KR20020092449A - 다층막 컷필터 및 그 제조 방법, 자외선 컷필터, 방진유리, 표시 패널 및 투사형 표시 장치 - Google Patents

다층막 컷필터 및 그 제조 방법, 자외선 컷필터, 방진유리, 표시 패널 및 투사형 표시 장치 Download PDF

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Abstract

다층막 컷필터로서, 유전체 다층막의 반복 교대층에 있어서의 고굴절률(Ｈ)과 저굴절률층(L)의 광학적 막 두께의 밸런스 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0의 범위로 하여 두께의 밸런스를 편차있게 한다. 유전체 다층막의 제조 방법으로서, 유전체 다층막의 막 형성시에, 광학적 막 후도계의 모니터 기판상에 막 형성되는 비율을 통상보다 크게 한다. 특정한 반 파장으로, 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율의 단차부를 갖는 자외선 반사막을 기판에 설치하여 UV 컷필터를 형성한다. 특정한 반 파장의 자외선 반사막과 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율의 단차부를 갖는, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막을 조합시킬 수 있다. 이 UV 컷필터를 초고압 수은등 광원의 투사형 표시 장치에 적용한다. 자외선 반사막은 표시 장치의 방진 유리에 설치할 수도 있다.

Description

다층막 컷필터 및 그 제조 방법, 자외선 컷필터, 방진 유리, 표시 패널 및 투사형 표시 장치{MULTI-LAYER FILM CUT FILTER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR, UV CUT FILTER, DUSTPROOF GLASS, DISPLAY PANEL AND PROJECTION TYPE DISPLAY UNIT}
화상을 확대 투사하는 액정 프로젝터는 해마다 고휘도화와 소형화가 진행되어, 광원으로 강한 자외선을 발생하는 고출력의 초고압 수은등이 사용되도록 되어 왔다. 광학계도 작게 되어 있기 때문에, 광학계를 통과하는 광선의 에너지 밀도가 높아져 왔다. 그 때문에, 주로 자외선, 또는 가시광 중에서도 짧은 파장의 광선에 의해, 내부 광학계에 사용되고 있는 액정 표시 패널이나 편광판, 위상차판 등 유기물을 사용한 부품의 품질 저하가 발생하여, 단시간에 표시 품질이 떨어지는 문제가커지고 있다. 또한, 액정 표시 패널이 이러한 광선을 흡수하고 발열하여 고온으로 되어, 그 결과 투사 화면에 불균일이 발생한다는 문제가 있다.
그 때문에, 액정 프로젝터에는, 광원으로부터 발생하는 자외선, 또한 가시광 중에서도 짧은 파장의 광으로부터 액정 표시 패널 그 밖의 부품을 보호하기 위해, 광원과 액정 표시 패널 사이의 광로에 UV 컷필터를 배치하고 있다.
UV 컷필터로는, 자외선을 흡수하는 UV 흡수 유리 또는 유리 기판에 자외선을 반사하는 자외선 반사막을 설치한 UV 반사 유리가 사용되고 있다.
UV 흡수 유리로는, 자외선을 흡수하는 유리 기판을 사용함으로써, 재료의 조성과 두께에 따라 흡수(컷)하는 파장과 흡수-투과로 변화되는 상승 특성(급증)을 조정할 수 있다.
그런데, UV 흡수 유리는, 재료에 따라 흡수 파장의 선택이 제한되는 문제와, 흡수한 광선의 에너지가 열로 되기 때문에, 강한 광선을 입사한 경우 온도 상승에 의해 유리 기판이 파손되는 문제가 있다. 최근의 광선의 에너지 밀도의 상승에 의해 그 위험성이 커지고 있다. 또한, 주의 깊게 선택, 조정된 재료라도 컷하는 파장 근처의 짧은 파장에서의 투과율을 그다지 높게 할 수 없기 때문에, 투과하는 광선이 감쇠된다.
이에 반해서, UV 반사 유리는 자외선 반사막을 구성하는 다층막 유전체의 조정으로 컷(반사)하는 파장을 임의로 고를 수 있을 뿐만 아니라, 상승 특성이 급격히 증가하여, 컷하는 파장 근처의 짧은 파장에서의 투과율도 높게 하는 것이 가능하다.
UV 반사 유리는, 에지 필터라고 불리는 다층막 컷필터의 일종이다. 이 다층막 컷필터는, 진공 증착법 등으로 광 투과성 기판상에 고굴절률층과 저굴절률층을 소정의 광학적 막 두께〔=굴절률(n)×기하학적 막 두께(d)〕로 교대로 적층한 다층막 유전체가 형성된 것으로, 특정 파장보다 짧은 파장의 광선을 컷하여, 긴 파장의 광선을 투과할 수 있다.
그러나, 다층막 유전체로 구성된 자외선 반사막은, 제조하기 매우 곤란한 것으로 알려져 있다. 즉, 상승 특성을 급격히 증가시키고자 하면, 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 막 형성하는 회수가 예컨대 30층 이상과 같이 막 형성 횟수를 많게 할 필요가 있다. 또한, 각 층의 막 두께가 엷고, 특히 자외선 영역에서는 막 두께가 얇아져, 게다가 상승 파장을 고정밀도로 하기 위해서 각 층의 막 두께 제어를 고정밀도로 실행해야 한다. 예컨대, 각 층의 막 두께가 1% 어긋나면, 상승 파장이 5㎚ 어긋난다고 알려져 있어, 현재의 막 형성 기술로는, 막 두께 제어를 고정밀도로 실행하여, 설계한 대로의 특성을 갖는 자외선 반사막을 형성하기 어렵다.
그 때문에, 고정밀도의 막 두께 제어가 가능하고, 설계한 대로의 특성을 갖는 다층막 컷필터 및 그 제조 방법이 요구되고 있다.
또한, 액정 프로젝터에 있어서의 UV 컷필터의 기능은, 400㎚ 이하의 파장의 자외선과 자외선에 근접한 가시광선의 일부를 거의 완전히 차단하여, 이들 광선에 의한 유기 부품의 악화를 방지하고, 제품의 수명을 길게 하는 것에 있다. 이에 부가하여, 청색이 과잉인 초고압 수은등의 청색의 일부를 컷하여, 색의 균형을 개선할 것도 요구되고 있다.
그 때문에, 액정 프로젝터에 사용되는 UV 컷필터는, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞춘 투과율 특성을 구비할 필요가 있다. 그러나, 종래의 UV 컷필터는, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하고 있다고 하기는 어려웠다. 도 17에 초고압 수은등의 휘도 특성을 도시한다.
가는 파선으로 도시하는 초고압 수은등의 휘도 특성으로는, 청색광선이 과잉으로, 청색의 파장 범위에 있는 405㎚ 부근의 피크의 광선을 거의 컷하는 것으로는 아직 청색광선이 강하기 때문에, 440㎚ 부근의 피크의 광도 10 내지 30% 정도 더 컷해야 한다.
도 17에, UV 흡수 유리의 분광 투과율의 일례를 파선으로 나타낸다. 또한, 유전체 다층막으로 구성한 자외선 반사막의 분광 투과율의 일례를 실선으로 도시한다.
UV 흡수 유리의 분광 투과율은, 405㎚ 부근의 피크는 거의 완전히 컷할 수 있지만, 440㎚ 부근에는 완만하여, 컷하는 파장 근처의 짧은 파장에서의 투과율을 높게 하기 어렵다. 그 때문에, 투과하는 광선이 감쇠된다는 문제가 있다.
한편, 자외선 반사막은 급상승한다. 자외선 반사막으로 440㎚ 부근의 피크의 투과율을 조절하기 위해서는, 상승의 반값 파장(그 필터의 최대 투과율의 절반 투과율을 나타내는 파장)을 430㎚ 부근에 설정할 필요가 있다. 도 17에 도시하는 자외선 반사막의 분광 투과율은, 절반 파장이 433㎚이다.
그러나, 자외선 반사막은 유전체의 다층막으로 구성되고, 예컨대 33층 가량의 다층막으로 구성된다. 상술한 바와 같이, 상승 파장을 고정밀도로 하기 위해서각 층의 막 두께 제어를 고정밀도로 실행해야 하며, 각 층의 막 두께가 1% 어긋나면, 상승 파장이 5㎚ 어긋난다고 알려져 있다. 통상의 제조 조건에서는, 고정밀도인 것이라도 절반 파장의 정밀도는 ±4㎚이다. 따라서, 절반 파장이 정확히 430㎚ 부근의 자외선 반사막을 제조하는 것은 매우 곤란하고, 약간의 제조상의 편차에 의한 절반 파장의 차이로, 440㎚ 부근의 피크의 투과율이 크게 변화된다는 문제가 있다.
그 때문에, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 확실히 구비할 수 있는 UV 컷필터 및 이 UV 컷필터를 사용한 투사형 표시 장치가 요구되고 있다.
또한, 최근의 액정 프로젝터는 소형화, 저비용화가 현저하고, 부품 갯수의 삭감이 강하게 요구되고 있다. 그 때문에, 부품으로서의 UV 컷필터를 삭감할 수 있는 투사형 표시 장치가 요구되고 있다.
본 발명은, 상기 요구를 감안하여 성립된 것으로, 제 1 목적은, 고정밀도의 막 두께 제어가 가능하기 때문에, 설계한 대로의 특성을 갖는 다층막 컷필터를 제공하는 것에 있다.
제 2 목적은, 고정밀도의 막 두께 제어를 용이하게 할 수 있는 다층막 컷필터의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
제 3 목적은, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 확실히 구비하는 UV 컷필터를 제공하는 것에 있다.
제 4 목적은, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하는 UV 컷필터를 사용한 투사형 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
제 5 목적은, 투사형 표시 장치에 있어서 부품으로서의 UV 컷필터를 삭감할 수 있는 방진 유리를 제공하는 것에 있다.
제 6 목적은, 투사형 표시 장치에 있어서 부품으로서의 UV 컷필터를 삭감할 수 있는 표시 패널을 제공하는 것에 있다.
제 7 목적은, 부품으로서의 UV 컷필터를 삭감할 수 있는 투사형 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
발명의 요약
본 발명자는, 제 1 목적을 달성하기 위해, 예의 검토를 거듭한 결과, 자외선 반사막을 구성하는 유전체 다층막에 있어서의 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복하여 적층된 반복 교대층은, 특정 파장보다 짧은 광선을 급격하게 컷하기 위해서 필요한 층으로서 기능하지만, 이 반복 교대층에 있어서의 고굴절률층과 저굴절률층의 두께의 균형을 종래의 것으로부터 변경하는 것이 효과적이라는 것을 발견했다.
즉, 반복 교대층에 있어서의 고굴절률층의 광학적막 두께를 (H), 저굴절률층의 광학적막 두께를 (L)로 한 경우, 종래에는, 반복 교대층에 있어서의 H/L의 비가 1.0이었던 것에 대해, 본 발명에서는 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0의 범위로 한 것이다.
이와 같이, 고굴절률층과 저굴절률층의 광학적 막 두께의 한쪽을 두껍게, 다른쪽을 얇게 편차있게 함으로써, 막 형성 장치에 있어서의 막 두께의 모니터 기판을 사용하는 광학식 막 후도계(厚度計)로의 막 두께 측정이 고정밀도로 되어, 고정밀도로 막 두께를 제어할 수 있는 동시에, 얻어진 필터의 상승 특성이 의외로 양호하게 되는 것을 발견한 것이다.
제 2 목적을 달성하기 위해, 막 형성 장치에 있어서의 증착원과 광 투과성 기판의 사이에 보정판을 개재시키고, 종래보다 폭이 넓은 보정판을 사용하여 보정판으로 차폐되는 날아오는 입자의 비율을 많게 하는 것이 효과적이라는 것을 발견했다. 구체적으로는, 광 투과성 기판에 퇴적되는 층의 막 두께/모니터 기판에 퇴적되는 층의 막 두께의 비를 툴링 계수(tooling coefficient)로 한 경우, 툴링 계수를 0.6 내지 0.85로 함으로써, 광 투과성 기판보다 모니터 기판쪽에 두껍게 막이 형성되기 때문에, 광학식 막 후도계로의 막 두께 측정을 고정밀도로 할 수 있고, 막 두께 제어를 쉽게 할 수 있다.
