JP6602709B2 - 排ガス処理装置、及び排ガス処理方法 - Google Patents
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(1) 少なくとも金属塩基性ガスを含む排ガスを処理する排ガス処理装置であって、金属塩基性ガスを分解し、生成する金属酸化物を吸着除去する第1除害剤を含む第1処理部と、前記第1処理部の二次側に設けられ、非金属塩基性ガスを吸着除去する第2除害剤を含む第2処理部と、を備える排ガス処理装置。
(2) 有機金属化合物と、金属塩基性ガスとを含む排ガスを処理する排ガス処理装置であって、酸化ガスを添加して有機金属化合物を酸化処理する酸化部と、前記酸化部の直後に設けられ、金属酸化物を捕集して除去する捕集部と、金属塩基性ガスを分解し、生成する金属酸化物を吸着除去する第1除害剤を含む第1処理部と、前記第1処理部の二次側に設けられ、非金属塩基性ガスを吸着除去する第2除害剤を含む第2処理部と、を備える排ガス処理装置。
(3) 前記第1除害剤が触媒酸化剤であり、前記第2除害剤が化学吸着剤である、前項1又は2に記載の排ガス処理装置。
(4) 前記化学吸着剤が、HPO3を添着した活性炭、銀を添着した鉄マンガン酸化物、及び硫酸鉄のいずれか1以上を含む、前項1乃至3のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。
(5) 少なくとも金属塩基性ガスを含む排ガスを処理する排ガス処理方法であって、排ガス中の金属塩基性ガスを第1除害剤と接触させて、生成する金属酸化物を前記第1除害剤によって吸着除去した後、前記排ガスを第2除害剤と接触させて当該排ガス中から非金属塩基性ガスを吸着除去する、排ガス処理方法。
(6) 有機金属化合物と、金属塩基性ガスとを含む排ガスを処理する排ガス処理方法であって、排ガスに酸化ガスを添加して有機金属化合物を酸化処理し、生成した金属酸化物を含む粉体を前記排ガス中から捕集除去する、第1処理と、排ガス中の金属塩基性ガスを第1除害剤と接触させて、生成する金属酸化物を前記第1除害剤によって吸着除去した後、前記排ガスを第2除害剤と接触させて当該排ガス中から非金属塩基性ガスを吸着除去する、第2処理と、を含む、排ガス処理方法。
先ず、本実施形態の一実施形態である排ガス処理装置の構成について説明する。
図1は、本実施形態の排ガス処理装置1の構成の一例を示す系統図である。図1に示すように、本実施形態の排ガス処理装置1は、酸化部2、捕集部3、第1処理部4、及び第2処理部5を備えて概略構成されている。また、排ガス処理装置1は、チャンバ11及び真空ポンプ12を備えるデバイス製造装置10の後段(二次側)に設けられている。すなわち、排ガス処理装置1は、チャンバ11内に有機金属化合物と金属塩基性ガスとを供給して成膜した後に真空ポンプ12によってデバイス製造装置10の後段に排出された、上記有機金属化合物及び金属塩基性ガスを含む排ガスを除害処理して無害化するための装置である。
次に、本実施形態の排ガス処理方法(すなわち、上述した排ガス処理装置1の運転方法)の一例について説明する。
本実施形態における排ガス処理方法は、有機金属化合物と金属塩基性ガスとを含む排ガスを処理する排ガス処理方法であり、排ガスに酸化ガスを添加して有機金属化合物を酸化処理し、生成した金属酸化物を含む粉体を排ガス中から捕集除去する工程(第1処理)と、排ガス中の金属塩基性ガスを第1除害剤と接触させて、生成する金属酸化物を第1除害剤によって吸着除去した後、排ガスを第2除害剤と接触させて当該排ガス中から非金属塩基性ガスを吸着除去する工程(第2処理)とを含んで、概略構成されている。
具体的には、先ず、図1に示すように、有機金属化合物と金属塩基性ガスとをプロセスガスとして真空蒸着チャンバ(チャンバ)11に導入する。チャンバ11に導入されたプロセスガス中の有機金属化合物と金属塩基性ガスは、成膜にサブ%程度使用された後、残り99%以上が排ガスとして真空ポンプ12によって、デバイス製造装置10の外側に排出される。次いで、デバイス製造装置10から排出された排ガスを、後段に設けられた排ガス処理装置1に導入する。ここで、排ガスの空間速度(S/V)が4000/hr以下となるように排ガス処理装置1に導入すると、効率良く除害処理することができる。
第2処理では、先ず、第1処理後の排ガスを第1処理部4に導入する。この第1処理部4では、捕集部3のフィルターを通りに抜けた排ガス中の金属塩基性ガスが触媒酸化剤(第1除害剤)との反応で分解して、金属酸化物と非金属塩基性ガスとが生成し、金属酸化物が吸着除去される。また、副生した非金属塩基性ガスは第1処理部4では除去されずに、排ガス中に含まれて第2処理部5に送られる。
