KR930020562A - 진공처리장치 - Google Patents

진공처리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR930020562A
KR930020562A KR1019930004403A KR930004403A KR930020562A KR 930020562 A KR930020562 A KR 930020562A KR 1019930004403 A KR1019930004403 A KR 1019930004403A KR 930004403 A KR930004403 A KR 930004403A KR 930020562 A KR930020562 A KR 930020562A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
sample
size
vacuum
vacuum processing
Prior art date
Application number
KR1019930004403A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100269794B1 (ko
Inventor
아끼다까 마끼노
나오유끼 다무라
데쯔노리 가지
Original Assignee
가나이 쯔도무
가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP4070610A external-priority patent/JP2661455B2/ja
Application filed by 가나이 쯔도무, 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 filed Critical 가나이 쯔도무
Publication of KR930020562A publication Critical patent/KR930020562A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100269794B1 publication Critical patent/KR100269794B1/ko

Links

Landscapes

  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

진공처리 챔버내에 유도된 처리가스를 사용하여 진공처리 챔버내에 놓을 제작물을 처리시키기 위한 진공처리장치에서, 실제적인 배기속도를 개선하기 위해, 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 처리가스에 의해 상기 제작물이 처리된 이후에 상기 처리가스를 배기시키기 위한 수단을 구비한 진공처리장치, 상기 배기수단이 배기펌프와, 상기 배기 펌프의 흡입구 크기보다 더 큰 확장면적으로 상기 제작물의 중앙에 대체로 직각인 방향으로 연장된 버퍼 공간과 처리될 상기 제작물의 표면 뒤련상에 형성된 가스배출구로 구성되며, 상기 가스배출구는 배기펌프의 흡입구의 크기보다 크거나 실제로 같은 크기를 가진다.

Description

진공처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1바람직한 실시예에 따른 진공처리장치의 개략도.
제2도 제1도에 도시된 장치에서 배기시스템의 변형을 나타낸 진공처리 장치의 개략도.
제3도는 본 발명의 제2바람직한 실시예에 따른 진공처리장치의 개략도.

Claims (9)

  1. 가스 흡입구와 가스 배출구를 구비하며 상기 가스 흡입구를 통해 그 내부로 유도된 처리 가스를 사용함으로써 그 내부에 위치한 샘플을 처리하기 위한 진공처리 챔버와, 상기 진공처리 챔버내에 유도된 상기 처리가스를 배기하기 위한 상기 진공처리 캠버의 상기 가스 배출구에 결합된 흡입구를 구입한 것으로, 이것의 상기 흡입구의 크기가 상기 진공처리 챔버의 상기 가스 배출구의 크기보다 더 크지 않은 배기펌프로 구성된 진공처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 배기펌프의 상기 흡입구가 상기 진공처리 챔버의 상기 가스배출구에 직접 연결됨을 특징으로 하는 진공처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 배기펌프의 출구에 콘덕턴스 밸브가 공급됨을 특징으로 하는 진공장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 콘덕턴스 벨브의 크기가 상기 배기펌프의 출구의 크기보다 더 크지 않음을 특징으로 하는 진공처리장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 배기펌프의 상기 흡입구가 콘덕턴스 벨브를 통해 상기 진공처리 챔버의 상기 가스 출구에 연결되고 상기 콘덕턴스 밸브의 크기가 상기 진공처리 챔버의 상기 가스출구의 상기 크기보다 크지 않으며 상기 배기펌프의 픕입구의 상기 크기보다 더 작지 않음을 특징으로 하는 진공처리장치.
  6. 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된 후에 상기 처리 가스를 배기하기 위한 수단과, 배기펌프와, 상기 배기펌프의 흡입구 크기보다 더 큰 확장영역으로 상기 샘플의 중앙에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된 버퍼공간과, 처리될 기 샘플의 표면의 후측상에 형성될 가스배출구을 가지며, 상기 가스 배출구라 상기 배기 펌프의 상기 흡입구의 크기보다 크거나, 실질적으로 같은 크기를 갖는 상기 배기수단으로 구성된, 처리가스에 의해 샘플을 처리하기 위한 진공처리장치.
  7. 진공처리 챔버내로 유도된 처리가스를 사용함으로써 상기 진공처리 챔버내에 위치한 샘플을 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 상기 진공처리 장치가 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된 후 상기 처리가스를 배기하기 위한 수단을 구비하며, 상기 배기수단이 배기펌프와, 상기 배기펌프의 흡입구의 크기보다 더 큰 확장영역으로 상기 샘프의 중앙에 실질적으로 직각인 방향으로 연장된 버퍼공간과, 처리될 상기 샘플의 표면의 후측상에 형성되고 상기 배기펌프의 상기 흡입구의 크기와 같은 크기를 가지는 가스 배출기와, 상기 샘플 둘레에 콘덕턴스를 균일하게 하기 위해 상기 샘플과 상기 배기펌프 사이에 공급되는 수단으로 구성되는 진공처리 장치.
  8. 진공처리 챔버내로 유도된 처리가스를 사용함으로써 상기 진공처리 챔버내에 위치한 샘플을 처리시키는 진공처리 챔버에 있어서, 상기 진공처리장치가 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스 흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된후 상기 처리가스를 배기하기 위한수단을 구비하며, 상기 배기수단이 복수개의 배기 펌프와, 각각의 상기 배기펌프의 흡입구의 크기보다 더 큰 확장영역으로 상기 샘플의 중앙에 실질적으로 직각인 방향으로연장된 버퍼, 공간과, 처리될 상기 샘플의 표면의 후측상에 형성되며 각각이, 상기 각 배기 펌프의 상기 흡입구의 크기보다 크거나 실직적으로 같은 크기를 가지는 복수개의 가스배출구로 구성되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
  9. 진공처리 챔버내로 유도된 처리가스를 사용함으로써 상기 진공처리 챔버내에 위치한 제작물을 처리시키는 진공처리 챔버에 있어서, 상기 진공처리장치가 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된 후 상기처리가스를 배기하기 위한 수단을 구비하며, 상기 배기 수단은 복수개의 배기펌프와, 처리될 상기 샘플의 표면의 후측상에 형성되고 상기 샘플의 표면에 평행한 관계로, 그리고 상기 샘플의 중앙선에 대해 서로 대칭인 관계로 배열된 복수개의가스 배출구로 구성되며, 각각의 상기 가스배출기가 상기 배기 펌프 각각의 흡입구의 크기보다 크거나 대체로 같은 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930004403A 1992-03-27 1993-03-22 진공처리장치 KR100269794B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP92-70610 1992-03-27
JP4070610A JP2661455B2 (ja) 1992-03-27 1992-03-27 真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930020562A true KR930020562A (ko) 1993-10-20
KR100269794B1 KR100269794B1 (ko) 2001-01-15

