JPH07333451A - 薄膜の形成方法及びその形成装置 - Google Patents
薄膜の形成方法及びその形成装置Info
- Publication number
- JPH07333451A JPH07333451A JP12666994A JP12666994A JPH07333451A JP H07333451 A JPH07333451 A JP H07333451A JP 12666994 A JP12666994 A JP 12666994A JP 12666994 A JP12666994 A JP 12666994A JP H07333451 A JPH07333451 A JP H07333451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- forming
- light
- light beam
- rotary holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多数の被成膜体を同時に高精度で均一な膜厚
で成膜する。 【構成】 基板（被成膜体）９を成膜治具を介して曲面
の回転ドーム（回転型ホルダー）８上に設置して成膜を
行うときに、各基板９の傾きを発光手段１４と受光手段
１５で光学的に検出してミスセッティングを防ぐととも
に、成膜治具と回転ドーム８を点接触とすることによ
り、成膜中の成膜治具のがたつきを抑え、回転ドーム８
の円周上の各基板９に高精度で均一な膜厚で成膜でき
る。
で成膜する。 【構成】 基板（被成膜体）９を成膜治具を介して曲面
の回転ドーム（回転型ホルダー）８上に設置して成膜を
行うときに、各基板９の傾きを発光手段１４と受光手段
１５で光学的に検出してミスセッティングを防ぐととも
に、成膜治具と回転ドーム８を点接触とすることによ
り、成膜中の成膜治具のがたつきを抑え、回転ドーム８
の円周上の各基板９に高精度で均一な膜厚で成膜でき
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、極めて高い膜厚精度を
要求される光学多層膜などの薄膜の形成方法及びその形
成装置に関する。
要求される光学多層膜などの薄膜の形成方法及びその形
成装置に関する。
【０００２】本発明は広汎な用途に適用可能であるが、
以下光学多層膜の例により説明する。
以下光学多層膜の例により説明する。
【０００３】
【従来の技術】近年、光学デバイスに要求される仕様は
厳しくなってきており、極めて高い波長精度をもつ光学
多層膜を大量に製造する技術が必要となっている。
厳しくなってきており、極めて高い波長精度をもつ光学
多層膜を大量に製造する技術が必要となっている。
【０００４】光学多層膜などの薄膜の形成方法におい
て、広い面積で均一な膜厚分布を得るように、薄膜が形
成される基板を回転ドームなどの回転型の基板ホルダー
に保持しつつ、これに膜厚補正板を組み合わせることが
よく行われている（例えば、文献：光・薄膜技術マニュ
アル、オプトロニクス社 参照）。また、組成分布を有
する薄膜の形成方法や均一な膜厚や膜質を得る真空蒸着
装置に関する発明もなされている（特公昭６０−５９５
６１号公報、特開昭６１−１４８７４号公報参照）。
て、広い面積で均一な膜厚分布を得るように、薄膜が形
成される基板を回転ドームなどの回転型の基板ホルダー
に保持しつつ、これに膜厚補正板を組み合わせることが
よく行われている（例えば、文献：光・薄膜技術マニュ
アル、オプトロニクス社 参照）。また、組成分布を有
する薄膜の形成方法や均一な膜厚や膜質を得る真空蒸着
装置に関する発明もなされている（特公昭６０−５９５
６１号公報、特開昭６１−１４８７４号公報参照）。
【０００５】以下に従来の光学多層膜の形成方法につい
て説明する。図６に示すように、排気ポンプ１によって
高真空状態に保たれた真空槽２内に配設された電子銃３
により矢印Ａの方向に出射した電子でハース４内の第１
の蒸着材料５を加熱融解し、蒸発させる。矢印Ｂのよう
に蒸発した蒸発粒子６は、その一部が膜厚補正板７によ
