KR940004782A - 턴오프 고전력 반도체 컴포넌트 - Google Patents

턴오프 고전력 반도체 컴포넌트 Download PDF

Info

Publication number
KR940004782A
KR940004782A KR1019930015745A KR930015745A KR940004782A KR 940004782 A KR940004782 A KR 940004782A KR 1019930015745 A KR1019930015745 A KR 1019930015745A KR 930015745 A KR930015745 A KR 930015745A KR 940004782 A KR940004782 A KR 940004782A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
contact
cathode
gate
turn
high power
Prior art date
Application number
KR1019930015745A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100305227B1 (ko
Inventor
그뤼닝 호르스트
Original Assignee
한스 요트. 헤쪄
아세아브라운보베리 리서치 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한스 요트. 헤쪄, 아세아브라운보베리 리서치 리미티드 filed Critical 한스 요트. 헤쪄
Publication of KR940004782A publication Critical patent/KR940004782A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100305227B1 publication Critical patent/KR100305227B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/74Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
    • H01L29/744Gate-turn-off devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/74Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/043Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body
    • H01L23/051Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body another lead being formed by a cover plate parallel to the base plate, e.g. sandwich type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Landscapes

  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Thyristors (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Abstract

고전력 반도체 컴포넌트에 있어서, 압력이 인가될 수 있는 원판 모양의 캐소우드 접점(40)과 압력이 인가될 수 있는 원판 모양의 애노드(5) 접점 사이의 환상 절연 하우징(10)에 동심으로 배치되고, 게이트 접점(7,21)에 의해 캐소우드 접점측 상에 접촉되고, 상기 캐소우드 접점(4)은 제1덮개부리드를 통하여 절연 하우징(17)의 일단에 접속되고 상기 애노드 접점(5)은 제2덮개부(11b)를 통해 절연 하우징(70)의 타단에 접속되는 원판 모양의 반도체 기판(2)을 구비하고, 밀봉 컴포넌트(1)는 외측으로 형성되며, 상기 게이트 접점(7)은 외측으로 도출된 게이트 리드(8)를 통해 게이트 전류를 공급받을 수 있고, 게이트 리드(8)는 회전식 대칭이고 캐소우드 접점(4)에 대해 동심으로 배치되고 단일 절연체에 의해 캐소우드 접점(4)과 전기적으로 분리되는 결과로 인해 게이트 유닛으로의 접속이 종래의 컴포넌트와 비교하여 최소한의 변화로서 낮은 인덕턴스를 가지고 실현된다.

Description

턴오프 고전력 반도체 컴포넌트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 환상(annular)게이트 접점과 절연 하우징과 캐소우드 접점 사이에 도출된 환상의 게이트 리드를 구비하는, 본 발명에 따른 컴포넌트에 대한 제1실시예의 단면을 토시한다.
제2도는 스트립 도체(strip conductor)의 형태로 게이트-캐소우드 회로의 공급도체(supply conductor)를 갖는 제1도의 컴포넌트를 도시한다.
제3도는 환상 게이트 접점과 절연 하우징을 통해 길이 방향으로 도출된 환상 게이트 리드를 구비하는, 본 발명에 따른 컴포넌트의 제2실시예의 단면을 도시한다.
제4도는 환상 게이트 접점과 캐소우드 접점을 통하여 상향으로 도출된 환상 게이트 리드를 구비하는, 본 발명에 따른 컴포넌트의 제3실시예의 단면을 도시한다.

Claims (14)

