JP2008129031A - 電気光学装置、及びこれを備えた電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、温度上昇を抑制し、高い信頼性を確保する。
【解決手段】電気光学装置は、表示領域（１０ａ）に光源から光源光が入射される電気光学パネル（１１０ａ）と、該電気光学パネルにおける光源光が入射される側に、表示領域を少なくとも部分的に覆うように設けられており、光源光のうち少なくとも第１波長範囲内の光を透過すると共に少なくとも第１波長範囲よりも長波長側の第２波長範囲内の光を反射する光学薄膜（８１０）とを備える。
【選択図】図２

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。

この種の電気光学装置の一例である液晶装置を液晶プロジェクタにおけるライトバルブとして用いる場合、スクリーン上に拡大投射を行うために、液晶装置には、光源からの強力な光源光が集光された状態で入射する。このような光源光が入射されると、液晶装置の温度が上昇し、液晶装置内において一対の透明基板間に挟持されている液晶の温度も上昇して、該液晶の特性劣化を招いてしまうという問題点がある。このため、例えば特許文献１では、液晶プロジェクタ内の光学系に、赤外光に対する反射率の低いミラーを組み込むことで、液晶装置に入射される光から赤外光を除去し、赤外光によって液晶装置の温度が上昇するのを防止する技術が開示されている。

また、ライトバルブの表面にごみや埃等（以下、単に「粉塵」という。）が付着すると、映写幕上にその粉塵の像もまた投影されてしまうことで、画像の品質を低下させる可能性がある。このため、液晶装置を構成する基板の外側表面に防塵用基板が設けられることが多い。

特開平８−７６１０９号公報

しかしながら、特許文献１に開示された技術によれば、赤外光に対する反射率の低いミラーは、液晶プロジェクタ内の光学系に組み込まれ、液晶装置と比べて小型化が困難であり、液晶プロジェクタの小型化が困難であるという技術的問題点がある。更に、このようなミラーを製造する製造コストが必要な分だけ、液晶プロジェクタを製造する製造コストを低減することが困難になってしまう。

本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、当該電気光学装置における温度上昇を抑制でき、信頼性の高い電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供することを課題とする。

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、表示領域に光源から光源光が入射される電気光学パネルと、該電気光学パネルにおける前記光源光が入射される側に、前記表示領域を少なくとも部分的に覆うように設けられており、前記光源光のうち少なくとも第１波長範囲内の光を透過すると共に少なくとも前記第１波長範囲よりも長波長側の第２波長範囲内の光を反射する光学薄膜とを備える。

本発明の電気光学装置によれば、電気光学パネルは、例えば、液晶等の電気光学物質を挟持してなる一対の基板からなり、その動作時には、電気光学パネルにおける表示領域に、例えばハロゲンランプ等の光源から例えば白色光等の光源光が入射される。このように電気光学パネルに入射された光が、例えば画像信号に基づいて、例えば液晶等の電気光学物質によって変調され、透過又は反射によって表示光として出射されることで、表示領域における画像表示が可能となる。このような電気光学装置としては、例えば投射型表示装置におけるライトバルブとして用いられる液晶装置が挙げられる。

本発明では特に、光源光のうち少なくとも第１波長範囲内の光を透過すると共に少なくとも第１波長範囲よりも長波長側の第２波長範囲内の光を反射する光学薄膜が、電気光学パネルにおける光源光が入射される側に、表示領域を少なくとも部分的に覆うように設けられている。本発明に係る「第１波長範囲内の光」は、典型的には可視光であり、当該電気光学装置による画像表示に寄与する光である。本発明に係る「第２波長範囲内の光」は、典型的には赤外光であり、当該電気光学装置による画像表示に寄与しない光である。光学薄膜は、典型的には、電気光学パネルにおける光源光が入射される側の最表面に、表示領域を覆うように設けられる。光学薄膜は、例えば、屈折率が互いに異なる複数の透明な絶縁膜或いは導電膜が積層してなる積層膜から形成される。このような複数の透明な絶縁膜或いは導電膜の、屈折率、膜厚、積層の順番等は、第１及び第２波長範囲に応じて適宜設定される。尚、光学薄膜は、積層膜に限られず、単層膜或いは単一膜として形成してもよい。