또한, 제 3 목적을 달성하기 위해, 첫째로 자외선 반사막의 투과율 특성에 430 내지 450㎚의 파장 범위에 평균 투과율이 70 내지 9O%인 단차부를 설치하는 것이 가능한 것을 발견했다. 이러한 단차부를 설치함으로써, 절반 파장은 405㎚ 부근의 피크를 컷할 수 있는 415 내지 430㎚로 하면 좋기 때문에 그 정도로 정밀도가 요구되지 않고, 용이하게 이와 같은 자외선 반사막을 제조할 수 있으며, 게다가 단차부로 440㎚ 부근의 피크의 투과율을 제어성 양호하게 조정할 수 있다. 이로써, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하는 UV 컷필터로 할 수 있다.
둘째로, 절반 파장이 415 내지 430㎚인 자외선 반사막과, 430㎚ 내지450㎚인파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율을 갖고, 430 내지 520㎚인 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막을 조합하는 것이 효과적이라는 것을 발견했다. 이 조합에 의해, 405㎚ 부근의 피크까지의 자외선과 가시광 영역의 반사는 자외선 반사막이 담당하고, 440㎚ 부근의 피크의 반사는 청색 조정막이 담당하게 된다. 이로써, 자외선 반사막의 절반 파장의 정밀도는 그 정도로 요구되지 않기 때문에, 제조가 용이하게 되고, 440㎚ 부근의 피크의 투과율은 청색 조정막으로 제어성 좋게 조정할 수 있다. 이로써, 초고압 수은 등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하는 UV 컷필터로 할 수 있다.
셋째로, 절반 파장이 415 내지 430㎚인 흡수 특성을 갖는 자외선 흡수 유리와, 상기 청색 조정막을 조합하는 것이 효과적이라는 것을 발견했다. 이 조합에 의해, 자외선 흡수 유리의 흡수 특성을 청색 조정막으로 보충하여, 405㎚ 부근의 피크까지의 자외선과 가시광 영역의 흡수는 자외선 흡수 유리가 담당하고, 440㎚ 부근의 피크의 투과율은 청색 조정막으로 제어성 좋게 조정할 수 있다. 이로써, 초고압 수은 등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하는 UV 컷 필터로 할 수 있다.
제 4 목적을 달성하기 위해, 광원으로서 초고압 수은등을 사용하는 동시에, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하는 상기 UV 컷필터를 사용한 투사형 표시 장치로 함으로써 달성할 수 있다는 것을 발견했다.
또한, 제 5 목적을 달성하기 위해, 투사형 표시 장치에 있어서의 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하는 표시 패널을 구성하는 표시 패널을구성하는 표시 장치에 먼지가 부착되고, 부착된 먼지가 투사되는 것을 방지하기 위해서 표시 장치의 입사측에 배치되어 있는 방진 유리의 전면에, 자외선 반사막을 설치하는 것이 효과적이라는 것을 발견했다.
즉, 종래의 방진 유리는, 두꺼운 투명 유리 기판의 전면에 광 투과율을 향상시키기 위한 반사 방지막이 설치되어 있는 구조를 갖는다. 자외선 반사막은 컷하는 파장을 막 두께의 조정으로 임의로 선택할 수 있어, 컷하는 파장 근처의 짧은 파장에서의 투과율도 높게 하는 것이 가능하다. 따라서, 자외선 반사막은 자외선 컷의 기능에 부가하여 반사 방지막의 기능을 겸비하고 있다. 게다가 자외선을 거의 반사하여 흡수가 적기 때문에, 방진유리의 온도가 상승하지 않고, 표시 패널을 구성하는 방진 유리에 자외선 컷 기능을 부여해도 문제가 없다. 그 때문에, 방진 유리의 반사 방지막을 자외선 반사막으로 바꾸어 놓는 것이 가능하다는 것을 발견했다. 그리고, 이와 같은 방진 유리를 내장한 표시 패널을 사용한 투사형 표시 장치는, 부품으로서의 UV 컷필터가 불필요하게 되어, 부품 갯수를 삭감할 수 있다.
그 때문에, 표시 패널에 자외선 반사막을 설치한 방진 유리를 내장함으로써, 제 6 목적을 달성할 수 있고, 이러한 표시 패널을 투사형 표시 장치에 사용함으로써, 제 7 목적을 달성할 수 있다는 것을 발견했다.
본 발명은, 특정 파장보다 짧은 파장의 광선을 컷하여, 긴 파장의 광선을 투과하는 광학 필터 기술 및 그 제조 방법, 그 광학 필터 기술을 이용한 방진 유리, 그 방진 유리를 사용한 투사형 표시 장치에 사용되는 화상 형성용 표시 패널 및 그 표시 패널을 사용한 액정 프로젝터 등의 투사형 표시 장치에 관한 것이다.
도 1은 본 발명의 UV 컷필터를 사용하는 액정 프로젝터의 개략 구성을 도시하는 구성도,
도 2는 본 발명의 다층막 컷필터를 제조하는 물리적 막 형성 장치의 개요를 도시하는 구성도,
도 3은 도 2의 장치에 있어서의 보정판, 증착 돔, 모니터 기판 및 증착원의 수직 방향의 위치 관계를 도시하는 배치도,
도 4는 모니터 기판에 있어서의 막 형성의 광학적 막 두께와 반사율의 관계를 도시하는 그래프,
도 5는 TiO2의 막 형성에 있어서의 파장과 굴절률의 관계를 나타내는 그래프,
도 6은 실시예 1, 2, 비교예 1, 2로 얻어진 다층막 컷필터의 410㎚ 부근에서의 분광 투과율을 나타내는 그래프,
도 7은 실시예 l, 2, 비교예 1, 2로 얻어진 다층막 컷필터의 350 내지 700㎚에서의 분광 투과율을 나타내는 그래프,
도 8은 실시예 1에 있어서의 광학 모니터의 광량 변화를 나타내는 그래프,
도 9는 비교예 1에 있어서의 광학 모니터의 광량 변화를 나타내는 그래프,
도 10은 실시예 3으로 얻어진 다층막 컷필터의 350 내지 800㎚에서의 분광 투과율을 나타내는 그래프,
도 11a, 도 11b는 각각 단차부가 부착된 자외선 반사막을 갖는 본 발명의 UV 컷필터의 단면 구조를 도시하는 단면도,
도 11c는 그 분광 투과율을 나타내는 그래프,
도 12a는 자외선 반사막과 청색 조정막을 조합한 본 발명의 UV 컷필터의 단면 구조를 도시하는 단면도,
도 12b는 그 분광 투과율을 나타내는 그래프,
도 13a는 자외선 흡수 유리와 청색 조정막을 조합한 본 발명의 UV 컷필터의 단면 구조를 도시하는 단면도,
도 13b는 그 분광 투과율을 나타내는 그래프,
도 14는 본 발명의 투사형 표시 장치의 일 실시 형태의 액정 프로젝터의 개략 구성을 도시하는 구성도,
도 15는 본 발명의 표시 패널의 일 실시 형태의 단면 구조를 도시하는 단면도,
도 16a, 도 16b는 각각 본 발명의 방진 유리의 실시 형태를 도시하는 단면도,
도 17은 자외선 반사막과 자외선 흡수 유리의 분광 투과율을 나타내는 그래프.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것이 아니다.
우선, 제 1 목적을 달성하기 위한 다층막 컷필터 및 제 2 목적을 달성하기 위한 다층막 컷필터의 제조 방법에 대하여 설명한다.
본 발명의 다층막 컷필터는, 특정 파장보다 짧은 파장의 광선을 컷하여 긴 파장의 광선을 투과하는, 혹은 특정 파장보다 긴 파장의 광선을 컷하여 짧은 파장의 광선을 투과하는 에지 필터라 불리는 것으로, 기능에 따라 UV 컷필터, IR 컷필터, 다이크로익 필터(dichroic filter), 콜드 미러 등 사용 목적에 맞는 명칭이 있다. 각종 광학 측정이나 프로젝션 시스템(투영 장치), 촬영 장치, 레이저 가공 장치에 있어서, 불필요하거나 유해한 고차 주파수(단파장)의 광선을 컷, 혹은 분리하기 위해 사용된다.
본 발명의 다층막 컷필터의 주요 용도는, 액정 프로젝터, 리어 프로젝션, 텔레비전, 투사형 디스플레이 등의 투사형 표시 장치에 있어서의 고출력 수은 램프 등의 강한 자외선을 포함하는 광원에 노출되는 광학 부품과 광원의 사이에 배치하고, 광원의 자외선과 단파장의 가시광선의 일부를 컷하여 광학 부품을 보호하는 UV 컷필터이다. 투사형 표시 장치는, 광원으로부터의 광선을 표시 패널로 변조하여 소정의 화상을 형성하고, 표시 패널로부터 출사된 광선을 확대 투사 광학부로 스크린상에 확대 투영하는 것이다. 컬러 표시를 실행하는 경우는, 광원으로부터의 광선을 적색, 녹색, 청색의 파장 영역에 분광하고, 각각의 광선을 표시 패널에 입력하여 변조를 실행하며, 변조 후의 각 색 성분을 합성하여 컬러의 영상으로서 표시한다.
도 1에 액정 프로젝터의 개략 구성을 도시한다. 이 액정 프로젝터(100)는, 광원(101)의 광선을 청록색 반사 다이크로익 미러(111), 녹색 반사 다이크로익 미러(112)에 의해 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 삼원색으로 분광하고, 적색은 제 1액정 표시 패널(121), 녹색은 제 2 액정 표시 패널(122), 청색은 편광판 유닛(131)을 거쳐 제 3 액정 표시 패널(123)로 통과시킨다. 이들 액정 표시 패널(121, 122, 123)은 라이트 밸브라 불리며, 각각 동일한 화상이 표시된다. 액정 표시 패널(121, 122, 123)을 통해 변조된 각각의 광선을 다이크로익 프리즘(140)으로 컬러 화상에 합성하고, 확대 투사 광학부로서의 투사 렌즈(150)로 투사하는 것이다.
광원(101)으로는, 최근 매우 고휘도의 초고압 수은등이 많이 사용된다. 초고압 수은등은 자외선원으로도 사용되고, 도 17에 도시한 바와 같이, 자외선 성분(파장이 400㎚ 이하)을 매우 많이 포함한다.
제 1 액정 표시 패널(121)과 제 2 액정 표시 패널(122)에는, 다이크로익 미러(111, 112)를 투과한 광선이 입사하고, 자외선 성분은 청색(B)에 포함되어 존재하지 않기 때문에, 자외선에 대한 대책은 특별히 필요하지 않다. 광원(101)으로부터 출사된 자외선은 주로 제 3 액정 표시 패널(123)에 입사한다.
통상의 액정 프로젝터에는, 청색을 변조하는 제 3 액정 표시 패널(123)의 전방에 배치되어 있는 편광판 유닛(131) 앞의 광로에, 이들을 자외선으로부터 막기 위해서, UV 컷필터(10)가 배치되어 있다. UV 컷필터(10)가 배치되는 위치는 도 1에 도시하는 것에 한정하지 않고, 광원(101)으로부터 제 3 액정 표시 패널(123)까지의 광로의 어느쪽 위치이어도 무방하다. 또한, 독립된 부품으로서가 아니라, 예컨대 광로에 배치되어 있는 렌즈에 UV 컷필터의 기능을 부가하도록 할 수도 있다.
UV 컷필터(10)로서 사용되는 다층막 컷필터는, 광 투과성 기판상에 자외선 반사막으로서 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층한 유전체 다층막이 형성되어있다.
광 투과성 기판으로는 광선을 투과하는 재질이면 무방하고, 통상은 무기 유리가 사용되며, 예컨대 소다 석회 유리, 붕규산 유리, 납유리, 무알칼리 유리, 석영 유리, 네오세람, 코닝사의 7971 티탄 규산 유리, 사파이어 유리 등이 사용된다.
