，實質上半導體性之含SWNT分離分液具有不同之密度(及較小或較大密度)，與另一含實質上金屬性SWNTs之分離分液相較。該流體介質與該混合物可離心一段時間，及/或以足以使混合物至少沿著密度梯度產生部分分離之旋轉速率離心。
在某些實施例中，該第一界面活性成分可為膽鹽，且該第二界面活性成分可為陰離子性烷基兩親分子。在某些 實施例中，該第一界面活性成分與該第二界面活性成分之比例可大於約1。在某些實施例中，該方法可包括處理實質上半導體性之分離分液，以提供一單純之半導體性單壁奈米碳管。在某些實施例中，該方法可包括重複該離心與單離步驟，使用實質上半導體性之分離分液。例如，第一分離分液離心後，可使用電性種類進行第二次分離。該第二次分離可提供一第二分離分液，其具有較高濃度或百分比之半導體性單壁奈米碳管，與第一分離分液相較。除了提供實質上半導體性之分離分液外，該方法更包括以奈米碳管直徑尺寸，及/或不對稱性分離，如，藉由重複該離心與單離步驟，使用實質上半導體性之分離分液，以提供後續之分離分液，其主要含有半導體性單壁奈米碳管，具有預定範圍之直徑尺寸(如直徑尺寸約7.6Å、直徑尺寸約8.3Å、直徑尺寸約9.8/10.3Å等)。
如本文別處所述，經選擇性分離之奈米碳管，可經由光譜法，及/或螢光法辨識，此種辨識亦可包括分別比較吸收及/或發射光譜，具有相對應之參考光譜。
部分來說，本發明亦相關於一種使用界面活性成分改變奈米碳管浮力密度之方法。此一方法可包括提供一流體介質，其包括一密度梯度；使結構及/或電性種類不同之單壁奈米碳管混合物，與至少一界面活性成分接觸，以提供不同之浮力密度；將介質與該組成物混合物接觸；該流體介質與該混合物可離心一段時間，及/或以足以使混合物(即錯合物)至少沿著梯度之浮力密度部分分離之旋轉速率離 心；並藉由結構及/或電性種類進行篩選，自該介質中分離該奈米碳管之一群或一部份。可使用之流體介質與加入之物質，以及界面活性成分，係如此所述。就後者而言，不同之浮力密度，可選擇性地以二或多種界面活性成分改變或修飾，其中此種接觸及/或交互作用可為結構及/或電性種類之函數。
該奈米碳管可為一直徑尺寸隨著梯度密度及其所在位置而增加者。這些經選擇性地分離之奈米碳管包括至少一不對稱性，及/或至少一電性種類。其中此奈米碳管包括至少二不對稱性，該選擇可包括重複性分離，如此文別處所述，更進一步沿著梯度分離。其中此奈米碳管包括電性種類之混合物，本發明可包括重複性分離，如本文別處所述，可更進一步沿著梯度進行電性種類分類。若如此，至少一此種分離可在界面活性成分、介質組成或相同度、介質密度梯度，及/或介質pH上改變而不同，自一或多次後續分離。
部分來說，本發明係相關於一種分離奈米碳管之系統。此系統可包括一流體密度梯度介質，以及一組成物，其包括至少一界面活性成分與奈米碳管，包括某一範圍之不對稱性、直徑尺寸，及/或電性種類，並具有界面活性成分與奈米碳管形成之錯合物，沿著介質梯度分佈。直徑尺寸僅受限於製造奈米碳管時所使用之合成技術。不受到限制，直徑尺寸範圍可小於或約4Å至約7Å、至約16Å，或至約20Å，或更大。同樣地，此系統中之奈米碳管並不受到不對稱性或電性種類限制。不受到限制，此不對稱性可由此 處討論之任一或組合方法選擇。獨立於不對稱性、直徑或任一其他結構性或物理性特徵，此系統中之奈米碳管可為半導體性及/或金屬性。無論如何，流體密度梯度介質，與一或多種界面活性成分，具有或不具共界面活性劑，可就於此討論之觀點選擇。
在某些實施例中，此系統之奈米碳管可選擇性地藉由直徑，及/或電性種類分離，此特徵可對應於，藉由描述於此之技術比較，各自之製造流程，及/或購買來源。因此，依據本發明分離之奈米碳管(如，不受限制，單壁奈米碳管)，可辨識為實質上或主要為半導體性或金屬性，或直徑範圍為約7Å至約16Å。不受限制，可經由使用本發明方法而獲得之選擇性，可以直徑差異小於約0.6Å來分離之奈米碳管指示出。如同進一步指示，此一電性種類或此直徑範圍之奈米碳管可為實質上(n,m)一不對稱性，或(n,m)不對稱性混合物，其中n與m標示為不對稱中心。
本發明更進一步相關於一單壁奈米碳管群，其實質上單分散，在其結構，及/或特性方面。換句話說，此管群一般具有一或多種預定結構或功能特徵之窄分佈。例如，在某些實施例中，該管群可為實質上單分散，在直徑尺寸方面(如大於約75%，包括大於約90%，與大於約97%之單壁奈米碳管於單壁奈米碳管群中，可具有較該群平均直徑小約0.5Å之直徑，大於約75%，包括大於約90%與大於約97%之單壁奈米碳管於該單壁奈米碳管群中，可具有較該群平均直徑小約0.2Å之直徑，大於約75%，包括大於約90%，與大 於約97%之單壁奈米碳管於單壁奈米碳管群中，可具有較該群平均直徑小約0.1Å之直徑)。在某些實施例中，該碳管群可為實質上單分散，在電性種類方面(如單壁奈米碳管群中大於約70%，包括大於約75%、大於約80%、大於約85%、大於約90%、大於約92%、大於約93%、大於約97%與大於約99%之單壁奈米碳管可為半導體性，或單壁奈米碳管群中大於約50%，包括大於約75%、大於約90%、大於約97%與大於約99%之單壁奈米碳管為金屬性)。在某些實施例中，該群為實質上單分散，在其不對稱性方面(如，單壁奈米碳管群中大於約30%，包括大於約50%、大於約75%，以及大於約90%之單壁奈米碳管，可包括相同之不對稱性種類(n,m))。
應瞭解到，本發明之奈米碳管群為鬆散或大量奈米碳管，其不同於成長或附著於一特定用途之基板上之奈米碳管。
亦包含於本發明中者為一製造元件，其包括本發明之單壁奈米碳管群，且這些元件包括由本發明方法提供之經單離或原始之單壁奈米碳管。此類製造元件之範例包括，但不侷限於，各種電子裝置、光學裝置或光電裝置。此種裝置之範例包括，但不侷限於，薄膜電晶體(如場效應電晶體)、化學感應器、近紅外線發射器與近紅外線偵測器。本發明之製造元件之其他範例包括透明導電薄膜、積體電路連結用材料，以及組成物中之傳導性添加物。
本專利或申請檔案包含至少一彩色圖示。此具備彩色圖示之專利或專利申請公開案將依據智慧財產局之要求提供，並繳交所需費用。
應瞭解到某些圖示並非一定要依照比例，重點一般在於說明本發明原則。各圖示並非用於以任何方式限制本發明範疇。
第1圖顯示不同之奈米碳管物理結構。
第2圖為密度梯度離心之流程圖。
第3(a)-(c)圖為說明界面活性劑包覆與經由密度分類之流程圖。
第4圖說明各密度梯度層，及其在超高速離心中之重新分佈。第4(a)圖為典型、起始密度梯度圖。第4(b)圖為密度梯度重新分佈之圖示。
第5圖顯示SWNTs如何經由密度梯度濃縮，經由超高速離心，使用大幅度之密度梯度。
第6圖為吸收光譜，用於決定SWNT之相對濃度。
第7圖說明經SC-包覆之CoMoCAT-合成之SWNTs(其具有直徑範圍7-11Å)之分離，經由密度梯度超高速離心。第7(a)圖為離心管經一步驟分離後之照相圖。第7(b)圖為分離後之光吸收光譜(1cm路徑長度)，使用密度梯度超高速離心分離。
第8圖說明經SDBS-包覆之CoMoCAT-合成之SWNTs之分離，經由密度梯度超高速離心。第8(a)圖為離心管經一步驟分離後之照相圖。第8圖(b)為分離後之光吸收光譜(1cm 路徑長度)，使用密度梯度超高速離心分離。
第9圖為(a)經脫氧膽酸鹽包覆之SWNTs，(b)經牛磺脫氧膽酸鹽包覆之SWNTs，以及(c)經SDS-包覆之SWNTs，經單一界面活性劑密度梯度分離，之光譜圖。
第10圖說明經SC-包覆之雷射剝蝕合成之SWNTs之分離，經由密度梯度超高速離心。第10(a)圖為離心管經一步驟分離後之照相圖。第10(b)圖為分離後之光吸收光譜(1cm路徑長度)，使用密度梯度超高速離心分離。
第11圖為冷光光譜，用於決定SWNT之相對濃度。第11(a)圖描繪冷光密度為激發光與放射光波長(分別為垂直與水平軸)之函數。第11(b)圖描繪740nm之冷光密度對激發波長。第11(c)圖與第11(d)圖則分別描繪冷光密度之偏微分，作為激發光與放射光波長(分別為垂直與水平軸)之函數，以及740nm之冷光密度對激發波長。
第12圖描繪冷光密度為激發光與放射光波長之函數，微調度(refinement)增加。
第13圖為第12圖冷光光譜相對應之光學光譜。
第14圖係描繪(6,5)、(7,5)與(9,5)/(8,7)不對稱性之CoMoCAT-成長SWNTs之濃度(分別由空心三角、空心圓與空心星號表示)對密度：(a)SC，無緩衝液，pH=7.4；(b)SC，20mM Tris緩衝液，pH 8.5；(c)SC，添加SDS作為共界面活性劑(1：4重量比例，SDS：SC)。
第15圖描繪冷光密度為激發光與放射光波長軸之函數。第15(a)圖係由分離前HiPCO-成長SWNTs之不均勻群獲 得。第15(b)與15(c)圖係由HiPCO-成長SWNTs之不均勻群獲得，在使用共界面活性劑系統分離後(1：4重量比例，SDS：SC)。
第16圖顯示藉由電性種類分離之最佳化，使用共界面活性劑之競爭混合物。第16(a)圖為照相圖，顯示單離主要半導體性雷射-剝蝕-合成之SWNTs，使用共界面活性劑系統(1：4 SDS：SC)。第16(b)圖顯示光學吸收光譜(1cm路徑長度)，在使用密度梯度超高速離心後。
第17圖顯示雷射-剝蝕-合成之SWNTs之光學吸收光譜，於最佳化共界面活性劑系統中分離，分離出主要金屬性SWNTs(3：2 SDS：SC)，與主要半導體性SWNTs(3：7 SDS：SC)。
第18圖係比較單離主要金屬性SWNT分液之光學吸收光譜，使用3：2 SDS：SC共界面活性劑系統(經最佳化，為空心圓，第16圖)，對應1：4 SDS：SC共界面活性劑系統(未最佳化，空心星號，第15圖(b))。
第19圖係比較未分類雷射-剝蝕-合成之SWNTs與經分類半導體性雷射-剝蝕-合成之SWNTs之光學吸收光譜，其中該雷射-剝蝕-合成之SWNTs係得自三種不同來源：(a)粗，未純化之雷射-剝蝕-合成之SWNTs，得自Carbon Nanotechnologies,Inc.(批次A)；(b)經硝酸純化之雷射-剝蝕-合成之SWNTs，得自IBM(批次B)；以及(c)經硝酸純化之雷射-剝蝕-合成之SWNT，得自IBM(批次C)。
第20圖顯示未分類(空心星號)、經分類金屬性(空心三 角)，與經分類半導體性(空心鑽石)雷射-剝蝕-合成之SWNTs之光學吸收光譜，具增進之訊號-雜訊比。約900nm之星號處係等同於來自偽半導體性SWNTs之光學吸收光譜。約600nm之星號處係等同於來自金屬性SWNTs之光學吸收光譜。
第21圖顯示經分類金屬性SWNTs吸收幅度減去基值。第21(a)圖為得自金屬性SWNTs之吸收測量值。第21(b)圖顯示偽半導體性SWNTs之吸收測量值。
第22圖顯示經分類半導體性SWNTs吸收幅度減去基值。第22(a)圖為得自金屬性SWNTs之吸收測量值。第22(b)圖為偽半導體性SWNTs之吸收測量值。
第23圖顯示未分類SWNTs吸收幅度減去基值。第23(a)圖為得自金屬性SWNTs之吸收測量值。第23(b)圖顯示偽半導體性SWNTs之吸收測量值。