  1. 압력이 인가될 수 있는 원판 모양의 캐소우드 접점과 압력이 인가될 수 있는 원판 모양의 애노드 접점 사이의 환상 절연 하우징에 동심(同心)으로 배치되고, 게이트 접점에 의해 캐소우드 접점측 상에 접촉되어 있는 원판모양의 반도체 기판을 구비하고, 상기 캐소우드 접점은 제1덮개부(1id)를 통하여 절연 하우징의 일단에 접속되고 상기 애노드 접점은 제2덮개부를 통하여 절연 하우징의 타단에 접속되며, 외향으로 기밀 봉지된 컴포넌트가 형성되며, 상기 게이트 접점이 외측으로 도출된 게이트 리드(lead)를 통해 게이트 전류를 공급받을 수 있는, 특히 GTO 형태의 턴, 오프 고전력 반도체 컴포넌트에 있어서, (a) 상기 게이트 리드가 회전식으로 대칭이며 캐소우드 접점에 대해 동심으로 배치되고, (b) 상기 게이트 리드가 단일 절연체에 의해 캐소우드 접점과 전기적으로 절연되는 턴오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  2. 제1항에 있어서, (a) 상기 게이트 접점이 환상이고, (b) 상기 게이트 리드가 마찬가지로 환상이고 컴포넌트로 부터 도출되는 턴오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  3. 제2항에 있어서, 상기 게이트 접점이 약간 떨어져서 동심으로 캐소우드 접점을 둘러싸는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  4. 제3항에 있어서, (a) 상기 게이트 리드는 캐소우드 접점과 절연 하우징 사이에서 컴포넌트로 부터 도출되며, (b) 상기 게이트 리드는 게이트 접점을 제1덮개부에 직접 접속하고, (c) 상기 제1덮개부는 캐소우드 접점을 동심으로 둘러싸는 개재된 절연링에 의해 캐소우드 접점으로 부터 전기적으로 절연되는 턴 오프 고전력 반도체 반도체 컴포넌트.
  5. 제4항에 있어서, 상기 절연링이 세라믹으로 구성되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  6. 제4항에 있어서, 상기 절연링과 상기 캐소우드 접점이 금속 결합링에 의해 결함되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  7. 제4항에 있어서, 상기 두개의 덮개부와 상기 게이트 리드가 금속 시트로 구성되고, 상기 게이트 리드는 냉간 용접에 의해 제1덮개부의 내측상의 제1덮개부에 결합되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  8. 제4항에 있어서, (a) 게이트 접속과 캐소오드 접속을 제공하기 위해, 양측상에 메탈라이제이션부가 갖추어진 절연 시트를 구비한 스트립 도체가 제공되고, (b) 상기 스트립 도체는 캐소우드 측상의 컴포넌트까지 이르고, 제2메탈라이제이션부는 컴포넌트와 면하며, (c) 상기 절연 시트의 상기 제2메탈라이제이션부는 제1메탈라이제이션부가 캐소우드 접점과 직접 접촉하고 캐소우드 접속을 헝성하는 식으로 캐소우드 접점 영역의 스트립 도체로 부터 제거되고, (d) 상기 제2메탈라이제이션부는 제1덮개부에 전기적으로 직접 접속되고 게이트 접속을 형성하는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  9. 제8항에 있어서, 상기 스트립 도체의 절연 시크는 폴리이미드로 구성되고, 상기 두개의 메탈라이제이션부는 Cu로 구성되고, 제2메탈라이제이션부는 제1덮개부에 땜납되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  10. 제3항에 있어서, 상기 절연 하우징은 상부 하우징과 하부 하우징으로 세분되고, 상기 게이트 리드는 상기 상부 및 하부 하우징 사이에서 컴포넌트로 부터 도출되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  11. 제2항에 있어서, (a) 상기 캐소우드 접점은 내부 접촉 원판과 약간 떨어져서 내부 접촉 원판을 동심으로 둘러싸는 외부 접촉링으로 세분되고, (b) 상기 내부 접촉 원판과 상기 외부 접촉링 사이에서 절연되는 식으로 배치되고, (c) 상기 게이트 리드는 상기 내부 접촉 원판과 상기 외부 접촉링 사이에서 절연되는 식으로 컴포넌트로 부터 도출되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  12. 제11항에 있어서, 상기 게이트 리드는 내부 접촉 원판과 상기 외부 접촉링 사이의 절연 물질에 의해 절연되는 식으로 구현된 접촉링에서의 캐소우드 측상에서 종료되는 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  13. 제1항에 있어서, (a) 상기 게이트 접점은 중심 게이트 접점이며, (b) 상기 게이트 리드는 중심에서 캐소우드 접점을 통해 컴포넌트로 부터 도출되고, 캐소우드 접점의 축과 평행한 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
  14. 제1항 내지 13항중 어느 한 항에 있어서, 상기 게이트 접점은 압력 접점이고, 상기 게이트 리드는 탄력 디자인인 턴 오프 고전력 반도체 컴포넌트.
KR1019930015745A 1992-08-15 1993-08-14 턴오프고전력반도체컴포넌트 KR100305227B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP4227063.4 1992-08-15
DE4227063A DE4227063A1 (de) 1992-08-15 1992-08-15 Abschaltbares Hochleistungs-Halbleiterbauelement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940004782A true KR940004782A (ko) 1994-03-16
KR100305227B1 KR100305227B1 (ko) 2001-11-22

Family

ID=6465643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019930015745A KR100305227B1 (ko) 1992-08-15 1993-08-14 턴오프고전력반도체컴포넌트