よって、光学薄膜によって光源光のうち、典型的には可視光である第１波長範囲内の光が透過されるので、表示領域における画像表示を確実に行うことができる。更に、光学薄膜によって光源光のうち、典型的には赤外光である第２波長範囲内の光が反射されるので、電気光学パネルの温度上昇を抑制或いは緩和することができる。言い換えれば、光学薄膜によって、電気光学パネルの温度上昇の原因となり得ると共に画像表示に寄与しない第２波長範囲内の光が電気光学パネルに入射するのを低減しつつ、画像表示に寄与する第１波長範囲内の光を電気光学パネルに確実に入射させることができる。つまり、画像表示に寄与しない第２波長範囲の光による電気光学パネルの無駄な温度上昇を抑制しつつ、第１波長範囲内の光による電気光学パネルにおける画像表示を確実に行うことができる。

以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、電気光学パネルにおける光源光が入射される側に設けられた光学薄膜によって、動作時における温度上昇を抑制或いは緩和できる。このため、長期間に亘って高品位の表示性能を維持できる信頼性に優れた電気光学装置を提供できる。

本発明の電気光学装置の一態様では、前記光学薄膜は、前記第１波長範囲内の光として可視光を透過し、前記第２波長範囲内の光として赤外光を反射する。

この態様によれば、光学薄膜は、少なくとも可視光を透過すると共に少なくとも赤外光を反射する。本発明に係る「可視光」とは、光源光のうち人間の目で見える光を意味し、例えば、波長が約３８０ｎｍから約７８０ｎｍまでの範囲内である光を意味する。また、本発明に係る「赤外光」とは、光源光のうち可視光成分よりも波長の長い光を意味し、例えば、波長が約７８０ｎｍよりも長い光を意味する。よって、赤外光による電気光学パネルの無駄な温度上昇を抑制しつつ、可視光による電気光学パネルにおける画像表示を確実に行うことができる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記光学薄膜は、酸化ジルコニウム膜と酸化シリコン膜とが交互に積層してなる積層膜から形成される。

この態様によれば、光学薄膜は、例えば、電気光学パネルにおける光源光が入射される側に配置された、例えば石英基板等からなる対向基板或いは防塵用基板における光源光が入射される側の表面上に、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）膜と酸化シリコン（ＳｉＯ２）膜とが下層側からこの順に交互に積層してなる積層膜から形成される。よって、光学薄膜によって、光源光のうち少なくとも第１波長範囲内の光を確実に透過させると共に少なくとも第２波長範囲内の光を確実に反射させることができる。

尚、酸化ジルコニウム膜及び酸化シリコン膜の各々の膜厚は、第１及び第２波長範囲に応じて適宜設定すればよい。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記光学薄膜は、酸化ニオブ膜と酸化シリコン膜とが交互に積層してなる積層膜から形成される。

この態様によれば、光学薄膜は、例えば、電気光学パネルにおける光源光が入射される側に配置された、例えば石英基板等からなる対向基板或いは防塵用基板における光源光が入射される側の表面上に、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）膜と酸化シリコン膜とが下層側からこの順に交互に積層してなる積層膜から形成される。よって、光学薄膜によって、光源光のうち少なくとも第１波長範囲内の光を確実に透過させると共に少なくとも第２波長範囲内の光を確実に反射させることができる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記電気光学パネルは、電気光学物質を狭持してなる一対の基板を有しており、前記光学薄膜は、前記一対の基板のうち前記入射される側の一方の基板における前記入射される側の表面に設けられる。

この態様によれば、電気光学パネルにおける光源光が入射される側の最表面において第２波長範囲内の光を反射することができる。よって、電気光学パネルの温度上昇を確実に抑制或いは緩和できる。従って、一対の基板間に挟持された、例えば液晶等の電気光学物質の特性劣化を抑制或いは防止できる。

尚、この態様では、例えば液晶等の電気光学物質に画像信号に応じた電圧が印加されることで、表示領域において画像表示が行われる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記電気光学パネルは、電気光学物質を狭持してなる一対の基板と、該一対の基板における前記電気光学物質に対向しない側に夫々設けられた一対の防塵用基板とを有しており、前記光学薄膜は、前記一対の防塵用基板のうち前記入射される側の一方の防塵用基板における前記入射される側の表面に設けられる。