って進行を妨げられるが、残りは矢印Ｃの方向に回転す
る回転ドーム８に嵌合する成膜治具を介して、回転ドー
ム８に保持された基板９に到達し、被成膜体である基板
９上に薄膜を形成する。基板９は成膜前に複数の基板加
熱源（図示せず）により、回転ドーム８の全体で均一な
温度に加熱されている。さらに、第２の蒸着材料１０や
第３以降の蒸着材料についても上述と同様の過程を繰り
返すことによって基板９上に多層膜を形成できる。各層
の光学的膜厚については、同時成膜されるモニタガラス
１１の反射率を測定し膜厚を制御する光学的膜厚制御手
段１２により、高精度な制御が可能である。図中のＤは
ハース４の回転方向を示す。
て説明する。図６に示すように、排気ポンプ１によって
高真空状態に保たれた真空槽２内に配設された電子銃３
により矢印Ａの方向に出射した電子でハース４内の第１
の蒸着材料５を加熱融解し、蒸発させる。矢印Ｂのよう
に蒸発した蒸発粒子６は、その一部が膜厚補正板７によ
って進行を妨げられるが、残りは矢印Ｃの方向に回転す
る回転ドーム８に嵌合する成膜治具を介して、回転ドー
ム８に保持された基板９に到達し、被成膜体である基板
９上に薄膜を形成する。基板９は成膜前に複数の基板加
熱源（図示せず）により、回転ドーム８の全体で均一な
温度に加熱されている。さらに、第２の蒸着材料１０や
第３以降の蒸着材料についても上述と同様の過程を繰り
返すことによって基板９上に多層膜を形成できる。各層
の光学的膜厚については、同時成膜されるモニタガラス
１１の反射率を測定し膜厚を制御する光学的膜厚制御手
段１２により、高精度な制御が可能である。図中のＤは
ハース４の回転方向を示す。
【０００６】蒸着材料としてＳｉＯ2とＴｉＯ2の２材料
を用い、上述の薄膜の形成方法により、（表１）に示す
ような膜構成のバンドパスフィルタとなる光学多層膜を
成膜した。
を用い、上述の薄膜の形成方法により、（表１）に示す
ような膜構成のバンドパスフィルタとなる光学多層膜を
成膜した。
【０００７】
【表１】
【０００８】上述の膜構成にてガラス製の基板９に成膜
した光学多層膜の代表的な反射特性は、図７に示すよう
であり、回転ドーム８の各位置における基板９の短波長
側と長波長側の半値波長（最大透過率の半分の透過率を
もつ波長）の値は、例えば回転ドーム８の８段目の円周
方向の位置で（表２）に示すようであった。
した光学多層膜の代表的な反射特性は、図７に示すよう
であり、回転ドーム８の各位置における基板９の短波長
側と長波長側の半値波長（最大透過率の半分の透過率を
もつ波長）の値は、例えば回転ドーム８の８段目の円周
方向の位置で（表２）に示すようであった。
【０００９】
【表２】
【００１０】（表２）において、回転ドーム８上の段数
とは、図８に示すように、回転ドーム８の回転軸１３か
ら近い順に１段目、２段目…の基板９の配置段数であ
り、また、円周方向の位置とは、同一段数上で９０°ず
つ離れた位置においた基板９の位置である。
とは、図８に示すように、回転ドーム８の回転軸１３か
ら近い順に１段目、２段目…の基板９の配置段数であ
り、また、円周方向の位置とは、同一段数上で９０°ず
つ離れた位置においた基板９の位置である。
【００１１】形成装置の実寸法はハース４と回転ドーム
８の回転軸１３の距離が１５ｃｍ、回転ドーム８の曲率
半径が３８ｃｍ、曲率中心の高さが２２ｃｍ、回転ドー
ム８の最大径が３１ｃｍである。
８の回転軸１３の距離が１５ｃｍ、回転ドーム８の曲率
半径が３８ｃｍ、曲率中心の高さが２２ｃｍ、回転ドー
ム８の最大径が３１ｃｍである。
【００１２】この（表２）より明らかなように、バンド
パスフィルタには光学特性にばらつきがあり、回転ドー
ム８の円周方向に膜厚のばらつきが生じていることが判
る。上述と同様の薄膜の形成および評価を数回繰り返し
た結果、同一円周方向におけるバンドパスフィルタ間の
半値波長のばらつきは形成操作間によって異なり、半値
波長のばらつきは、小さいもので±１．５ｎｍ、大きい
もので±５ｎｍである。
パスフィルタには光学特性にばらつきがあり、回転ドー
ム８の円周方向に膜厚のばらつきが生じていることが判
