KR960037102A - 혼입물 제거장치 및 제거방법 - Google Patents

혼입물 제거장치 및 제거방법 Download PDF

Info

Publication number
KR960037102A
KR960037102A KR1019960012081A KR19960012081A KR960037102A KR 960037102 A KR960037102 A KR 960037102A KR 1019960012081 A KR1019960012081 A KR 1019960012081A KR 19960012081 A KR19960012081 A KR 19960012081A KR 960037102 A KR960037102 A KR 960037102A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
exhaust gas
mixture
housing
exhaust
gas
Prior art date
Application number
KR1019960012081A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100260246B1 (ko
Inventor
유이치로 후지카와
세이시 무라카미
타츠오 하타노
Original Assignee
이노우에 아키라
도쿄 이렉트론 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이노우에 아키라, 도쿄 이렉트론 가부시키가이샤 filed Critical 이노우에 아키라
Publication of KR960037102A publication Critical patent/KR960037102A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100260246B1 publication Critical patent/KR100260246B1/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D8/00Cold traps; Cold baffles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4412Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28FDETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F3/00Plate-like or laminated elements; Assemblies of plate-like or laminated elements
    • F28F3/02Elements or assemblies thereof with means for increasing heat-transfer area, e.g. with fins, with recesses, with corrugations
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02CCAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/30Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S417/00Pumps
    • Y10S417/901Cryogenic pumps

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

본 발명은, 배기가스내에 함유된 미반응 처리가스나 반응생성물 등의 혼입물을 효율좋게 제거할 수 있는 혼입물 제거장치 및 제거방법을 제공한다.
본 발명에 있어서, 트랩본체는, 진공펌프의 상류측에 위치하고 있는 배기통로에 삽입된 하우징에 착탈자재로 부착되고, 접촉하는 배기가스중의 혼입물을 냉각하여 이 혼입물을 액화하기 위한 냉각핀을 갖추고 있다. 따라서, 배기통로를 통해 흐르는 배기가스내에 함유된 미반응 처리가스나 반응생성물 등의 혼입물은 이들이 트랩본체와 접촉함으로써 냉각핀에 의해 냉각되어 액화하여 트랩본체의 표면에 부착된다. 따라서, 배기가스내의 혼입물을 제거할 수 있고, 하류측의 진공펌프에 손상을 주거나 배기통로가 막히는 것을 방지할 수 있다.

Description

혼입물 제거장치 및 제거방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 따른 제거장치 및 진공배기시스템을 설치한 처리장치 전체를 나타낸 개략구성도.

Claims (9)