この態様によれば、電気光学パネルにおける光源光が入射される側の最表面において第２波長範囲内の光を反射することができる。よって、電気光学パネルの温度上昇を確実に抑制或いは緩和できる。更に、例えばガラス等からなる透明基板である防塵用基板によって、一対の基板に粉塵が付着し、映写幕上にその粉塵の像が投影されてしまうことで発生する、画像品質の低下を防止できる。

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、各種態様を含む）を具備してなる。

本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品位の表示が可能であり、且つ信頼性に優れた投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明に係る電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することが可能である。

本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る液晶装置について、図１から図４を参照して説明する。

先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´断面図である。尚、図２においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。

図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１１０は、液晶パネル１１０ａと該液晶パネル１１０ａにおける入射光が入射される側の表面に形成された光学薄膜８１０とを備えている。尚、本実施形態では、液晶装置１１０は、ハロゲンランプ等の光源からの白色光が、図２における上方側から入射光として入射されることを前提としている。

図１及び図２において、液晶パネル１１０ａでは、本発明に係る「一対の基板」の一例としてのＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、石英ガラス基板からなる。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に本発明に係る「電気光学物質」の一例としての液晶からなる液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。

図１において、シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側に、サンプリング回路７が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。

ＴＦＴアレイ基板１０上には、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。

図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用ＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上層に画素電極９ａが設けられている。他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。そして、遮光膜２３上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。

尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。

図１及び図２において、本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０における液晶層５０に対向しない側には、防塵用基板４１０及び４２０がそれぞれ設けられている。防塵用基板４１０及び４２０は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と同様に石英ガラス基板からなる。防塵用基板４１０及び４２０は、接着剤からなる接着層７２０を介して、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０とそれぞれ接着されている。防塵用基板４１０及び４２０におけるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０に面する側の面には、上述した対向基板２０に設けられた額縁遮光膜５３と同様に、シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜４１５及び４２５がそれぞれ設けられている。額縁遮光膜４１５及び４２５は、例えばアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）等の金属膜から形成されている。

このような防塵用基板４１０及び４２０によって、ＴＦＴアレイ基板１０或いは対向基板２０に粉塵が付着し、映写幕上にその粉塵の像が投影されてしまうことで発生する、画像品質の低下を防止できる。

図１及び図２において、光学薄膜８１０は、液晶パネル１１０ａにおける入射光が入射される側の表面、即ち対向基板２０側に設けられた防塵用基板４２０における対向基板２０に対向しない側の表面に形成されている。光学薄膜８１０は、防塵用基板４２０のほぼ全面に、少なくとも入射光が入射される画像表示領域１０ａを覆うように形成されている。光学薄膜８１０の構成及びその効果については、後に詳細に説明する。

次に、本実施形態に係る液晶装置の画素部の電気的な構成について、図３を参照して説明する。ここに図３は、本実施形態に係る液晶装置の画素部の等価回路図である。

図３に示すように、液晶装置１１０の画像表示領域１０ａにおいては、複数の走査線１１ａ及び複数のデータ線６ａが相交差して配列しており、その線間に、走査線１１ａ及びデータ線６ａの各一により選択される画素部が設けられている。各画素部には、ＴＦＴ３０、画素電極９ａ及び蓄積容量７０が設けられている。ＴＦＴ３０は、データ線６ａから供給されるデータ信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを選択画素に印加するために設けられ、ゲートが走査線１１ａに接続され、ソースがデータ線６ａに接続され、ドレインが画素電極９ａに接続されている。画素電極９ａは、対向電極２１との間で液晶容量を形成し、入力されるデータ信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを画素部に印加して一定期間保持するようになっている。蓄積容量７０の一方の電極は、画素電極９ａと並列してＴＦＴ３０のドレインに接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量配線４００に接続されている。