광 투과성 기판의 형상은, 통상은 박판 형상이지만, 예컨대 투사형 표시 장치에 사용되는 광학 렌즈를 본 발명의 UV 컷필터의 기판으로서 사용할 수 있다.
자외선 반사막을 구성하는 유전체 다층막의 고굴절률층의 재료로서, TiO2(n=2.4), Ta2O5(n=2.1), Nb2O5(n=2.2) 등이 사용되고, 저굴절률층의 재료로서, SiO2(n=l.46) 혹은 MgF2(n=1.38)가 사용된다. 굴절률은 파장에 따라 상이하고, 상기 굴절률(n)은 500㎚의 값이다.
막 두께의 기본적인 설계는, 일반적으로, 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적막 두께로 반복 적층된 반복 교대층으로서, (0.5 H, 1L, 0.5H)s와 같이 표시된다. 여기서, 컷하고자 하는 파장의 중심 근처의 파장을 설계 파장(λ)으로 하고, 광학적 막 두께(nd=1/4λ)를 1단위로 하여 고굴절률층(H)의 막 두께를 1H로 표기하며, 저굴절률층(L)을 마찬가지로 1L로 한다. (S)는 스택수라 불리는 반복 회수로, 괄호내의 구성을 주기적으로 반복하는 것을 나타내고 있다. 실제 적층되는 층수는 2S+1층으로 되고, S의 값을 크게 하면 반사-투과로 변화되는 상승 특성(급증)을 급하게 할 수 있다. S의 값으로는 3 내지 20 정도의 범위에서 선정된다. 이 반복 교대층에 의해, 컷되는 특정한 파장이 결정된다.
투과 대역의 투과율을 높게 하고, 리플이라 불리는 광 투과율의 요철을 플랫한 특성으로 하기 위해서는, 반복 교대층의 기판 근처와, 매질 근처의 수개층씩의 막 두께를 변화시켜 최적 설계를 실행한다. 그 때문에, 기판｜0.5LH···HL(HL)sHL···H, 0.5L과 같이 표기된다. 또한, 고굴절률층에 TiO2등을 사용하는 경우, 최외층을 고굴절률층으로 종료하게 하는 것보다도, 보다 내환경 특성이 우수한 SiO2를 최외층에 추가하여 설계하는 경우가 많다. 기판에 접하는 층도 TiO2가 기판과 반응하여 특성이 저하되는 경우가 있기 때문에, 화학적으로 안정된 SiO2를 제 1 층에 추가하는 경우도 있다. 이러한 다층막 컷필터의 설계는 시판하는 소프트웨어를 사용하여 이론적으로 실행할 수 있다(참고 문헌:OPTRONICS지 1999 No.5 p.175-190).
고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 광투과성 기판상에 막 형성하기 위해서는, 물리적 막 형성법이 일반적이고, 통상의 진공 증착법이라도 가능하지만, 막의 굴절률의 안정된 제어가 가능하고, 보관·방법 환경 변화에 의한 분광특성의 경과시 변화가 적은 막을 작성할 수 있는 이온 어시스트 증착이나 이온 플랫팅법, 스퍼터링법이 바람직하다. 진공 증착법은 고진공 중에 박막 재료를 가열 증발시키고, 이 증발 입자를 기판상에 퇴적시켜 박막을 형성하는 방법이다. 이온 플랫팅법은 증착 입자를 이온화하고, 전계에 의해 가속하여 기판에 부착시키는 방법으로, APS(Advanced Plasma Source), EBEP(Electron Beam Excited Plasma)법, RF(RadioFrequency) 직접 기판 인가법(막 형성실내에 고주파 가스 플라즈마를 발생시킨 상태로 반응성의 진공 증착을 실행하는 방법)등의 방식이 있다. 스퍼터링법은, 전계에 의해 가속한 이온을 박막 재료에 충돌시켜 박막 재료를 두드리는 스퍼터링에 의해 박막 재료를 증발시켜, 증발 입자를 기판상에 퇴적시키는 박막 형성 방법이다. 막 형성되는 층의 굴절률 등의 광학 정수는, 막 형성 방법, 막 형성 조건 등이 상이하기 때문에, 제조전에 막 형성되는 층의 광학 정수를 정확히 측정해야 한다.
도 2에, 막 두께 제어에 널리 사용되고 있는 광학식 막 후도계를 사용한 물리적 막 형성 장치의 일례를 도시한다. 이 물리적 막 형성 장치(200)는 막 형성 장치(210)와 광학식 막 후도계(220)를 구비한다. 막 형성 장치(210)를 구성하는 진공 챔버(211)내의 하부에 고굴절률 소재와 저굴절률 소재의 박막 재료가 각각 용기에 충전된 2개의 증착원(212, 213)이 배치되어 있다. 증착원(212, 213)은 각종 방법으로 가열 혹은 스퍼터링 가능하다. 진공 챔버(211)내의 상측에는 광 투과성 기판을 탑재하는 돔 형상의 증착 돔(214)이 회전 가능하게 지지되어 있다. 증착 돔(214)의 상측에는 증착 돔(214)을 가열하기 위한 기판 가열 히터(215)가 설치되어 있다. 증착 돔(214)의 중앙부에는 모니터용 구멍이 뚫려 있고, 여기에는 광학식 막 후도계(220)를 구성하는 막 두께 감시용의 모니터 기판(221)이 설치되어 있다. 모니터 기판(221)은 모니터 유리로 구성되어 있다. 투광기(222)로부터 출사된 광선이 모니터기 기판(221)의 막 형성면에 입사하고, 막 형성면으로 반사된 반사광선을 수광기(223)가 수광하고 전기 신호로 변환하여 측정기(224)에 송신하며, 측정기(224)로 반사광량이 측정되어, 그 반사광량이 레코더(225)에 출력된다. 또한, 증착원(212, 213)과 증착 돔(214)의 사이에는, 막 두께 분포를 보정하는 보정판(216)이 고정하여 설치되어 있다.
도 3에, 보정판(216), 증착 돔(214), 증착원(212, 213) 및 모니터 기판(221)의 수직 방향의 위치 관계를 도시한다. 2장의 보정판(216)은 증착원(212, 213)의 상측에 각각 고정되어 있는 한편, 증착 돔(214)은 회전한다. 보정판(216)에 의해 증착원(212, 213)으로부터 날아오는 농도가 높은 부분의 입자가 증착 돔(214)에 도달하는 것이 방해받기 때문에, 보정판(216)은 증착돔에 날아오는 입자의 분포를 균일화할 수 있다. 보정판(216)은 모니터 기판(221)으로 날아오는 입자의 도달을 방해하지 않기 때문에, 증착 돔(214)으로 막 형성되는 층의 막 두께와 모니터 기판(221)으로 막 형성되는 층의 막 두께의 비율을 조절하는 기능도 갖는다.
증착원(212, 213)으로부터 증발된 박막 재료의 입자는, 이온 플랫팅의 경우는 도시하지 않는 전계에 의해 가속되고, 혹은 진공 증착의 경우는 그 상태로 증착돔(214)으로 비래하여, 회전하는 증착 돔(214)에 탑재된 광 투과성 기판에 도달하고 퇴적하여, 광 투과성 기판상에 광학막이 막 형성된다. 그 때, 박막 재료의 입자 밀도가 큰 부분은 보정판(216)에 의해 방해를 받아, 균일한 막 두께 분포를 얻을 수 있게 되어 있다. 한쪽 증착원(212)과 다른쪽 증착원(213)을 전환하여 2종류의 박막 재료를 교대로 막 형성할 수 있다.
모니터 기판(221)에는 광투과성 기판에 막 형성되는 동시에, 2종류의 박막 재료가 교대로 막 형성된다.
광학식 막 후도계(220)는 모니터 기판(221)에 부착된 막에 의해 지정한파장(막 후도계 센서의 사용 가능한 파장 범위에서 선택됨)의 반사 또는 투과광량이 변화되는 것을 막 형성중에 연속적으로 측정하여, 미리 계산해 둔 광량 변화가 생긴 상태에서 막 형성을 종료하도록 되어 있다. 모니터 기판(221)에 있어서의 광량 변화는, 도 4에 도시한 바와 같이, 광학적 막 두께가 측정 파장(λ)의 1/4의 정수배가 될 때마다 주기적으로 증가·감소를 반복하여 피크를 나타내기 때문에, 피크를 기준으로 막 형성 량을 결정함으로써, 실제의 광학 막 두께를 정확히 제어할 수 있어, 광학식 막 후도계(220)는 광학 박막의 막 형성에 널리 사용되고 있다.
그런데, 자외선 컷(UV 컷)의 경우, 짧은 파장을 설계 파장으로 선택할 필요가 있고, 각 층의 막 두께가 매우 얇아지기 때문에, 막 두께 제어가 곤란해진다. 또한, 자외선 영역에서는, TiO2의 굴절률의 파장에 의한 변화를 나타내는 도 5와 같이, 기판이나 막의 굴절률 등의 광학 정수의 변동이 크기 때문에, 측정 정밀도가 불안정해진다는 문제가 있다. 또한, 광학식 막 후도계를 사용한 막 형성 장치로는, 광량 변화 부근은 광량 변화가 평탄하게 되기 때문에, 광량 변화 피크의 판정이 곤란하여, 제어 정밀도가 현저히 저하되는 문제가 발생한다. 게다가, TiO2를 사용하면, 이 TiO2의 흡수에 의해 광량 변화의 측정 그 자체가 곤란해지기 때문에 막 형성의 정밀도가 현저히 불량해진다. 또한 급증한 상승 특성을 실현하기 위해서 반복 횟수(S)가 증가하면, 점점 막 형성이 곤란해진다. 그 때문에, 종래, 스택수(S)가 10 이상으로 되는 경우, 대량으로 생산하는 것은 무리였다.
본 발명에서는, 이러한 UV 컷필터에 있어서의 막 형성시의 막 두께 제어의곤란성을 반복 교대층의 막 두께의 균형과 보정판의 크기를 고안함으로써 극복하고, 고정밀도의 막 두께 제어를 가능하게 하여, 대량 생산을 가능하게 한 것이다.
즉, 종래의 설계에서는 반복 교대층의 광학적 막 두께의 비율(H/L)을 1.0으로 한다. H/L을 1.0으로 하는 것은, 모니터 기판의 반사율이 λ/4의 정수배로 되는 피크일 때에 정확히 막 형성을 정지할 필요가 있다. 이 경우, 광학식 막 후도계의 광량 변화 피크 부근은 광량 변화가 평탄하게 되기 때문에, 광량 변화 피크의 판정이 곤란하다.
이에 대하여, 본 발명에서는, 반복 교대층의 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0, 바람직하게는 l.3 내지 1.5의 범위로 함으로써, 고굴절률층과 저굴절률층의 한쪽을 두껍게, 다른쪽을 얇게 하여 두께를 편차있게 한다. 이 경우, 기울기가 지나치게 크면, 필터로서의 특성에 악영향을 줄 우려가 있다.
이로써, 한쪽이 두꺼운 쪽의 막을 막 형성할 때에는 광학식 막 후도계의 광량 변화의 피크를 지난 시점에서 막 형성을 정지하게 되기 때문에, 막 형성의 정지 시기가 명확하게 되어, 막 두께 제어가 용이해진다. 또한, 얇게 한 다른쪽의 막 두께 제어는, 두껍게 한 막 위에 막 형성하기 때문에, 통상과 같이 피크일 때에 막 형성을 정지하게 되기 때문에, 얇게 한 문제는 생기지 않는다. 특히, 고굴절률층의 쪽을 두껍게 함으로써, 기하학적 막 두께가 얇고, 막 두께 제어가 곤란한 고굴절률층을 막 두께 정밀도가 양호하게 막 형성하는 것이 가능해진다.