  1. 처리장치로부터 진공펌프에 의해 배기가스를 흡인하여 방출하는 진공배기시스템에 장착되어 배기가스내에 함유된 혼입물을 제거하기 위한 혼입물 제거장치에 있어서, 상기 진공펌프의 상류측에 위치하고 있는 배기통로에 삽입된 하우징과, 상기 하우징에 착탈자재로 부착되고, 접촉하는 배기가스중의 혼입물을 냉각하여 이 혼입물을 액화하기 위한 냉각수단을 갖춘 트랩본체를 구비한 것을 특징으로 하는 혼입물 제거장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 냉각수단은, 상기 배기가스의 유로방향과 교차하도록 설치되어 상기 배기가스와 접촉하는 복수개의 트랩핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 혼입물 제거장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 배기가스의 유로방향에 대해 상기 트랩핀의 각도를 조정하여 상기 배기가스와 접촉하는 상기 트랩핀의 접촉면적을 조정가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 혼입물 제거장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 하우징에, 그 측벽에 상기 배기가스내에 함유된 혼입물이 부착되는 것을 방지하도록 상기 배기가스를 가열하기 위한 가열수단을 더 설치한 것을 특징으로 하는 혼입물 제거장치.
  5. 진공펌프의 상류측에 위치하고 있는 배기통로에 삽입된 하우징과, 상기 하우징에 착탈자재로 부착되고, 접촉하는 배기가스중의 혼입물을 냉각하여 이 혼입물을 액화하기 위한 냉각수단을 갖춘 트랩본체를 포함하는 제거장치를 구비하고서, 처리장치로부터 상기 진공펌프에 의해 배기가스를 흡입하여 방출하는 진공배기시스템에 있어서, 상기 배기가스중의 혼입물을 상기 트랩본체의 냉각수단에 의해 냉각하여 액화한 후에 상기 진공배기시스템과 제거장치를 격리하는 수단과, 상기 혼입물이 수분 혹은 알콜 등과 반응하여 반응성 가스 및 응고된 퇴적물을 생성하도록 격리된 제거장치의 하우징내로 수분 혹은 알콜 등을 도입하는 도입수단 및, 상기 제거장치의 하우징으로부터 반응성 가스 및 응고된 퇴적물을 제거하는 제거수단을 구비한 것을 특징으로 하는 진공배기시스템.
  6. 제5항에 있어서, 상기 하우징에, 상기 반응성 가스의 농도를 측정하기 위한 가스농도측정수단을 설치한 것을 특징으로 하는 진공배기시스템.
  7. 제5항에 있어서, 상기 진공배기시스템의 측벽에 상기 배기가스내에 함유된 혼입물이 부착되는 것을 방지하도록 상기 배기가스를 가열하기 위한 가열수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 진공배기시스템.
  8. 진공펌프의 상류측에 위치하고 있는 배기통로에 삽입된 하우징과, 상기 하우징에 착탈자재로 부착되고, 접촉하는 배기가스중의 혼입물을 냉각하여 이 혼입물을 액화하기 위한 냉각수단을 갖춘 트랩본체를 포함하는 제거장치를 구비하고서, 처리장치로부터 상기 진공펌프에 의해 배기가스를 흡입하여 방출하는 진공배기시스템으로부터 혼입물을 제거하기 위한 혼입물 제거방법에 있어서, 상기 배기가스중의 혼입물을 상기 트랩본체의 냉각수단에 의해 냉각하여 액화한 후에 상기 진공배기시스템과 제거장치를 격리하는 공정과, 상기 혼입물이 수분 혹은 알콜 등과 반응하여 반응성 가스 및 응고된 퇴적물을 생성하도록 격리된 제거장치의 하우징내로 수분 혹은 알콜 등을 도입하는 공정 및, 상기 제거장치의 하우징으로부터 반응성 가스 및 응고된 퇴적물을 제거하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 혼입물 제거방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 격리공정, 수분 또는 알콜 등의 도입공정 및 제거공정을 소정 횟수 반복해서 실행하는 것을 특징으로 하는 혼입물 제거방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960012081A 1995-04-20 1996-04-20 진공배기시스템 및 혼입물 제거방법 KR100260246B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11940495A JP3287730B2 (ja) 1995-04-20 1995-04-20 混入物の除去装置、これを用いた処理装置の真空排気系及びそのメンテナンス方法
JP95-119404 1995-04-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960037102A true KR960037102A (ko) 1996-11-19
KR100260246B1 KR100260246B1 (ko) 2000-07-01

