KR20150113918A - 정전용량형 터치감응 장치 및 이 장치의 제조방법 - Google Patents

정전용량형 터치감응 장치 및 이 장치의 제조방법 Download PDF

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Abstract

정전용량형 터치감응 장치로서, 투명한 기판 유닛과, 패턴이 형성되고 투명한 적어도 하나 이상의 전도성 필름을 갖는다. 패턴이 형성된 투명한 전도성 필름은 투명한 기판 유닛 상에 형성되고 투명한 절연층을 가지며, 투명한 절연층 내에 실질적으로 배치된 복수개의 상호 전기적으로 격리된 센서라인을 갖는다. 각각의 센서라인은 복수개의 불투명한 나노컨덕터로부터 실질적으로 제조된다.

Description

정전용량형 터치감응 장치 및 이 장치의 제조방법{CAPACITIVE TOUCH-SENSITIVE DEVICE AND METHOD OF MAKING THE SAME}
본 출원은, 2014년 3월 31일에 출원된, 중국 특허 출원 No.201410126878.X의 우선권을 주장한다.
이 공개는 터치-감응 장치에 관련되며, 더 구체적으로는 정전식 터치-감응 장치 및 그것을 만드는 방법에 관련된다.
최근에, 터치-감응 기술의 발전과 함께, 터치 감응 장치들이 다양한 전기 제품 분야에 널리 채택되고 있으며, 이는 모바일 폰, 개인용 디지털 어시스턴트(PDAs), 게이밍 장치의 입력 인터페이스, 및 터치 패널들이다. 실제로, 터치-감응 장치는 통상적으로 평판 디스플레이(flat panel display, FPD)와 결합되어 다양한 전자 제품들에 장착되는 터치 패널을 형성한다. 사용자는 키보드들이나 마우스같은 종래의 입력 장치들 대신에 터치 패널을 통해 데이터 및 지시들을 입력할 수 있고, 그것에 의해 사용자에게 큰 편리함을 가져온다.
보통, 정전식 터치-감응 장치의 투명 전기-전도성 기판은 패턴화된 투명 전기-전도층 및 투명 기판에 의해 주로 구성된다. 앞서 언급된 투명 전기-전도성 기판을 만드는 방법은, 비-전도성 투명 기판에, 인듐 틴 옥사이드(인듐 주석 산화물, ITO)등과 같은 투명 금속 산화물로 일반적으로 만들어지는, 투명 전기-전도층을 코팅하는 것이 주된 것이다. 그런후에, 투명 전기-전도성 층(transparent electrically-conductive layer)은 추가로 포토리소그래피(photolithography) 및 에칭되어 소정 패턴을 갖는 투명 전기-전도층을 형성(예를 들어, 복수의 열 또는 교차하는 열과 행으로 된 전극 패턴을 형성)하여 정전식 터치-감응 장치의 센서 전극층으로 기능한다. 앞서 언급된 전극 패턴은 ITO 영역(즉, 전극 영역)과 에칭된 영역을 포함하며, 에칭된 영역에는 ITO 전도층이 형성되지 않아 빛이 투명 기판으로 직접 전송될 수 있다. 그러나, 두개의 영역들은 서로 다른 굴절률을 가지므로, 사용자가 둘 사이의 접합부에 형성된 에칭된 라인들(etched lines)을 명확히 관찰할 가능성이 있으며, 이는 터치 패널의 시각적 외관에 심각하고 좋지 않은 영향을 미칠 가능성이 있다.
상기-언급된 문제들을 풀기 위해, 해당 분야의 숙련된 기술자는 인덱스 매칭(IM) 멤브레인 층을 채택하는 경향이 있다. 도 1을 참고하면, 패턴화된 ITO층의 에칭된 라인들의 밝기의 상당함을 감소시키는 방법은 다음을 포함한다: 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 층(11)에 IM 멤브레인층(12)을 적층하는 단계; IM 층(12)에 ITO 층(13)을 적층하는 단계; 마지막으로, 패턴화된 ITO 층(14)를 형성하기 위해 ITO 층(13)을 패터닝하는 단계; 여기서 IM 멤브레인층(12)은 (Nb-2O5 같은) 복수의 고굴절률 유전층들, 및 고굴절률 유전층들과 함께 교대로 적층되는 (SiO2 같은) 복수의 저굴절률 유전층들로 일반적으로 구성된다. 비록 그러한 IM 멤브레인층(12)은 패턴화된 ITO 층의 에칭된 라인들의 밝기를 감소시킬 수 있지만, IM 멤브레인층(12)의 두께는 비교적 크고, 상대적으로 높은 생산 비용 및 시간-소비 제조 프로세스를 도출한다. 게다가, IM 멤브레인층(12)은 터치 패널을 얇게 만드는 것에 대해 장애가 될 수 있다.
위에서 설명된 것으로부터, 정전식 터치-감응 장치의 박화(thinning) 및 제조 비용의 동시적인 감소시키고 터치 패널의 향상된 디스플레이 효과를 위해 패턴화된 투명 전도성층의 에칭된 라인들의 밝기를 낮추는 것은 숙련된 기술자에게 업무가 되었다.
그래서, 본 공개의 하나의 목적은 정전식 터치-감응 장치를 제공하는 것이다. 본 공개의 또다른 목적은 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법을 제공하는 것이다.
공개에 따라, 정전식 터치-감응 장치는 적어도 하나의 패턴화된 투명 전기-전도성 필름 및 투명 기판을 포함할 수 있다.
패턴화된 투명 전기-전도성 필름은 투명 기판 유닛에 형성되며, 투명 절연층에 실질적으로 배치되는 복수의 상호 전기적으로 격리된 센서 라인들 및 투명 절연층을 가진다. 센서 라인들 각각은 복수의 비-투명 나노-컨덕터들로 실질적으로 만들어진다.