다음에, 본 발명에서는, 보정판(216)의 폭을 통상보다 넓게 하고, 보정판(216)으로 차폐되는 비래 입자의 비율을 많게 하고 있다. 즉, 광 투과성 기판에 퇴적되는 막의 막 두께/모니터 기판에 퇴적되는 막의 막 두께의 비를 툴링 계수라 하면, 이 툴링 계수를 0.6 내지 0.85의 범위로 하는 것이다. 툴링 계수가 지나치게 낮으면, 광 투과성 기판에 부착되는 입자량이 지나치게 적어지기 때문에, 생산성의 점에서 바람직하지 못하다. 종래의 막 형성 장치에 있어서의 통상의 툴링 계수는 대강 0.9 내지 1.1의 범위이다.
이로써, 모니터 기판(221)쪽에 광 투과성 기판보다도 두껍게 막이 퇴적되고, 정확히 막 두께를 측정하는 것이 가능해져, 자외선 영역에서 굴절률 등의 광학 정수가 불안정해지는 문제를 해결할 수 있다. 또한, 모니터 기판(221)의 광량 변화의 피크가 광 투과성 기판의 막 형성의 피크에 선행하고, 광량 변화의 피크가 지나간 시점에서 막 형성을 정지하는 것이 가능해지기 때문에, 막 형성의 정지 시점이 명확해져, 막 두께 제어가 용이해진다. 그 결과, 막 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
이들의 반복 교대층의 막 두께 밸런스의 개량과 보정판의 폭을 넓혀 툴링 계수를 낮게 하는 개량을 조합시킴으로써, 저굴절률층의 막 형성시에 있어서의 광학식 막 후도계의 광량 변화의 피크를 지난 시점에서 막 형성을 정지하는 것이 가능해지는 효과도 부가되어, 막 두께 제어가 보다 용이해진다.
본 발명의 반복 교대층의 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0으로 한 다층막 컷필터를 UV 컷필터로서 사용하는 경우는, 상승의 절반 파장으로서 자외선 및 단파장의 가시광선을 컷할 수 있도록, 400㎚ 내지 450㎚의 범위에서 선택하는 것이 바람직하다. 특히, 광원으로서 초고압 수은등을 사용하는 경우는, 광원의 색의 밸런스를 개선하기 위해서, 초고압 수은등의 440㎚ 부근의 피크를 10 내지 30%, 바람직하게는 10 내지 20% 정도 부분적으로 반사할 수 있도록, 절반 파장은 425 내지 440㎚, 특히 430 내지 435㎚ 부근으로 하는 것이 바람직하다.
UV 컷필터의 광 투과성 기판의 자외선 반사막이 설치되어 있는 면과 반대측의 면에는, 광 투과율을 향상시키는 통상의 반사 방지막을 형성할 수 있다.
본 발명의 다층막 컷필터는, 광 투과성 기판의 위에 반복 교대층을 갖는 유전체 다층막이 형성되어 있는 필터 전부에 적용 가능하고, UV 컷필터에 한정되지 않고, IR 컷필터, 다이크로익 필터, 콜드 미러 등에 적용할 수 있는 것은 물론이다.
실시예 1
반복 교대층의 막 두께의 비율을 H/L=1.33 정도로 하여 H층의 막 두께를 두꺼운 밸런스로 했다. 최외층과 기판에 접하는 제 1 층은 SiO2로 했다.
광투과성 기판 재료는 BK7(n=1.52의 백색 유리판)을 사용했다. 사용하는 막의 재료는, 고굴절률층(H)이 TiO2, 저굴절률층(L)이 SiO2, 막 형성 방법은 RF 이온 플랫팅 장치(소화 진공 주식회사제)를 사용했다. 단색식 광학 모니터 방식의 광학식 막 후도계를 사용했다. 통상보다 폭이 넓은 보정판을 사용하고, 툴링 계수를 0.8로 했다.
막 두께 구성은 λ=360㎚, 층수 33이고, 기판측으로부터 1.08L, 0.44H,1.04L, 0.88H, 0.80L, l.16H, 0.76L, (1.12H, 0.84L)10, 1.00H, 0.92 L, 1.16H, 0.60L, 1.04H, 1.80L로 했다. 얻어진 다층막 컷필터의 파장 410㎚ 부근을 확대한 분광 투과율을 도 6에 나타낸다. 또한, 파장 350㎚ 내지 700 nm인 범위의 분광 투과율을 도 7에 나타낸다.
또한, 반복 교대층에 있어서의 광학식 막 후도계의 반사율의 변화를 도 8에 나타낸다. 실선은 고굴절률층의 막 형성, 일점 쇄선은 저굴절률층의 막 형성을 나타낸다. 각 선의 우측 끝은 그 시점에서 막 형성을 정지한 것을 나타낸다.
실시예 2
실시예 1과 동일한 막 형성 조건에서, 막 두께 구성은 λ=360㎚, 층수 19이며, 기판측으로부터 1.08L, 0.44H, 1.04L, 0.88H, 0.80L, 1.16H, 0.76 L, (1.12H, 0.84L)3, 1.00H, 0.92L, 1.16H, 0.60L, 1.04H, 1.80L로 했다.
얻어진 다층막 컷필터의 파장 410㎚ 부근을 확대한 분광 투과율을 도 6에 나타낸다. 또한, 파장 350㎚ 내지 700㎚인 범위의 분광 투과율을 도 7에 나타낸다.
이 층 구성은 생산성을 고려하여 층수를 감한 것으로, 반복 교대층의 스택수가 적기 때문에, 분광 특성은 급증함이 적어진다.
비교예 1
실시예 1과 동일한 막 형성 조건에서, 종래의 설계한 바와 같은 최적화를 실행했다. 막 두께 구성은 λ=360㎚, 층수 33이고, 기판측으로부터 1 L, 0.3H, 0.94L, 1.lH, 0.58L, 1.3H, 0.79L, (lH, 1L)10, 1.02H, 0.71L, 1.74H, 0.32L, 1.35H, 1.68L로 했다.
얻어진 다층막 컷필터의 파장 410㎚ 부근을 확대한 분광 투과율을 도 6에 나타낸다. 또한, 파장 350㎚ 내지 700㎚인 범위의 분광 투과율을 도 7에 나타낸다.
또한, 반복 교대층에 있어서의 광학식 막 후도계의 반사율의 변화를 도 9에 나타낸다. 실선은 고굴절률층의 막 형성, 일점 쇄선은 저굴절률층의 막 형성을 나타낸다. 각 선의 우측 끝은 그 시점에서 막 형성을 정지한 것을 나타낸다.
비교예 2
실시예 1과 동일한 막 형성 조건에서, 막 두께 구성은 λ=360㎚, 층수 19이고, 1L, 0.3H, 0.94L, 1.1H, 0.58L, 11.3 H, 0.79 L, (lH, 1 L)3,1.02 H, 0.71 L, 1.74 H, 0.32 L, 1.35 H, 1.68L로 했다.
얻어진 다층막 컷필터의 파장 410㎚ 부근을 확대한 분광 투과율을 도 6에 도시한다. 또한, 파장 350㎚ 내지 700㎚인 범위의 분광 투과율을 도 7에 나타낸다.
층수가 적은 만큼 제작이 약간 용이해지지만, 분광 특성은 급증함이 적어 열세하다.
실시예 1과 비교예 1은 같은 층수로, 반복 교대층의 막 두께의 밸런스가 상이하다. 실시예 1쪽이 분광 특성이 급증하다. 마찬가지로, 실시예 2 와 비교예 2는 동일한 층수로, 반복 교대층의 막 두께의 밸런스가 상이하지만, 실시예 2쪽이 분광 특성이 급증하다.
또한, 도 9에 나타낸 광학 모니터 광량의 변화는, H/L=1.00으로 하는 종래의 반복 교대층의 막 형성에 있어서의 고굴절률층의 막 형성시에, 피크의 정점에서 막 형성을 정지해야 하기 때문에, 막 형성을 정지할 시점의 판단이 곤란하고, 막 두께 제어가 곤란한 것을 나타내고 있다. 한편, 저굴절률층의 막 형성시에는 툴링 계수를 0.8로 한 효과로, 피크가 지나간 시점에서 막 형성을 정지할 수 있기 때문에, 막 두께 제어가 용이한 것을 나타내고 있다.
이에 대하여, 도 8에 나타낸 반복 교대층의 막 두께의 밸런스를 H/L=1.33으로 한 본 발명에 있어서의 광학 모니터 광량의 변화는 고굴절률층의 막 형성시에, 피크가 지나간 시점에서 막 형성을 정지할 수 있기 때문에, 막 두께 제어가 용이한 것을 나타내고 있다. 또한, 저굴절률층의 막 형성시에도 툴링 계수를 0.8로 한 효과로, 피크가 지나간 시점에서 막 형성을 정지할 수 있기 때문에, 막 두께 제어가 용이한 것을 나타내고 있다.
실시예 3
광투과성 기판의 일면에 자외선 반사막을 설치하고, 광 투과성 기판의 다른쪽 면측에 반사 방지막을 설치한 UV 컷필터를 제작했다. 반복 교대층의 막 두께의 비율을 H/L=1.31 정도로 하여 H층의 막 두께를 두꺼운 밸런스로 했다. 최외층과기판에 접하는 제 1 층은 SiO2로 했다.
광 투과성 기판 재료는 BK7(n=1.52의 백색 유리판)을 사용했다. 사용하는 막의 재료는, 고굴절률층(H)이 TiO2, 저굴절률층(L)이 SiO2, 막 형성 방법은 RF 이온 플랫팅 장치(소화 진공 주식회사제)를 사용했다. 단색식 광학 모니터 방식의 광학식 막 후도계를 사용했다. 통상보다 폭이 넓은 보정판을 사용하여, 툴링 계수를 0.8로 했다.
막 두께 구성은 설계 파장=371㎚, 층수 33이고, 기판측으로부터 1L, 0.36H, 1.21L, 0.74H, 0.97L, 10.08H, 0.87L, 1.08H, (0.88L, 1.15H)8, 0.88L, 1.12H, 0.9L, 1.01H, 1.02L, 1.03H, 0.71L, 1.09H, 1.75L로 했다. 절반 파장은 433㎚이다.
또한, 반사 방지막으로는 통상의 4층 구성의 것을 막 형성했다. 막 구성은 기판측으로부터 0.23H, 0.4L, 2.17H, 1L(설계 파장:550㎚)이다.
얻어진 다층막 컷필터의 분광 투과율을 도 10에 나타낸다. 일점 쇄선이 얻어진 다층막 컷필터의 분광 투과율을 나타내고, 파선은 자외선 흡수유리의 일례의 분광 투과율을 나타낸다. 또한, 가는 파선은 초고압 수은등의 휘도 분포를 나타낸다.
도 10에 나타낸 실시예 3은, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 분광투과율로 되어 있다. 즉, 도 10에 나타내는 초고압 수은등의 휘도 특성으로는 청색광선이 과잉이고, 파랑의 파장 범위에 있는 405㎚ 부근의 피크의 광선을 거의 컷하기만하는 것으로는 아직 청색광선이 강하기 때문에, 또한 440 ㎚ 부근, 바람직하게는 430 내지 450㎚인 파장 범위의 광도 범위의 광도 10 내지 30% 정도 컷해야 한다.
자외선 흡수 유리의 투과율 특성은 405㎚ 부근의 피크는 거의 완전히 컷할 수 있지만, 440㎚ 부근에는 완만하고, 컷하는 파장 근처의 짧은 파장에서의 투과율을 높게 하기 어렵다. 그 때문에, 투과하는 광선의 감쇠가 생기고 있다. 또한, 430 내지 450㎚의 파장 범위의 광선을 10 내지 30% 정도 컷하기 어렵다.
도 10에 나타낸 실시예 3의 다층막 컷필터로는 절반 파장이 433㎚이다. 그 때문에, 405㎚ 부근의 피크는 거의 완전히 컷할 수 있는 동시에, 430 내지 450㎚인 파장 범위의 광선을 10 내지 30% 정도 컷할 수 있다. 이로써, 청색이 과잉인 초고압 수은등의 청색의 일부를 컷하여, 색의 밸런스를 개선할 수 있다. 게다가, 상승이 급증하기 때문에, 컷하는 파장 근처의 짧은 파장에서의 투과율을 높게 하는 것이 가능하다.