第24圖說明分類實驗之典型產率，藉由繪製起始SWNTs百分比對應分液編號。第24(a)圖指出之數據係對應於942nm之起始材料標準化吸收值(S22)，於1：4 SDS：SC半導體性雷射-剝蝕-合成之SWNTs之分類試驗中(第16(a)-(b)圖)。最左邊箭號指出半導體性SWNTs之橘色帶(第16圖(a))，最右邊箭號指出黑色聚集帶(指向第16(a)圖離心管底部)。第24(b)圖指出之數據係對應於982nm之起始材料標準化吸收值((6,5)不對稱性之一級轉換)，於CoMoCAT-成長SWNTs之SC分類實驗(第7(a)-(b)圖)，以直徑為基準。箭號指出洋紅色帶(第7(b)圖)。
第25圖顯示半導體性與金屬性SWNTs之電子裝置。第25(a)圖為源與汲極電極之週期性陣列(強調單一裝置)。第25(b)圖為薄膜、過濾式SWNT網路之代表性原子力顯微鏡(AFM)影像。第25(c)圖顯示一場效應電晶體(FET)幾何分佈(s=源極；g=柵極；d=汲極)。SWNT網絡形成於100nm、熱-成長SiO2層上，其作為柵介質。第25(d)圖顯示薄膜片電阻倒數為半導體性(空心三角)與金屬性(空心圓)SWNTs，經共界面活性劑密度梯度純化之柵偏壓之函數。半導體性SWNT網絡之電性移動性，可由源極-汲極電流對柵偏壓而預測，在固定源極-汲極偏壓之FETs“開啟”狀態下，呈一直線(***法)。
第26(a)圖為半導體性網絡影像圖，取自AFM(規格尺為0.5μm)。第26(b)圖顯示相同之影像，具有導電路徑，由於SWNTs係以黑色追蹤。
較佳實施例之詳細說明
在整份說明書中，其中該組成物係描述為具有、包括，或包含特定成分，或該方法係描述為具有、包括，或包含特定流程步驟，係考量到本發明之組成物亦必須由或由引用之成分組成，且本發明方法亦必須由或由引用之流程步驟組成。應瞭解到該步驟之順序或進行某些反應之順序並不重要，只要該方法維持可操作。此外，二或多種步驟或動作可同時引入。
在本申請案中，其中該元件或成分係包括於，及/或選 自一系列引用之元件或成分，其應瞭解到該元件或成分可為任一引用之元件或成分，並可選自一群由二或多種引用元件或成分組成之族群。此外，應瞭解到元件，及/或組成物之特徵、裝置或於此描述之方法，可以多種方式組合，而不脫離本發明精神與範疇，不論是詳盡或不詳盡。
術語“包括”、“具有”之使用可為一般性之瞭解，為開放式且不受限制，除非另有指出。
於此使用之單數用詞包括複數(反之亦然)，除非另有特定說明。此外，使用術語“約”於特定量數值前，在本揭示中亦包括該特定量數值本身，除非另有指出。
應瞭解到，於此指稱之“奈米碳管”係指單壁奈米碳管(SWNTs)，除非另有指出，或描述中另有說明。使用於此，術語“奈米碳管”、“單壁奈米碳管”，或“SWNTs”，應瞭解為包括單壁奈米碳管，由任一目前或未來之技術合成者，並具有任一物理性特徵(如電性種類或不對稱性)，或尺寸(如單獨直徑或長度)，由任一目前或未來之技術達成者，除非另有指出，或描述中另說明。例如，取決於製備SWNTs所使用之合成方法，該SWNTs可具有單獨長度範圍為約1-107nm(約10Å至約1cm)，及單獨直徑範圍約0.5-10nm(約5-100Å)。至目前為止，單壁奈米碳管係由方法包括高壓一氧化碳分解法(“HiPCO”)、Co-Mo催化法(“CoMoCAT”)、雷射剝蝕、電弧放電法，與化學蒸汽沈積法合成，由這些技術之一或多者合成之SWNTs之單獨直徑可為至多約10Å(如自約5Å至約10Å)、至多約20Å(如自 約5Å至約20Å、自約5Å至約16Å、自約5Å至約11Å、自約7Å至約20Å、自約7Å至約16Å、自約7Å至約11Å、自約11Å至約20Å，或自約11Å至約16Å)，以及至多約50Å(如自約5Å至約50Å、自約7Å至約50Å、自約11Å至約50Å、自約16Å至約50Å，或自約20Å至約50Å)。由於本發明之概念與原則並非取決於待分離之SWNTs之單獨物理尺寸，本方法與系統可應用於分離SWNTs，不論其單獨直徑大小，包括具有單獨直徑大於目前可獲得之合成方法所合成之SWNTs。
在一觀點中，本發明係相關於分離結構性及/或特徵性非均質SWNTs。本發明方法可允許SWNTs之分離為結構及/或一或多種其他特性，不需化學性或物理性修飾奈米碳管，之函數。本發明方法可同時達到直徑與不對稱性、直徑與電性種類、電性種類與不對稱性，或直徑、電性種類與不對稱性之選擇性，並可應用於分離具廣範圍直徑之SWNTs。此外，本發明方法為一般性且可量產，並可用於與現有之自動化結合。
更特別的是，本發明係提供一種分離奈米碳管之方法，藉由至少一種選定之特性。至少一選定之特性為不對稱性、直徑、能帶間隙與電性種類(金屬性對半導體性)之一或多者。這些特徵之某一部份可獨立於其他特徵，而其他的則互相有關係。例如，已知特定奈米碳管的直徑與電性種類可決定其不對稱指數，如第1圖所示。奈米碳管之物理結構(不對稱性)係由二整數(n,m)，不對稱指數，代表，如C=na1+ma2，其中C為捲筒狀向量，其定義奈米碳管之圓 周，以及a1與a2為一級晶格向量，其定義一石墨薄片。在第1圖中，金屬性SWNTs標示為綠色，mod(n,m)=1，而mod(n,m)=2半導體性SWNTs係分別標示為紅色和藍色。該方法可包括接觸將該奈米碳管與一試劑接觸，其會有差別地與奈米碳管反應，依據至少一選定特性而不同。在某些實施例中，該試劑可有差別地影響奈米碳管的密度，為至少一選定特性之函數。
因此，本發明方法係相關於使用密度梯度以分離奈米碳管之方法，如藉由密度梯度離心法。本發明之方法可包括創造或強化奈米碳管中之密度(每單位體積之質量)差異，如具有各種結構及/或特性(如不對稱性、直徑、能帶間隙，及/或電性種類)之SWNTs。該密度差異可為浮力密度差異。SWNT於流體介質中之浮力密度可取決於多種因素，包括奈米碳管本身之質量與體積，其表面之官能基化，以及靜電性結合水合層。例如，奈米碳管之表面官能基化可為非共價性，並可以一或多種界面活性成分(如界面活性劑)包覆該奈米碳管。因此，在某些實施例中，本發明方法可包括將各種結構及/或特性之單壁奈米碳管與至少一界面活性成分(如界面活性劑)接觸，以於單壁奈米碳管中提供不同之浮力密度，此時由界面活性成分與單壁奈米碳管形成之錯合物係置於流體介質中，其包括密度梯度。浮力密度之差異可為奈米碳管直徑、能帶間隙、電性種類，及/或不對稱性之函數，因而允許單壁奈米碳管依據直徑、能帶間隙、電性種類，及/或不對稱性而分離。
一般而言，密度梯度離心係使用具預定密度變異之流體介質，為離心管內或區間內(即密度梯度)位置之函數。密度梯度離心法係示於第2圖。不同密度之樣本係沿著密度梯度沈降，直至其達到各自之等密度點，即，梯度中沈降停止之點，由於在該點樣本之浮力密度與流體介質之浮力密度相等。
使用於本發明之流體介質僅受到奈米碳管沈積之限制，排除至少部分分離。因此，不受限制，水性與非水性流體皆可與任一可溶解或分散於其中之物質結合，在某一範圍濃度內，以提供該介質一密度梯度，以用於此述之分離技術。此物質可為離子性或非離子性，其非限制範例分別包括無機鹽與醇類。在某些實施例中，如下更詳細之描述，此一介質可包括某一範圍之水性碘克沙醇(iodixanol)濃度，與相對應之濃度密度梯度。同樣的，如下所述，本發明方法可受到梯度斜率影響，亦受到離心管或分層長度及/或離心角度影響。
如先前技術中所瞭解的，水性碘克沙醇為一普遍、廣泛使用之非離子性密度梯度介質。然而，其他具有良好作用之介質亦可使用，亦為此技術領域者所瞭解。更常見為，任一於該流體或溶劑中穩定、可溶或可分散之材料或物質，皆可選用於作為密度梯度介質。某一範圍之密度可由溶解此材料或化合物於一具不同濃度之流體中而形成，而密度梯度則可於，如，一離心管或分層中獲得。更特別的是，就介質的選擇而言，該奈米碳管，不論有無官能基化， 皆應為可溶性、穩定或可分散於該流體/溶劑或所得之密度梯度中。同樣的，自實際觀點而言，梯度介質之最大密度係以此類材料或化合物於所選擇之溶劑或流體中之溶解度限制，應至少為該特定奈米碳管(及/或具有一或多種界面活性成分，如界面活性劑之組成物)之浮力密度，就特定介質而言。
因此，就本發明而言，任一水性或非水性密度梯度介質皆可用於提供該穩定之單壁奈米碳管；即，並不會有大量聚集發生而排除有效之分離。碘克沙醇之替代物包括，但不侷限於，無機鹽類(如CsCl、Cs2SO4、KBr等)、多氫醇(如蔗糖、甘油、山梨糖醇等)、多醣(如聚蔗糖、葡聚糖等)、其他除了碘克沙醇以外之碘化化合物(如達***(diatrizoate)、尼寇丹(nycodenz)等)，以及膠體材料(如，但不侷限於普寇(percoll))。其他可用於與本發明結合之介質為此技術領域所瞭解，藉由本發明，及/或藉由審查中美國專利申請案號11/368,581，於2006年3月6日提申，在此併入本案以作為參考資料，所揭示者。
其他適當密度梯度介質選擇所需考慮參數包括，不受限制，擴散係數與沈降係數，兩者皆可決定在離心過程中，該梯度重新分佈有多快。一般而言，就較平緩之梯度而言，較大之擴散係數與較小之沈降係數為較希望的。例如，Percoll®為一非離子性密度梯度介質，具有一相對小之水親和性，與其他介質相較。然而，具有大沈降速率與小擴散係數，則會導致快速之重新分佈與陡峭之梯度。而價格則 為另一個考量因素，本發明方法傾向於減輕此考量，可重複地再循環與回收使用。例如，當水性碘克沙醇相對於其他密度梯度介質較貴時，其可再循環，而碘克沙醇可以高產率回收，以於一系統後再使用於另一分離系統。
不論介質相等性或密度梯度，奈米碳管之非均質性樣本(如各種結構及/或特性之奈米碳管混合物)可引入該流體介質於該梯度之任一點上，在離心前。在某些實施例中，該奈米碳管之非均質性樣本(或一組成物，包括該奈米碳管與至少一界面活性成分之非均質性樣本)，可引入於沿著梯度上之一空間點，該處密度大致隨著時間維持恆定，即使密度梯度隨著離心過程變為較陡峭。此不變之點較佳為具有一密度，其對應引入該處之奈米碳管組成物之浮力密度。
在引入密度梯度介質之前，該奈米碳管之非均質性樣本可提供於組成物中，具有一或多種界面活性成分。一般而言，此成分可與該流體介質結合，降低奈米碳管之堆積。在某些實施例中，該一或多種界面活性成分可包括一或多種界面活性劑，選自於廣範圍之非離子性或離子性(陽離子性、陰離子性或兩性離子)兩親分子。在某些實施例中，該界面活性成分可包括一陰離子性界面活性劑。在某些實施例中，一界面活性成分可包括一或多種硫酸鹽、磺酸鹽、羧酸鹽類，及其組合。在某些實施例中，一界面活性成分可包括一或多種膽鹽(包括，但不侷限於，膽酸鹽、脫氧膽酸鹽、牛磺脫氧膽酸鹽，及其組合物)，或其他具有陰離子性頭部基團，與彈性烷基尾部之兩親分子(於此可與陰離子 性烷基兩親分子交換使用；如，但不侷限於，十二烷基硫酸鹽與十二烷基苯磺酸鹽)。此類膽鹽之範例包括，但不侷限於，膽酸鈉(SC)、脫氧膽酸鈉，與牛磺脫氧膽酸鈉。具有陰離子性頭部基團與彈性烷基尾部之兩親分子之範例包括，但不侷限於，十二烷基硫酸鈉(SDS)與十二烷基苯磺酸鈉(SDBS)。更常見的是，此膽鹽可廣泛地描述為一具分子剛性之基團，以及一平面之兩親分子，其疏水性電荷互相面對。如此，這些膽鹽(或其他具有類似於這些膽鹽特徵之界面活性成分)，可基於奈米碳管之交互作用，提供一平面及/或剛性之結構構形，可誘發不同之奈米碳管浮力密度。在其他實施例中，該界面活性成分可包括陽離子性界面活性劑。例如，此一成分可選自具有陽離子性頭部基團與彈性或剛性尾部之兩親分子(如四級銨鹽)。