본 공개에 따라, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법은 다음을 포함할 수 있다:
복수의 비-투명 나노-컨덕터들을 가지는, 적어도 하나의 투명 페이스트층(transparent paste layer)을 투명 기판 유닛에 적용하는 단계;
상호 이격된 복수의 에칭될 영역을 정의하는 단계; 적어도 하나의 투명 절연층을 형성하기 위해 상기 투명 페이스트층을 큐어링(curing)하는 단계; 및
적어도 하나의 패턴화된 투명 전기-전도성 필름을 형성하기 위해, 투명 절연층에 남은 비-투명 나노-컨덕터들이 복수의 센서 라인들로 정의되도록, 에칭될 영역들에서 비-투명 나노-컨덕터들을 제거하기 위해 에칭될 영역들을 물리적 또는 화학적으로 에칭하는 단계.
위에서 설명된 것으로부터, 정전식 터치-감응 장치의 박화(thinning) 및 제조 비용의 동시적인 감소시키고 터치 패널의 향상된 디스플레이 효과를 위해 패턴화된 투명 전도성층의 에칭된 라인들의 밝기를 낮추는 것은 숙련된 기술자에게 업무가 되었다.
본 공개의 다른 특징들 및 이점들은 첨부된 도면들을 참조하여 예시적 실시예들의 다음 자세한 설명에서 명백해질 것이다: 도 1은 패턴화된 ITO층의 윤곽 라인들의 밝기를 낮추기 위한 종래 방법을 도시하는 개략적 흐름도이다.
도 2는 본 공개에 따른 정전식 터치-감응 장치의 제1실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 3은 도 2에서 III-III 라인을 따라 취해진 제1실시예의 개략적 부분 단면도이다.
도 4는, 제1실시예의 정전식 터치-감응 장치를 제조하는 방법의 단계(A)를 나타내는, 제1실시예의 상부 개략도이다.
도 5는 상기 방법의 단계들 (B) 및 (C)를 도시하는, 제1실시예의 상부 개략도이다.
도 6은 상기 방법의 단계들 (D) 및 (E)를 나타내는, 제1실시예의 상부 개략도이다.
도 7은 상기 방법의 단계(F)를 나타내는, 제1실시예의 부분 개략도이다.
도 8은 본 공개에 따라 정전식 터치-감응 장치의 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 9는 도 8에서 IX-IX 라인을 따라 취해진 제2실시예의 부분 단면 개략도이다.
도 10은 제2실시예의 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법의 단계 (a)를 도시하는, 제2실시예의 상부 개략도이다.
도 11은 상기 방법의 단계 (b)를 도시하는, 제2실시예의 상부 개략도이다.
도 12은 상기 방법의 단계 (c)를 도시하는, 제2실시예의 상부 개략도이다.
도 13은 상기 방법의 단계들 (d) 및 (e)를 도시하는, 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 14는 상기 방법의 단계 (f)를 도시하는, 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 15는 상기 방법의 단계 (g) 및 (h)를 도시하는, 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 16은 상기 방법의 단계 (i)를 도시하는, 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 17은 상기 방법의 단계 (j)를 도시하는, 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 18은 상기 방법의 단계 (k)를 도시하는, 제2실시예의 상부 부분 개략도이다.
도 19는 패턴화된 투명 전기-전도성 필름을 도시하는, 본 공개에 따른 정전식 터치-감응 장치의 제3실시예의 상부 부분 개략도이다.
본 공개가 더 자세히 설명되기 전에, 유사한 구성요소들은 공개를 통해 동일 도면 부호들에 의해 표시되는 것이 숙지될 것이다.
도 2 및 도 3을 참조하여, 본 공개에 따른 정전식 터치 제어 장치의 제1실시예는 투명 기판 유닛(2), 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3), 상부 패턴화된 투명 전기 전도성 필름(4), 하부 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit, FPC) 기판(51), 상부 연성 인쇄 회로 기판(52), 하부 이방성(anisotropic) 전기-전도성 필름(61), 상부 이방성 전기-전도성 필름(62), 투명 보호 커버(7), 하부 광학 클리어 접착층(OCA) (81) 및 상부 광학 클리어 접착층(82)을 포함한다. 간단히 말하면, 제1실시예의 정전식 터치-감응 장치는 이중층(double layered) 구조이다.
상기 투명 기판 유닛(2)은 서로 마주하는 하부 투명 기판(21) 및 상부 투명 기판(22)을 포함한다.상기 하부 및 상부 투명 기판 각각은 가시 영역 및 상기 가시 영역(211, 221)에 인접한 트레이스 영역(trace zone, 212, 222)을 가진다.
상기 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)은 상기 하부 투명 기판상(21)에 형성된 하부 투명 절연층(31), 및 상호 전기적으로 격리되고 하부 투명 절연층(31)에 배치된 복수의 제1센서 라인들(32)을 가진다. 상기 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(4)은 상기 상부 투명 기판(22)에 형성된 상부 투명 절연층(41), 및 상호 전기적으로 격리되고 상부 투명 절연층(41)에 배치된 복수의 제2센서 라인들(42)을 가진다. 상기 제1 및 제2센서 라인들(32, 42) 각각은 상호 이격된 센싱 세그먼트들(segments, 321, 421) 및 외부 단자 부분을(322, 422)를 가진다. 제1 또는 제2센서 라인들(32, 42) 각각은 제1 (또는) 제2센서 라인들(323) (또는 423)의 라인 방향을 따라 배치되고 서로 접촉하는 비-투명 나노-컨덕터들(323) (또는 423)로 구성된다.
