JP5506235B2 - 艶消し状導電性ナノファイバーシート及びその製造方法 - Google Patents
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Description
3 導電性ナノファイバー
4 絶縁材料
5 絶縁パターン層
6 導電パターン層
7 微小ピンホール
8 タッチパネル
9 狭小溝
10 基体シート
11 エッチングレジスト層
20 フォトマスク
25 位置検知マーク
33 バインダー樹脂
50 レーザー照射機の先端
51 レーザー照射光
52 保護板
53 液晶表示装置
Claims (7)
- 基体シートと、
前記基体シート上に形成され、無色又は白色系の極細導電繊維を含み、その極細導電繊維を介して導通可能である導電パターン層と、
前記基体シート上の前記導電パターン層が形成されていない部分に形成され、前記極細導電繊維を含み、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層とを備え、
前記絶縁パターン層は、幅が1μm〜300μmである狭小溝を有し、その狭小溝により、前記導電パターン層から絶縁されると共に複数の島状に形成された、艶消し状導電性ナノファイバーシート。 - 前記極細導電繊維は、平均直径が1〜500nmであり、平均長さが20μmを超える、請求項1記載の艶消し状導電性ナノファイバーシート。
- 前記導電パターン層に光硬化性樹脂が含有されている、請求項1又は2記載の艶消し状導電性ナノファイバーシート。
- 基体シート上に、導通可能となるように無色又は白色系の極細導電繊維を含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層の一部を感光により硬化させる工程と、
前記一部が硬化された導電パターン層の硬化されていない部分を現像除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を複数の島状にする、幅が1μm〜300μmである狭小溝を形成する工程とを備えた、艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法。 - 基体シート上に、導通可能となるように無色又は白色系の極細導電繊維を含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して前記導電パターン層の一部を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を複数の島状にする、幅が1μm〜300μmである狭小溝を形成する工程とを備えた、艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法。 - 基体シート上に、導通可能となるように無色又は白色系の極細導電繊維を含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層上の一部にエッチングレジスト層を形成する工程と、
前記エッチングレジスト層が形成された前記導電パターン層の全面をエッチングして、前記エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を複数の島状にする、幅が1μm〜300μmである狭小溝を形成する工程とを備えた、艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の艶消し状導電性ナノファイバーシートを電極として用いた、タッチセンサ。
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