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5345096A (ko)
EP (1) EP0588026B1 (ko)
JP (1) JP2726222B2 (ko)
KR (1) KR100305227B1 (ko)
AT (1) ATE160904T1 (ko)
DE (2) DE4227063A1 (ko)
ES (1) ES2112360T3 (ko)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3469304B2 (ja) * 1994-04-12 2003-11-25 三菱電機株式会社 半導体装置
DE19505387A1 (de) * 1995-02-17 1996-08-22 Abb Management Ag Druckkontaktgehäuse für Halbleiterbauelemente
JP3291977B2 (ja) * 1995-05-31 2002-06-17 三菱電機株式会社 圧接型半導体素子及びその製造方法並びに圧接型半導体装置
DE19543702A1 (de) * 1995-11-23 1997-05-28 Asea Brown Boveri Stromrichterschaltungsanordnung
JP3191653B2 (ja) 1996-01-17 2001-07-23 三菱電機株式会社 パワーデバイス用半導体スイッチング装置
DE19615112A1 (de) * 1996-04-17 1997-10-23 Asea Brown Boveri Leistungshalbleiterbauelement
DE19708873A1 (de) * 1997-03-05 1998-09-10 Asea Brown Boveri Gateeinheit für einen hart angesteuerten GTO
DE19711965C2 (de) * 1997-03-21 1999-01-14 Siemens Ag Vorrichtung zur niederinduktiven Anbindung eines abschaltbaren Thyristors an seine Ansteuereinrichtung
DE19732738A1 (de) * 1997-07-30 1999-02-04 Asea Brown Boveri Leistungshalbleiterbauelemente mit druckausgleichender Kontaktplatte
DE19800469A1 (de) * 1998-01-09 1999-07-15 Asea Brown Boveri Niederinduktiv angesteuerter, gategesteuerter Thyristor
JP4129082B2 (ja) 1998-07-30 2008-07-30 三菱電機株式会社 圧接型半導体装置及びそのリング状ゲート端子並びに電力応用装置
DE69838880T2 (de) 1998-09-10 2008-12-11 Mitsubishi Denki K.K. Druckkontakt-halbleiteranordnung
DE10041112B4 (de) * 2000-08-22 2006-05-24 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH & Co. KG Isolierelement
JP4781560B2 (ja) * 2001-06-08 2011-09-28 三菱電機株式会社 ゲートドライブ装置
US6498551B1 (en) * 2001-08-20 2002-12-24 Xytrans, Inc. Millimeter wave module (MMW) for microwave monolithic integrated circuit (MMIC)
EP1298733A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-02 ABB Schweiz AG Turn-off high-power semiconductor device
EP1372197A1 (de) * 2002-06-10 2003-12-17 ABB Schweiz AG Leistungshalbleiter mit variierbaren Parametern
DE102004050588B4 (de) * 2004-10-16 2009-05-20 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Anordnung mit einem Leistungshalbleiterbauelement und mit einer Kontakteinrichtung
EP1746661A1 (en) 2005-07-22 2007-01-24 ABB Technology AG Power semiconductor device
JP5040234B2 (ja) * 2006-09-26 2012-10-03 三菱電機株式会社 圧接型半導体装置
EP2071621A1 (en) 2007-12-11 2009-06-17 ABB Research Ltd. Semiconductor switching device with gate connection
EP2161746A1 (en) 2008-09-08 2010-03-10 Converteam Technology Ltd Semiconductor switching devices
AU2010348910B2 (en) 2010-03-18 2015-12-03 Abb Research Ltd Converter cell for cascaded converters, control system and method for bypassing a faulty converter cell
GB2516079A (en) * 2013-07-10 2015-01-14 Melexis Technologies Nv Method for hermetically sealing with reduced stress
JP2015056487A (ja) * 2013-09-11 2015-03-23 株式会社東芝 半導体装置
CN109860285B (zh) * 2017-11-30 2021-05-11 株洲中车时代半导体有限公司 大功率半导体元件