이 실시예에서, 제1센서 라인들(32)의 라인 방향은 제1방향(X)이고, 제1센서 라인들(32)의 센싱 세그먼트들(321) 및 외부 단자 부분(322)은 하부 투명 절연층(31)에 배치되고, 여기서 제1센서 라인들(32)의 센싱 세그먼트들(321)은 하부 투명 기판(21)의 가시 영역(211)에 배치되고, 외부 단자 부분들(322)은 하부 투명 기판(21)의 트레이스 영역(212)에 배치된다. 제1센서 라인들(32)은 상기 제1방향(X)에 실질적으로 직각인 제2방향(Y)에서 상호 이격되도록 배치된다. 제2센서 라인들(42)의 라인 방향은 제2방향이며, 제2센서 라인들(42)은 제1방향에 상호 이격되도록 배치된다. 제2센서 라인들(42)의 센싱 세그먼트들(421) 및 외부 단자 부분들(422)은 상부 투명 절연층(41)에 배치되며, 제2센서 라인들(42)의 센싱 세그먼트들(421)은 상부 투명 기판(22)의 가시 영역(221)에 배치되고, 제2센서 라인들(42)의 외부 단자 부분(422)는 상부 투명 기판(22)의 트레이스 영역(222)에 배치된다. 제2센서 라인들(42)의 센싱 세그먼트들(421)은 제1센서 라인들(32)의 센싱 세그먼트들(321)을 가로질러 그 위에 대응하여 배치된다.
하부 연성 회로 기판(51)은 하부 이방성 전기-전도성 필름(61)을 통해 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)의 제1센서 라인들(32)의 외부 단자 부분들(322)에 각각 결합된 복수의 상호 전기적으로 격리된 결합 패드들(bonding pads, 511)을 갖는다. 상부 연성 회로 기판(52)은 상부 이방성 전기-전도성 필름(62)을 통해 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(4)의 제2센서 라인들(42)의 외부 단자 부분들(422)에 각각 결합된 복수의 상호 전기적으로 격리된 결합 패드들(bonding pads, 521)을 갖는다. 투명 보호 커버(7)는 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 층(lower and upper patterned transparent electrically-conductive layers)(3, 4)을 커버한다. 하부 광학 클리어 접착층(81)은 하부 투명 절연층(31) 및 상부 투명 절연층(41) 사이에 배치되고, 상부 광학 클리어 접착층(82)은 투명 보호 커버(7) 및 상부 투명 기판(22) 사이에 배치된다.
비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)의 형태는 구(spheres), 전선(와이어, wires), 또는 디스크(discs)처럼 구성될 수 있다. 이 실시예에서, 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)은 실버 나노-와이어들이며, 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)은 폴리머 재료로 만들어진다(예를 들어, 투명 레진). 이 실시예의 제1센서 라인들(32) 및 제2센서 라인들(42)은 실질적으로 동일 굴절률을 가진 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)에 대응되어 배치된다. 게다가, 제1센서 라인들(32) 및 제2센서 라인들(42)은, 대응하여, 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)을 통해 상호 전기적으로 격리된다. 그렇게, 제1실시예의 정전식 터치-감응 장치가 터치 패널이 되기 위해 평면 패널 디스플레이가 포함되며, 앞 패널 디스플레이의 광원으로부터 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름들(3, 4)로 방출되는 빛은, 터치 패널의 디스플레이 효과가 효과적으로 향상될 수 있도록, 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름들(3, 4)의 패턴 경계들에서의 밝은 에칭된 라인들을 야기하지 않을 수 있다.
제1실시예의 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법은 도 2 및 3 뿐만 아니라, 도 4 내지 7에 관해 여기 아래에서 설명된다.
도 4에서 보여지는 것처럼, 단계 (A)는 투명 전기-전도성 페이스트층(30, 40)을 형성하는 것이며, 하부 투명 기판(21)에 하부 투명 페이스트층(310)을 적용하고 상부 투명 기판(22)에 상부 투명 페이스트층(410)을 적용하는 것을 포함한다. 하부 및 상부 투명 페이스트층들(310, 410)은 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 포함한다. 이 실시예에서, 하부 및 상부 투명 페이스트층들(310, 410)은 폴리머 접착제 층이다.
도 5에서 보여지는 것처럼, 단계 (B)는 하부 및 상부 투명 페이스트층(310, 410)에서 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 배치하기 위해 하부 및 상부 투명 전기-전도성 페이스트층들(30, 40)에 전기장 또는 자기장을 제공하는 것이며, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42) 각각의 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)은 서로 접촉하며 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 라인 방향들을 따라 배치된다. 바람직하게는, 하부 및 상부 투명 페이스트층들(310, 410) 각각은 미리 결정된 두께를 갖는다. 단계 (A)는 하부 및 상부 투명 전기-전도성 페이스트 층들(30, 40)에 한 쌍의 전극 플레이트들(91, 92)를 활용하는 전기장을 제공하는 것에 의해 수행된다. 하부 및 상부 투명 페이스트층(310, 410) 각각의 미리 결정된 두께는 그것으로부터 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 부분적으로 노출시키기 위해 충분하다. 이 실시예에서, 하부 및 상부 투명 페이스트 층(310, 410)의 미리 결정된 두께는 약 100nm이다. 게다가, 하부 투명 페이스트층(310)에서 비-투명 나노-컨덕터들(323)은 서로 접촉하며 제1방향(X)를 따라 배치되고, 상부 투명 페이스트층(410)에서 비-투명 나노-컨덕터들(423)은 서로 접촉하며 제2방향(Y)으로 배치된다. 비록 미세 관점에서 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 서로 엮여있지만, 단계(B)는 제1방향(X) 및 제2방향(Y)을 따라 대응하여 서로 접촉할 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 배치시키도록 수행될 수 있고, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 전도성이 보장될 수 있고 정전식 터치-감응 장치의 전기적 안정성은 본 공개에 따라 향상될 수 있다는 것이 언급될 필요가 있다.