る。上述と同様の薄膜の形成および評価を数回繰り返し
た結果、同一円周方向におけるバンドパスフィルタ間の
半値波長のばらつきは形成操作間によって異なり、半値
波長のばらつきは、小さいもので±１．５ｎｍ、大きい
もので±５ｎｍである。
【００１３】この程度の光学特性のばらつきは従来の光
学デバイスにとっては問題とならなかったが、最近、光
学デバイスには極めて高い色再現性が必要とされてお
り、それに伴い、このようなデバイスの核となる光学多
層膜に対し、厳しい仕様が要求されており、光学特性の
ばらつきは無視できないものとなっている。
学デバイスにとっては問題とならなかったが、最近、光
学デバイスには極めて高い色再現性が必要とされてお
り、それに伴い、このようなデバイスの核となる光学多
層膜に対し、厳しい仕様が要求されており、光学特性の
ばらつきは無視できないものとなっている。
【００１４】上述のように従来の標準的な薄膜の形成装
置にて、蒸着材料がＴｉＯ2，ＳｉＯ2よりなるバンドパ
スフィルタを作成したところ、従来全く考えられていな
かった回転ドーム８の円周方向の半値波長のばらつき
が、最大±５ｎｍ程度も存在することを見いだした。こ
の円周方向のばらつきは回転ドーム８の外周部に位置し
て成膜された基板９のほうが大きかった。
置にて、蒸着材料がＴｉＯ2，ＳｉＯ2よりなるバンドパ
スフィルタを作成したところ、従来全く考えられていな
かった回転ドーム８の円周方向の半値波長のばらつき
が、最大±５ｎｍ程度も存在することを見いだした。こ
の円周方向のばらつきは回転ドーム８の外周部に位置し
て成膜された基板９のほうが大きかった。
【００１５】回転ドーム８の円周方向の半値波長のばら
つきが最大±５ｎｍ程度も存在することを検討した結
果、その主たる原因は回転ドーム８上にセッティングし
たときに、個々の基板９において、回転ドーム８に対す
る傾きがばらついているためであることが判明した。
つきが最大±５ｎｍ程度も存在することを検討した結
果、その主たる原因は回転ドーム８上にセッティングし
たときに、個々の基板９において、回転ドーム８に対す
る傾きがばらついているためであることが判明した。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】上述のように従来の薄
膜の形成方法及びその形成装置では、回転ドーム８に載
置された基板９に形成される膜厚が、均一でなくばらつ
きが生じるという問題点を有していた。
膜の形成方法及びその形成装置では、回転ドーム８に載
置された基板９に形成される膜厚が、均一でなくばらつ
きが生じるという問題点を有していた。
【００１７】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、回転ドームの広い範囲で高精度に均一な膜厚が形成
できる薄膜の形成方法及びその形成装置を提供すること
を目的とする。
で、回転ドームの広い範囲で高精度に均一な膜厚が形成
できる薄膜の形成方法及びその形成装置を提供すること
を目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の薄膜の形成方法は、複数の基板を回転型ホル
ダーに保持した後、回転型ホルダーを回転させながら同
一円周上にある各基板に光ビームを照射し、各基板から
反射した光ビームが予め設定した位置にあることを確認
した後に成膜する方法としたものである。
に本発明の薄膜の形成方法は、複数の基板を回転型ホル
ダーに保持した後、回転型ホルダーを回転させながら同
一円周上にある各基板に光ビームを照射し、各基板から
反射した光ビームが予め設定した位置にあることを確認
した後に成膜する方法としたものである。
【００１９】そして、その方法を実現する薄膜の形成装
置は、真空槽と、蒸着源と、複数の基板を保持する回転
型ホルダーを備え、基板に対する光ビームを照射する発
光手段と、基板から反射した光ビームを位置検出する受
光手段を設けたものである。
置は、真空槽と、蒸着源と、複数の基板を保持する回転
型ホルダーを備え、基板に対する光ビームを照射する発