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2049571A1 (de) * 1970-10-09 1972-04-13 Siemens Ag Halbleiterbauelement
US4008486A (en) * 1975-06-02 1977-02-15 International Rectifier Corporation Compression-assembled semiconductor device with nesting circular flanges and flexible locating ring
JPS5395583A (en) * 1977-02-01 1978-08-21 Toshiba Corp Mesa type semiconductor device
JPS5929143B2 (ja) * 1978-01-07 1984-07-18 株式会社東芝 電力用半導体装置
DE2810416C2 (de) * 1978-03-10 1983-09-01 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Halbleiterbauelement mit Kunststoffummantelung
DE2840400C2 (de) * 1978-09-16 1982-04-08 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Steuerbares Leistungs-Halbleiterbauelement
JPS56131955A (en) * 1980-09-01 1981-10-15 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPS5778173A (en) * 1980-11-04 1982-05-15 Hitachi Ltd Semiconductor device and manufacture thereof
DE3143336A1 (de) * 1981-10-31 1983-05-19 SEMIKRON Gesellschaft für Gleichrichterbau u. Elektronik mbH, 8500 Nürnberg Halbleitergleichrichterbaueinheit
JPS5986260A (ja) * 1982-11-10 1984-05-18 Hitachi Ltd ゲ−トタ−ンオフサイリスタ
DE3322593A1 (de) * 1983-06-23 1985-01-10 Klöckner-Moeller Elektrizitäts GmbH, 5300 Bonn Halbleiteranordnung und verfahren zu ihrer herstellung
JPS60194565A (ja) * 1984-03-15 1985-10-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPS6018140A (ja) * 1984-06-19 1985-01-30 松下電器産業株式会社 電気掃除機の床用吸込具
GB2162366B (en) * 1984-07-24 1987-09-30 Westinghouse Brake & Signal Semiconductor device contact arrangements
JPS6147977A (ja) * 1984-08-16 1986-03-08 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真複写機の磁気ブラシ現像装置
JPS61113249A (ja) * 1984-11-08 1986-05-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPS61208873A (ja) * 1985-03-13 1986-09-17 Res Dev Corp Of Japan 圧接構造型両面ゲ−ト静電誘導サイリスタ
JPS62101072A (ja) * 1985-10-25 1987-05-11 シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト サイリスタ
JPH088269B2 (ja) * 1986-10-22 1996-01-29 シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト 半導体デバイス
EP0287770B1 (de) * 1987-03-25 1993-05-05 BBC Brown Boveri AG Halbleiterbauelement mit einer Steuerelektrode
EP0320618A1 (de) * 1987-12-14 1989-06-21 BBC Brown Boveri AG Gehäuse für einen abschaltbaren Leistungsthyristor (GTO)
EP0328778B1 (de) * 1988-01-26 1992-03-11 Asea Brown Boveri Ag Hochleistungsschalter
EP0381849A1 (de) * 1989-02-07 1990-08-16 Asea Brown Boveri Ag Schnelle Leistungshalbleiterschaltung
JP2502386B2 (ja) * 1989-04-11 1996-05-29 富士電機株式会社 半導体装置
US4956696A (en) * 1989-08-24 1990-09-11 Sundstrand Corporation Compression loaded semiconductor device
JPH0760893B2 (ja) * 1989-11-06 1995-06-28 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JPH0744191B2 (ja) * 1989-12-15 1995-05-15 三菱電機株式会社 半導体装置およびそのための電極ブロック
JP3137375B2 (ja) * 1990-09-20 2001-02-19 株式会社東芝 圧接型半導体装置
EP0489945B1 (de) * 1990-12-08 2003-01-29 ABB Schweiz AG Schaltanordnung für einen HF-GTO

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06188411A (ja) 1994-07-08
EP0588026B1 (de) 1997-12-03
ES2112360T3 (es) 1998-04-01
DE59307770D1 (de) 1998-01-15
EP0588026A2 (de) 1994-03-23
ATE160904T1 (de) 1997-12-15
EP0588026A3 (en) 1994-09-07
JP2726222B2 (ja) 1998-03-11
KR100305227B1 (ko) 2001-11-22
US5345096A (en) 1994-09-06
DE4227063A1 (de) 1994-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940004782A (ko) 턴오프 고전력 반도체 컴포넌트
US6465883B2 (en) Capsule for at least one high power transistor chip for high frequencies
JPS5812966B2 (ja) 真空スイッチ
US3515952A (en) Mounting structure for high power transistors
US4956696A (en) Compression loaded semiconductor device
US4673961A (en) Pressurized contact type double gate static induction thyristor
US2864980A (en) Sealed current rectifier
US3585454A (en) Improved case member for a light activated semiconductor device
US6291878B1 (en) Package for multiple high power electrical components
US5115300A (en) High-power semiconductor device
JPH08241956A (ja) 半導体素子の圧力接触ハウジング
RU2002125832A (ru) Выключающее полупроводниковое устройство высокой мощности
US3513361A (en) Flat package electrical device
US4953004A (en) Housing for a gate turn-off power thyristor (GTO)
CN112687676B (zh) 压接式igbt子模组及压接式igbt模块
US6339231B1 (en) Gate commutated turn-off thyristor module
US3368122A (en) Semiconductor devices
US3068382A (en) Hermetically sealed semiconductor devices
US3310717A (en) Encapsulated semiconductor device with minimized coupling capacitance
GB1099874A (en) Semi-conductor devices for high currents
US6384474B1 (en) Housing for receiving a planar power transistor
US3268779A (en) Hermetically sealed semiconductor device
US3299327A (en) Housing for a three terminal semiconductor device having two insulation tube sections
JPH07202202A (ja) 電力用mosデバイスチップ及びパッケージアッセンブリ
KR200230399Y1 (ko) 전력용 반도체 모듈

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130719

Year of fee payment: 13

EXPY Expiration of term