Family

ID=14760650

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960012081A KR100260246B1 (ko) 1995-04-20 1996-04-20 진공배기시스템 및 혼입물 제거방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5704214A (ko)
JP (1) JP3287730B2 (ko)
KR (1) KR100260246B1 (ko)
TW (1) TW353765B (ko)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000249058A (ja) 1999-02-26 2000-09-12 Ebara Corp トラップ装置
US6602783B1 (en) * 1999-10-06 2003-08-05 Air Products And Chemicals, Inc. Deposition of titanium amides
US6572924B1 (en) 1999-11-18 2003-06-03 Asm America, Inc. Exhaust system for vapor deposition reactor and method of using the same
JP4599701B2 (ja) * 1999-11-24 2010-12-15 東京エレクトロン株式会社 成膜装置の排気系構造及び不純物ガスの除去方法
US6770145B2 (en) * 2000-12-11 2004-08-03 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Low-pressure CVD apparatus and method of manufacturing a thin film
JP2003074468A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Toshiba Corp 真空排気システム及びその監視・制御方法
US20050016453A1 (en) * 2003-04-23 2005-01-27 Seidel Thomas E. Collection of unused precursors in ALD
US20050148199A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-07 Frank Jansen Apparatus for atomic layer deposition
US20060176928A1 (en) 2005-02-08 2006-08-10 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus, control method adopted in substrate processing apparatus and program
KR100721094B1 (ko) 2005-10-10 2007-05-25 (주)티티에스 진공라인용 블록히터
JP2008246380A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Ihi Corp 真空処理装置及びそのメンテナンス方法
JP5135856B2 (ja) * 2007-03-31 2013-02-06 東京エレクトロン株式会社 トラップ装置、排気系及びこれを用いた処理システム
JP5133013B2 (ja) * 2007-09-10 2013-01-30 東京エレクトロン株式会社 成膜装置の排気系構造、成膜装置、および排ガスの処理方法
DE102008014654A1 (de) * 2008-03-17 2009-09-24 Robert Bosch Gmbh Abgasbehandlungsvorrichtung für eine CVD-Vorrichtung, CVD-Vorrichtung sowie Abgasbehandlungsverfahren
JP5277784B2 (ja) * 2008-08-07 2013-08-28 東京エレクトロン株式会社 原料回収方法、トラップ機構、排気系及びこれを用いた成膜装置
JP5133923B2 (ja) * 2009-03-12 2013-01-30 東京エレクトロン株式会社 トラップ装置
JP5877702B2 (ja) * 2011-12-14 2016-03-08 株式会社ニューフレアテクノロジー 成膜装置および成膜方法
JP5874469B2 (ja) * 2012-03-19 2016-03-02 東京エレクトロン株式会社 トラップ装置及び成膜装置
KR20140136594A (ko) * 2013-05-20 2014-12-01 삼성전자주식회사 배기 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 설비
TWI588286B (zh) * 2013-11-26 2017-06-21 烏翠泰克股份有限公司 經改良的電漿強化原子層沉積方法、周期及裝置
JP6602709B2 (ja) * 2016-03-23 2019-11-06 大陽日酸株式会社 排ガス処理装置、及び排ガス処理方法
CN110465156B (zh) * 2018-05-09 2023-02-21 伊利诺斯工具制品有限公司 用于回流焊炉的废气过滤装置
US11532461B2 (en) * 2018-10-23 2022-12-20 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4479361A (en) * 1983-03-02 1984-10-30 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Gas pump with movable gas pumping panels
JPS59217617A (ja) * 1983-05-23 1984-12-07 Toshiba Corp アモルフアスシリコン成膜装置
US4551197A (en) * 1984-07-26 1985-11-05 Guilmette Joseph G Method and apparatus for the recovery and recycling of condensable gas reactants
JPH0261067A (ja) * 1988-08-26 1990-03-01 Tel Sagami Ltd 熱処理装置
JPH0293070A (ja) * 1988-09-28 1990-04-03 Hitachi Ltd プラズマ成膜加工装置
JPH0328377A (ja) * 1989-06-26 1991-02-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置
JP3171593B2 (ja) * 1990-10-09 2001-05-28 東京エレクトロン株式会社 トラップ装置
JPH056884A (ja) * 1991-06-27 1993-01-14 Kawasaki Steel Corp シリコンウエハーの洗浄方法
US5303558A (en) * 1992-07-30 1994-04-19 Vlsi Technology, Inc. Thermal trap for gaseous materials

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08290050A (ja) 1996-11-05
US5704214A (en) 1998-01-06
TW353765B (en) 1999-03-01
KR100260246B1 (ko) 2000-07-01
JP3287730B2 (ja) 2002-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960037102A (ko) 혼입물 제거장치 및 제거방법
KR940016447A (ko) 처리장치
SG171468A1 (en) Exposure apparatus and method for producing device
JPS56158873A (en) Dry etching method
KR20030022136A (ko) 피처리물처리장치 및 그것을 사용한 플라즈마설비
EP1366798A3 (en) A wet gas processing method and the apparatus using the same
JP4776380B2 (ja) 処理装置及び処理方法
GB9825812D0 (en) Method and apparatus for removing particles
CA2206464A1 (en) Gas removal device
JPS5840032A (ja) ソ−セ−ジケ−ス除去装置
MY131377A (en) Method and apparatus for wet chemical processing of semiconductor wafers and other objects
KR970023777A (ko) 반도체 제조설비의 폐가스 처리장치
JPH10137545A (ja) 有毒物質をガス洗浄する方法
RU95118129A (ru) Устройство для удаления газа и его применение
GB2243414A (en) Vacuum pump with heated vapor pre-trap
JP3020535B2 (ja) 有機物除去装置
WO2002043854A3 (en) Process and apparatus for transferring air-sensitive substances
JPS5546576A (en) Device for preventing semiconductor device from contaminating
JPS5469700A (en) Removing method and device of volatile constituent of radioactive waste solution
JPH07222986A (ja) サンプリング用の管路内の水分除去装置
SU1691902A1 (ru) Стенд тепловакуумных испытаний
JPS55145518A (en) Solid-gas separator
KR930020562A (ko) 진공처리장치
DE50302246D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum unterdruckaufkohlen
JP2005353909A (ja) 基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
AMND Amendment
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090326

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee