CN103176643A - 触控装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的实施例提供触控装置及其制造方法，触控装置包含保护外盖，遮光图案设置于保护外盖上，紫外线阻断层设置于遮光图案和保护外盖上，以及多个透明导电图案设置于紫外线阻断层上，其中透明导电图案是由激光光束直接蚀刻透明导电层所形成。本发明可以降低制造触控装置的设备成本，减少制造设备所需的空间，并且不需使用光掩模；此外，本发明比较容易变更透明导电图案的设计，并且可降低触控装置的制造成本及提高生产率。

Description

触控装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种触控装置，尤其涉及一种使用激光蚀刻方式制造的触控装置。
背景技术
在目前的触控装置中，透明导电图案通常由透明导电材料形成。在传统的触控装置的制造方法中，先在触控装置的承载基板上全面性地涂布透明导电膜，然后再利用光刻与蚀刻技术将透明导电膜图案化，形成透明导电图案。
由于光刻与蚀刻技术需要先在透明导电膜上涂布光致抗蚀剂层，再利用光掩模图案对光致抗蚀剂层进行曝光，接着以显影工艺将光致抗蚀剂层图案化，然后再利用图案化的光致抗蚀剂层作为遮罩，对透明导电膜进行湿蚀刻工艺，形成透明导电图案，因此，传统的触控装置的制造方法非常繁复，不仅需要多道工艺步骤，而且还需要多个工艺设备去完成透明导电图案的制作，导致传统触控装置的制造成本高且耗时。
发明内容
有鉴于此，为了克服现有技术的缺陷，本发明的实施例提供触控装置的制造方法，其是利用激光蚀刻的方式形成透明导电图案，借此可以节省触控装置的制造时间与成本，克服上述传统触控装置遭遇的问题。
依据本发明的实施例，提供一种触控装置的制造方法，包括：提供保护外盖，在保护外盖上形成遮光图案，在遮光图案和保护外盖上涂布紫外线阻断层，在紫外线阻断层上形成透明导电层；以及使用激光光束直接蚀刻透明导电层，形成多个透明导电图案。
依据本发明的实施例，提供一种触控装置，包括：保护外盖，遮光图案设置于保护外盖上，紫外线阻断层设置于遮光图案和保护外盖上，以及多个透明导电图案设置于紫外线阻断层上。
本发明可以降低制造触控装置的设备成本，减少制造设备所需的空间，并且不需使用光掩模；此外，本发明比较容易变更透明导电图案的设计，并且可降低触控装置的制造成本及提高生产率。
为了让本发明的上述目的、特征、及优点能更明显易懂，以下配合附图，作详细说明如下。
附图说明
图1是显示依据本发明的一实施例，触控装置的平面示意图。
图2A是显示沿着图1的剖面线2-2’，依据本发明一实施例的触控装置的剖面示意图。
图2B是显示沿着图1的剖面线2-2’，依据本发明另一实施例的触控装置的剖面示意图。
图3A和图3B是显示依据本发明的实施例，使用激光蚀刻方式形成的透明导电图案的平面放大示意图。
其中，附图标记说明如下：
100～触控装置；
100A～触控感测区；
100B～***区；
101～保护外盖；
103～遮光图案；
105、115～紫外线阻断层；
107～透明导电图案；
107X～第一透明导电图案；
107Y～第二透明导电图案；
108～空隙图案；
109～透明绝缘图案；
111～金属图案；
113～保护层。
具体实施方式
参阅图1，其是显示依据本发明一实施例的触控装置100的平面示意图。在触控装置100的***区100B具有遮光图案103，在触控装置100的触控感测区100A具有多个透明导电图案107，这些透明导电图案107包含多个第一透明导电图案107X，沿着第一方向例如X方向排列，且这些第一透明导电图案107X互相分开，在X方向形成多条断断续续的触控感测线路。此外，透明导电图案107还包含多个第二透明导电图案107Y，以垂直于X方向的第二方向Y方向排列，且这些第二透明导电图案107Y互相连接，在X方向形成多条连续的触控感测线路。
在第一透明导电图案107X所形成的触控感测线路与第二透明导电图案107Y所形成的触控感测线路的交联位置上，亦即在任两个相邻的第一透明导电图案107X之间设置透明绝缘图案109，然后在透明绝缘图案109上设置金属图案111，以电性连接任两个相邻的第一透明导电图案107X，透明绝缘图案109可以电性隔绝由第二透明导电图案107Y所形成的触控感测线路和金属图案111，避免Y方向的触控感测线路与X方向的触控感测线路发生短路。
此外，部分的第一透明导电图案107X以及部分的金属图案111还会延伸至触控装置100的***区100B，且位于遮光图案103之上。