다음에, 제 3 목적을 달성하기 위한 UV 컷필터 및 제 4 목적을 달성하기 위한 투사형 표시 장치에 대하여 설명한다.
투사형 표시 장치(100)에 사용되는 UV 컷필터(10)의 목적은, 400㎚ 이하의 파장의 자외선과 자외선 근처의 가시광선의 일부를 거의 완전히 차단하여, 이들 광선에 의한 유기 부품의 악화를 방지하고, 제품의 수명을 길게 하는 것, 이에 부가하여 광원(101)이 초고압 수은등의 경우에, 청색이 과잉인 초고압 수은등의 청색의 일부를 컷하여, 색의 밸런스를 개선하는 것에 있다. 본 발명의 UV 컷필터는 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율특성을 구비하는 것에 특징이 있다. 구체적으로는, 도 17에 나타낸 초고압수은등의 청색의 파장 범위에 있는 405㎚ 부근의 피크의 광선을 거의 컷하기만 하는 것으로는 아직 청색 광선이 강하기 때문에, 또한 440㎚ 부근의 피크의 광도 10 내지 30%정도, 바람직하게는 10 내지 20% 정도 부분적으로 컷하는 것이다.
본 발명의 UV 컷필터의 제 1 실시 형태에 대하여 도 11을 참조하면서 설명한다.
도 11a에 나타내는 제 1 실시 형태의 UV 컷필터(10a)는, 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)이 설치되고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면측에 반사 방지막(13)이 설치되어 있는 구조를 갖는다. 또한, 도 11b에 나타내는 제 1 실시 형태의 UV 컷필터(10b)는, 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)이 설치되고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면에는 막이 설치되어 있지 않은 구조를 갖는다.
광 투과성 기판(11)으로는, 가시 광선을 투과하는 재질의 것이면 좋고, 통상은 무기 유리가 사용되며, 예컨대 소다 석회 유리, 붕규산 유리, 납 유리, 무알칼리 유리, 석영 유리, 네오세람, 코닝사의 7971 티탄 규산 유리, 사파이어 유리 등이 사용된다.
광 투과성 기판(11)의 형상은, 통상은 박판 형상이지만, 예컨대 투사형 표시 장치에 사용되는 광학 렌즈를 본 발명의 UV 컷필터의 기판으로서 사용할 수 있다.
단차부가 부착된 자외선 반사막(12)의 투과율 특성은, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞추기 위해, 절반 파장이 415 내지 430㎚, 단차부의 파장범위로서 430 내지 450㎚에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 바람직하게는 80 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상, 바람직하게는 95% 이상의 투과율인 것이 바람직하다.
이러한 투과율 특성을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)은, 상술한 다층막 컷필터의 일종이기 때문에, 다층막 구조의 설계를 실행하는 시판의 소프트웨어를 사용함으로써, 설계하는 것이 가능하다.
또한, 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)도 막 두께를 양호한 정밀도로 제어하기 때문에, 본 발명의 다층막 컷필터와 같이, 반복 교대층의 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0, 바람직하게는 1.3 내지 1.5의 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한, 물리적 막 형성시에는, 증착원과 광투과성 기판의 사이에 보정판을 개재시켜, 광투과성 기판에 퇴적되는 층의 막 두께/모니터 기판에 퇴적되는 층의 막 두께의 비를 툴링 계수로 한 경우에, 툴링 계수를 0.6 내지 0.85의 범위로 하는 것이 바람직하다.
후술하는 실시예 4에서 실제로 BK7(n=1.52의 백색 유리판)상에 막 형성 된 단차부가 부착된 자외선 반사막의 분광 투과율을 도 11c의 실선 ①로 나타낸다. 파선(7)은 초고압 수은등의 휘도 특성이다.
이 ①의 분광 투과율을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막은 TiO2-SiO2교대의 37층막 필터이다. 절반 파장이 425㎚에서, 파장 범위 428 내지 450㎚인 범위(단차부)의 평균 투과율은 약 85%이다. 460 내지 520㎚의 파장 범위에서, 95%이상의 고투과율로 되어 있다.
이러한 단차부가 부착된 자외선 반사막은 절반 파장이 415 내지 430㎚의 범위에서 좋고, 절반 파장의 허용 범위가 넓기 때문에, 제조가 용이하다. 절반 파장이 415㎚보다 낮으면, 초고압 수은등의 405㎚ 부근의 피크를 충분히 컷할 수 없고, 부품의 열화를 방지하는 것이 곤란해진다. 한편, 430㎚보다 높게 하면, 제조상의 절반 파장의 오차로 440㎚ 부근의 피크의 투과율에 영향을 미쳐, 단차부를 설치한 의미가 없어져 버린다.
또한, 단차부의 파장 범위를 430 내지 450㎚로 하는 것은, 초고압 수은등의 440㎚ 부근의 피크의 투과율을 조정하여 청색을 억제하고, 색의 밸런스를 조정하기 위해서이다. 단차부에서의 평균 투과율을 70 내지 90%, 바람직하게는 80 내지 90%로 하는 것은, 색의 밸런스상에서 투과율을 이 범위로 할 필요가 있기 때문이다.
또한, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상, 바람직하게는 95% 이상의 투과율을 갖을 필요가 있는 것은, 광원의 휘도를 떨어뜨리지 않고 투사광선을 밝게 할 필요가 있기 ??문이다.
도 11a에 나타낸 UV 컷필터(10a)에 설치되어 있는 반사 방지막(13)은, 광 투과성 기판(11)의 표면에서의 반사를 억제하여, 가시 광선의 투과율을 향상시키는 기능을 갖는다.
반사 방지막(13)은 무기 피막, 유기 피막의 단층 또는 다층으로 구성된다. 무기 피막의 재질로는, SiO2, SiO, ZrO2, TiO2, TiO, Ti2O3, Ti2O5, A 12O3, Ta2O5,CeO2, MgO, Y2O3, SnO2, MgF2, WO3등의 무기물을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종 이상을 병용하여 사용할 수 있다. 또한, 다층막 구성으로 한 경우는, 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층한 구성으로 된다. 다층막 구성으로 한 경우, 최외층은 내환경 특성이 우수한 SiO2로 하는 것이 바람직하다.
무기 피막의 막 형성 방법은, 예컨대 진공 증착법, 이온 플랫팅법, 스퍼터링법, CVD법, 포화 용액 중에서의 화학 반응에 의해 석출시키는 방법 등을 채용할 수 있다. 유기 피막은 진공 증착법 외에, 스핀 코팅법, 딥코팅법 등의 도장 방법으로 막 형성할 수 있다.
반사 방지막도 상술한 다층막 컷필터의 설계와 같은 시판하는 소프트웨어를 사용하여 이론적으로 설계할 수 있다.
단차부가 부착된 자외선 반사막(12)과 반사 방지막(13)을 설치한 도 11a에 나타낸 UV 컷필터(10a)는, 반사 방지막(13)이 설치되어 있기 때문에, 독립된 UV 컷필터로서 사용할 수 있다.
또한, UV 컷필터(10a, 10b)는, 자외선을 거의 흡수하지 않고, 발열하지 않기 때문에, 후술하는 바와 같이, 액정 표시 패널에 사용되고 있는 방진 유리로도 사용할 수 있다.
이와 같이 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)을 설치한 UV 컷필터(10a, 10b)는, 초고압 수은등의 405㎚ 부근의 피크보다 단파장의 자외선이나 가시 광선을 절반 파장의 설정으로 반사하고, 440㎚ 부근의 피크는 단차부로 투과율을 조절할수 있다. 그 때문에, 자외선에 의한 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실하게 감소하여 색의 밸런스를 조정할 수 있다.
다음에, 본 발명의 UV 컷필터의 제 2 실시 형태에 대하여 도 12를 참조하면서 설명한다.
이 제 2 실시 형태의 UV 컷필터(10c)는, 도 12a에 도시한 바와 같이, 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 자외선 반사막(14)이 설치되고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면측에 청색 반사막으로서 청색 조정막(15)이 설치되어 있는 구조를 갖는다.
이 UV 컷필터(10c)에서의 자외선 반사막(14)은, 절반 파장이 415 내지 430㎚인 투과율 특성을 갖고, 절반 파장보다 짧은 파장의 자외선과 가시광선을 반사하는 기능을 갖는다. 절반 파장이 415㎚보다 낮으면, 초고압 수은등의 405㎚ 부근의 피크를 충분히 컷할 수 없어, 부품의 열화를 방지하기 어려워진다. 절반 파장을 430㎚보다 높게 하면, 제조상의 절반 파장의 오차로 440㎚ 부근의 피크의 투과율에 영향을 미치게 하여 청색 조정막을 설치한 의미가 없어진다. 이 자외선 반사막(14)은 절반 파장이 415 내지430㎚인 범위와 허용 범위가 넓기 때문에, 제조가 용이하다.
또한, 청색 조정막(15)은 초고압 수은등의 440㎚ 부근의 피크의 투과율을 조정하는 기능을 갖고, 430㎚ 내지 450㎚의 파장 범위로 70 내지 90%, 바람직하게는 80 내지 90%의 평균 투과율을 가지며, 460 내지 520㎚의 파장범위에서 90%이상, 바람직하게는 95% 이상의 투과율을 가질 필요가 있다. 430㎚ 내지 450㎚의 파장 범위에서의 평균 투과율을 70 내지 90%, 바람직하게는 80 내지 90%로 하는 것은, 색의밸런스상에서 초고압 수은등의 440㎚근처의 피크의 투과율을 이 범위로 할 필요가 있기 때문이다. 또한, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상, 바람직하게는 95% 이상의 투과율을 가질 필요가 있는 것은, 광원의 휘도를 떨어뜨리지 않고 투사광선을 밝게 할 필요가 있기 때문이다.
청색 조정막(15)은 광 투과성 기판(11)상에 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층한 유전체 다층막으로 구성되어 있다. 단, 적층수는 자외선 반사막보다 꽤 적고 반복 교대층도 없다. 청색 조정막(15)도 상술한 다층막 컷필터를 설계할 수 있는 시판하는 소프트웨어를 사용하여 설계할 수 있다.
후술하는 실시예 5에 실제로 BK7상에 막 형성된 자외선 반사막(14)의 분광 투과율을 도 12b의 파선 ②로 청색 조정막(15)의 분광 투과율을 도 12b의 일점 쇄선 ③으로 나타낸다. 이것들을 합친 UV 컷필터(1Oc)의 분광 투과율을 실선 ④로 나타낸다. 파선 ⑦은 초고압 수은등의 휘도 특성이다.
도 12에 나타낸 투과율 특성을 구비하는 자외선 반사막(14)은 TiO2-SiO2교대의 33층막으로, 절반 파장은 4/5㎚이다. 또한, 청색 조정막(15)은 TiO2-SiO2의 9층막이고, 430㎚ 내지 450㎚의 파장 범위에서의 평균 투과율은 약 85%이며, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 96% 이상의 투과율을 갖는다.
자외선 반사막(14)의 절반 파장이 425㎚이기 때문에, 430㎚ 내지 450 ㎚의 파장 범위에서는, 청색 조정막(15)의 투과율이 지배적으로 되고, UV 컷필터(10c)의 430 내지 450㎚의 파장 범위에서의 투과율은 거의 청색 조정막(15)의 투과율에 가까워지고 있다.
이러한 자외선 반사막(14)과 청색 조정막(15)을 조합한 UV 컷필터(10 c)는, 초고압 수은등의 405㎚ 부근의 피크보다 단파장의 자외선이나 가시광선을 자외선 반사막(14)으로 반사하고, 440㎚ 부근의 피크는 거의 청색 조정막(14)의 반사로 투과율을 조절할 수 있다. 그 때문에, 자외선에 의한 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실히 조절하여 색의 밸런스를 조정할 수 있다.
또한, 제 2 실시 형태의 UV 컷필터(10c)도 자외선을 거의 흡수하지 않고, 발열하지 않기 때문에, 후술하는 바와 같이, 액정 표시 패널에 사용되고 있는 방진 유리로도 사용할 수 있다.
다음에, 본 발명의 UV 컷필터의 제 3 실시 형태에 대하여 도 13을 참조하면서 설명한다.