不希望受限於任何特定理論，對於石墨薄膜(graphene)，其最接近於SWNT類似物，之一研究已報導，當陰離子性烷基界面活性劑整合至具有類似液體之疏水中心之半圓錐形微胞(micelles)中時(EM.F.Islam,E.Rojas,D.M.Bergey,A.T.Johnson,A.G.Yodh,Nano Lett.3,269(2003)；E.J.Wanless,W.A.Ducker,J.Phys.Chem.100,3207(1996))，膽鹽會形成良好結構之單層，其具有較不極化側面對該疏水性表面(Y.Sasaki et al.,Colloids Surf.,B 5,241(1995))。已報導該膽鹽形成良好定義之環繞小疏水性分子之客-主結構順序(S.Mukhopadhyay and U.Maitra,Curr.Sci.87,1666(2004)；J.Tamminen,E.Kolehmainen, Molecules 6,21(2001))。因此，該膽鹽之剛性與平面性，相對於陰離子烷基界面活性劑，可預期會產生包覆層，其對於下層SWNT之細微改變相當敏感。其他效應，如金屬性SWNTs與界面活性劑間之電荷轉移，亦相當重要。
密度梯度離心可用以比較廣範圍之界面活性劑-包覆SWNTs之分離狀況。不受限於任何理論，以界面活性劑為基礎之分離，經由密度梯度離心法，一般相信大多係由界面活性劑如何組織而環繞於不同結構與電性種類之SWNTs而主宰。第3(a)-(c)圖，舉例而言，係說明單一種類之界面活性劑如何包覆具不同結構(在此案例中，為直徑)之奈米碳管。此種包覆係貢獻一密度差異，正比於奈米碳管之直徑，此類經界面活性劑包覆之SWNTs之分離可經由密度梯度超高速離心而達成。在奈米碳管、水與界面活性劑-界面活性劑間之能量平衡，以及其包覆密度、相位、離子化與這些界面活性劑所產生之水合情況，皆為相當重要之參數，會影響浮力密度，以及分離與純化之品質。
當密度梯度離心法用於分離經DNA-包覆之SWNTs，藉由直徑與能帶間隙，DNA官能基化並非對於所有實施例都是最佳的。例如，由於受到水性密度梯度限制，經DNA-包覆之SWNTs可符合經重複密度梯度離心純化之微調(refinements)。此外，在增加後，DNA包覆之完全移除可能會是一個問題。此外，單股DNA之特定、客製化寡合物之可獲得性可能無法達成。對於電性種類(金屬性對半導體性)之敏感性仍未完全探索清楚。
因此，本發明方法係相關於使用不包括DNA或DNA片段之界面活性成分。例如，在該界面活性成分包括單一界面活性劑之實施例中，陰離子性兩親分子如陰離子性烷基界面活性劑，或上述之任一膽鹽，皆可使用。尤其是，許多本發明使用之界面活性劑價格明顯低於單股DNA。比較起來差異相當明顯，例如，膽酸鈉(98%純度)，得自Sigma-Aldrich(St.Louis,MO)，為100g規格，價格為$0.62/g，而單股DNA序列d(GT)20，最大規格(150mg規格，遠小於98%純度)，Alpha-DNA(Montreal,Canada)，價格則為$2242.80/g。此外，於此揭示SWNTs之界面活性成分為可逆性，並與廣範圍之管徑相容(如，SWNTs具直徑範圍約7Å至約16Å)。更重要的是，藉由使用此一界面活性成分，該SWNTs之結構-密度關係可容易地被控制，藉由改變界面活性成分中所含之界面活性劑。
如此所述，以本發明方法成功分離，係藉由使用界面活性劑如膽酸鹽，如膽酸，包括膽酸鈉、脫氧膽酸鈉與牛磺脫氧膽酸鈉而達成。於密度梯度中之分離亦可使用其他界面活性成分而達成，如界面活性劑，與此述之原則與觀念，以及此技術領域者之知識一致。就單一界面活性劑之分離而言，獨特之結構-密度關係係於陰離子性烷基界面活性劑與膽鹽中觀察到，如下範例中所述。使用單一界面活性劑特別可用於以直徑分離。不受限於任何理論，一般相信使用單一界面活性成分會導致環繞於不同尺寸SWNTs之界面活性成分實質上均一厚度，於混合物中，且因此，導 致特定直徑之SWNTs實質上均一之密度。
在某些實施例中，該奈米碳管之非均質樣本可提供於組成物中，其具有至少二界面活性成分，該處至少二界面活性成分可為相同種類或不同種類。在某些實施例中，該至少二界面活性成分可競爭性地吸附於SWNT表面上。例如，該至少二界面活性成分可為二不同之界面活性劑。此一競爭性之共界面活性劑系統，可用於達成金屬性與半導體性單壁奈米碳管間之最佳化分離。例如，該至少二界面活性成分可包括二膽鹽，或者，具界面活性劑之膽鹽。在某些實施例中，使用具十二烷基硫酸鈉之膽酸鈉，比例介於約4：1與約1：4重，特別為7：3重，係觀察到，可獲得以電性種類分離SWNTs之良好選擇性。使用本發明方法觀察到之該金屬-半導體選擇性，指出某些程度界面活性劑之耦合，及/或其與下層具電子特性SWNTs之水合情況。此外，該界面活性劑之包覆，及其水合情況，似乎對於下層SWNTs之靜電篩選相當敏感。
在足夠之離心下(即，在選定之一段時間，及/或在選定之旋轉速率下，至少部分足以沿著介質梯度分離該奈米碳管)，至少一分離分液，其包括經分離之單壁奈米碳管，可自介質中分離。此分液可沿著梯度之某一點呈等密度。經單離之分液可包括實質上單分散之單壁奈米碳管，例如，就奈米碳管直徑尺寸、不對稱性與電性種類之至少一特性而言。可使用各種分液技術，包括，但不侷限於向上排代、抽吸(首先由新月狀或密集端)、管刺破、管切片、梯度交叉 與後續之萃取、活塞分液，以及任一技術上已知之分液技術。
經一次分離後收集之介質分液及/或奈米碳管，便具有足夠之選擇性，在以至少一選定特性(如直徑)分離該奈米碳管方面。然而，在某些實施例中，希望更進一步純化該分液，以增進其選擇性。因此，在某些實施例中，本發明方法可包括重複分離。特別的是，經單離之分液可提供於具相同界面活性成分系統，或不同界面活性成分系統之組成物中，該組成物可與相同之流體介質或不同之流體介質接觸，其中該流體介質可具有一密度梯度，其實際上與該流體介質相同或不同，係獲得該經單離之分液。在某些實施例中，流體介質之條件或參數可自一次分離維持至另一次。在其他實施例中，至少一重複之分離可包括改變一或多種參數，如，但不侷限於，界面活性成分之相等性、介質相等性、介質密度梯度，及/或介質之pH，使用前述分離方法之一或多者。因此，於此揭示方法之某些實施例中，界面活性成分之選擇可與其可重複分離之能力相關，其，例如，被認為無法被DNA包覆SWNTs(部分來說，歸咎於自SWNTs上移除DNA之困難)。
在某些實施例中，如以不對稱性或電性種類分離，本發明方法可包括多次重複密度梯度離心，其藉由物理與電子結構分離之分離程度，可在每一次重複時增進。例如移除不希望之不對稱性可由成功地重複密度梯度離心而達成。此外，以界面活性劑包覆該SWNTs可經修飾，或在重 複間改變，使後續之分離精鍊可進行，密度與物理與電子結構間之關係可變化，為任一所得界面活性劑/包覆層之函數。在每一次分離後之單離分液，可在進一步錯合化與離心步驟前進行清洗。
經收集分液之選擇性可以各種分析方法確認。例如，可使用光學技術包括，但不侷限於，光譜技術，如光學光譜法分析與螢光法分析。此技術一般包括比較一或多種吸收及/或發射光譜，具有相對應之參考光譜。該經單離之奈米碳管分液一般具有較窄之分佈，在至少一選定特性之變化上。
如上所述，以目前技術合成之奈米碳管包括，但不侷限於，高壓一氧化碳法(“HiPCO”)、Co-Mo催化法(“CoMoCAT”)，以及雷射剝蝕法，一般具有非均質性結構與特性。例如，該CoMoCAT與該HiPCO法二者一般會產生具有直徑範圍約7Å至約11Å之SWNTs，而雷射剝除成長法一般會產生具有直徑範圍約11Å至約16Å之SWNTs。因此，在以此討論之方法分離前，該奈米碳管之非均質性樣本可具有各種不對稱性、直徑，及/或電性種類。在某些實施例中，該奈米碳管之直徑尺寸範圍為約7Å至約20Å、約7Å至約16Å、約7Å至約15Å、約7Å至約12Å、約7Å至約11Å、約7Å至約10Å、約11Å至約20Å、約11Å至約16Å、約11Å至約15Å、約12Å至約20Å、約12Å至約16Å、約12Å至約15Å。在某些實施例中，該奈米碳管之非均質性樣本可包括金屬性奈米碳管與半體性奈米碳管。
如下列範例所示，本發明之選擇性可藉由分離奈米碳管直徑小於0.6Å而達成。例如，在某些實施例中，本發明可提供奈米碳管群(如SWNTs)，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管可具有直徑差異小於約0.6Å，或>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管可具有在該群平均直徑約0.6Å內之直徑。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管具有直徑差異約0.5Å，或>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管具有在該群平均直徑約0.5Å內之直徑。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管可具有直徑差異0.2Å，或>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管可具有在該群平均直徑約0.2Å內之直徑。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管可具有直徑差異約0.1Å，或>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>50%之奈米碳管具有在該群平均直徑約0.1Å內之直徑。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>75%之奈米碳管可具有具有在該群平均直徑約0.5Å內之直徑。
本發明可達成之選擇性亦可藉由分離奈米碳管而指出，其中>33%之此種經分離奈米碳管為金屬性，或>67%之此種經分離奈米碳管為半導體性。例如，在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群(如SWNTs)，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>92%、>90%、>85%、>80%、>75%、>50%，或>33%之奈米碳管可為金屬性。在其他實施例中，本發明係揭示一奈米碳管群，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>92%、>90%、>85%、>80%、>75%，或>67%之奈米碳管可為半導體性。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>50%之奈米碳管可為金屬性。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>70%之奈米碳管可為半導體性。