光手段と、基板から反射した光ビームを位置検出する受
光手段を設けたものである。
【００２０】
【作用】この方法において、回転型ホルダーの同一円周
上にある各基板からの反射した光ビームの軌跡を検知し
て、同一円周上の各基板の傾きのばらつきを知ることと
なり、かつ、これらの反射した光ビームが同一の軌跡を
描くように基板をセッティングしなおすこととなる。
上にある各基板からの反射した光ビームの軌跡を検知し
て、同一円周上の各基板の傾きのばらつきを知ることと
なり、かつ、これらの反射した光ビームが同一の軌跡を
描くように基板をセッティングしなおすこととなる。
【００２１】また、上記方法を前記する形成装置は実現
することが容易にできるものである。
することが容易にできるものである。
【００２２】
（実施例１）以下本発明の第１の実施例について説明す
る。
る。
【００２３】本発明の一実施例において、前述の従来例
について説明した構成部分と同じ部分については同一符
号を付し、その説明を省略する。
について説明した構成部分と同じ部分については同一符
号を付し、その説明を省略する。
【００２４】図１に示すように、本実施例の特徴とする
ところは、前述従来の構成に半導体レーザの発光手段１
４と、ＣＣＤセンサの受光手段１５を付加したことにあ
る。
ところは、前述従来の構成に半導体レーザの発光手段１
４と、ＣＣＤセンサの受光手段１５を付加したことにあ
る。
【００２５】以上のように構成された薄膜の形成装置に
ついて、以下その動作を説明する。基板９に発光手段１
４から矢印Ｅの方向に出射させた光ビームを当て、回転
ドーム８を少し回転させると、受光手段１５にはその基
板９から矢印Ｆの方向に反射した光ビームの軌跡が得ら
れる。回転ドーム８を一回転させると、同一円周上の各
基板９から反射した光ビームの軌跡が得られる。これら
の軌跡が重なるほど各基板９の傾きにばらつきがないこ
とになる。基板９がどのような方向に傾いているかによ
って軌跡が異なるが、図１で説明した形成装置にて検討
した結果、基板９が図２に示すような回転ドーム８の法
線１６に対する基板９の垂直（ｙ軸）方向の傾きα、β
がともに±３０分以下の傾きであれば、半値波長のばら
つきが±１ｎｍ程度のばらつきに抑えられることがわか
った。
ついて、以下その動作を説明する。基板９に発光手段１
４から矢印Ｅの方向に出射させた光ビームを当て、回転
ドーム８を少し回転させると、受光手段１５にはその基
板９から矢印Ｆの方向に反射した光ビームの軌跡が得ら
れる。回転ドーム８を一回転させると、同一円周上の各
基板９から反射した光ビームの軌跡が得られる。これら
の軌跡が重なるほど各基板９の傾きにばらつきがないこ
とになる。基板９がどのような方向に傾いているかによ
って軌跡が異なるが、図１で説明した形成装置にて検討
した結果、基板９が図２に示すような回転ドーム８の法
線１６に対する基板９の垂直（ｙ軸）方向の傾きα、β
がともに±３０分以下の傾きであれば、半値波長のばら
つきが±１ｎｍ程度のばらつきに抑えられることがわか
った。
【００２６】したがって、本実施例において、複数の基
板９に発光手段１４から出射した光ビームを当て、受光
手段１５により、その基板９からの反射した光ビームを
検知することにより、ミスセッティングを事前に確認
し、微少な傾きのばらつきを修正できるので、高い精度
要求を満足する光学特性のばらつきの少ない光学多層膜
を広い面積で製造できる。
板９に発光手段１４から出射した光ビームを当て、受光
手段１５により、その基板９からの反射した光ビームを
検知することにより、ミスセッティングを事前に確認
し、微少な傾きのばらつきを修正できるので、高い精度
要求を満足する光学特性のばらつきの少ない光学多層膜
を広い面積で製造できる。
【００２７】なお、本実施例では、発光手段１４に半導
体レーザを用いたが基板９に光ビームを照射できれば手
段は問わない。また反射した光ビームの受光手段１５も
ＣＣＤセンサでなくてもよく、位置検出ができれば手段
は問わない。さらに発光手段１４と受光手段１５はその
設置位置も問わない。
体レーザを用いたが基板９に光ビームを照射できれば手