이 제 3 실시 형태의 UV 컷필터(10d)는, 도 13a에 도시한 바와 같이, 자외선 흡수성 광 투과성 기판(11b)의 한쪽면측에 상술한 청색 조정막(15)이 설치되고, 다른쪽면측에 반사 방지막(13)이 설치되어 있는 구조를 갖는다.
자외선 흡수성 광 투과성 기판(11b)은 자외선 흡수 유리로 구성되고, 초고압 수은등의 440㎚ 부근의 피크의 투과도를 조정하기 위해서는 불충분한 성능을 갖는다. 그 때문에, 청색 조정막(15)은 자외선 흡수성 광 투과성 기판(11b)의 성능을 보완하여, 초고압 수은등의 440㎚ 부근의 피크의 투과량을 조절하는 기능을 갖는다.
자외선 흡수성 광 투과성 기판(1lb)은, 초고압 수은등의 405㎚ 부근의 피크보다 단파장의 자외선이나 가시 광선을 흡수하는 기능을 갖기 위해서, 절반 파장이 415 내지 430㎚의 범위일 필요가 있다. 청색 조정막의 투과율 특성은 상술한 바와 같다.
후술하는 실시예 6에서, 두께 1.1㎜의 자외선 흡수 유리(11b)의 한쪽면측에 TiO2-SiO2의 9층막의 청색 조정막(15)을 설치하고, 다른쪽면측에 반사 방지막(13)을 설치한 UV 컷필터(10d)를 제작했다. 그 자외선 흡수 유리(11b)의 흡수 특성을 도 13b의 파선 ⑧로 나타내고, 청색 조정막(15)의 투과율 특성을 도 13b의 일점 쇄선 ③으로 나타낸다. 자외선 흡수 유리와 청색 조정막을 합친 UV 컷필터(10d)의 분광 투과율을 실선의 ⑤로 나타낸다. 　가는 파선 ⑦은 초고압 수은등의 휘도 특성을 나타낸다.
자외선 흡수 유리의 투과율 특성 ⑧은, 405㎚ 부근의 피크는 거의 완전히 컷할 수 있지만, 440㎚ 부근에는 완만하여 투과율이 90%를 넘고 있고, 440㎚ 부근의 피크의 광선을 10 내지 30% 정도 컷하는 것은 곤란하다.
도 13b의 UV 컷필터(10d)의 440㎚ 부근에서는 청색 조정막의 투과율의 영향이 크고, 단차가 생기고 있다. 440㎚에서의 투과율은 약 75%이다.
이와 같이 자외선 흡수 유리(11b)와 청색 조정막(15)을 조합시킨 UV 컷필터(10d)는, 초고압 수은등의 405㎚ 부근의 피크보다 단파장의 자외선이나 가시 광선을 자외선 흡수 유리(11b)로 흡수하고, 440㎚ 부근의 피크는 거의 청색조정막(15)으로 투과율을 조절할 수 있다. 그 때문에, 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실히 조절하여 색의 밸런스를 조정할 수 있다.
실시예 4
도 11a에 도시한 바와 같은 광 투과성 기판(11)의 한쪽면에 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)을 설치하고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면측에 반사 방지막(13)을 설치한 UV 컷필터(10a)를 제작했다.
막 형성 방법은 RF 이온 플랫팅 장치(소화 진공 주식회사제)를 사용했다. 단색식 광학 모니터 방식의 광학식 막 후도계를 사용했다. 통상보다 폭이 넓은 보정판을 사용하고, 툴링 계수를 0.8로 했다. 광 투과성 기판(11)으로서, BK7(n=1.52의 백색 유리판)을 사용했다. 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)으로서 TiO2-SiO2교대의 37층 막 필터를 막 형성했다. 그 막 구성을 다음에 나타낸다. 고굴절률층(TiO2)을 H, 저굴절률층(SiO2)을 L로 막 구성을 나타내고 있다.
기판측으로부터 1L, 0.63H, 0.67L, 1.47H, 0.59L, (1.16H, 0.83 L)5, 1.08H, (0.91L, 1.03H)2, 0.88L, (1.26H, 0.77L)5, 0.88H, 1.14L, 1.04H, 0.67L, 1.04H, 1.9L(설계 파장:370㎚)로 했다. 이 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)의 분광 투과율을 도 11의 실선 ①로 나타냈다.
단차부가 부착된 자외선 반사막의 절반 파장은 425㎚, 파장 범위 428 내지 450㎚의 범위(단차부)의 평균 투과율은 약 85%이다. 460 내지 520㎚의 파장 범위에서, 97% 이상의 고투과율로 되어 있다.
또한, 반사 방지막으로는, 통상의 4층 구성의 것을 막 형성했다. 막 구성은 기판측으로부터 0.23H, 0.4L, 2.17H, 1L(설계 파장:550㎚)이다.
실시예 5
도 12a에 도시한 바와 같은 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 자외선 반사막(14)을 설치하고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면측에 청색 조정막(15)을 설치한 UV 컷필터(10c)를 제작했다.
막 형성 방법은 RF 이온 플랫팅 장치(소화 진공 주식회사 제품)를 사용했다. 단색식 광학 모니터 방식의 광학식 막 후도계를 사용했다. 통상보다 폭이 넓은 보정판을 사용하고, 툴링 계수를 0.8로 했다. 광 투과성 기판(11)으로서 BK7을 사용했다. 자외선 반사막(14)으로서 TiO2-SiO2교대의 33층 막 UV 컷필터를 막 형성했다. 그 막 구성을 다음에 나타낸다.
기판측으로부터 1L, 0.36H, 1.21L, 0.74H, 0.97L, 1.08H, 0.87L, 1.08H, (0.88L, 1.15H)8, 0.88L, 1.12H, 0.9L, 1.01H, 1.02L, 1.03H, 0.71 L, 1.09H, 1.75L(설계 파장:365㎚)로 했다. 절반 파장은 425㎚이다. 이 자외선 반사막의 분광 투과율을 도 12b의 ②에 나타내었다.
또한, 청색 조정막(15)으로서, TiO2(H)-SiO2(L)의 9층막의 것을 막 형성 했다. 막 구성을 다음에 나타낸다.
기판측으로부터 1.22L, 0.25H, 0.57L, 2.68H, 0.31L, 2.42H, 2.05L, 2.19H, 1.2L(설계 파장:500㎚)로 했다. 이 청색 조정막의 분광 투과율을 도 12b의 ③에 나타내었다.
이 청색　조정막의 430㎚에서의 투과율은 87.3%, 440㎚에서의 투과율은 84.3%, 450㎚에서의 투과율은 89.3%, 430 내지 450㎚에서의 평균 투과율은 85.8%였다.
또한, 자외선 반사막과 청색 조정막을 합친 UV 컷필터(10c)의 분광 투과율을 도 12b의 실선 ④로 나타낸다.
실시예 6
도 13a에 도시한, 광 투과성 기판으로서 두께가 1.1㎜의 자외선 흡수유리(11b)를 사용하고, 그 한쪽면측에 실시예 5와 같은 청색 조정막(15)을 막 형성하고, 다른쪽면측에 실시예 4와 같은 반사 방지막(13)을 막 형성한 UV 컷필터(10d)를 제작했다.
자외선 흡수 유리의 분광 투과율을 도 13b의 파선 ⑧로 나타내었다. 또한, 청색 조정막의 분광 투과율을 도 13b의 일점 쇄선 ③으로 나타내었다. 이들 자외선 흡수 유리와 청색 조정막을 합친 UV 컷필터(10d)의 분광 투과율을 도 13b의 실선 ⑤로 나타내었다.
다음에, 제 5 목적을 달성하기 위한 방진 유리, 제 6 목적을 달성하기 위한 표시 패널, 제 7 목적을 달성하기 위한 투사형 표시 장치에 관해서 설명한다.
도 14에 본 발명의 투사형 표시 장치의 일 실시 형태로서의 액정 프로젝터의 개략 구성을 나타낸다.
이 액정 프로젝터(300)가 도 1에 나타낸 액정 프로젝터(100)와 상이한 것은, 청색을 변조하는 제 3 액정 표시 패널에 본 발명의 표시 패널(20)이 사용되고 있는 점과, 그것에 수반하여 UV 컷필터(10)가 생략되어 있는 점이다. 그 밖의 부품에 관해서는 동일하기 때문에, 동일한 부품에 대해서는 동일한 부호를 붙여 그 설명은 생략한다.
종래의 액정 프로젝터로는, 청색을 변조하는 제 3 액정 표시 패널(20)의 전방에 배치되어 있는 편광판 유닛(131)의 앞의 광로에, 이것들을 자외선으로부터 차단하기 위해, UV 컷필터(10)가 배치되어 있었다.
도 14에 도시한 액정 프로젝터(300)에서는, 제 3 액정 표시 패널(20)에 자외선 반사막이 설치되어 있는 본 발명의 표시 패널을 사용하고 있기 때문에, UV 컷필터(10)가 불필요하게 되어 부품 갯수의 삭감이 가능하게 되고, 소형화, 저비용화가 되어 있다.
도 15에, 제 3 액정 표시 패널(20)의 일 실시 형태의 단면도를 나타낸다. 이 표시 패널(20)은 사각 통 형상의 케이스(21)내에, 액정 표시 장치(30)를 구성하는 대향 기판(31)과 액정 기판(32)이 간격을 두고 배치되어 있다. 대향 기판(31)은 입사측에 배치되고, 액정 기판(32)과 대향하는 내면에 도시하지 않는 대향 전극, 배향막이 형성되어 있다. 액정 기판(32)은 출사측에 배치되고, 대향 기판(31)과 대향하는 내면에 도시하지 않는 TFT 등의 액티브 소자, 배향막이 형성되어 있다. 대향 기판(31)과 액정 기판(32)의 사이에 도시하지 않는 액정층이 봉입되어 있다. 가요성 배선(33)이 케이스 외부와 액정 표시 장치(30)를 접속하고 있다. 견절(見切)이라 불리는 차광막(34)이 대향 기판(31)의 외면이 액자 프레임 형상으로 설치되어 있다. 대향 기판(31)의 입사측 표면에 입사측 방진 유리(41)가 접착되고, 액정 기판(32)의 출사면측에도 출사측 방진 유리(42)가 접착되어 있다.
방진 유리(41, 42)는 먼지가 대향 기판(31)과 액정 기판(32)의 외면에 부착되면 부착된 먼지가 확대 투영 표시되는 것을 방지하기 위해, 먼지를 액정 표시면으로부터 이간시켜 아웃 포커스로 함으로써, 먼지의 부착을 눈에 띄지 않게 하는 기능을 갖는다. 그 때문에, 방진 유리(41, 42)는 두께가 1.1㎜ 정도로 두껍게 되어 있고, 액정 기판(32)이나 대향 기판(31)에 사용되고 있는 유리와 같은 재질의 석영 유리나 네오세람과 같은 유리가 사용된다.
방진 유리(41, 42)는 굴절률이 사용되고 있는 석영 유리나 네오세람과 동일하게 조정된 실리콘계 접착제나 아크릴계 접착제 등의 투명 접착제 등의 액정 기판(32)과 대향 기판(31)에 기포가 발생하지 않도록 각각 접착되어 있다.
입사측 방진 유리(41)의 외측 표면에는, 종래 반사 방지막이 설치되어 있었지만, 본 발명에서는, 반사 방지막을 대신하여 자외선 반사막(50)이 설치되어 있다. 자외선 반사막(50)은 유전체 다층막에 의해 구성되고, 막 설계에 의해 특정파장보다 짧은 파장의 광선을 컷하여, 긴 파장의 광선을 투과하도록 급증한 특성을 부여할 수 있고, 자외선, 필요에 따라 단파장의 가시광선을 반사하여, 필요한 가시광선에 대하여 투과율을 높일 수 있다.
자외선 반사막의 투과율 특성은, 도 17에 도시한 바와 같이, 자외선흡수 유리와 비교하면, 급 상승(약 425㎚)하고, 자외선(400㎚ 미만)을 거의 모두 반사하며, 게다가 상승 후의 가시광 영역(400㎚ 내지 750㎚)에서의 투과율이 높다. 자외선 반사막을 설치하지 않는 투명 유리 기판의 가시광 투과율은, 대강 96% 정도이다. 따라서, 자외선 반사막은 가시광 영역에 있어서는 반사 방지막으로서 기능하고, 투과하는 광선에 감쇠를 발생시키지 않기 때문에, 방진 유리에 있어서의 종래의 반사 방지막을 자외선 반사막으로 전환하여도 광량을 저하시키지 않는다.
또한, 출사측 방진 유리(42)의 외면에는, 반사 방지막(51)이 설치되어 있다.
상기 액정 프로젝터(300)에 사용되고 있는 제 1 액정 표시 패널(121), 제 2 액정 표시 패널(122)은, 본 발명의 표시 패널(10)의 자외선 반사막(50)을 반사 방지막으로 전환한 구조를 가지며, 그 밖의 구조에 특별히 상이점은 없다.
또한, 방진 유리(41, 42)는 접착하지 않고, 대향 기판(31)과 액정 기판(32)으로부터 각각 이격하여 배치되는 경우도 있다. 이격하여 배치되는 경우는, 방진 유리(41, 42)와 대향 기판(31), 액정 기판(32)의 사이에 공기층이 개재되어 광선의 반사가 생기기 때문에, 방진 유리(41, 42)의 내면측과 대향 기판(31)과 액정 기판(32) 각각의 외면측에는 반사 방지막이 설치된다.
본 발명의 표시 패널(20)은, 입사측에 자외선 반사막(50)을 설치한 방진 유리(41)를 배치하고 있기 때문에, 자외선 반사막(50)으로 자외선, 필요에 따라 단파장의 가시 광선을 반사하여 필요한 가시 광선만을 액정 표시장치(30)에 입사할 수 있다. 그 때문에, 액정 표시 장치(30)를 자외선으로부터 방호할 수 있어, 배향막 그 밖의 유기물이 자외선으로 열화하는 것을 방지하여, 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 액정 표시 장치(30)나 방진 유리(41)가 자외선을 흡수하여 고온으로 되는 것을 방지할 수 있고, 투사 화면에 불균일을 발생시키지 않는다.
도 16에, 본 발명의 방진 유리의 일 실시 형태의 단면 구조를 나타낸다. 도 16a는 액정 표시 장치에 접착되는 형태의 방진 유리를 나타내고, 도 16b는 액정 표시 장치와 이간하여 배치되는 형태의 방진 유리를 나타내고 있다.
도 16a에 나타내는 방진 유리(41)는 투명 유리 기판(40)의 한쪽면측에 자외선 반사막(50)이 설치되고, 다른쪽면에는 막이 형성되어 있지 않다. 투명 유리 기판(40)은 대향 기판(31)과 동일 재질의 유리가 사용되고, 예컨대 석영 유리, 네오세람, 코닝사의 7971 티탄 규산 유리, 사파이어 유리 등이 사용된다. 두께는, 대향 기판(31)의 입사면으로부터 충분히 먼지를 떨어뜨릴 수 있는 0.7 내지 3㎜ 정도의 두께이다. 지나치게 두꺼우면, 방열성의 저하나 중량 증가의 문제가 생긴다.
이 방진 유리(41)는, 도 15에 도시한 바와 같이, 광원으로부터 자외선이 포함되어 있는 광선이 입사하는 액정 표시 장치(30)의 입사측의 기판면에, 막이 설치되어 있지 않는 쪽의 면이 접착제로 접합되어, 표시 패널(20)의 일부로서 사용된다.
도 16b에 도시하는 방진 유리(43)는 투명 유리 기판(40)의 한쪽면측에 자외선 반사막(50)이 설치되고, 다른쪽면에 반사 방지막(51)이 설치되어 있다. 이 방진 유리(43)는, 광원으로부터 자외선이 포함되어 있는 광선이 입사하는 액정 표시 장치(30)의 입사측의 기판면과 이간시켜 자외선 반사막(50)을 외측으로, 반사 방지막(51)을 내측으로 하여 배치되고, 액정 표시 패널의 일부로서 사용된다. 이 방진 유리(43)의 투명 유리 기판(40)은, 대향 기판(31)과 다른 재질이어도 좋고, 통상은 무기 유리가 사용되며, 예컨대 소다 석회 유리, 붕규산 유리, 납 유리, 무알칼리 유리, 석영 유리, 네오세람, 코닝사의 7971 티탄 규산 유리, 사파이어 유리 등이 사용된다.
자외선 반사막(50)으로는, 400㎚보다 단파장의 자외선을 반사할 수 있는 UV 컷필터에 사용되고 있는 자외선 반사막을 사용할 수 있다. 광원에 초고압 수은등을 사용하는 투사형 표시 장치 그러면 초고압 수은등의 440 ㎚ 부근의 피크를 10 내지 30%, 바람직하게는 10 내지 20% 정도 부분적으로 반사할 수 있도록, 절반 파장은 425 내지 440㎚, 특히 430 내지 435㎚ 부근으로 하는 것이 바람직하다. 이러한 자외선 반사막으로서, 반복 교대층에 있어서의 고굴절률층(H)과 저굴절률층(L)의 광학적 막 두께의 밸런스 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0의 범위로 한 본 발명의 다층막 컷필터를 사용할 수 있다.
또한, 광원(101)이 초고압 수은등의 경우에 특히 바람직한 자외선 반사막으로서, 상술한 단차부가 부착된 자외선 반사막(14)을 적절히 사용할 수 있다. 그 때문에, 액정 표시 장치(30)에 접착되는 형태의 본 발명의 방진 유리(41)로서, 도 11b에 도시한, 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 단차부가 부착된 자외선반사막(12)이 설치되고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면에는 막이 설치되어 있지 않은 구조를 갖는 UV 컷필터(10b)를 적절히 채용할 수 있다. 또한, 액정 표시 장치(30)와 이간하여 배치되는 형태의 방진 유리(43)로서, 도 11a에 도시한, 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 단차부가 부착된 자외선 반사막(12)이 설치되고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면측에 반사 방지막(13)이 설치되어 있는 구조를 갖는 UV 컷필터(10a)를 적절히 채용할 수 있다.
또한, 액정 표시 장치(30)와 이간하여 배치되는 형태의 방진 유리로서, 도 12a에 도시한, 광 투과성 기판(11)의 한쪽면측에 자외선 반사막(14)이 설치되고, 광 투과성 기판(11)의 다른쪽면측에 청색 반사막으로서 청색 조정막(15)이 설치되어 있는 구조를 갖는 UV 컷필터(10c)를 적절히 채용할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 다층막 컷필터는, 반복 교대층의 막 두께 밸런스를 종래와 같이 변경함으로써, 막 두께 제어가 용이하고, 고정밀도로 다층막을 막 형성할 수 있기 때문에, 설계한 대로의 특성을 구비하는 것이다.
본 발명의 다층막 컷필터의 제조 방법에 의하면, 툴링 계수를 낮게 하여, 모니터 기판쪽에 두껍게 막 형성하도록 함으로써, 막 두께 제어가 용이 게 되어, 설계한 대로의 특성을 구비하는 다층막 컷필터를 제조할 수 있다.
본 발명의 UV 컷필터는 단차부가 부착된 자외선 반사막을 사용함으로써, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하고, 자외선에 의한 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실히 감색하여 색의 균형을 조정할 수 있다.
또한, 본 발명의 UV 컷필터는, 자외선 반사막과 청색 조정막을 조합시킴으로써, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하고, 자외선에 의한 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실히 감색하여 색의 밸런스를 조정할 수 있다.
본 발명의 UV 컷필터는, 자외선 흡수 유리와 청색 조정막을 조합시킴으로써, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하고, 자외선에 의한 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실히 감색하여 색의 밸런스를 조정할 수 있다.
본 발명의 투사형 표시 장치는, 초고압 수은등의 휘도 특성에 맞는 투과율 특성을 구비하는 UV 컷필터를 사용하고 있음으로써, 자외선에 의한 부품의 열화를 방지할 수 있는 동시에, 초고압 수은등의 과잉 청색을 확실히 감색하여 색의 밸런스가 양호하다.
본 발명의 방진 유리는, 반사 방지막을 대신하여 자외선 반사막을 설치함으로써, 유용한 가시광선의 투과율을 저하시키지 않는 유해한 자외선 등을 반사하는 특성을 구비한다.
본 발명의 표시 패널은, 자외선 반사막을 설치한 방진 유리를 내장한 표시 패널을 사용함으로써, 부품으로서의 UV 컷필터가 불필요하게 되어, 자외선으로부터 표시 장치를 보호할 수 있다.
본 발명의 투사형 표시 장치는, 자외선 반사막을 설치한 방진 유리를 내장한 표시 패널을 사용하고 있음으로써, 부품으로서의 UV 컷필터가 불필요하게 되어, 부품 갯수의 삭감이 가능해졌다.
본 발명의 필터는, 예컨대 투사형 표시 장치에 사용되고, 자외선을 포함하는 광원으로부터의 광 중, 유해한 자외선과 단파장의 가시 광선을 컷하여, 자외선 등에 의한 부품의 열화를 방지하는 용도로 사용할 수 있다.
본 발명의 다층막 컷필터의 제조 방법은, 자외선을 포함하는 광원으로부터의 광 중, 유해한 자외선과 단파장의 가시 광선을 컷하여, 자외선 등에 의한 부품의 열화를 방지하는 용도로 사용되는 필터를 제조할 수 있다.
본 발명의 방진 유리는, 예컨대 투사형 표시 장치의 액정 표시 패널에 내장되어, 자외선을 포함하는 광원으로부터의 광 중, 유해한 자외선과 단파장의 가시 광선을 컷하여, 자외선 등에 의한 표시 패널의 열화를 방지하는 용도로 사용할 수 있다.
본 발명의 투사형 표시 장치는, 화상을 스크린상에 확대 투영하는 용도로 사용할 수 있다.

Claims (23)

  1. 광 투과성 기판의 위에 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복 적층된 반복 교대층을 갖는 유전체 다층막이 형성된 다층막 컷필터에 있어서,
    상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적 막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비가 1.2 내지 2.0의 범위인 것을 특징으로 하는
    다층막 컷필터.
  2. 증착원으로부터 날아오는 고굴절률층을 형성하는 입자와 저굴절률층을 형성하는 입자를 교대로 광투과성 기판의 위에 반복하여 막 형성하는 동시에, 모니터 기판상에도 막 형성하여, 이 모니터 기판상에 막 형성된 층의 광학적막 두께를 측정하면서 막 두께를 제어하는 다층막 컷필터의 제조 방법에 있어서,
    상기 증착원과 상기 광 투과성 기판의 사이에 보정판을 개재시켜, 상기 광 투과성 기판에 퇴적되는 층의 막 두께/상기 모니터 기판에 퇴적되는 층의 막 두께와의 비를 툴링 계수로 한 경우에, 상기 툴링 계수를 0.6 내지 0.85의 범위로 하는 것을 특징으로 하는
    다층막 컷필터의 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 고굴절률층과 상기 저굴절률층을 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복 적층하는 반복 교대층을 형성하고,
    또한, 상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비를 1.2 내지 2.0의 범위로 형성하는 것을 특징으로 하는
    다층막 컷필터의 제조 방법.
  4. 광투과성 기판의 한쪽면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚, 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    자외선 컷필터.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 단차부가 부착된 자외선 반사막이 유전체 다층막으로 구성되고, 상기 유전체 다층막이 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복 적층된 반복 교대층을 가지며,
    또한, 상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적 막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비가 1.2 내지 2.0의 범위인 것을 특징으로 하는
    자외선 컷필터.
  6. 광 투과성 기판의 한쪽면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚인 자외선 반사막이 설치되고, 상기 광 투과성 기판의 다른쪽면측에 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    자외선 컷필터.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이 유전체 다층막으로 구성되고, 상기 유전체 다층막이 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적막 두께로 반복 적층된 반복 교대층을 가지며,
    또한, 상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적 막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비가 1.2 내지 2.0의 범위인 것을 특징으로 하는
    자외선 컷필터.
  8. 절반 파장이 415 내지 430㎚의 흡수 특성을 갖는 자외선 흡수성 광 투과성 기판의 한쪽면측에 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율,460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    자외선 컷필터.
  9. 초고압 수은등의 광원과, 상기 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하기 위한 표시 패널과, 상기 광원과 상기 표시 패널 사이의 광로에 배치된 UV 컷필터와, 상기 표시 패널로부터 출사된 광선을 확대 투영하는 확대 투사 광학부를 구비하는 투사형 표시 장치에 있어서,
    상기 UV 컷필터가 광 투과성 기판의 한쪽면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚, 430 내지 450㎚인 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
  10. 초고압 수은등의 광원과, 상기 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하기 위한 표시 패널과, 상기 광원과 상기 표시 패널 사이의 광로에 배치된 UV 컷필터와, 상기 표시 패널로부터 출사된 광선을 확대 투영하는 확대 투사 광학부를 구비하는 투사형 표시 장치에 있어서,
    상기 UV 컷필터가 광 투과성 기판의 한쪽면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚인 자외선 반사막이 설치되고, 상기 광 투과성 기판의 다른쪽면측에 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
  11. 초고압 수은등의 광원과, 상기 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하기 위한 표시 패널과, 상기 광원과 상기 표시 패널 사이의 광로에 배치된 UV 컷필터와, 상기 표시 패널로부터 출사된 광선을 확대 투영하는 확대 투사 광학부를 구비하는 투사형 표시 장치에 있어서,
    상기 UV 컷필터가 절반 파장이 415 내지 430㎚인 흡수 특성을 갖는 자외선 흡수성 광 투과성 기판의 한쪽면측에, 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
  12. 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하기 위한 표시 장치의 광원으로부터의 광선이 입사하는 전면측에 배치되어 상기 표시 장치에 먼지가 부착되는 것을 방지하기 위한 방진 유리에 있어서,
    투명 유리 기판의 한쪽면에 자외선 반사막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    방진 유리.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이 유전체 다층막으로 구성되고, 상기 유전체 다층막이 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복 적층된 반복 교대층을 가지며,
    또한, 상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적 막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비가 1.2 내지 2.0의 범위인 것을 특징으로 하는
    방진 유리.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이 절반 파장이 415 내지 430㎚, 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막인 것을 특징으로 하는
    방진 유리.
  15. 제 12 항에 있어서,
    투명 유리 기판의 한쪽면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚인 자외선 반사막이 설치되고, 상기 투명 유리 기판의 다른쪽면측에 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    방진 유리.
  16. 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하기 위한 표시 장치와, 상기 표시 장치의 광원으로부터의 광선이 입사하는 전면에 배치되어 상기 표시 장치에 먼지가 부착되어 있는 것을 방지하기 위한 방진 유리를 구비하는 표시 패널에 있어서,
    상기 방진 유리가 투명 유리 기판의 전면에 자외선 반사막을 갖는 것을 특징으로 하는
    표시 패널.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이 유전 체다층막으로 구성되고, 상기 유전체 다층막이 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복 적층된 반복 교대층을 가지며,
    또한, 상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적 막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비가 1.2 내지 2.0의 범위인 것을 특징으로 하는
    표시 패널.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이, 절반 파장이 415 내지 430㎚, 430 내지 450㎚인 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚인 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막인 것을 특징으로 하는
    표시 패널.
  19. 제 16 항에 있어서,
    상기 방진 유리가 투명 유리 기판의 한쪽면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚인 자외선 반사막이 설치되고, 상기 투명 유리 기판의 다른쪽면측에 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    표시 패널.
  20. 광원과, 상기 광원으로부터의 광선을 변조하여 소정의 화상을 형성하기 위한 표시 장치와 상기 표시 장치의 광원으로부터의 광선이 입사하는 전면에 배치되어 상기 표시 장치에 먼지가 부착되는 것을 방지하기 위한 방진유리를 구비하는 표시 패널과, 상기 표시 패널로부터 출사된 광선을 확대 투영하는 확대 투사 광학부를 구비하는 투사형 표시 장치에 있어서,
    상기 방진 유리가 투명 유리 기판의 전면에 자외선 반사막을 갖는 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이 유전체 다층막으로 구성되고, 상기 유전체 다층막이, 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 각각 동일한 광학적 막 두께로 반복 적층된 반복 교대층을 가지며,
    또한, 상기 고굴절률층의 광학적 막 두께를 H, 상기 저굴절률층의 광학적 막 두께를 L로 한 경우에, 상기 반복 교대층에 있어서의 H/L 또는 L/H의 비가 1.2 내지 2.0의 범위인 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 자외선 반사막이, 절반 파장이 415 내지 430㎚, 430 내지 450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 단차부가 부착된 자외선 반사막인 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
  23. 제 20 항에 있어서,
    상기 방진 유리가 투명 유리 기판의 한쪽 면측에 절반 파장이 415 내지 430㎚인 자외선 반사막이 설치되고, 상기 투명 유리 기판의 다른 쪽 면측에 430 내지450㎚의 파장 범위에서 70 내지 90%의 평균 투과율, 460 내지 520㎚의 파장 범위에서 90% 이상의 투과율을 갖는 청색 조정막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    투사형 표시 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102265168B1 (ko) * 2019-12-30 2021-06-14 백석대학교산학협력단 스트라이프 구조를 이용한 자외선 차단용 자동차 썬팅 필름 및 썬팅 장치

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3946671B2 (ja) * 2002-07-23 2007-07-18 三星エスディアイ株式会社 光子発光抑制素子基盤の画像表示装置及びこれを利用した画像表示方法
JP3909595B2 (ja) * 2003-04-23 2007-04-25 セイコーエプソン株式会社 表示装置、及びその調光方法
KR20040097496A (ko) * 2003-05-12 2004-11-18 일진다이아몬드(주) 액정 디스플레이 패널 및 액정 프로젝터
JP2005062778A (ja) * 2003-08-20 2005-03-10 Fujinon Corp 液晶プロジェクタ
JP2006221142A (ja) * 2005-01-14 2006-08-24 Sony Corp 光学素子、レンズ鏡筒、撮像装置及び電子機器
CN100529892C (zh) * 2005-04-23 2009-08-19 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 冷阴极灯管和使用该灯管的背光模组
JP4760275B2 (ja) * 2005-05-23 2011-08-31 ソニー株式会社 液晶表示装置
EP1892763A1 (en) * 2005-06-17 2008-02-27 Toppan Printing Co., Ltd. Imaging element
WO2008018647A1 (en) * 2006-08-11 2008-02-14 Iljin Display Co., Ltd. Projection-type liquid crystal display
JP2008129031A (ja) * 2006-11-16 2008-06-05 Seiko Epson Corp 電気光学装置、及びこれを備えた電子機器
JP5311757B2 (ja) 2007-03-29 2013-10-09 キヤノン株式会社 反射光学素子、露光装置およびデバイス製造方法
US7719745B2 (en) * 2007-07-10 2010-05-18 Seiko Epson Corporation Display device and electronic apparatus
US20090101829A1 (en) * 2007-10-19 2009-04-23 Nordson Corporation Sensor, system, and method for an ultraviolet lamp system
KR20100008501A (ko) * 2008-07-16 2010-01-26 삼성모바일디스플레이주식회사 액정표시장치
CN101630050B (zh) * 2008-07-17 2011-03-30 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 色轮及具有该色轮的数字光处理投影机
JP2011100111A (ja) * 2009-10-09 2011-05-19 Seiko Epson Corp 光学物品、光学物品の製造方法、電子機器
US20130231719A1 (en) 2010-11-12 2013-09-05 Attila SOLTESZ-NAGY Arrangement for adjusting the uvb to uva ratio of artificial uv light
JP6317875B2 (ja) * 2012-09-06 2018-04-25 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
US9835952B2 (en) 2013-03-14 2017-12-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Systems and methods for a narrow band high transmittance interference filter
CN104102079B (zh) 2013-04-02 2016-08-03 扬明光学股份有限公司 光源模组及投影装置
JP2014203044A (ja) * 2013-04-09 2014-10-27 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JP5984187B2 (ja) * 2013-04-22 2016-09-06 信越化学工業株式会社 ペリクルとフォトマスクのアセンブリ
US9929690B2 (en) * 2013-10-31 2018-03-27 Massachusetts Institute Of Technology Spectrally-engineered solar thermal photovoltaic devices
CN103646958A (zh) * 2013-11-18 2014-03-19 上海和辉光电有限公司 一种显示面板及其制作方法
JP6277728B2 (ja) 2014-01-15 2018-02-14 セイコーエプソン株式会社 投射型表示装置および照明装置
JP2016075778A (ja) * 2014-10-06 2016-05-12 セイコーエプソン株式会社 光源装置及びプロジェクター
JP6643495B2 (ja) * 2016-01-25 2020-02-12 ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッドＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 光学的パラメータ検出システム
KR102648400B1 (ko) 2016-02-22 2024-03-18 삼성디스플레이 주식회사 양자점 컬러 필터 및 이를 구비하는 표시 장치
US10600213B2 (en) 2016-02-27 2020-03-24 Focal Sharp, Inc. Method and apparatus for color-preserving spectrum reshape
KR101806698B1 (ko) * 2016-05-30 2017-12-07 현대자동차주식회사 적외선 광학 필터
CN106517817B (zh) * 2016-10-27 2019-04-19 宜昌南玻显示器件有限公司 一种抗uv光学膜玻璃及其制备方法
CN106896494A (zh) * 2017-02-17 2017-06-27 河南中光学集团有限公司 利用notchfilter的切换来产生不同色域的方法
JP2019028362A (ja) * 2017-08-02 2019-02-21 セイコーエプソン株式会社 プロジェクター
US10514571B2 (en) * 2018-03-21 2019-12-24 Himax Display, Inc. Display panel and method of fabricating a display panel
CN109001849B (zh) * 2018-08-22 2024-04-19 杭州科汀光学技术有限公司 一种宽波长域的高效减反射膜及光学***
JP7423609B2 (ja) * 2018-09-14 2024-01-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光学フィルム
US11683098B2 (en) * 2020-07-14 2023-06-20 Raytheon Company Spectrally beam-combined, fiber-based multi-wavelength receiver/transceiver
CN112725736B (zh) * 2020-12-21 2022-06-14 宜宾市恒美科技有限公司 一种紫外光截止光学膜层镀膜方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6428678A (en) 1987-07-24 1989-01-31 Seiko Epson Corp Projection type liquid crystal display device
JPH01286476A (ja) 1988-05-13 1989-11-17 Topcon Corp 狭い波長帯域で平坦な分光特性を有するレーザーミラー
JPH06109921A (ja) 1992-09-28 1994-04-22 Nippon Electric Glass Co Ltd 光学多層膜フィルター
JPH06180401A (ja) 1992-12-11 1994-06-28 Olympus Optical Co Ltd エッジフィルター
JPH07248534A (ja) 1994-03-14 1995-09-26 Fujitsu Ltd 光学装置
JPH07333451A (ja) 1994-06-09 1995-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜の形成方法及びその形成装置
EP0732848B1 (en) 1995-03-16 2000-05-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Video projector
JP3606649B2 (ja) * 1995-10-13 2005-01-05 ソニー株式会社 プロジェクタ装置
US5892561A (en) * 1995-10-18 1999-04-06 Fujitsu Limited LC panel with reduced defects having adhesive smoothing layer on an exterior surface of the substrate(s)
TW320687B (ko) * 1996-04-01 1997-11-21 Toray Industries
US6111700A (en) * 1996-09-05 2000-08-29 Fujitsu Limited Optical display device having a reflection-type polarizer
US6249378B1 (en) * 1997-02-28 2001-06-19 Nikon Corporation Mirror and projection type display apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102265168B1 (ko) * 2019-12-30 2021-06-14 백석대학교산학협력단 스트라이프 구조를 이용한 자외선 차단용 자동차 썬팅 필름 및 썬팅 장치

Also Published As

Publication number Publication date
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