도 5를 다시 언급하면, 단계 (C)는, 제1방향(X)를 따라 확장하는 복수의 첫번째로 에칭될 영역들(311)을 가지도록 하부 투명 페이스트층(310)을 정의하는 단계 및 제2방향(Y)을 따라 확장하는 복수의 두번째로 에칭될 영역들(411)을 갖도록 상부 투명 페이스트층(410)을 정의하는 단계를 포함하여, 에칭될 영역들(311, 411)을 정의하는 것이다. 첫번째로 에칭될 영역들(311)은 제2방향(Y)에서 서로 이격되고, 제2에칭된 영역들(411)은 제1방향(X)에서 서로 이격된다.
도 6을 참조하면, 단계 (D)는 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)을 각각 형성하기 위해 하부 및 상부 투명 페이스트층들(310, 410)을 큐어(경화, cure)하는 단계이다.
*도 6을 다시 참조하면, 단계 (E)는 첫번째로 그리고 두번째로 에칭될 영역들(311, 411)로부터 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 제고하기 위해, 첫번째로 그리고 두번째로 에칭될 영역들(311, 411)을 물리적으로 또는 화학적으로 에칭하는 것이다. 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)에 남겨진 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)은, 제1방향(X)를 따라 확장하는, 제1센서 라인들(32) 및 제2방향(Y)를 따라 확장하는, 제2센서 라인들(42)에 대응하여 정의되고, 그것에 의해 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름들(3, 4)를 형성한다. 본 공개에 따른 제1실시예를 위한 적합한 물리적 및 화학적 에칭 방법들은 레이저 어블레이션(laser ablation) 및 선택적 습식-에칭(selective wet-etching)일 수 있다. 이 실시예에서, 단계 (E)는 첫번째로 그리고 두번째로 에칭될 영역들(311, 411)에 있는 그리고 하부 및 상부 투명 절연층들(31, 41)에 부분적으로 노출된 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 번 오프(burm off)/기체화(gasify)하기 위해 레이저 장치(94)를 이용하여 수행된다. 첫번째로 그리고 두번째로 에칭될 영역들(311, 411)은 복수의 나노-스케일 채널들(324, 424)와 함께 형성되며, 기체화된 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)은 그러한 채널들(324, 424)로부터 하부 및 상부 투명 절연층들(31, 41)을 남겨둔다. 바람직하게, 단계 (E)에서 이용되는 레이저는 1064nm 의 파장과 함께 5 W 내지 8 W의 범위에 걸친 파워(power)를 갖는다. 비록 나노-스케일 채널들(324, 424)가 형성된다 하더라도, 그것의 외관은 미세 크기에서 육안으로 인식할 수 없기 때문에 부정적으로 영향받지 않을 수 있다. 하부 및 상부 투명 절연층들(31, 41)에서 나노-스케일 채널들(324, 424)은 광원의 산란(scattering)을 효과적으로 제공하기 위해 거친 계면들(rough interfaces)을 형성할 수 있다.
도 7을 참조하면, 단계 (F)는, 하부 이방성 전기-전도성 필름(61)을 이용하여 하부 연성 인쇄 회로 기판(51)의 본딩 패드들(bonding pads, 511)에 하부 투명 절연층(31)에서의 제1센서 라인들(32)의 외부 단자 부분(322)을 결합하는 단계 및 상부 이방성 전기-전도성 필름(62)을 이용하여 상부 연성 인쇄 회로 기판(52)의 본딩 패드들(521)에 상부 투명 절연층(41)에서의 제2센서 라인들(42)의 외부 단자 부분들(422)을 결합하는 단계를 포함하여, 외부 회로들을 연결하는 것이다.
도 3을 참조하면, 단계 (G)는 패키징 단계이며, 하부 및 상부 투명 절연층들(31, 41) 사이에 그리고 그 위에 하부 광학 클리어 접착층(81)을 접착하는 단계, 및 투명 보호 커버(7) 및 상부 투명 기판(22)에 상부 광학 클리어 접착층(82)을 접착하는 단계를 포함한다.
도 8 및 9를 참조하면, 본 공개에 따른 정전식 터치-감응 장치의 제2실시예는 제1실시예의 그것과 유사하도록 보여진다. 차이점은 제2실시예의 정전식 터치-감응 장치가 오직 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)을 포함하고 하부 광학 클리어 접착층(81)을 생략한다는 점에 있다. 게다가, 제2실시예의 투명 기판 유닛(2)은 오직 하부 투명 기판(21)만을 포함하고, 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)의 자세한 구조는 제1실시예로부터 상이하다. 간단히 말해, 제2실시예의 정전식 터치-감응 장치는 단일층 구조이다.
더 큰 세부사항에서, 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)은 하부 투명 기판(21)에 형성된 하부 투명 절연층(31)을 가지며, 하부 투명 절연층(31)에 실질적으로 배치된 그리고 상호 전기적으로 격리된 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)을 갖는다. 하부 투명 절연층(31)은 다수의 홀들 쌍(312)이 형성된다. 제1센서 라인들(32) 각각은 센싱 세그먼트들(321)의 인접 쌍들을 상호연결하는 복수의 연결 세그먼트들(325)을 더 가지며, 제2센서 라인들(42) 각각은 센싱 세그먼트들(421)의 인접 쌍들을 상호 연결하는 복수의 연결 세그먼트들(425)을 더 가진다.
제1센서 라인들(32)의 라인 방향은 제1방향(X)이며, 제1센서 라인들(32)의 센싱 세그먼트들(321) 및 외부 단자 부분들(322)은 하부 투명 절연층(31)에 배치되고 하부 투명 기판(21)의 트레이스 영역(trace zone, 212) 및 가시 영역(211)에 대응하여 배치된다. 제1센서 라인들(32)은 제2방향(Y)을 따라 서로 이격된다. 제2센서 라인들(42)의 라인 방향은 제2방향(Y)이고, 제2센서 라인들(42)은 제1방향(X)에서 서로 이격되며, 제2센서 라인들(42)의 외부 단자 부분들(422) 및 센싱 세그먼트들(421)은 하부 투명 절연층(31)에 배치되고 하부 투명 기판(21)의 트레이스 영역(212) 및 가시 영역(211)에 대응하여 배치된다. 하부 투명 절연층(31)에 대하여, 각 쌍(each pair)의 홀들(holes, 312)은 제2방향(Y)을 따라 제2센서 라인들(42)의 센싱 세그먼트들(421)의 대응 인접 쌍 사이에서 반대로 배치된다. 제2센서 라인들(42)의 연결 세그먼트들(425) 각각은 센싱 세그먼트들(421)의 대응 인접 쌍을 연결(브릿지, bridge)하기 위해 그리고 홀들(312)의 대응 쌍(pair)을 채우기 위해 하부 투명 절연층(31)에 형성된다. 제2센서 라인들(42)의 연결 세그먼트들(425)은 제1센서 라인들(32)의 연결 세그먼트들(326)을 가로질러 그리고 각각 그 위에 배치된다. 상부 광학 클리어 접착층(82)은 하부 투명 절연층(31) 및 투명 보호 커버(transparent protective cover, 7)에 그리고 그 사이에 접착된다.
본 공개에 따른 제2실시예의 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법은 도 8 및 9 뿐만 아니라, 도 10 내지 18에 관해 여기 아래에서 설명된다.
도 10에서 보여지는 것처럼, 단계 (a)는, 하부 투명 기판(21)에, 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)을 포함하는, 하부 투명 페이스트층(310)을 적용하는 단계를 포함하여, 하부 투명 전기-전도성 페이스트층(30)을 형성하는 것이다.
도 11에서 보여지는 것처럼, 단계 (b)는, 하부 투명 페이스트층(310)에서 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 서로 접촉하는, 제1방향(X)을 따라 다수의 줄들로 배치되도록, 전원 공급(93)과 함께 전기적으로 연결되는 전극 플레이트들(91, 92)를 이용하여 하부 투명 전기-전도성 페이스트층(30)에 전기장을 제공하는 단계를 포함한다.
도 12를 참조하면, 단계 (c)는 에칭될 영역들(311)을 정의하는 것이고, 마스크 층(mask layer, 95)로부터 노출되는 하부 투명 페이스트층(310)의 부분들에서 첫번째로 에칭될 영역들(311)을 정의하기 위해, 하부 투명 전기-전도성 페이스트층(30)에 마스크 층(95)을 형성하는 단계를 포함한다. 마스크 층(95)은 제2방향(Y)에서 이격된 그리고 제1방향(X)을 따라 확장하는 복수의 제1라인 패턴들(96), 및 복수의 제2라인 패턴들(97)을 갖는다. 제1라인 패턴들(96) 각각은 복수의 센싱 세그먼트들(961), 센싱 세그먼트들(961)의 인접 쌍들을 상호연결하는 복수의 연결 세그먼트들(962), 및 센싱 세그먼트들(961) 중 최외곽 것에 연결되는 외부 단자 부분(963)을 갖는다. 제2라인 패턴들(97) 각각은 제1방향(X)에서 상호 이격되며 제2방향(Y)을 따라 배치되는 복수의 센싱 세그먼트들(971), 제2방향(Y)를 따라 확장하며 센싱 세그먼트들(971) 중 최외곽 것에 연결되는 외부 단자 부분(972)를 가진다. 제2라인 패턴들(97) 각각의 센싱 세그먼트들(971)은 제1라인 패턴들(96)의 인접 쌍의 연결 세그먼트들(962) 사이에 배치된다.
도 13을 참조하면, 단계 (d)는 하부 투명 페이스트층(310)의 첫번째로 에칭될 영역(311)을 큐어(경화, cure)하는 것이다. 도 13을 다시 참조하면, 단계 (e)는, 하부 투명 페이스트층(310)으로부터 부분적으로 노출되고 첫번째로 에칭될 영역들(311)에 위치하는, 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 기체화되고, 기체화된 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 하부 투명 페이스트층(310)으로부터 제거되는, 첫번째로 에칭될 영역들(311)에 나노-채널들(324, 424)이 형성되도록, 레이저 장치(94)를 이용하여 첫번째로 에칭될 영역들(311)에 레이저 어블레이션(laser ablation)을 수행하는 것이다.
도 14를 참조하면, 단계 (f)는 마스크 층(95)의 제1라인 패턴들(96)을 제거하는 단계, 및 제1라인 패턴들(96)에 대응하는 하부 투명 페이스트층(310)의 노출된 부분들을 큐어링하는 단계를 포함하며, 이는 제1방향(X)를 따라 제1센서 라인들(32)의 연결 세그먼트들(325), 및 외부 단자 부분들(322), 센싱 세그먼트들(321)을 형성하기 위함이다.
도 15를 참조하면, 단계 (g)는 제2라인 패턴들(97)을 제거하는 단계, 및 전원 공급(93)과 전기적으로 연결되는 전극 플레이트들(91, 92)를 이용하여 하부 투명 전기-전도성 페이스트층(30)에 전기장을 제공하는 단계를 포함하며, 하부 투명 페이스트층(310)에 남겨진 비-투명 나노-컨덕터들(423)은 비-투명 나노-컨덕터들(423)이 서로 접촉하는 제2방향(Y)를 따라 다수의 줄로 배치된다. 도 15를 다시 참조하면, 단계 (h)는 제2라인 패턴들(97)에 대응하는 위치의 하부 투명 페이스트층(310)의 잔여 부분들을 큐어링하는 단계를 포함하며, 이는 제2센서 라인들(42)의 외부 단자 부분들(422) 및 센싱 세그먼트들(421), 하부 투명 절연층(31)을 형성하기 위함이다.
도 16을 참조하면, 단계 (i)는 제2방향(Y)을 따라 하부 투명 절연층(31)의 제2센서 라인들(42)에서 센싱 세그먼트들(421)의 각 인접 쌍의 인접 측면들에 각각 홀들(312)의 쌍을 형성하는 단계를 포함한다. 이 실시예에서, 단계 (i)는 종래의 포토리소그래피 및 건식 에칭 프로세스들을 이용하여 실행될 수 있다. 이 공개의 특징은 홀-형성 단계에 있지 않기 때문에, 그것의 추가 세부사항들은 여기서 생략된다.
*도 17을 참조하여, 단계 (j)는 하부 투명 절연층(31)에 제2센서 라인들(42) 각각의 연결 세그먼트들(425)을 형성하는 단계를 포함한다. 연결 세그먼트들(425)은 제2센서 라인들(42)의 연결 세그먼트들(425)가 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)을 형성하기 위해 제1센서 라인들(32)의 연결 세그먼트들(325)을 가로질러 그 위에 대응하여 배치되는 방식으로 제2센서 라인들(42)의 센싱 세그먼트들(421)의 인접 쌍들을 연결하고 홀들(312)의 쌍들을 대응하여 채운다.
도 18을 참조하면, 단계 (k)는 하부 이방성 전기-전도성 필름(61)을 이용하여 하부 연성 인쇄 회로 기판(51)의 본딩 패드들(511)에 하부 투명 절연층(31)에서의 제1센서 라인들(32)의 외부 단자 부분들(322)을 결합하는 단계, 및 상부 이방성 전기-전도성 필름(62)을 이용하여 상부 연성 인쇄 회로 기판(52)의 본딩 패드들(521)에 하부 투명 절연층(31)에서의 제2센서 라인들(42)의 외부 단자 부분들(422)를 결합하는 단계를 포함한다.
도 8 및 9를 다시 참조하면, 단계 (l)은 투명 보호 커버(7) 및 하부 투명 절연층(31) 사이에 그리고 그 위에 상부 광학 클리어 접착층(82)를 접착하는 단계를 포함한다.
도 19를 참조하면, 본 공개에 따른 정전식 터치-감응 장치의 제3실시예는 제2실시예의 그것에 실질적으로 동일하다. 차이점은 제3실시예는 오직 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3), 하부 연성 회로 기판(51) 및 하부 이방성 전기-전도성 필름(61)을 포함한다는 점, 그리고 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)의 세부 구조가 제2실시예의 그것과는 다르다는 점에 있다. 이 실시예에서, 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름(3)의 제1센서 라인들(32)은 하부 투명 절연층(31)에서 제2센서 라인들(42) 내에서 공통-평면에 배치된다. 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)은 제1방향(X)을 따라 상호 이격되며 제2방향(Y)을 따라 확장한다. 제1센서 라인들(32) 각각의 연결 세그먼트들(325)은 제2방향(Y)을 따라 확장하며 제1센서 라인들(32) 각각의 센싱 세그먼트들(321)은 제2방향(Y)을 따라 상호 이격되며 쌍에서(in pairs) 연결 세그먼트들(325)로부터 멀어지도록 반대로 확장한다. 제2센서 라인들(42) 각각의 연결 세그먼트들(425)은 제1센서 라인들(32) 중 대응하는 것을 둘러싸도록 제2방향(Y)을 따라 확장한다. 제2센서 라인들(42) 각각의 센싱 세그먼트들(421)은 제1센서 라인들(32)의 센싱 세그먼트들(321)의 쌍들에 각각 대응하는 쌍들에서 제2방향(Y)을 따라 상호 이격되도록 배치된다. 제2센서 라인들(42)의 센싱 세그먼트들(421)의 각 쌍에서, 센싱 세그먼트들(421)은 대응하는 연결 세그먼트(425)로부터 대응 쌍에서 제1센서 라인들(32)의 센싱 세그먼트들(321)을 향해 각각 확장한다. 센싱 세그먼트들(321, 421) 및 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 연결 세그먼트들(325, 425)은 하부 투명 기판(21)의 가시 영역(211)에 배치된다. 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 외부 단자 부분들(322, 422)은 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 연결 세그먼트들(325, 425)에 각각 연결되고 하부 투명 기판(21)의 트레이스 영역(212)에 배치된다. 제1센서 라인들(32) 각각의 센싱 세그먼트들(321) 및 제2센서 라인들(42)의 인접한 것의 센싱 세그먼트들(421)은 상호 보완적인 형태를 띈다.
상기-언급된 실시예의 설명으로부터, 이 공개의 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)은 실질적으로 동일한 굴절률을 갖는 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)에 대응하여 배치되거나, 또는 단일 굴절률을 갖는 하부 투명 절연층(31)에 동시에 배치된다. 게다가, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)은 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)을 통해 상호 전기적으로 격리된다. 그렇게, 이러한 실시예들의 각 하나의 정전식 터치-감응 장치는 터치 패널이 되기 위해 평면 패널 디스플레이가 구비될 때, 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름들(3, 4)에 그리고 전면 패널 디스플레이로부터 방출되는 광원은 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름들(3, 4)의 패턴화된 경계에서 밝은 에칭된 라인들을 발생시키기 알 수 있고, 상기 언급된 IM 층은 터치-감응 장치의 전체 두께를 감소시키기 위해 생략될 수 있다.
이러한 실시예들에서, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 실버(은) 나노-와이어들(silver nano-wires)이라는 것을 언급할 가치가 있다. 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 외부 단자 부분들(322, 422)은 종래의 외부 전송 라인들(즉, 실버 접착제들로 만들어진 외부 전송 라인들)을 교체하기 위해 실버 나노-와이어들을 채택할 수 있다. 실버 나노-와이어들은 육안에 투명 시각 효과를 갖기 때문에, 실버 접착제들로 만들어지는 종래의 외부 전송 라인들을 차단하기 위한 블랙 매트릭스(BM)을 채택할 필요가 없다. 이와 같이, 정전식 터치-감응 장치의 프레임 너비는 효과적으로 감소될 수 있다. 게다가, 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)에서의 나노-스케일 채널들(324, 424)은 광원의 빛 스캐터링을 효과적으로 제공하기 위해 거기에 거친 계면들을 형성할 수 있다. 게다가, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42) 각각의 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)은, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 전기 전도성이 확보될 수 있고 정전식 터치-감응 장치의 전기적 안정성이 향상될 수 있도록, 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 라인 방향들을 따라 서로 접촉하는, 다수의 줄들에 전기장을 이용하여 배치된다.
요약하자면, 본 공개에 따른 정전식 터치-감응 장치 및 이를 만들기 위한 방법의 실시예에서, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)은 실질적으로 동일 굴절률을 갖는 하부 및 상부 투명 절연층(31, 41)에 대응하여 배치되거나, 또는 단일 굴절률을 갖는 하부 투명 절연층(31)에 동시에 배치된다. 게다가, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)은 하부 및 상부 절연층들(31, 41)을 통해 상호 전기적으로 격리된다. 그렇게, 하부 및 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름들(3, 4)의 밝은 에칭된 라인들이 발생되지 않을 수 있고 터치 패널의 디스플레이 효과가 효과적으로 향상될 수 있으며, 앞서 언급된 IM 층은 터치-감응 장치의 제조 비용 및 전체 두께를 감소시키기 위해 생략될 수 있다. 게다가, 정전식 터치-감응 장치의 프레임 너비가 효과적으로 감소될 수 있기 때문에, 종래의 외부 전송 라인들 및 블랙 매트릭스(BM)을 채택할 필요가 없다. 게다가, 하부 및 상부 투명 절연층들(31, 41)에서의 나노-스케일 채널들(324, 424)은 빛 산란 효과를 효과적으로 제공할 수 있다. 게다가, 제1 및 제2센서 라인들(32, 42) 각각의 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)은, 정전식 터치-감응 장치의 전기적 안정성이 향상되기 위해, 비-투명 나노-컨덕터들(323, 423)이 제1 및 제2센서 라인들(32, 42)의 라인 방향들을 따라 서로 접촉하는, 다수의 줄들로 전기장을 이용하여 배치된다.
본 공개는 실시예에서 고려되는 것과 연결되어 설명되었지만, 본 공개가 공개된 실시예에 제한되는 것은 아니며 그러한 모든 변경 및 균등한 배치들을 아우르기 위해 가장 넓은 해석의 범위 및 사상 내에서 포함되는 다양한 배치들을 포함하려는 의도로 이해되는 것이다.

Claims (14)

  1. 투명 기판 유닛; 및
    상기 투명 기판 유닛에 형성되며, 투명 절연층, 및 상기 투명 절연층에 실질적으로 배치되는 상호 전기적으로 격리된 복수의 센서 라인들을 가지고, 각 센서 라인들 각각이 복수의 비-투명 나노-컨덕터들로 실질적으로 만들어지는, 적어도 하나의 패턴화된 투명 전기-전도성 필름;을 포함하는, 정전식 터치-감응 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 비-투명 나노-컨덕터들은 구(spheres), 와이어(wires) 또는 디스크(discs)로 구성되는 것을 특징으로 하는 정전식 터치-감응 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 비-투명 나노-컨덕터들은 실버 나노-와이어들이며, 상기 투명 절연층은 폴리머 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 정전식 터치-감응 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 센서 라인들 각각의 상기 비-투명 나노-컨덕터들은, 상기 비-투명 나노-컨덕터들이 서로 접촉하는, 다수의 줄로 상기 센서 라인들의 라인 방향을 따라 실질적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 정전식 터치-감응 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 패턴화된 투명 전기-전도성 필름은 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름 및 상부 패턴화된 전기-전도성 필름을 포함하며;
    상기 투명 기판 유닛은 서로 마주하는 하부 투명 기판 및 상부 투명 기판을 포함하고, 상기 하부 및 상부 투명 기판 각각은 가시 영역 및 상기 가시 영역에 인접한 트레이스 영역(trace zone)을 가지며,
    상기 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름은 상기 하부 투명 기판에 형성된 하부 투명 절연층, 및 상호 전기적으로 격리되고 하부 투명 절연층에 배치된 복수의 제1센서 라인들을 가지고;
    상기 상부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름은 상기 상부 투명 기판에 형성된 상부 투명 절연층, 및 상호 전기적으로 격리되고 상부 투명 절연층에 배치된 복수의 제2센서 라인들을 가지며;
    상기 제1 및 제2센서 라인들 각각은 상호 이격된 센싱 세그먼트들(segments) 및 외부 단자 부분을 가지며;
    상기 제1센서 라인들의 라인 방향은 상기 제1센서 라인들의 센싱 세그먼트들이 하부 투명 기판의 가시 영역에 배치되는 방식으로 제1방향을 따라 연장하며, 상기 제1센서 라인들의 외부 단자 부분들은 상기 하부 투명 기판의 트레이스 영역에 배치되고, 상기 제1센서 라인들은 상기 제1방향에 실질적으로 직각인 제2방향을 따라 서로 이격되며; 그리고
    상기 제2센서 라인들의 라인 방향은 상기 제2방향을 따라 연장하며 상기 제2센서 라인들은 상기 제2센서 라인들의 센싱 세그먼트들이 상부 투명 기판의 가시 영역에 배치되는 방식으로 제1방향을 따라 상호 이격되며, 상기 제2센서 라인들의 외부 단자 부분들은 상기 상부 투명 기판의 트레이스 영역에 배치되고, 상기 제2센서 라인들의 센싱 세그먼트들은 상기 제1센서 라인의 센싱 세그먼트들을 가로질러 그 위에 대응하여 배치되는 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 패턴화된 투명 전기-전도성 필름 중 적어도 하나는 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름을 포함하며;
    상기 기판 유닛은 가시 영역 및 상기 가시 영역에 인접한 트레이스 영역을 갖는 하부 투명 기판을 포함하며;
    상기 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름은 상기 하부 투명 기판에 형성된 하부 투명 절연층, 및 복수의 제1센서 라인들 및 복수의 제2센서 라인들을 가지며, 상기 제1 및 제2센서 라인들은 상기 하부 투명 절연층에 실질적으로 배치되고 상호 전기적으로 격리되며;
    상기 하부 투명 절연층은 다수의 홀들의 쌍들(pairs of holes)이 형성되며;
    상기 제1 및 제2센서 라인들은 복수의 상호 이격된 센싱 세그먼트들, 상기 세그먼트들의 인접 쌍들에 대응적으로 상호연결되는 복수의 연결 세그먼트들, 및 외부 단자 부분을 가지며;
    상기 제1센서 라인들의 축 방향은 상기 제1센서 라인들의 센싱 세그먼트들이 상기 하부 투명 기판의 가시 영역에 위치되고, 상기 제1센서 라인들의 외부 단자 부분들이 상기 하부 투명 기판의 트레이스 영역에 배치되는 방식으로 제1방향을 따라 연장하며, 상기 제1센서 라인들은 상기 제1방향에 실질적으로 직각인 제2방향을 따라 상호 이격되고; 그리고
    상기 제2센서 라인들의 축 방향은 상기 제2방향을 따라 연장하며 상기 제2센서 라인들은 상기 제2센서 라인들의 센싱 세그먼트들이 하부 투명 기판의 가시 영역에 배치되고, 상기 제2센서 라인들의 외부 단자 부분들이 상기 하부 투명 기판의 트레이스 영역에 배치되는 방식으로 제1방향을 따라 상호 이격되며, 상기 홀들 쌍 각각은 상기 제2방향을 따라 상기 제2센서 라인들의 센싱 세그먼트들의 인접 쌍에서 인접 측면들에 각각 대응하며, 상기 제2센서 라인들의 연결 세그먼트들 각각은 상기 하부 투명 절연층에 형성되며 상기 제2센서 라인들의 센싱 세그먼트들의 대응 인접 쌍을 이어주도록(bridge) 상기 홀들의 대응 쌍을 채우고 상기 제1센서 라인들의 연결 세그먼트들 중 대응하는 것을 가로지르는 것을 특징으로 하는 정전식 터치-감응 장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 패턴화된 투명 전기-전도성 필름 중 적어도 하나는 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름을 포함하며;
    상기 투명 기판 유닛은 가시 영역 및 상기 가시 영역에 인접한 트레이스 영역을 갖는 하부 투명 기판을 포함하며;
    상기 하부 패턴화된 투명 전기-전도성 필름은 하부 투명 기판에 형성되는 하부 투명 절연층, 그리고 복수의 제1센서 라인들 및 복수의 제2센서 라인들을 가지며, 상기 제1 및 제2센서 라인들은 상기 하부 투명 절연층에서 실질적으로 동일평면에 존재하며 상호 전기적으로 격리되고;
    제1 및 제2센서 라인들은 제1방향을 따라 상호 이격되며, 상기 제1방향에 실질적으로 직각인 제2방향을 따라 연장하고, 상기 제1 및 제2센서 라인들 각각은 상기 제2방향을 따라 상호 이격되는 복수의 센싱 세그먼트들, 상기 센싱 세그먼트들을 상호연결하기 위해 상기 제2방향을 따라 연장하는 연결 세그먼트, 및 상기 연결 세그먼트에 연결되는 외부 단자 부분을 가지며 상기 센싱 세그먼트들 및 상기 제1 및 제2센서 라인들의 연결 세그먼트들은 상기 하부 투명 기판의 가시 영역에 배치되며, 상기 제1 및 제2센서 라인들의 외부 단자 부분들은 하부 투명 기판의 트레이스 영역에 배치되고, 상기 제1센서 라인들 각각의 센싱 세그먼트들 및 상기 제2센서 라인들 중 인접한 것의 센싱 세그먼트들은 형태적으로 상호 보완적인 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치.
  8. 복수의 비-투명 나노-컨덕터들을 가지는, 적어도 하나의 투명 페이스트층(transparent paste layer)을 투명 기판 유닛에 적용하는 단계;
    상호 이격된 복수의 에칭될 영역을 정의하는 단계;
    적어도 하나의 투명 절연층을 형성하기 위해 상기 투명 페이스트층을 큐어링(curing)하는 단계; 및
    적어도 하나의 패턴화된 투명 전기-전도성 필름을 형성하기 위해, 투명 절연층에 남은 비-투명 나노-컨덕터들이 복수의 센서 라인들로 정의되도록, 에칭될 영역들에서 비-투명 나노-컨덕터들을 제거하기 위해 에칭될 영역들을 물리적 또는 화학적으로 에칭하는 단계;를 포함하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    비-투명 나노-컨덕터들이 서로 접촉하고 상기 센서 라인들의 라인 방향을 따라 배치되는, 투명 페이스트층에서 비-투명 나노-컨덕터들을 다수의 줄들로 배치하기 위해 전기장 또는 자기장을 제공하는 단계;를 더 포함하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 비-투명 나노-컨덕터들은 구(spheres), 와이어(wires) 또는 디스크(discs)로 구성되는 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 비-투명 나노-컨덕터들은 실버 나노-와이어들로 구성되며, 상기 투명 페이스트층은 전기장을 제공한 후에 비-투명 나노-컨덕터들이 투명 페이스트층으로부터 부분적으로 노출되는 것을 허용하는 미리 결정된 충분한 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 물리적 에칭은 레이저 어블레이션(laser ablation)이며, 상기 화학적 에칭은 선택적 습식-에칭인 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 에칭 단계는 에칭될 영역에서 복수의 나노-스케일 채널들을 형성하도록 그리고 에칭될 영역에서 비-투명 나노-컨덕터들을 기체화하도록 레이저 어블레이션에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 레이저 어블레이션은 5 W 내지 8 W 범위의 레이저 파워로 수행되는 것을 특징으로 하는, 정전식 터치-감응 장치를 만드는 방법.
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