段は問わない。また反射した光ビームの受光手段１５も
ＣＣＤセンサでなくてもよく、位置検出ができれば手段
は問わない。さらに発光手段１４と受光手段１５はその
設置位置も問わない。
【００２８】本実施例における膜厚制御は光学的膜厚制
御手段１２にて行ったが、特にこれに固執しない。ま
た、蒸着材料としてＴｉＯ2とＳｉＯ2を用いたが、これ
ら以外の蒸着材料に対しても本実施例が適用できること
は言うまでもない。
御手段１２にて行ったが、特にこれに固執しない。ま
た、蒸着材料としてＴｉＯ2とＳｉＯ2を用いたが、これ
ら以外の蒸着材料に対しても本実施例が適用できること
は言うまでもない。
【００２９】また、本実施例で説明した膜構成にも制限
はなく、あらゆる光学多層膜に有効であることはいうま
でもなく、光学多層膜以外の高い膜厚精度を要求される
薄膜の形成においても有効である。
はなく、あらゆる光学多層膜に有効であることはいうま
でもなく、光学多層膜以外の高い膜厚精度を要求される
薄膜の形成においても有効である。
【００３０】また、本実施例では成膜手段に電子ビーム
蒸着を用いたが、スパッタ等の他の成膜手段を用いても
同様の効果が得られる。
蒸着を用いたが、スパッタ等の他の成膜手段を用いても
同様の効果が得られる。
【００３１】また、基板９の形状には制限なく、回転ド
ーム８以外の回転型ホルダーであってもさしつかえな
い。さらに、基板９を保持する治具の形状、あるいは、
回転型ホルダーの孔も円形に限るものでなく、いかなる
形状でもよい。
ーム８以外の回転型ホルダーであってもさしつかえな
い。さらに、基板９を保持する治具の形状、あるいは、
回転型ホルダーの孔も円形に限るものでなく、いかなる
形状でもよい。
【００３２】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００３３】図３に示すように、本実施例の特徴とする
ところは、前述従来の構成に、光学的膜厚制御手段１２
を真空槽２内で着脱可能としたミラー１７と光量センサ
１８の前にスリット１９を付加した構成としたものであ
る。なお、ミラー１７は真空槽２を真空引きするときは
取り外す。図中の２０は光源、２１は反射面である。
ところは、前述従来の構成に、光学的膜厚制御手段１２
を真空槽２内で着脱可能としたミラー１７と光量センサ
１８の前にスリット１９を付加した構成としたものであ
る。なお、ミラー１７は真空槽２を真空引きするときは
取り外す。図中の２０は光源、２１は反射面である。
【００３４】以上のように構成された薄膜の形成装置に
ついて、以下その動作を説明する。回転ドーム８上に成
膜治具を介してセッティングされた基板９に対し、光学
的膜厚制御手段１２の光源２０からの矢印Ｇの方向に出
射した光束を反射面２１とミラー１７で反射させて基板
９に照射する。このとき基板９から反射した光束が光量
センサ１８に到達するようにミラー１７を配置する。回
転ドーム８を少し回転させると光量センサ１８上を基板
９からの反射光の軌跡が通過する。回転ドーム８を一回
転させると、同一円周上の各基板９から反射光の軌跡が
通過する。ここで、光量センサ１８の前に代表的な反射
光の軌跡にくりぬいたスリット１９を設けているので、
各基板９からの全反射光量をチェックすることにより、
複数の基板９のミスセッティングを事前に検知できると
ともに、微少な傾きのばらつきを修正できる。
ついて、以下その動作を説明する。回転ドーム８上に成
膜治具を介してセッティングされた基板９に対し、光学
的膜厚制御手段１２の光源２０からの矢印Ｇの方向に出
射した光束を反射面２１とミラー１７で反射させて基板
９に照射する。このとき基板９から反射した光束が光量
センサ１８に到達するようにミラー１７を配置する。回
転ドーム８を少し回転させると光量センサ１８上を基板
９からの反射光の軌跡が通過する。回転ドーム８を一回
転させると、同一円周上の各基板９から反射光の軌跡が
通過する。ここで、光量センサ１８の前に代表的な反射
光の軌跡にくりぬいたスリット１９を設けているので、
各基板９からの全反射光量をチェックすることにより、