類似地，可以本發明揭示達成之選擇性，可以奈米碳管之分離指示，其中>15%之此種經分離奈米為相同不對稱性(n,m)種類。例如，在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群(如SWNTs)，其中>99.9%、>99%、>97%、>95%、>90%、>85%、>80%、>75%、>50%、>30%，或>15%之奈米碳管可為相同之不對稱性(n,m)種類。在某些實施例中，本發明可提供一奈米碳管群，其中>30%之奈米碳管可包括相同之不對稱性(n,m)種類。
如此所述，密度梯度超高速離心可提供一奈米碳管大量純化量產之方法，藉由直徑、能帶間隙與電性種類。如下列範例所述，本發明可純化SWNTs之非均質混合物，並提供尖銳之直徑分佈，其中大於97%之半導體性SWNTs落 於平均直徑內0.2Å。此外，該SWNTs之結構-密度關係可經加工，達到指數型金屬-半導體分離，例如，藉由使用競爭性共界面活性劑之混合物，因而使SWNTs大量之分離可行，其主要為單一電性種類。
由於經本發明方法純化之SWNTs可與後續加工方法相容，並可整合至裝備中，本發明亦提供一種製造元件(包括電子裝置、光學裝置，及其組合)，以及其他技術應用，其需要具單分散結構與特性之SWNTs。
實施方式
下列非限制性範例與數據係說明與本發明方法及/或系統相關之各種觀點與特徵，包括用於奈米碳管分離之密度梯度介質之製備與使用，確認其可使用於此所述與技術上已知之光譜方法。與先前技術相較，本發明方法與系統係提供令人驚訝、未預期且相反之結果與數據。而本發明之產業可實施性，係經由使用數種方法與密度梯度介質，與其可使用之界面活性成分而達成，本技術領域者可瞭解到，使用各種其他介質與界面活性成分，可獲得可比較之結果，與本發明範疇一致。其他非限制性範例係基於範例考量而提供，前述圖示與相對應之討論，皆在此併入本案以作為參考資料。
範例1：使用不同單一-界面活性劑系統分離SWNTs
粗SWNT材料
係試驗不同直徑之SWNTs，利用由CoMoCAT法(其產生之小管約7-11Å直徑)，與雷射-剝蝕成長法(其產生小管約 11-16Å直徑)製造之SWNTs。CoMoCAT材料係購自Southwest Nanotechnologies,Inc.(Norman,OK)，為粗產物，僅移除矽膠而純化。該經雷射剝蝕成長之SWNTs係由Carbon Nanotechnologies Inc.(Houston,TX)製造，送達時為粗產物形式。
界面活性劑包覆
為了分散SWNTs於膽鹽或其他界面活性劑之溶液中，1mg/mL SWNTs係分散於2%w/v之界面活性劑溶液中，經由超高速離心。十二烷基硫酸鈉、電泳梯度，最小值99%，係購自Fisher Scientific。十二烷基苯磺酸，鈉鹽，80%(CH)均質烷基苯磺酸之混合物；膽酸鹽水合物，最小值99%，脫氧膽酸，最小值99%；以及牛磺脫氧膽酸鈉水合物，最小值97%TLC，係購自Sigma-Aldrich,Inc。該脫氧膽酸之鈉鹽係使用於實驗中，並藉由加入等莫耳濃度之NaOH而形成。係使用超音波震盪(Sonic Dismembrator 500,Fisher Scientific)，藉由浸入一超音速探針(微針頭延伸，Fisher Scientific)於3-15mL之SWNT溶液中。該探針係於40%儀器最大振幅下驅動60分鐘，於20kHz。在超音波震盪時，溶液係置入冰水浴中，以防止升溫。在某些範例中，在超音波震盪後，不溶物材料之大幅堆積可藉由超高速離心而移除，於54krpm離心14分鐘，使用TLA100.3轉子(Beckman-Coulter)。
創造密度梯度之方法
密度梯度係得自非離子性密度梯度介質，碘克沙醇水 溶液，購自OptiPrep® 60%w/v碘克沙醇，1.32g cm-3，(Sigma-Aldrich Inc.)。梯度係直接於離心管中創造出，藉由下二方法之一者，分層與後續之擴散，以及線性梯度標記。請見J.M.Graham,Biological centrifugation,(BIOS Scientific Publishers,Limited,ebrary,Inc.,2001)。在分層與後續之擴散法中，3-6層，每一層皆含有不連續、降低之碘克沙醇濃度，在離心管中分層。起初，此產生一密度梯度，自離心管之頂部至底部密度一段段增加。該離心管之後加蓋，梯度允許擴散1-18小時，取決於離心管之長度與擴散步驟中之傾斜角度，直至其接近線性。在另一創造密度梯度之方法中，一線性梯度標記(SG 15線性梯度標記，Hoefer Inc.)係用於直接在離心管中創造出線性梯度，而不需等待擴散。
在某些實施例中，下層之60%重每單位體積之碘克沙醇係置入於該梯度之底部，以升高在離心管中梯度之線性位置。同樣地，在某些實施例中，離心管可以僅由界面活性劑(0%w/v碘克沙醇)組成之覆蓋層填充。所有層一開始皆由相同濃度之界面活性劑組成，其一般為2%w/v。
就內含SWNTs於線性梯度中而言，可利用數種方法：(i)SWNTs，分散於界面活性劑溶液中(一般為2%w/v)，係於梯度頂部分層，在離心前；(ii)碘克沙醇係加至有SWNTs分散之水溶液中，以調整其密度，且此溶液之後置入線性梯度中，經由針筒於頂端加入，其中該梯度呈現之密度符合該溶液；以及(iii)碘克沙醇係加至有SWNTs分散之水溶液 中，且此溶液係作為階梯式梯度之一層。由於SWNTs之緩慢擴散速率，與碘克沙醇相較，係觀察到SWNTs維持於其初始位置，在擴散步驟中。
離心
離心係於二不同之轉子(rotor)中進行，一為固定角度式TLA100.3轉子，而另一為搖晃吊掛式SW41轉子(Beckman-Coulter)，於攝氏22度，且分別於64krpm與41krpm離心9-24小時，取決於空間容量與梯度之起始斜率。
起始梯度之典型斜率與密度(在離心前)
第4(a)-(b)圖顯示密度梯度之分層與其在超高速離心過程中之重新分佈。第4(a)圖為一流程圖，說明一典型、起始之密度梯度。在密集之下層與浮力上層之間，碘克沙醇之線性梯度係於離心前置入該層中。第4(b)圖顯示該密度分佈之重新分佈。在超高速離心時，該密度梯度介質(如碘克沙醇)，會在朝向離心管底部沈降時同步進行擴散，對應於向心力，由Lamm方程式驅動。
在TLA100.3離心管中(內直徑1.1cm，容量為3mL)，典型之梯度由頂部5%w/v碘克沙醇變換至底部40%w/v之碘克沙醇(1.03至1.21g cm-3)。經界面活性劑包覆之SWNTs初始可於梯度頂部2/3任一處植入。典型之離心條件為9小時，於64krpm。
於SW41之離心管中(內直徑1.3cm，容量為~12mL)，典型之梯度係侷限於小於該離心管之全長中(第4圖)。首先，1.5mL之60%w/v碘克沙醇(1.32g cm-3)係加入離心管 之底部。此層係用於升高離心管中之梯度高度。在該下層頂端，係加入5mL之線性梯度。之後，0.88mL之SWNT溶液(密度已藉由加入碘克沙醇而調整)係置入於該梯度。在該梯度頂部，係完全加入界面活性劑溶液(無碘克沙醇)以填充該離心管，以預防其在高離心力時瓦解(第4圖)。就膽酸鈉之分離而言，離心管之梯度-部分係線性地自頂部7.5%w/v(1.04g cm-3)變化至底部之22.5%w/v(1.12g cm-3)，或自頂部之10%w/v(1.05g cm-3)變化至底部之25%w/v(1.13g cm-3)。典型之離心條件為於41krpm離心12小時。
該選定之密度與梯度斜率為可變化至密度梯度超高速離心最佳化者。較佳為一密度梯度係設計為使SWNTs必須沈降之距離最小化，在到達其等密度點之前。此外，應瞭解到，在超高速離心時，該密度分佈(密度為離心管高度之函數)會重新分佈，由於密度梯度介質對應於離心力。一般而言，此代表該密度梯度會隨著時間更陡峭。
為了增加最佳密度梯度之形成，在超高速離心時碘克沙醇之重新分佈與SWNTs之分離，可粗略預期，經由數種溶液對Lamm方程式，若其SWNTs浮力密度與其沈降係數為已知。請見J.M.Graham,Biological centrifugation,(BIOS Scientific Publishers,Limited,ebrary,Inc.,2001)。
SWNTs於階梯式梯度中之濃度
在某些實施例中，在SWNTs分散與單離後，但於密度梯度中分離前，SWNT溶液係以超高速離心濃縮，在階梯式密度梯度中。第5圖為一照相圖，顯示SWNTs之濃度，經由 密度梯度超高速離心後，使用大階梯式密度梯度。左側圖顯示SWNT溶液之分佈(a)，其包括膽酸鹽、該包覆試劑，且無碘克沙醇，以及停止層(b)，其包括60%w/v之碘克沙醇，具包覆試劑，以如同層(a)之相同濃度加入，在濃縮前。左側圖顯示經濃縮之SWNT溶液，於~200,000g超高速離心後。該經膽酸鈉包覆之SWNTs具有一浮力密度，介於ρ a與ρ b之間，會沈降至層(a)與層(b)之間。
為了形成階梯式梯度，並後續濃縮SWNT溶液，該SWNT溶液(ρ~1g/mL)係直接於OptiPrep®溶液頂部分層(60%w/v碘克沙醇溶液，1.32g/mL)。界面活性劑係加入OptiPrep®溶液中，於等同於SWNT溶液濃度之相同重量每單位體積(通常為2%w/v界面活性劑)。在超高速離心後，該經單離之SWNTs具有浮力密度介於1.00與1.32g/mL之間，係沈降於二層間之界面。界面間之SWNTs之後經由分液方式由離心管中取出。此使得SWNTs可濃縮3-5倍，由光譜學決定。經濃縮之SWNTs可經由分液移出。
分液
在離心後，SWNTs係自其密度梯度中移出，一層接一層，藉由分液。為了於TLA100.3管中進行分液，係利用經修飾之Beckman分液系統(Beckman-Coulter Inc.)，於向上排代模式中，使用Fluorinert® FC-40(Sigma-Aldrich,Inc.)作為密度趨向介質。25μL之分液係經收集。為了於SW41離心管中分液，遂利用活塞梯度分液儀系統(Biocomp Instruments,Inc.,Canada)。0.5-3.0mm之分液物係經收集 (70-420μL體積)。在二案例中，分液係稀釋為1mL，於2%w/v界面活性劑溶液中，以進行光學鑑定。
密度分佈之測量
為了測量離心後經重新分佈梯度之密度分佈，100-300μL之分液係經收集，且其密度係經測量，藉由測量這些已知體積分液之質量，使用經校正之微滴定管與電性平衡而達成。當增加離心時間時，碘克沙醇會朝向離心管底部重新分佈，產生更陡峭之梯度，其由Lamm方程式驅動(第4圖(b))。
光學吸收光譜之測量