图2A是显示沿着图1的剖面线2-2’，本发明一实施例的触控装置100的剖面示意图。依据本发明一实施例的触控装置100的制造方法，首先，提供触控装置100的保护外盖(cover lens)101，例如为强化玻璃基板。接着，在保护外盖101的***区100B上形成遮光图案103，遮光图案103由不透明材料例如黑色光致抗蚀剂形成，在一实施例中，可先涂布一层黑色光致抗蚀剂，再利用光刻工艺形成遮光图案103，或者也可以用印刷的方式直接形成遮光图案103。
在遮光图案103与保护外盖101上全面性地形成紫外线阻断层(UV cutlayer)105，此紫外线阻断层105可以阻挡波长小于400nm或波长小于300nm的紫外光，紫外线阻断层105的材料为透明绝缘材料，例如为SiO2和SiN的混合物。此外，紫外线阻断层的材料还可以选用其他可以阻挡波长小于400nm或波长小于300nm的紫外光的合适材料。在本发明的实施例中，紫外线阻断层105可以是单层或多层的光学薄膜层结构。
在紫外线阻断层105上全面性地涂布透明导电层，例如为铟锡氧化物(indium tin oxide；ITO)或掺杂氟的氧化锡(fluorine-doped tin oxide；FTO)等透明导电氧化物。然后，使用激光光束从透明导电层侧照射，直接蚀刻透明导电层，形成多个透明导电图案107。在一实施例中，这些透明导电图案107包含如图1所示的多个第一透明导电图案107X和多个第二透明导电图案107Y。
在一实施例中，激光光束的波长为355nm，且紫外线阻断层105可以阻挡波长小于400nm的光；在另一实施例中，激光光束的波长为266nm，且紫外线阻断层105可以阻挡波长小于300nm的紫外光。因此，当激光光束直接蚀刻透明导电层形成第一透明导电图案107X和第二透明导电图案107Y时，紫外线阻断层105可以保护下方的遮光图案103，避免遮光图案103被激光光束破坏。
在透明导电图案107上涂布透明绝缘层，并利用光刻工艺将透明绝缘层图案化，在任两个相邻的第一透明导电图案107X之间形成透明绝缘图案109，且透明绝缘图案109覆盖在第二透明导电图案107Y的连接部分上。
在透明导电图案107和透明绝缘图案109上形成金属层，并利用光刻与蚀刻技术将金属层图案化，在透明绝缘图案109上形成金属图案111，以电性连接任两个相邻的第一透明导电图案107X，金属图案111作为第一透明导电图案107X之间的架桥结构。同时，另一金属图案111还形成在***区100B的遮光图案103上方，并且跨接至第一透明导电图案107X上。
在透明导电图案107和金属图案111上方全面性地覆盖保护层113，以保护触控装置100的全部元件。保护层113的材料可为有机或无机绝缘材料，无机绝缘材料例如为氧化硅或氮化硅，有机绝缘材料例如为压克力是光致抗蚀剂材料等。在本发明的一实施例中，透明导电图案107是形成在保护外盖101上，因此触控装置100为触控感应器制作于保护玻璃上(touch sensor oncover glass)的触控装置。
由于金属图案111以及第一透明导电图案107X、第二透明导电图案107Y的材料与遮光图案103的材料的接着性不佳，藉由本发明实施例的紫外线阻断层105的设置，可以改善金属图案111以及第一透明导电图案107X、第二透明导电图案107Y与遮光图案103之间的接着强度，借此可提升本发明实施例的触控装置100的信赖性。
此外，依据本发明的实施例，紫外线阻断层105的折射率与保护外盖101的折射率相近。因此，紫外线阻断层105的设置可以提高触控感测区100A内光线的穿透率，借此提升触控感测区100A内的影像显示品质。同时，紫外线阻断层105的折射率与第一透明导电图案107X、第二透明导电图案107Y的折射率也相近。因此，紫外线阻断层105的设置也可以让第一透明导电图案107X、第二透明导电图案107Y的轮廓不会被人眼所察觉，进一步提升触控感测区100A内的影像显示品质。
在本实施例中，紫外线阻断层105的折射率介于保护外盖101的折射率与第一透明导电图案107X、第二透明导电图案107Y的折射率之间。
另外，依据本发明的实施例，紫外线阻断层105的设置还可以改善保护外盖101与遮光图案103之间平坦度，减缓遮光图案103所造成的断差影响，有利于透明导电图案107的工艺，使得第一透明导电图案107X、第二透明导电图案107Y能在一较平坦的紫外线阻断层105上成形，避免直接形成在遮光图案103的断差上而产生断裂。
图2B是显示沿着图1的剖面线2-2’，本发明另一实施例的触控装置100的剖面示意图。图2B的触控装置100与图2A的差异在于额外形成另一紫外线阻断层115在保护外盖101的外侧上，使得保护外盖101的两侧都具有紫外线阻断层。此紫外线阻断层115可以阻挡波长小于400nm或波长小于300nm的紫外光，其材料为透明绝缘材料，例如为SiO2和SiN的混合物。紫外线阻断层115的材料也可以是其他可阻挡波长小于400nm或波长小于300nm的紫外光的合适材料。紫外线阻断层115的材料可以和紫外线阻断层105的材料相同，并且紫外线阻断层115可以是单层或多层的光学薄膜层结构。