複数の基板９のミスセッティングを事前に検知できると
ともに、微少な傾きのばらつきを修正できる。
【００３５】以上のように本実施例では、前述実施例１
と同様の効果が得られ、さらにミスセッティングの検知
用の光源に光学的膜厚制御手段１２の光源２０を用いて
いるのでコストアップにならず、また、通常の光学的膜
厚制御手段１２には光量センサ１８の前に単色フィルタ
が必要で、複数の単色フィルタを交換できる機構が備わ
っているので、単色フィルタの代わりに一カ所だけスリ
ット１９を設ければよく、大きな改造を全く必要としな
い利点もある。
と同様の効果が得られ、さらにミスセッティングの検知
用の光源に光学的膜厚制御手段１２の光源２０を用いて
いるのでコストアップにならず、また、通常の光学的膜
厚制御手段１２には光量センサ１８の前に単色フィルタ
が必要で、複数の単色フィルタを交換できる機構が備わ
っているので、単色フィルタの代わりに一カ所だけスリ
ット１９を設ければよく、大きな改造を全く必要としな
い利点もある。
【００３６】（実施例３）以下本発明の第３の実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００３７】図４に示すように、回転ドーム上にセッテ
ィングする基板を載置する成膜治具２２は、従来の平板
状の成膜治具と異なり、中心に対して互いに１２０度ず
つの角度に位置させて立設した３個のピン（突起部）２
３を設け、このピン２３を回転ドームに接触させて、成
膜治具２２を嵌合させる構成としている。図中の２４は
回転ドームの孔と嵌合する外周部、２５は基板を載置す
る孔を示す。
ィングする基板を載置する成膜治具２２は、従来の平板
状の成膜治具と異なり、中心に対して互いに１２０度ず
つの角度に位置させて立設した３個のピン（突起部）２
３を設け、このピン２３を回転ドームに接触させて、成
膜治具２２を嵌合させる構成としている。図中の２４は
回転ドームの孔と嵌合する外周部、２５は基板を載置す
る孔を示す。
【００３８】従来は曲面の回転型ホルダーに形設した孔
に平板状の成膜治具を嵌合すると治具の座りが悪くて、
成膜中に回転型ホルダーの回転による振動によって個々
の成膜治具がいろいろな方向にがたついてしまってい
た。したがって各基板の傾きのばらつきを修正した後
に、例えば耐熱テープなどで成膜治具を回転型ホルダー
に固定させる必要があった。
に平板状の成膜治具を嵌合すると治具の座りが悪くて、
成膜中に回転型ホルダーの回転による振動によって個々
の成膜治具がいろいろな方向にがたついてしまってい
た。したがって各基板の傾きのばらつきを修正した後
に、例えば耐熱テープなどで成膜治具を回転型ホルダー
に固定させる必要があった。
【００３９】本実施例の成膜治具２２を用いて基板を調
整してセッティングした後、各基板の傾きのばらつきを
測定すると、前述図２で示したα、βの傾きについて、
α、βの傾きとも±３０分以下であり、このまま、成膜
治具２２を固定せずに多層膜を成膜したときの半値波長
のばらつきも±１ｎｍ程度に抑えられることがわかっ
た。また、各ピン２３の高さに対する寸法公差は直径３
０ｍｍの成膜治具２２に対し、±０．１ｍｍ程度で半値
波長±１ｎｍが実現できた。この程度の寸法公差では加
工コストはさほど高くならない。
整してセッティングした後、各基板の傾きのばらつきを
測定すると、前述図２で示したα、βの傾きについて、
α、βの傾きとも±３０分以下であり、このまま、成膜
治具２２を固定せずに多層膜を成膜したときの半値波長
のばらつきも±１ｎｍ程度に抑えられることがわかっ
た。また、各ピン２３の高さに対する寸法公差は直径３
０ｍｍの成膜治具２２に対し、±０．１ｍｍ程度で半値
波長±１ｎｍが実現できた。この程度の寸法公差では加
工コストはさほど高くならない。
【００４０】以上のように本実施例によれば、３個のピ
ン２３を立設した成膜治具２２を用いることにより、多
数の基板を安定に保持し、高精度で光学特性のばらつき
の少ない光学多層膜を広い面積で製造できる。
ン２３を立設した成膜治具２２を用いることにより、多