液晶装置１１０は、ＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式を採り、走査線駆動回路１０４（図１参照）から各走査線１１ａに走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇ２ｍを順番に印加すると共に、それによってＴＦＴ３０がオン状態となる水平方向の選択画素部列に対し、データ線駆動回路１０１（図１参照）からのデータ信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを、データ線６ａを通じて印加するようになっている。この際、データ信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを各データ線６ａに線順次に供給してゆくようにしてもよいし、複数のデータ線６ａ（例えばグループ毎）に同じタイミングで供給するものとしてもよい。これにより、データ信号が選択画素に対応する画素電極９ａに供給される。ＴＦＴアレイ基板１０は、液晶層５０を介して対向基板２０と対向配置されているので（図２参照）、以上のようにして区画配列された画素領域毎に液晶層５０に電界を印加することにより、両基板間の透過光量が画素領域毎に制御され、画像が階調表示される。また、このとき各画素領域に保持されたデータ信号は、蓄積容量７０によりリークが防止される。

次に、本実施形態に係る液晶装置の光学薄膜の具体的な構成及び効果について、図１及び図２に加えて図４を参照して説明する。ここに図４は、本実施形態に係る液晶装置の光学薄膜の具体的な構成を示す拡大断面図である。

図４において、本実施形態では特に、光学薄膜８１０を備えている。光学薄膜８１０は、図１及び図２を参照して上述したように、対向基板２０側に設けられた防塵用基板４２０における対向基板２０に対向しない側の表面に、少なくとも入射光が入射される画像表示領域１０ａを覆うように形成されている。光学薄膜８１０は、石英ガラスからなる防塵用基板４２０上に、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなる酸化ジルコニウム膜８１１と酸化シリコン（ＳｉＯ２）からなる酸化シリコン膜８１２とがこの順に積層されてなる積層膜として形成されている。更に、光学薄膜８１０は、入射光のうち波長が約３８０ｎｍから約７８０ｎｍまでの範囲内である可視光を透過すると共に波長が約７８０ｎｍよりも長い赤外光を反射するように、当該光学薄膜８１０を構成する酸化ジルコニウム膜８１１及び酸化シリコン膜８１２の各々の膜厚が調整されている。言い換えれば、酸化ジルコニウム膜８１１及び酸化シリコン膜８１２の各々の膜厚を調整することによって、入射光のうち可視光については、外部（典型的には空気）と酸化シリコン膜８１２との界面、酸化シリコン膜８１２と酸化ジルコニウム膜８１１との界面、及び酸化ジルコニウム膜８１１と防塵用基板４２０との界面における各界面反射光を互いに打ち消し合わせ、結果として光学薄膜８１０における反射を低減或いは防止することで透過率が高められており、入射光のうち赤外光については、各界面反射光を互いに強め合わせ、結果として光学薄膜８１０における反射を増大することで、透過率が低減されている。

よって、光学薄膜８１０によって入射光のうち可視光が透過され、液晶パネル１１０ａの画像表示領域１０ａに入射されるので、該画像表示領域１０ａにおける画像表示を確実に行うことができる。更に、光学薄膜８１０によって入射光のうち赤外光が反射され、液晶パネル１１０ａの画像表示領域１０ａに入射されないので、液晶パネル１１０ａの温度上昇を抑制或いは緩和することができる。言い換えれば、光学薄膜８１０によって、液晶パネル１１０ａの温度上昇の原因となり得ると共に画像表示に寄与しない赤外光が液晶パネル１１０ａに入射するのを低減しつつ、画像表示に寄与する可視光を液晶パネル１１０ａに確実に入射させることができる。つまり、画像表示に寄与しない赤外光による液晶パネル１１０ａの無駄な温度上昇を抑制しつつ、可視光による液晶パネル１１０ａにおける画像表示を確実に行うことができる。

加えて、液晶パネル１１０ａの無駄な温度上昇を抑制できるので、液晶パネル１１０ａにおける液晶層５０を構成する液晶の特性劣化を抑制或いは防止できる。この結果、長期間に亘って高品位の表示性能を維持することができる、言い換えれば、装置としての寿命を向上させることができる。

尚、本実施形態では、光学薄膜８１０は、酸化ジルコニウム膜８１１と酸化シリコン膜８１２とがこの順に一層ずつ積層されてなる二層膜として形成されるようにしたが、光学薄膜８１０を、酸化ジルコニウム膜と酸化シリコン膜とがこの順に交互に積層されてなる、例えば四層、六層、…など二層よりも多層の構造を有する多層膜として形成してもよい。この場合には、二層よりも多層である分だけ、酸化ジルコニウム膜及び酸化シリコン膜の膜厚をより多くの組み合わせで調整可能であり、光学薄膜によって、より高精度に、可視光を透過すると共に赤外光を反射させることができる。但し、光学薄膜を製造する製造コストを低減するという観点からは、本実施形態の如き二層膜として形成することが望ましい。

更に加えて、液晶装置１１０は、このような光学薄膜８１０を備えているので、液晶装置１１０を例えば液晶プロジェクタにおけるライトバルブとして用いる場合において、上述した特許文献１に開示された技術の如き「赤外光に対する反射率の低いミラー」を液晶プロジェクタ内の光学系に組み込む必要がない。言い換えれば、液晶装置１１０は、このようなミラーと比べて小さな光学薄膜８１０によって、液晶パネル１１０ａの温度上昇を抑制できるので、液晶プロジェクタの小型化が可能であり、更には、液晶プロジェクタを製造する製造コストを低減することができる。

以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置１１０によれば、液晶パネル１１０ａにおける入射光が入射される側に設けられた光学薄膜８１０によって、動作時における温度上昇を抑制或いは緩和できる。このため、長期間に亘って高品位の表示性能を維持することができ、高い信頼性を確保できる。
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る液晶装置について、図５及び図６を参照して説明する。ここに図５は、第２実施形態における図２と同趣旨の断面図であり、図６は、第２実施形態における図４と同趣旨の拡大断面図である。尚、図５及び図６において、図１から図４に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。

図５において、第２実施形態に係る液晶装置１２０は、上述した第１実施形態における液晶パネル１１０ａに代えて液晶パネル１２０ａを備える点、及び上述した第１実施形態における光学薄膜８１０に代えて光学薄膜８２０を備える点で、上述した第１実施形態に係る液晶装置１１０と異なり、その他の点については、上述した第１実施形態に係る液晶装置１１０と概ね同様に構成されている。

液晶パネル１２０ａは、上述した第１実施形態における液晶パネル１１０ａが備える防塵用基板４１０及び４２０を備えていない（これに伴い、額縁遮光膜４１５及び４２５並びに接着層７１０及び７２０も備えていない）点で、上述した第１実施形態における液晶パネル１１０ａと異なり、その他の点については、上述した第１実施形態における液晶パネル１１０ａと概ね同様に構成されている。

図５において、本実施形態では特に、光学薄膜８２０を備えている。光学薄膜８２０は、液晶パネル１２０ａにおける入射光が入射される側の表面、即ち対向基板２０における液晶層５０に対向しない側の表面に形成されている。光学薄膜８２０は、対向基板２０のほぼ全面に、少なくとも入射光が入射される画像表示領域１０ａを覆うように形成されている。

図６に示すように、光学薄膜８２０は、石英ガラスからなる対向基板２０上に、酸化ニオブ膜８２１、酸化シリコン膜８２２、酸化ニオブ膜８２３及び酸化シリコン膜８２４がこの順に積層されてなる積層膜として形成されている。酸化ニオブ膜８２１及び８２３は、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなり、酸化シリコン膜８２２及び８２４は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）からなる。更に、光学薄膜８２０は、入射光のうち波長が約３８０ｎｍから約７８０ｎｍまでの範囲内である可視光を透過すると共に波長が約７８０ｎｍよりも長い赤外光を反射するように、当該光学薄膜８２０を構成する酸化ニオブ膜８２１及び８２３並びに酸化シリコン膜８２２及び８２４の各々の膜厚が調整されている。言い換えれば、酸化ニオブ膜８２１及び８２３並びに酸化シリコン膜８２２及び８２４の各々の膜厚を調整することによって、入射光のうち可視光については、外部（典型的には空気）と酸化シリコン膜８２４との界面、酸化シリコン膜８２４と酸化ニオブ膜８２３との界面、酸化ニオブ膜８２３と酸化シリコン膜８２２との界面、酸化シリコン膜８２２と酸化ニオブ膜８２１との界面、及び酸化ニオブ膜８２１と対向基板２０との界面における各界面反射光を互いに打ち消し合わせ、結果として光学薄膜８２０における反射を低減或いは防止することで透過率が高められており、入射光のうち赤外光については、各界面反射光を互いに強め合わせ、結果として光学薄膜８２０における反射を増大することで、透過率が低減されている。

よって、光学薄膜８２０によって入射光のうち可視光が透過され、液晶パネル１２０ａの画像表示領域１０ａに入射されるので、該画像表示領域１０ａにおける画像表示を確実に行うことができる。更に、光学薄膜８２０によって入射光のうち赤外光が反射され、液晶パネル１２０ａの画像表示領域１０ａに入射されないので、液晶パネル１２０ａの温度上昇を抑制或いは緩和することができる。つまり、画像表示に寄与しない赤外光による液晶パネル１２０ａの無駄な温度上昇を抑制しつつ、可視光による液晶パネル１２０ａにおける画像表示を確実に行うことができる。加えて、液晶パネル１２０ａの無駄な温度上昇を抑制できるので、液晶パネル１２０ａにおける液晶層５０を構成する液晶の特性劣化を抑制或いは防止できる。

尚、本実施形態では、光学薄膜８２０は、酸化ニオブ膜と酸化シリコン膜とがこの順に交互に積層されてなる四層膜として形成されるようにしたが、光学薄膜８２０を、酸化ニオブ膜と酸化シリコン膜とがこの順に一層ずつ積層されてなる二層膜として形成してもよいし、酸化ニオブ膜と酸化シリコン膜とがこの順に交互に積層されてなる例えば六層、八層…など四層よりも多層の構造を有する多層膜として形成してもよい。
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図７は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。

図７に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶装置１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。

液晶装置１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶装置によって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。

ここで、各液晶装置１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶装置１１１０Ｇによる表示像は、液晶装置１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。

尚、液晶装置１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。

尚、図７を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

第１実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。 図１のＨ−Ｈ´断面図である。 第１実施形態に係る液晶装置の画素部の等価回路図である。 第１実施形態に係る液晶装置の光学薄膜の構成を示す拡大断面図である。 第２実施形態における図２と同趣旨の断面図である。 第２実施形態における図４と同趣旨の拡大断面図である。 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。

符号の説明

６ａ…データ線、７…サンプリング回路、９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１１ａ…走査線、２０…対向基板、２１…対向電極、２３…遮光膜、５０…液晶層、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、１１０…液晶装置、１１０ａ…液晶パネル、４１０、４２０…防塵用基板、８１０…光学薄膜、８１１…酸化ジルコニウム膜、８１２…酸化シリコン膜

Claims (7)

1. 表示領域に光源から光源光が入射される電気光学パネルと、
   該電気光学パネルにおける前記光源光が入射される側に、前記表示領域を少なくとも部分的に覆うように設けられており、前記光源光のうち少なくとも第１波長範囲内の光を透過すると共に少なくとも前記第１波長範囲よりも長波長側の第２波長範囲内の光を反射する光学薄膜と
   を備えたことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記光学薄膜は、前記第１波長範囲内の光として可視光を透過し、前記第２波長範囲内の光として赤外光を反射することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記光学薄膜は、酸化ジルコニウム膜と酸化シリコン膜とが交互に積層してなる積層膜から形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
4. 前記光学薄膜は、酸化ニオブ膜と酸化シリコン膜とが交互に積層してなる積層膜から形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
5. 前記電気光学パネルは、電気光学物質を狭持してなる一対の基板を有しており、
   前記光学薄膜は、前記一対の基板のうち前記入射される側の一方の基板における前記入射される側の表面に設けられる
   ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記電気光学パネルは、電気光学物質を狭持してなる一対の基板と、該一対の基板における前記電気光学物質に対向しない側に夫々設けられた一対の防塵用基板とを有しており、
   前記光学機能膜は、前記一対の防塵用基板のうち前記入射される側の一方の防塵用基板における前記入射される側の表面に設けられる
   ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。

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