依据本发明一实施例的触控装置100，如图2A所示，当保护外盖101仅有一侧具有紫外线阻断层105，且紫外线阻断层105为单层膜结构时，相较于不具有紫外线阻断层105的传统触控装置，触控感测区100A的光线穿透率可由约90％提高至约94％；此外，若紫外线阻断层105为多层膜结构时，相较于不具有紫外线阻断层105的传统触控装置，触控感测区100A的光线穿透率可由约90％提高至约95％。
依据本发明另一实施例的触控装置100，如图2B所示，当保护外盖101的两侧分别具有紫外线阻断层105和紫外线阻断层115，且紫外线阻断层105和115皆为单层膜结构时，相较于不具有紫外线阻断层105和115的传统触控装置，触控感测区100A的光线穿透率可由约90％提高至约96％；此外，若紫外线阻断层105和115皆为多层膜结构时，相较于不具有紫外线阻断层105和115的传统触控装置，触控感测区100A的光线穿透率可由约90％提高至约99％。
图3A和图3B是显示依据本发明的实施例，使用激光光束直接蚀刻透明导电层所形成的透明导电图案107的平面放大示意图。在透明导电图案107之间的空隙图案108是由激光光束直接蚀刻透明导电层所形成，空隙图案108由多个部分重叠的点所构成，且这些点的形状可以是圆形、正方形、长方形、椭圆形、四角钝化的长方形或其他可以使得激光光束的蚀刻清除效率更佳的形状。如图3A所示，其中激光光束清除透明导电层所形成的一个点的形状为圆形，且这些圆形的点跨接形成空隙图案108。另外，图3B所示的空隙图案108则是由多个圆角长方形的点跨接而成。
相较于传统触控装置的透明导电图案的制造方法，依据本发明的实施例，使用激光蚀刻方式形成透明导电图案可以降低制造触控装置的设备成本，减少制造设备所需的空间，并且不需使用光掩模，使用激光蚀刻方式比较容易变更透明导电图案的设计，并且可降低触控装置的制造成本及提高生产率。
综上所述，本发明实施例的触控装置的制造方法是使用激光蚀刻方式形成透明导电图案，因此可以降低触控装置的制造成本。此外，本发明实施例的触控装置在遮光图案与透明导电图案之间具有紫外线阻断层，因此可以增加触控感测区的光线穿透度，同时还可以克服透明导电图案的可视性问题，保护遮光图案，改善保护外盖与遮光图案之间的平坦度，改善透明导电图案与遮光图案之间的接着强度，并提升触控装置的信赖性。
虽然本发明已揭示较佳实施例如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可做些许更动与润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种触控装置的制造方法，包括：
提供一保护外盖；
形成一遮光图案在该保护外盖上；
涂布一紫外线阻断层在该遮光图案和该保护外盖上；
形成一透明导电层在该紫外线阻断层上；以及
使用一激光光束蚀刻该透明导电层，形成多个透明导电图案。
2.如权利要求1所述的触控装置的制造方法，其中该激光光束的波长为355nm，且该紫外线阻断层阻挡波长小于400nm的紫外光。
3.如权利要求1所述的触控装置的制造方法，其中该激光光束的波长为266nm，且该紫外线阻断层阻挡波长小于300nm的紫外光。
4.如权利要求1所述的触控装置的制造方法，还包括形成另一紫外线阻断层在该保护外盖的另一侧上。
5.一种触控装置，包括：
一保护外盖；
一遮光图案，设置于该保护外盖上；
一紫外线阻断层，设置于该遮光图案和该保护外盖上；以及
多个透明导电图案，设置于该紫外线阻断层上。
6.如权利要求5所述的触控装置，其中所述多个透明导电图案包括：
多个第一透明导电图案，以一第一方向排列，且所述多个第一透明导电图案互相分开；以及
多个第二透明导电图案，以垂直于该第一方向的一第二方向排列，且所述多个第二透明导电图案互相连接。
7.如权利要求6所述的触控装置，还包括：
一透明绝缘图案，设置于任两个相邻的所述多个第一透明导电图案之间；以及
一金属图案，设置于该透明绝缘图案上，电性连接任两个相邻的所述多个第一透明导电图案。
8.如权利要求5所述的触控装置，其中该紫外线阻断层包括单层膜或多层膜结构。
9.如权利要求5所述的触控装置，其中该紫外线阻断层的材料包括SiO2和SiN的混合物。
10.如权利要求5所述的触控装置，其中所述多个透明导电图案之间的一空隙图案为多个部分重叠的点所构成。
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