Family

ID=66912122

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019930004403A KR100269794B1 (ko) 1992-03-27 1993-03-22 진공처리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100269794B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100481271B1 (ko) * 2002-09-25 2005-04-07 주성엔지니어링(주) 밸브가 장착된 반도체 및 티에프티 엘시디 제조용 챔버의배기시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR100269794B1 (ko) 2001-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960032595A (ko) 플라즈마 처리 장치 및 그 방법
FR2808098B1 (fr) Procede et dispositif de conditionnement de l'atmosphere dans une chambre de procedes
ATE159461T1 (de) Vorrichtung zum reinigen von sich bewegenden gegenständen
EP0295083A3 (en) Apparatus and method for enhanced chemical processing in high pressure and atmospheric plasmas produced by high frequency electro-magnetic waves
KR960037102A (ko) 혼입물 제거장치 및 제거방법
KR970067539A (ko) 기판처리장치
JP2000514477A (ja) 乾式表面処理プロセス及びそのようなプロセスを実施するための装置
KR930020562A (ko) 진공처리장치
JPS5666044A (en) Semiconductor device
DE50303007D1 (de) Vorrichtung zur Behandlung von metallischen Werkstücken mit Kühlgas
GB1461661A (en) Separation of gases
JPS62106627A (ja) 半導体製造装置
AU2897884A (en) Treatment of material web
KR950034547A (ko) 반도체 기판 앞면의 보호코팅없이 플라즈마를 이용한 기판 후면의 에칭방법
EP3715498A1 (en) Plate coating device
JPS5687331A (en) Reducing furnace for solder-treatment
KR920020632A (ko) 드라이에칭 방법 및 드라이에칭 장치
JPH01187380A (ja) 真空処理装置
JPH05343372A (ja) ドライエッチング装置のクリーニング方法
JPS5767636A (en) Method and apparatus for continuous plasma treatment
JPS61124125A (ja) プラズマ処理装置
SU1201538A1 (ru) Способ глушени шума выхлопа пневматических механизмов
JPH0354458B2 (ko)
WO2004031432A3 (de) Verfahren und vorrichtung zum unterdruckaufkohlen
KR940006633A (ko) 가스처리장치 및 처리방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120629

Year of fee payment: 13

EXPY Expiration of term