すなわち、本実施形態の排ガス処理方法によれば、上述した第1処理及び第2処理によって、排ガス中に含まれる、有機金属化合物、金属塩基性ガス、及び副生する非金属塩基性ガスを安全に除害処理することができる。
(実施例1)
図1に示す、本発明の排ガス処理装置1を用いて、排ガスの除害処理を行った。
具体的には、先ず、有機金属(トリメチルアルミニウム、(CH3)3Al)と金属塩基性ガス(テトラキスジメチルアミノチタニウム、TDMAT)をプロセスガスとして真空蒸着チャンバ11に導入した。チャンバ11に導入された有機金属(トリメチルアルミニウム)と金属塩基性ガス(TDMAT)は、成膜にサブ%程度が使用された後、残り99%以上が真空ポンプ12によって、デバイス製造装置10から排ガスとして排出され、これを排ガス処理装置1に導入した。
「トリメチルアルミニウムの酸化反応」
(CH3)3AL+O2→AL2O3+CH4
「TDMATの酸化反応」
(CH3)2N[N(CH3)2]3Ti+O2→TiO2+(CH3)2NH
図2に示す、本発明の排ガス処理装置1を用いて、排ガスの除害処理を行った。
具体的には、先ず、有機金属(トリメチルアルミニウム、(CH3)3Al)、金属塩基性ガス(テトラキスジメチルアミノチタニウム、TDMAT)、及び非金属塩基性ガス(ジメチルアミン、(CH3)2NH)をプロセスガスとして真空蒸着チャンバ11に導入した。チャンバ11に導入された有機金属(トリメチルアルミニウム)、金属塩基性ガス(TDMAT)、及び非金属塩基性ガス(ジメチルアミン、(CH3)2NH)は、成膜にサブ%程度が使用された後、残り99%以上が真空ポンプ12によって、デバイス製造装置10から排ガスとして排出され、これを排ガス処理装置1に導入した。
「トリメチルアルミニウムの酸化反応」
(CH3)3AL+O2→AL2O3+CH4
「TDMATの酸化反応」
(CH3)2N[N(CH3)2]3Ti+O2→TiO2+(CH3)2NH
図3に示す、従来の除害処理装置101を用いて、排ガスの除害処理を行った。
具体的には、先ず、有機金属(トリメチルアルミニウム、(CH3)3Al)と金属塩基性ガス(テトラキスジメチルアミノチタニウム、TDMAT)をプロセスガスとして真空蒸着チャンバ11に導入した。チャンバ11に導入された有機金属(トリメチルアルミニウム)と金属塩基性ガス(TDMAT)は、成膜にサブ%程度が使用された後、残り99%以上が真空ポンプ12によって、デバイス製造装置10から排ガスとして排出され、これを除害処理装置101に導入した。
「トリメチルアルミニウムの酸化反応」
(CH3)3AL+O2→AL2O3+CH4
「TDMATの酸化反応」
(CH3)2N[N(CH3)2]3Ti+O2→TiO2+(CH3)2NH
図4に示す、従来の除害装置201を用いて排ガスの除害処理を行った。
具体的には、先ず、有機金属(トリメチルアルミニウム、(CH3)3Al)と金属塩基性ガス(テトラキスジメチルアミノチタニウム、TDMAT)をプロセスガスとして真空蒸着チャンバ11に導入した。チャンバ11に導入された有機金属(トリメチルアルミニウム)と金属塩基性ガス(TDMAT)は、成膜にサブ%程度が使用された後、残り99%以上が真空ポンプ12によって、デバイス製造装置10から排ガスとして排出され、これ除害処理装置201の第1処理部204に導入した。
2・・・酸化部
3・・・捕集部
4・・・第1処理部
5・・・第2処理部
10・・・デバイス製造装置
11・・・チャンバ
12・・・真空ポンプ
Claims (4)
- 有機金属化合物と、金属塩基性ガスとを含む排ガスを処理する排ガス処理装置であって、
酸化ガスを添加して有機金属化合物を酸化処理する酸化部と、
前記酸化部の直後に設けられ、金属酸化物を捕集して除去する捕集部と、
金属塩基性ガスを分解し、生成する金属酸化物を吸着除去する第1除害剤を含む第1処理部と、
前記第1処理部の二次側に設けられ、非金属塩基性ガスを吸着除去する第2除害剤を含む第2処理部と、を備える排ガス処理装置。 - 前記第1除害剤が触媒酸化剤であり、前記第2除害剤が化学吸着剤である、請求項1に記載の排ガス処理装置。
- 前記化学吸着剤が、HPO3を添着した活性炭、銀を添着した鉄マンガン酸化物、及び硫酸鉄のいずれか1以上を含む、請求項1又は2に記載の排ガス処理装置。
- 有機金属化合物と、金属塩基性ガスとを含む排ガスを処理する排ガス処理方法であって、
排ガスに酸化ガスを添加して有機金属化合物を酸化処理し、生成した金属酸化物を含む粉体を前記排ガス中から捕集除去する、第1処理と、
排ガス中の金属塩基性ガスを第1除害剤と接触させて、生成する金属酸化物を前記第1除害剤によって吸着除去した後、前記排ガスを第2除害剤と接触させて当該排ガス中から非金属塩基性ガスを吸着除去する、第2処理と、を含む、排ガス処理方法。
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