經分離SWNTs之收集分液之吸收光譜，係使用Cary 500光譜儀(Varian,Inc.)測量，自400至1340nm，解析度為1nm，積分時間為0.066-0.266。具類似折射指數之樣本(類似之碘克沙醇與界面活性劑濃度)，係使用做為背景吸收值(由於水、界面活性劑、碘克沙醇等)之參考樣本，使用Cary 500之雙射線模式(有興趣樣本與參考樣本間有燈光發射狹縫，該樣本減去參考吸收值)。基線校正係用於校正具各種波長之儀器敏感度。
為了自測量之吸收光譜減去緩慢變化之背景吸收值，係使用該波長測量到之吸收光之導數(derivative)。第6圖顯示吸收光譜之擬合(fitting)，用於決定相對SWNT濃度。該吸收光譜係繪製為空心三角(左軸)。相對於該波長之吸收值導數係以空心圓繪製(右軸)。背景吸收值之影響係最小化，藉由使用導數之振幅(標示為箭號)，而非絕對吸收值。
除了使用該波長吸收光測量值之導數，作為絕對吸收之相對者外，亦假設背景吸收(自殘餘碳不純物，π-等離子共振之尾部，以及偏共振，鄰近吸收尖峰)係隨著波長緩慢變化，與接近一級光學轉換變化相較。此為一合理之假設，由於經單離、半導體性SWNT之一級、光學轉換之線寬，經測量為相對窄-約為25meV。此外，該六次轉換間之間隔明顯大於25meV(表1)。一緩慢變化之背景暗示出該背景吸收值之導數明顯較小，且可忽略。亦假設這些轉換之濃度與浮力密度之線性形狀可維持恆定，如同Beer定律所預期。另一線性形狀則暗示該導數直接正比於吸收值之振幅。在此案例中，該吸收值之相對振幅可使用該導數測量。為了更進一步預測背景吸收值之小線性變化，在該波長下，吸收光譜上每一尖峰之左與右端導數之最大絕對值係經平均，且該平均值係報導為吸收值之振幅，且正比於濃度(Beer定律)。參照表1，可知該六次光學轉換之三者係源自奈米碳管之二不同不對稱性。
光學光譜之分析 A.分離CoMoCAT-成長、SC-包覆之SWNTs
初始SWNT分散：6.2mg粗CoMoCAT SWNTs係分散於6.2mL之2%w/v膽酸鈉(SC)中，經由喇叭(horn)超音波震盪1小時，如前所述。粗糙之堆積物與不溶物質之後以短暫超高速離心步驟移除。此係藉由以3.0mL超音波震盪溶液填充二聚碳酸酯離心管(Beckman-Coulter)，並於54krpm分離14分鐘(TLA100.3,22℃)而達成。在短暫超高速離心後，每一離心管頂部之2.5mL溶液係倒出並儲存，用於之後密度梯度之分離。
密度梯度離心：Beckman SW41轉子係用於此分類實驗中。梯度係直接於SW41-尺寸分類高度透明(polyclear)離心管(Beckman-Coulter)中形成，使用線性梯度標記，藉由下列流程。首先，離心管底部係填充1.5mL之下層溶液，其係由60%w/v碘克沙醇、2%w/v SC組成，如前所述。之後，3mL之7.5%w/v碘克沙醇、2%w/v SC與3mL之22.5%w/v碘克沙醇、2%w/v SC係經製備，每一者之2.5mL係分別加入該線性梯度標記之混合與儲存室中。該線性梯度係自該梯度標記之輸出處傳送至離心管下層之近上方(<2mm)，使用一玻璃小管(內直徑~1mm，長度~10cm)。該玻璃部分與線性梯度標記之輸出處係以可撓管連接。使用此流程，預期該梯度標記可創造出一接近線性之密度梯度，其由頂部之7.5%w/v碘克沙醇變化至底部之22.5%w/v碘克沙醇，全 程具有相等之2%w/v SC。此預期係藉由分液確認，並在形成後立即測量該梯度之密度分佈。
在梯度形成後，1.1mL之溶液係由已分散之SWNTs(如上所述)、2%w/v SC與20%w/v碘克沙醇創造出。為了製造此溶液，367μL之60%w/v碘克沙醇、2%w/v SC與733μL之CoMoCAT SWNTs，其分散於2%w/v SC中，係經混合。之後，0.88mL之此SWNT溶液係緩慢置入(於速率0.1mL min-1，使用針筒幫浦，PhD 2000，Harvard Apparatus,Inc.)先前製備之密度梯度，經由針頭***梯度下方5/6處。該針頭之高度係經調整，使得SWNT溶液係置入密度符合先前形成之梯度處。在置入SWNT溶液後，離心管之剩餘物係填充一上層，其係由2%w/v SC(無碘克沙醇)組成。該離心管係自頂部填充~4mm。係經由41krpm超高速離心12.0小時，於22℃而分類。
分液：在經由密度梯度超高速離心分類後，該梯度係分液為0.5mm部分(70μL)。每一分液係稀釋為1mL，且如前所述經光學鑑定。
第7圖說明經SC-包覆之CoMoCAT-合成SWNTs(其具有直徑範圍7-11Å)，經由密度梯度超高速之分離。第7(a)圖為離心管之照相圖，在一步驟分離後。請參照第7(a)圖，多區域之經分離SWNTs於整個密度梯度中為肉眼可見。該分離之證據為經單離SWNTs之有色帶產生，其藉由直徑與能帶間隙分類，具有至少三種不同清晰可見之色帶(由頂至底部：紅、綠與棕色)。不同之色帶對應於半導體管不同之 能帶間隙。小束、聚積物與不溶材料係沈降至該梯度較低處(為黑色帶)。
第7(b)圖顯示光學吸收光譜(1cm路徑長)，在使用密度梯度離心法分離之後。純化前之SWNTs係如灰色虛線指示。如同第7(b)圖之光學吸收光譜指示，在900-1340nm範圍中(一級半導體轉換)之不同轉換之吸收光振幅，亦指出是以直徑與能帶間隙分離。更特別的是，該光譜說明具增加直徑之SWNTs係增強，增加為較大密度。
該半導體性SWNTs之一級轉換係以CoMoCAT法製造，在光譜上係位於900-1340nm之間，如同文獻中所述。特別的是，半導體性SWNTs之三直徑範圍係標示出(紅、綠與藍；(6,5)、(7,5)與(9,5)/(8,7)不對稱性；7.6、8.3與9.8/10.3Å直徑；分別在第三、第六與第七分液中達最大值)。如上所述，吸收光譜係於此光譜範圍中擬合，以決定不同半導體性(n,m)不對稱性之濃度。在某些情況下，數種(n,m)不對稱性重疊，由於其在類似波長下皆具有一級轉換(表1)。一般而言，於較長波長具有光學轉換之SWNTs亦具有較大直徑。因此，藉由分析這些轉換於不同波長下之強度，作為密度之函數，可決定具不同直徑之SWNTs密度(第6圖)。然而，該E11光學轉換係位於緩慢變化背景吸收值之頂部，其係經減去，如上所述。頂部分液至底部分液密度之差異，係測量為0.022g cm-3，且頂部分液之密度測量為1.08±0.02gcm-3。
B.分離CoMoCAT-成長、SDBS-包覆之SWNTs
初始SWNT分散：3.8mg粗CoMoCAT SWNTs係分散於3.8mL之2%w/v十二烷基苯磺酸鈉(SDBS)中，經由喇叭(horn)超音波震盪1小時。粗糙之堆積物與不溶物質之後以簡短之超高速離心步驟移除。此係藉由以3.0mL超音波震盪溶液填充二聚碳酸酯離心管(Beckman-Coulter)，並於27krpm分離45分鐘(TLA100.3,22℃)而達成。在短暫超高速離心後，每一離心管頂部之2.5mL溶液係倒出並儲存，用於之後密度梯度之分離。
密度梯度離心：Beckman TLA100.3轉子係用於此分類實驗中。梯度係直接於TLA100.3-尺寸分類聚碳酸酯離心管(Beckman-Coulter)中形成，藉由分層。三不連續之1.0mL溶液係於每一離心管頂部手動分層，使用Pasteur微滴定管。底層係由40%w/v碘克沙醇、2%w/v SDBS組成。中間層係由20%w/v碘克沙醇、2%w/v SDBS組成。頂層係由10%w/v碘克沙醇與2%w/v SDBS組成。特別的是，此層係由混合166μL 60%w/v碘克沙醇與834μL之SWNTs，其分散於2%w/v SDBS中，而創造出。
在分層後，該梯度係垂直傾斜~80度1小時，以使碘克沙醇以接近線性分佈方式擴散。在擴散步驟後，分類係以超高速離心法引入，於64krpm離心9小時，於22℃。
分液：在經由密度梯度超高速離心分類後，該梯度係分液為25μL部分。每一分液係稀釋為1mL，且如前所述經光學鑑定。
第8圖說明經SDBS-包覆之CoMoCAT-合成SWNTs，經 由密度梯度超高速分離。第8(a)圖為離心管之照相圖，在一步驟分離後。請參照第8(a)圖，可觀察到相對於經SC-包覆之SWNTs，所有經SDBS-包覆之SWNTs係包含於窄黑帶中。在相對應之光學光譜中(第8(b)圖)，可觀察到不論是直徑或能帶間隙分離皆未指出。頂部分液至底部分液密度之差異，係測量為0.096g cm-3，且該分液之密度係測量為1.11±0.02g cm-3。
C.分離CoMoCAT-成長之SWNTs，使用其他單一界面活性劑系統
下列流程類似於上述，但使用三種其他之單一界面活性劑系統，直徑與密度間之類似關係係於脫氧膽酸鈉(第9(a)圖)與牛磺脫氧膽酸鈉(第9(b)圖)案例中觀察到。然而，就十二烷基磺酸鈉(SDS)之案例而言(第9(c)圖)，未觀察到分離為直徑之函數。
D.分離經雷射剝蝕合成之SWNTs
經由雷射剝蝕法合成之11-16Å直徑範圍內之SWNTs，係使用SC-包覆純化。流程係相同於A部分所述，除了下列變化：(1)以雷射剝蝕法成長之SWNTs係用於取代CoMoCAT法成長之SWNTs；(2)10.0%與25.0%w/v碘克沙醇溶液係分別用於取代7.5%與22.5%w/v碘克沙醇溶液，在線性密度梯度形成時；(3)含有SWNTs之溶液係製備為24.1%w/v碘克沙醇溶液，而非20.0%w/v碘克沙醇溶液，在置入該梯度前。
第10圖說明經SC-包覆雷射剝蝕成長之SWNTs，經由密 度梯度超高速離心而分離。第10(a)圖為離心管之照相圖，在一步驟分離後。請參照第10(a)圖，SWNTs之色帶相當明顯，顯示係以電性-結構分離。特別的是，五或多個色帶為肉眼可見(自頂部至底：第一綠色帶、一橘色帶、黃色帶、第二綠色帶與棕色帶)。亦觀察到密度隨著直徑增加之趨勢。自頂部分液至底部分液之密度差異係測量為0.026g cm-3，且底部分液之密度係測量為1.08±0.02g cm-3。
第10(b)圖顯示光學吸收光譜(1cm路徑長度)，在使用密度梯度超高速離心分離後。純化前之SWNTs係以灰色虛線指示。在第10(b)圖之吸收光譜中，該二級與三級半導體性與一級金屬性光學轉換，係分別標示為S22、S33與M11。係觀察到該直徑分離，由於在S22(半導體性SWNTs之二級光吸收轉換，800-1075nm)光學轉移時有紅位移現象，隨著密度增加。此外，亦偵測到這些SWNTs之增加，藉由電性種類。在最大浮力分液中，係觀察到半導體性SWNTs濃度之強化，相對於金屬性SWNTs，其具有一級光學吸收轉換，範圍為525至750nm(金屬性SWNTs(M11)係於最大浮力分液中耗盡)。
範例2：密度梯度超高速離心之多重循環
以本技術單一步驟後達到之單離程度，係受到超高速離心時SWNTs之擴散、分液時之混合，以及界面活性劑包覆時之統計學波動限制。為了克服這些限制，並改善分類流程，該離心法可重複多重循環。例如，在第一次密度梯度離心重複、後續之分液，與所收集分液之吸收光譜分析 後，含最大濃度標的不對稱性或有興趣之電性種類之分液可合併。之後可調整合併分液之密度與體積，藉由加入碘克沙醇與水，二者皆含有界面活性劑/包覆試劑(通常為2%w/v界面活性劑)。此經分類之樣本之後可置入一第二密度梯度、經離心，其完整之流程可重複。此流程可重複多個循環，依據所希望的。此使得標的電性種類或特定之不對稱性之SWNT可達最佳化單離。
為了呈現此方法，半導體性SWNTs(6,5)與(7,5)不對稱性之增加係為標的(分別為7.6與8.3Å直徑)，並獲得其冷光光譜，以定量顯示藉重複離心分離效果之增加。
初始SWNT分散：係製備四溶液，每一者皆由6.2mg粗CoMoCAT SWNTs與6.2mL之2%w/v膽酸鈉組成。每一溶液中之SWNTs係分散，經由超音波震盪1小時，如前所述。粗糙之堆積物與不溶物質之後以簡短超高速離心步驟移除。此係藉由以3.0mL超音波震盪溶液填充二聚碳酸酯離心管(Beckman-Coulter)，並於54krpm分離14分鐘(TLA100.3,22℃)而達成。在短暫超高速離心後，每一離心管頂部之2.5mL溶液係倒出並儲存，用於之後密度梯度之分離。
在初始分散後，這些SWNTs之後於製劑中，進行第一次重複密度梯度超高速離心而濃縮。六SW41高度透明(polyclear)離心管(Beckman-Coulter)，每一者皆填充8.62mL之60%w/v碘克沙醇、2%w/v SC，其作為停止層。之後，在這些密集停止層每一者之頂部，3.0mL之初始分散SWNTs係加入，以填充該離心管至頂部~4mm。該SWNTs 之後經超高速離心濃縮，使用41krpm，於22℃離心7.5小時，如第5圖所示。之後，每一離心管皆進行分液，且該經濃縮之SWNTs係於0.7cm(0.98mL)分液中萃取。此結果為濃縮三倍。所有經濃縮之分液係合併，含有經濃縮SWNTs合併分液之浮力密度係測量為1.12g cm-3。此合併溶液之密度之後降低為1.105g cm-3，藉由加入2%w/v SC。
密度梯度離心：係利用Beckman SW41轉子。梯度係直接於SW41-尺寸分類高度透明(polyclear)離心管(Beckman-Coulter)中形成，使用線性梯度標記。上層或下層並未使用。係製備~100mL之8.9%w/v碘克沙醇、2%w/v SC與25.9%w/v碘克沙醇、2%w/v SC之儲存液。每一者之5.5mL係分別加入該線性梯度標記之混合與儲存室中。該線性梯度係自該梯度標記之輸出處傳送至底部，使用一玻璃小管。
在梯度形成後，0.88mL之SWNT溶液(1.105g cm-3)係緩慢置入(0.1mL min-1)，經由一針頭，且針頭高度係經調整，使得SWNT溶液係置入密度符合先前形成之梯度處。使用超高速離心，40krpm，離心24小時，於22℃而分類。
分液：在經由密度梯度超高速離心分類後，該梯度係分液為0.66mm部分(93μL)。某些分液係稀釋為1mL，並經光學鑑定。其他分液並未稀釋且未儲存，以進一步進行後續密度梯度之分類。
重複：第一次重複：濃縮管係分離為六個梯度。所有六個梯度皆經同等製備與分液。六組分液之一組係經稀 釋，以進行光學鑑定，決定富含最多(6,5)或(7,5)不對稱性之分液。一旦此鑑定完成，來自剩下五組中每一組最佳者之六分液，不論是富含(6,5)或是(7,5)不對稱性，係合併。(6,5)與(7,5)合併液之密度係調整為1.105g cm-3。
第二次重複：由第一次重複得出之最佳(6,5)與(7,5)分液，之後係於新鮮之密度梯度中分離。富含(6,5)不對稱性之SWNTs係分離為三梯度，而富含(7,5)不對稱性之SWNTs亦分離為三梯度。相等之超高速離心參數係用於第一次與第二次重複。同樣地，在密度梯度超高速離心後，一組分液係經稀釋，用於進行吸收光譜測量，以決定富含希望之目標不對稱性之分液。每一最佳(6,5)與最佳(7,5)分液係經合併，且其密度係調整為1.105g cm-3。
第三次重複：由第二次重複產生之最佳(6,5)與(7,5)分液，之後於新鮮之密度梯度中分離，其等同於第一次重複中使用者，除了20mM Tris係全程加入每一梯度中，以升高pH至8.5，以使SWNT(7,5)不對稱性之單離最佳化外(第7.14b圖)。一梯度係使用於(6,5)SWNTs，而另一梯度則使用於(7,5)SWNTs。每一梯度皆分液為0.066mm分液，且所有分液皆經稀釋，並使用冷光技術分析，如下所述。
冷光光譜之測量
冷光光譜係使用Horiba Jobin-Yvon(Edison,NJ)Nanolog-3螢光儀測量，其具雙激發光側，以及一單發射光側分光儀，二者皆設有光通過狹縫寬度範圍為10-14.7nm。該冷光偵測係使用液態氮冷卻之InGaAs光二極體。一 3-mm厚之RG-850 Schott玻璃濾波片(Melles Griot,Carlsbad,CA)係用於阻斷發射分光器之二級Rayleigh散射。495-nm阻斷、長波段通光濾波片(FGL495S,Thorlabs,Newton,NJ)係用於阻斷激發分光器之二級Rayleigh散射。掃瞄基質，其中激發波長係自525變化至825nm，以6nm增加，且該發射波長係自900變化至1310nm，於整數時間收集，範圍為0.5-2.5s。為了決定發射-激發基質之濃度，激發掃瞄係沿著激發軸***，經由E22轉換，於對應於E11波長之激發波長下。第11圖說明冷光光譜之擬合，以決定SWNT之相對濃度。第11(a)圖繪出冷光密度，為激發與發射波長之函數(分別為垂直與水平軸)。第11(b)圖繪出冷光密度，對應740nm激發光波長。SWNTs偏共振二寬變化背景冷光，以及來自(7,5)半導體性SWNT之發射光係觀察到(黑色箭號)。為了使緩慢變化背景之影響最小化，類似於分析吸收光譜之導數法係應用於匯出(extract)特定(n,m)不對稱性之相對濃度。特別的是，冷光密度對激發光波長之偏導數係經推算(第11(c)與11(d)圖)。(7,5)不對稱性(正比於濃度)之強度係由偏導數之幅度決定，在第11(d)圖中以黑線指出。發射冷光之再吸收效應，以及激發光密度之延遲皆經校正。
冷光光譜之分析
由此範例獲得之數據說明如何成功分離經SC-包覆之SWNTs，可導致更增進之特異性、目標不對稱性，並製造出SWNTs相對應之窄直徑分佈增加。
第12圖係指出半導體性SWNTs之冷光密度為激發光 與發射光波長之函數，在三次密度梯度離心重複之前或之後。在每一次重複後，該半導體性SWNTs之(6,5)與(7,5)不對稱性之相對濃度，係觀察到有增加趨勢。在增加(6,5)不對稱性(7.6Å)三次後，SWNTs之大量溶液係達成，其中>97%之SWNTs為(6,5)、(9,1)與(8,3)不對稱性(分別為7.6Å、7.6Å與7.8Å直徑)(表2)。換句話說，>97%之由第三次重複單離出之SWNTs係位於平均直徑之0.2Å內(與初始群之62.3%、第一次重複後之86%，以及第二次重複後之88.6%相較)。(7,5)最佳化提供了主要為(7,5)之不對稱性，在重複分離後。在純度方面之更進一步改良，預期可由增加循環而獲得。表2顯示各不對稱性之SWNTs之定量濃度，經由冷光光譜分析，使用上述之偏導數法。
第13圖顯示對應於第12圖冷光光譜之光學光譜。第13(a)圖顯示得自(6,5)最佳化吸收光譜。起始自未分類之材料(灰色虛線，未分類)，(6,5)不對稱性於471nm與982nm之光學轉換(標示處)之相對強度在每一次重複時會增加強化。第13(b)圖顯示得自(7,5)最佳化之吸收光譜。經三次分類重複後，該於1031nm(標示處)之(7,5)光學轉換係經強烈強化，與未分離之材料相較(灰色虛線，未分類)。
範例3：pH之調整並加入共界面活性劑
當SWNTs之純化可明顯地強化，經由上述範例2所示之超高速離心循環後，更進一步之增進可藉由使單一循環最佳化而達成，經由微調SWNTs之結構-密度關係。例如，藉由調整pH或加入競爭性共界面活性劑至梯度中，特定直徑範圍或電性種類之純化可達成。在此範例中，具特定直徑與電性種類之SWNTs之單離係呈現，藉由分離經SC-包覆CoMo-CAT-成長之SWNTs，於pH 7.4對pH 8.5，並使用共界面活性劑系統(1：4 SDS：SC(重)與3：2 SDS：SC(重))，以分離CoMoCAT-成長與雷射剝蝕合成之SWNTs。具有其他比例之共界面活性劑系統亦可使用。例如，陰離子性烷基兩親分子(如SDS、SDBS，或其組合物)對膽鹽(如SC、脫氧膽酸鈉、牛磺脫氧膽酸鈉，或其結合物)之比例(重量)可為約1：10至約2：1，如約1：8、約1：6、約1：4、約1：3、約1：2、約3：4、約1：1、約5：4、約6：5、約3：2、約7：4、約2：1。在某些實施例 中，該比例可為約1：10至約1：2，如約1：8至約1：3。在其他實施例中，該比例可為約5：4至約2：1，如約6：5至約7：4。
A.pH之影響 流程
經SC-包覆CoMoCAT-成長之SWNTs於pH 7.4之分離：係使用如同範例1、節A所描述之相同流程。
經SC-包覆CoMoCAT-成長之SWNTs於pH 8.5之分離：係使用如同範例1、節A所描述之相同流程，除了在全程加入20mM Tris至梯度中，增加pH至8.5(但在初始SWNT分散相中無)。
分析
數種不同直徑，(7.6Å-(6,5)為空心三角形，8.3Å-(7,5)為空心圓，以及9.8/10.3Å-(9,5)/(8,7)為空心星狀)之SWNTs相對濃度，相對於pH 7.4之經SC-包覆之SWNTs之密度係繪製於第14(a)圖，而於pH 8.5之經SC-SWNTs之密度則繪製於第14(b)圖。濃度係由吸收光譜決定，經由上述之導數法(第6圖與第7(b)圖)。具最高(6,5)不對稱性相對濃度之分液密度係測量為1.08±0.02g cm-3。
比較第14(b)圖與第14(a)圖，可見藉由增加pH至8.5，直徑接近8.3Å之SWNTs會移動至更大之浮力密度，使得9.8/10.3Å((9,5)/(8,7)不對稱性範圍中之SWNTs分離最佳化。
B.使用共界面活性劑系統 流程
基於奈米碳管直徑尺寸分離CoMoCAT-成長之SWNTs，係使用共界面活性劑系統，其包括1：4 SDS：SC(重)：係使用如範例1，節A所述之相同流程，除了下列改變：(1)15.0%與30.0%w/v碘克沙醇溶液係用於分別取代7.5%與22.5%w/v碘克沙醇溶液，在線性密度梯度形成時；(2)含有SWNTs之溶液係製備為27.5%w/v碘克沙醇溶液，而非20.0%w/v碘克沙醇溶液，在置入該梯度前；以及(3)重量比1：4之SDS：SC、總濃度2%w/v，係用於於密度梯度超高速離心時取代單一界面活性劑溶液，其僅含2%w/v SC。因此，該梯度之每一部分含有0.4%w/v SDS與1.6%w/v SC。然而，該SWNTs仍初始分散，經由超音波震盪分散於SC之界面活性劑溶液中，共界面活性劑，在所有SDS情況下，僅於密度梯度超高速離心階段引入。
基於奈米碳管直徑尺寸分離HiPCO-成長之SWNTs，使用共界面活性劑系統，其包括1：4 SDS：SC(重)：係依據某些上述CoMoCAT-成長SWNTs使用之流程，除了使用HiPCO-成長之SWNTs(粗，未純化)，得自Carbon Nanotechnologies,Inc.，而非CoMoCAT-成長之SWNTs。
基於電性種類(半導體性)分離雷射剝蝕合成之SWNTs，使用共界面活性劑系統，其包括1：4 SDS：SC(重)：係使用如範例1，節A所述之相同流程，除了下列改變：(1)係使用雷射剝蝕法成長之SWNTs取代CoMoCAT法成長之SWNTs；(2)15.0%與30.0%w/v碘克沙醇溶液係分別用於取代7.5%與22.5%w/v碘克沙醇溶液，在線性密度梯度形成 時；(3)含有SWNTs之溶液係製備為27.5%w/v碘克沙醇溶液，而非20.0%w/v碘克沙醇溶液，在置入該梯度前；以及(4)重量比1：4之SDS：SC、總濃度2%w/v，係用於密度梯度超高速離心，取代單一界面活性劑溶液，其僅含2%w/v SC。因此，該梯度之每一部分含有0.4%w/v SDS與1.6%w/v SC。
基於電性種類(半導體性)分離雷射剝蝕合成之SWNTs，使用共界面活性劑系統，其包括3：7 SDS：SC(重)：係依據某些上述使用之流程，除了使用比例3：7重之SDS：SC，總濃度2%w/v，於密度梯度超高速離心，取代1：4之SDS：SC，總濃度2%w/v之共界面活性劑系統。因此，該梯度之每一部分含有0.6%w/v SDS與1.4%w/v SC。
基於電性種類(金屬性)分離雷射剝蝕合成之SWNTs，使用共界面活性劑系統，其包括3：2 SDS：SC(重)：係使用如範例1，節A所述之相同流程，除了下列改變：(1)係使用雷射剝蝕法成長之SWNTs取代CoMoCAT法成長之SWNTs；(2)20.0%與35.0%w/v碘克沙醇溶液係用於分別取代7.5%與22.5%w/v碘克沙醇溶液，在線性密度梯度形成時；(3)含有SWNTs之溶液係製備為32.5%w/v碘克沙醇溶液，而非20.0%w/v碘克沙醇溶液，在置入該梯度前；以及(4)重量比3：2之SDS：SC、總濃度2%w/v，係用於密度梯度超高速離心，取代單一界面活性劑溶液，其僅含2%w/v SC。因此，該梯度之每一部分含有1.2%w/v SDS與0.8%w/v SC。
基於電性種類(半導體性)分離雷射剝蝕合成之 SWNTs，使用共界面活性劑系統，其包括1：4 SDS：SC(重)：係使用與基於電性種類(半導體性)分離雷射剝蝕合成之SWNTs，使用共-界面活性劑系統，其包括1：4 SDS：SC(重)相關連之流程，除了測試三種不同來源之SWNTs：(1)粗、未純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs，得自Carbon Nanotechnologies,Inc.；(2)經硝酸純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs，得自IBM(批次A)；以及(3)經硝酸純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs，得自IBM(批次B)。
以電性種類分離之共界面活性劑，其梯度-部分係線性地變化，自頂部之15%w/v(1.08g cm-3)至底部之30%w/v(1.16g cm-3)，或自頂部之20%w/v(1.11g cm-3)至底部之35%w/v(1.19g cm-3)。
分析
1.基於奈米碳管直徑尺寸分離CoMoCAT-成長之SWNTs，使用共界面活性劑系統
類似於第14(a)與14(b)圖，數種不同直徑(7.6、8.3與9.8/10.3Å)之SWNTs相對濃度，相對於1：4 SDS：SC(重)混合物之密度係繪製於第14(c)圖。比較第14(c)圖與第14(a)圖，可發現加入SDS與SC競爭非共價性結合至奈米碳管表面上，在8.3與9.8/10.3Å直徑範圍內之SWNTs係明顯轉移為較大浮力密度，使得直徑接近7.6Å之SWNTs((6,5)不對稱性)之分離可最佳化。
2.基於奈米碳管直徑尺寸分離HiPCO-成長之SWNTs，使用共界面活性劑系統
第15(a)圖說明HiPCO-成長之SWNTs非均質群之冷光密度，作為激發與放射波長之函數，在密度梯度離心前。如同第15(a)圖所示，最強訊號之一係於放射波長約980nm(以及激發波長約570nm)時觀察到，其對應於奈米碳管直徑尺寸約7.5Å。一值得注意的訊號係於放射波長約1190nm(與激發波長約800nm)，以及放射波長約1210nm(與激發波長約790nm)時觀察到，二者皆對應於奈米碳管直徑尺寸約10.5Å。
使用共界面活性劑系統，其包括1：4 SDS：SC(重)進行密度梯度離心後，係獲得二分離分液。該二分離分液之冷光光譜係分別示於第15(b)與15(c)圖。如第15(b)圖所示，該二分離分液之一主要包含奈米碳管，其會放射一放射光，波長為範圍為約960nm至約980nm。更特別的是，最強訊號係於放射波長約980nm(與激發波長約570nm)時觀察到。該光譜係指出此分離分液主要含有單壁奈米碳管，其具有一直徑尺寸約7.5Å。藉由比較，顯示於第15(c)圖之光譜中，有數個訊號係於不同放射與激發波長下觀察到。然而，在放射波長範圍約960nm至約980nm內之訊號，係被高度抑制，而於放射/激發波長約1190/800nm與約1210/790nm(僅於第15圖(a)中變為相當明顯)之訊號則變為最強，表示在此分離分液中，具直徑尺寸約10.5Å之單壁奈米碳管已明顯增加，與預先分類之樣本相較。因此，第15圖之光譜一同指出以奈米碳管直徑尺寸進行分離，亦可行於HiPCO-成長之SWNTs，並可達到良好結果，如使用上述之共界面 活性劑系統。
3.基於電性種類分離雷射剝蝕合成之SWNTs，使用共界面活性劑系統
共界面活性劑群係觀察到對於直徑11-16Å之SWNTs之金屬-半導體分離最佳化具有較大之影響。第16(a)圖為雷射剝蝕-合成之SWNTs，分離於共界面活性劑系統(1：4 SDS：SC)中，之照相圖。如第16(a)圖所示，僅有三個光帶被觀察到。二光帶間之密度差異係測量為0.006g cm-3，且頂部光帶之密度係測量為1.12±0.02g cm-3。自吸收光譜測量(第16(b)圖)，其出現於頂帶(橘色)，其主要由半導體性SWNTs組成(於第16(b)圖中為藍色)，以及恰低於頂帶之光帶(綠色)為高度富含金屬性SWNTs，隨然仍有某些半導體性SWNTs(於第16(b)圖中為紅色)。在分類前之非均質性混合物之吸收光譜，係繪製為灰色虛線，於第16(b)圖中。
觀察到該共界面活性劑混合物係更進一步微調至3：2 SDS：SC比例，使得金屬性雷射剝蝕合成之SWNTs有明顯之增進。單離半導體性雷射剝蝕合成之SWNTs之增進亦觀察到，當1：4 SDS：SC共界面活性劑混合物置換為3：7 SDS：SC共界面活性劑混合物。在第17圖中，對應於主要金屬性(3：2 SDS：SC，為空心圓)SWNTs與主要半導體性(3：7 SDS：SC，為空心三角形)SWNTs之光譜係繪製。M11範圍內吸收訊號之增進在第18圖中更明顯(S6)，其包括第16(b)圖中未最佳化之光譜，其使用1：4 SDS：SC之共界面活性劑混合物(為空心星號)，以及第17圖中之最佳化光譜，其使用3：2 SDS：SC 之共界面活性劑混合物(為空心圓)。箭號標示出M11範圍內訊號之強度，以及於S33與S22範圍內訊號之抑制。
4.不同來源由雷射剝蝕-合成之SWNTs呈現之以電性種類為基礎之分離
第19圖係比較未分類雷射剝蝕-合成之SWNTs與經分類半導體性雷射剝蝕-合成之SWNTs之吸收光譜，其中該雷射剝蝕-合成之SWNTs係進一步由三種不同來源獲得：粗、未純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs，得自Carbon Nanotechnologies,Inc.(批次A)；經硝酸純化雷射剝蝕-合成之SWNTs，得自IBM(批次B)；以及經硝酸純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs，得自IBM(批次C)。該三經分類之光譜係比較其一般分佈情況，與第16圖所示之樣本相較。一半導體性SWNTs之強分離係於經分類光譜中之每一者觀察到，不論樣本來源。然而，當所有結果皆相似，在金屬性SWNTs抑制之微細差異便會變得相當明顯。此外，半導體性SWNTs之增加與金屬性SWNTs之移除，便較經硝酸純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs更佳(批次B與C)，而當使用粗、未純化之雷射剝蝕-合成之SWNTs時會更糟(批次A)。
範例4：以電性種類分離之定量分析
在此範例中，主要半導體性與金屬性雷射剝蝕-合成之SWNTs之新光譜，係獲得增進之訊號-雜訊比。係製備經分類之溶液，使用範例3，節B中所描述之相同流程，但具較高濃度，其導致訊號-雜訊比增加，在特定固定背景雜訊值下。
第20圖顯示未經分類(空心星號)、經分類金屬性(空心三角)，以及經分類半導體性(空心鑽石型)SWNTs之吸收光譜。於約900nm之箭號為偽半導體性SWNTs之光學吸收。於約600nm則為偽金屬性SWNTs之光學吸收。
來自M11轉換(475-700nm)與S22轉換(800-1150nm)之吸收振幅係分別用於決定半導體性與金屬性SWNT，在每一樣本中(第20圖)。吸之振幅之測量值係以減去背景吸收而決定，其係由線性***吸收峰下之背景值而決定。第21-23圖顯示背景基準線，其吸收振幅係減去，以獲得測量值振幅。由於等質量或濃度之金屬性與半導體性SWNTs具有不同之光學吸收強度，金屬性SWNTs之吸收振幅首先須放大，以與半導體性SWNTs之吸收振幅相比較。放大係數係由未分類樣本決定，其已知由66.7%半導體性SWNTs與33.3%金屬性SWNTs組成。
此外，在決定每一樣本之半導體性與金屬性SWNTs濃度時，係設定三種假設：(i)SWNTs之質量為線性正比於光學吸收之振幅；(ii)該背景吸收值可被線性地內插；(iii)SWNTs之類似直徑範圍存在於分類前與分類後(不同直徑範圍會影響在M11與S22範圍內之吸收寬度，使假設(i)無效)。
下表3顯示在金屬性SWNTs分離最佳化之樣本中(第20圖)，99.3%之SWNTs為金屬性，且0.7%之SWNTs為半導體性。在半導體性SWNTs分離最佳化之樣本中(第20圖)，97.4%之SWNTs為半導體性，且2.6%之SWNTs為金屬性。
範例5：決定典型之產率與規格
典型分類實驗之產率可經由光吸收光譜預測，在每一分離過程步驟之前後。在初始分散SWNTs於SC中時，大約四分之一剛製造之SWNT材料可成功地包覆，以單一SWNTs或小束SWNTs形式，而剩餘之碳性不純物、大SWNT堆積物與不溶物，可經簡短之離心步驟移除。SWNTs之加工溶液可加入至密度梯度中，用於分類。
在每一梯度中，平均400μL之SWNT溶液(~250μg mL-1 SWNT載入)係注入每一離心管中，產生~100μg之SWNT起始材料，在每次實驗中。然而，值得注意的是，此起始材料係由各經包覆之SWNTs，其可藉由直徑與電性種類分類，以及各小束之SWNTs，其以不同方式分離，之混合物組成。結果為，該分離實驗之產率高度依賴各SWNTs被界面活性劑包覆之效率。
起始SWNT材料在密度梯度之排列點可由經分液材料之吸收光譜預測。此概略產率可藉由收集每一分液在有興趣之波長下之吸收，並標準化在該波長下起始溶液之吸收值，而計算出。例如，就雷射剝蝕-成長之SWNTs而言，我們可評估半導體性奈米碳管1：4 SDS：SC分類實驗(第16(a)-(b)圖)之產率，藉由追蹤於942nm起始材料之標準化吸收值，其對應於二級半導體轉換之尖峰(第24(a)圖)。該尖峰半導體性分液含有>9%之起始材料(~9μg)，對應於總產率之約2.3%。CoMoCAT於膽酸鈉中之直徑分離之類似分析(第7(a)-(b)圖)，係掃瞄於982nm之光學吸收(第24(b) 圖)，(6,5)不對稱性之一級轉換，透露>6%之起始材料(~6μg)係包含於分液中，具有最高總產率之約1.5%。
儘管上述已報導最適當之產率，一較合理之實驗結果測量僅發現於單獨包覆之SWNTs中，而非無法分類之小束，可增加指定產率二至五倍。此外，具高度單離分佈SWNTs之分液一般係位於該具尖峰產率之分液上或下方；因此，結合此經分類之材料可進一步增進該分類效率。此外，所產生之經分類材料之質量可增加三至五倍，藉由在分離前濃縮該，如範例1中於階梯式梯度中濃縮SWNTs一節中所述。
雖然於此所述之方法僅能成功製造微克級之經分類SWNT材料，但仍有明確之方式可使本發明方法擴大為工業層級。例如，藉由使用大體積、工業離心可使用之g-離心力，與此所使用之離心相較，可於一段時間後分離出公克級之SWNTs。此離心可容置8L溶液，可使1L之SWNT溶液於7L密度梯度中分類。若單獨SWNT之包覆效率增加，及/或溶液在分類前強力濃縮，該1L溶液便可載入4g經單離之SWNTs。因此，在單一12小時離心後，可分類出公克等級之SWNTs，依據直徑及/或電性種類。多重離心可同時及/或依序進行，其所得產率可加在一起，以達到公斤級或更多之經分類之SWNTs。
範例6：使用經分類之金屬性與半導體性SWNTs製造FETs
為了呈現SWNTs於密度梯度中分離之可行性，並確認其可經由電性種類純化，由數千個金屬性或半導體性 SWNTs網絡滲濾組成之場效應電晶體(FETs)遂製造出。第25(a)圖顯示源與汲極之週期性陣列(比例尺40μm，間隔20μm)。第25(b)圖為一代表性SWNT網絡滲濾之原子力顯微鏡(AFM)影像(比例尺=1μm)。每單位面積之SWNTs密度係>10倍滲濾限制。第25圖(c)顯示所製造之場效應電晶體(FETs)之幾何分佈圖(s=源極；g=柵極；d=汲極)。
電子裝置之製造
電子裝置係由半導體性與金屬性SWNTs網絡滲濾而製造。滲濾網絡係經由真空過濾該經純化之SWNTs，其分散於界面活性劑溶液而形成，透過孔狀混合纖維素酯類(MCE)薄膜(0.02μm,Millipore Corporation)，依據Wu et al.之方法(Z.C.Wu et al.,Science 305,1273(2004))。在過濾SWNT溶液後，該網絡進行乾燥30分鐘以固化，之後以10-20mL去離子水移除網絡中殘餘之界面活性劑與碘克沙醇，使該網絡僅存SWNTs。
MCE薄膜頂部之網絡之後轉移至Si(100)基板上，其覆蓋有100nm熱-成長之SiO2(Silicon Quest International)。該MCE薄膜係以去離子水濕潤，並壓至SiO2表面上(SWNTs與SiO2接觸)2分鐘，介於二玻璃片中。玻璃片係移除，且該MCE薄膜係允許於SiO2基板上乾燥數分鐘。該基板之後依序以3次丙酮浴潤洗15分鐘，每一者皆溶解該MCE薄膜，之後以甲醇潤洗。之後，於基板上之SWNTs網絡係以氮氣流吹乾。
該網絡之密度(每單位面積之SWNTs)係藉由調整經過 濾SWNTs之分液體積而控制。網絡密度之定量測量係以測量在過濾前與後之溶液中SWNTs之光學密度而決定，經由原子力顯微鏡(AFM)，之後轉移至基板上。
電極陣列(Au,30nm)係光蝕刻於滲濾網絡頂部，使用TEM柵網作為遮蔽(300 mesh,Cu,SPI Supplies,West Chester,PA；pitch 83μm,bar width 25μm)，於電子流蒸發器中。蒸發後，基板係以丙酮、2-丙醇，之後以水潤洗，之後於225℃空氣中退火20分鐘。
金屬性與半導體性之SWNTs滲濾網絡之電性特徵為場效應電晶體(FET)幾何空間，使用二電源電表單位(KE2400,Keithley,Inc.)。柵偏壓係施於下層Si基板，其作為柵極，以調整SWNT網絡中之載體濃度。至多5V之偏壓係施於二鄰近之電極之間，產生自TEM柵網遮蔽，其作為源與汲極。該柵極漏電流與源-汲極電流皆經測量。在所有情況下，源-汲極電流明顯超越柵極漏電流。柵偏壓掃瞄係由負掃向正偏壓。係觀察到滯後現象，取決於掃瞄方向，由於移動電荷之存在，此效應通常會在SWNT FET裝置中觀察到，其製造於100nm厚之SiO2柵介電體中。
SWNT網絡滲濾(percolation)密度之測量
就每一滲濾網絡而言，數種裝置特徵為經由接觸模式AFM(512×512解析度，3-20μm影像大小，接觸力<10nN)。在照相時，該接觸力維持於一最小值，以限制網絡之機械性干擾。該網絡之影像係經分析，以決定滲濾密度(SWNTs每單位面積)。每一滲濾路徑係經追蹤，以決定該網絡每一 單位面積之總路徑長度(第26圖)。在第26(a)-(b)圖中，分別為影像與追蹤圖，顯示薄膜、半導體性網絡(於第25(d)圖中之電性特徵)。該追蹤係對應於22.1μm之基板每平方微米導電路徑。就平均SWNT長度0.45μm(平均長度係決定自雷射剝蝕成長SWNTs額外之AFM研究，其於密度梯度中分離，之後於基板上單離)而言，此對應於~50 SWNTs/μm2之滲濾密度，約10倍大於滲濾門檻，~5 SWNTs/μm2。~50 SWNTs/μm2之經測量滲濾密度為低估，因為並未計算入多重SWNTs每路徑，由於重疊SWNTs或小束之可能性。此影響係為較大凡得瓦爾力之結果，除了在薄膜形成過程中，SWNTs其上包覆之界面活性劑被潤洗移除外。該半導體性網絡係首先被創造出，之後特徵為電性且經由AFM鑑定。之後，為了使金屬性與半導體性網絡間可平等比較，該金屬性網絡可創造出，使得其滲濾密度等於或小於該半導體性網絡。
其平均特徵係繪製(第25(d)圖)。誤差值指示有2標準差(就半導體性裝置而言n=4；金屬性裝置而言n=3)。
半導體性SWNT網絡之電子移動性係經預測，藉由源-汲極電流對柵偏壓，就固定之源-汲極偏壓而言，在FETs為“開啟”狀態下，呈直線(V g <V T )(第25(d)圖，內插)。係使用下列關係式：I ds =μC ox *(W/L)*(V g -V t )*V ds ，其中I ds 為源-汲極電流，μ為移動性，C ox 為氧化物電容，W為通道寬度，L為通道厚度，V g 為柵偏壓，V t 為柵閾值，以及V ds 為源-汲極偏壓。
在SWNT網絡與Si基板間之電容之上部鍵結，係以假設平行電板電容幾何分佈而決定(L,W為20,63μm)。該線性擬合產生一較低鍵結，就移動性μ>20cm2 V-1 s-1而言(其可與先前報導之薄膜移動性相較，金屬性與半導體性SWNTs之合成混合物接近其滲濾閾值)，以及柵極閾值電壓-20V。在移動性上之擬合為一較低鍵結，由於假設平行板電容係超高估其電容值，由於SWNT網絡僅佔據該通道區域之一部份。此外，電阻會於接觸時損失，亦未計算入。
半導體性與金屬性薄膜之獨特性質
在負柵偏壓時，係觀察到二網絡皆具有類似之片電組約500kΩ square-1。然而，藉由變化施加於柵介電容之電壓(100nm SiO2)，半導體性網絡之電阻係增加4級振幅(開啟/關閉>20,000)。相對地，該金屬性網絡明顯對於施加之柵偏壓較不敏感，其特徵為開啟/關閉比例小於2(開關比例大於1代表金屬性SWNTs電帶-結構之干擾，於管-終點或管-管接觸，或由於管-彎曲處或化學缺陷之結果)。該半導體性與金屬性薄膜之二獨特性質係獨立地以電性種類分離確認，初始由吸收光譜觀察到(第17圖)。此外，該二薄膜係建立本發明方法之可行性，在製造可使用量之經純化、功能性材料上。例如，經純化半導體性SWNTs(150μL)之單一分液含有足夠之SWNTs，在20cm2之薄膜網絡中，類似於第25圖呈現者，對應於>1011SWNTs。依據本發明，一SWNTs群可包括約10或更多之SWNTs，如>10SWNTs、>50SWNTs、>100SWNTs、>250SWNTs、>500SWNTs、>103SWNTs、 >104SWNTs、>105SWNTs、>106SWNTs、>107SWNTs、>108SWNTs、>109SWNTs、>1010SWNTs，或>1011SWNTs。此外，在重量方面，一SWNTs群可具有質量約0.01μg，如>0.01μg、>0.1μg、>1μg、>0.01mg、>0.1mg、>1g、>10g，或>100g。此薄膜網絡可應用於可撓性與透明半導體與導體中。如此技術領域者所瞭解的，此特徵，在上述之分類條件下，可反應SWNT之量。此量代表可由本發明獲得之巨觀SWNTs，並可進一步為先前方法與材料所沒有之特徵。
本發明可以其他特定形式實施，並非描述於上述範例中，而不脫離本發明精神與必要特徵。本發明可以其他特定形式實施，而不脫離本發明精神與必要特徵。因此前述之實施例被認為用於說明，而非限制本發明。因此本發明範疇係由後附申請專利範圍所述者所指出，而非前述說明，且所有申請專利範圍中之手段與範圍之改變亦包含於本發明中。

Claims (12)

  1. 一種鬆散的單壁奈米碳管群，其中大於約93%之單壁奈米碳管為半導體性單壁奈米碳管，該鬆散的單壁奈米碳管並非成長於一基板上亦非附著於一基板上，且其中該單壁奈米碳管是未經化學性或物理性修飾的。
  2. 如申請專利範圍第1項之單壁奈米碳管群，其中大於約97%之單壁奈米碳管為半導體性單壁奈米碳管。
  3. 如申請專利範圍第1項之單壁奈米碳管群，其中該單壁奈米碳管是純淨的。
  4. 一種鬆散的單壁奈米碳管群，其中大於約90%之單壁奈米碳管為金屬性單壁奈米碳管，該鬆散的單壁奈米碳管並非成長於一基板上亦非附著於一基板上，且其中該單壁奈米碳管是未經化學性或物理性修飾的。
  5. 如申請專利範圍第4項之單壁奈米碳管群，其中大於約97%之單壁奈米碳管為金屬性單壁奈米碳管。
  6. 如申請專利範圍第4項之單壁奈米碳管群，其中大於約99%之單壁奈米碳管為金屬性單壁奈米碳管。
  7. 如申請專利範圍第4項之單壁奈米碳管群，其中該單壁奈米碳管是純淨的。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之單壁奈米碳管群，其中該單壁奈米碳管具有之直徑大於11Å。
  9. 一種製造元件，包含如申請專利範圍第1至8項中任一項之單壁奈米碳管群。
  10. 如申請專利範圍第9項之製造元件，其中該製造元件為一電子裝置、一光學裝置，或一光電裝置。
  11. 一種透明導電薄膜，包含如申請專利範圍第4至7項中任一項之單壁奈米碳管群。
  12. 一種薄膜電晶體，包含如申請專利範圍第1至3項中任一項之單壁奈米碳管群。
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