数の基板を安定に保持し、高精度で光学特性のばらつき
の少ない光学多層膜を広い面積で製造できる。
【００４１】なお、本実施例では、成膜治具２２に３個
のピン２３を立設したが、４個あるいはそれ以上でもな
んら問題はない。さらにピン２３に限るものでなく、例
えばマイクロねじなどの突起部としてもよく、マイクロ
ねじであれば高さ調整ができて、回転型ホルダーに局部
的な変形があっても対応できるので効果はさらに高くな
る。
のピン２３を立設したが、４個あるいはそれ以上でもな
んら問題はない。さらにピン２３に限るものでなく、例
えばマイクロねじなどの突起部としてもよく、マイクロ
ねじであれば高さ調整ができて、回転型ホルダーに局部
的な変形があっても対応できるので効果はさらに高くな
る。
【００４２】（実施例４）以下本発明の第４の実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００４３】図５に示すように、回転型ホルダー２６の
各孔２７の周辺に、孔２７の中心に対して互いに１２０
度ずつの角度に位置させて形設したねじ穴にマイクロね
じなどを装着した突起体２８を設け、従来の平板状の成
膜治具を突起体２８に接触させて、回転型ホルダー２６
に嵌合させる構成としている。
各孔２７の周辺に、孔２７の中心に対して互いに１２０
度ずつの角度に位置させて形設したねじ穴にマイクロね
じなどを装着した突起体２８を設け、従来の平板状の成
膜治具を突起体２８に接触させて、回転型ホルダー２６
に嵌合させる構成としている。
【００４４】この構成により、前述実施例３と同様に、
多数の基板を安定に保持し、高精度で光学特性のばらつ
きの少ない光学多層膜を広い面積で製造できる。また、
回転型ホルダー２６に局部的な変形があってもマイクロ
ねじの調整で対応でき、かつ、成膜治具と各孔との組み
合わせを考える必要がなく、成膜治具の取付けの作業性
が高くなる。
多数の基板を安定に保持し、高精度で光学特性のばらつ
きの少ない光学多層膜を広い面積で製造できる。また、
回転型ホルダー２６に局部的な変形があってもマイクロ
ねじの調整で対応でき、かつ、成膜治具と各孔との組み
合わせを考える必要がなく、成膜治具の取付けの作業性
が高くなる。
【００４５】なお、前述実施例３と同様に、突起体２８
は３個に限るものでなく４個あるいはそれ以上でもなん
ら問題はなく、さらに回転型ホルダー２６に変形がなけ
れば突起体２８がピンでもよい。
は３個に限るものでなく４個あるいはそれ以上でもなん
ら問題はなく、さらに回転型ホルダー２６に変形がなけ
れば突起体２８がピンでもよい。
【００４６】さらに、前述実施例３および実施例４にお
いて、成膜治具２２や回転型ホルダー２６の孔の形状も
円形に限るものでなく、例えば四角形でもよい。また回
転型ホルダー２６の形状も半球状に限らず、例えば円錐
状でもよい。
いて、成膜治具２２や回転型ホルダー２６の孔の形状も
円形に限るものでなく、例えば四角形でもよい。また回
転型ホルダー２６の形状も半球状に限らず、例えば円錐
状でもよい。
【００４７】さらに、あらゆる光学多層膜に有効であ
り、光学多層膜以外の高い膜厚精度を要求される薄膜の
形成にも適用できることはいうまでもない。
り、光学多層膜以外の高い膜厚精度を要求される薄膜の
形成にも適用できることはいうまでもない。
【００４８】また、前述実施例１または２において、実
施例３もしくは実施例４の成膜治具２２もしくは回転型
ホルダー２６を用いて、成膜前のミスセッティングを防
止することにより、さらに有効な効果が得られる。
施例３もしくは実施例４の成膜治具２２もしくは回転型
ホルダー２６を用いて、成膜前のミスセッティングを防
止することにより、さらに有効な効果が得られる。
【００４９】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように本発明
は、複数の基板を回転型ホルダーに保持した後、回転型
ホルダーを回転させながら同一円周上にある各基板に光
ビームを照射し、各基板から反射した光ビームを予め設
定した位置にあることを確認した後に成膜する方法で、
回転型ホルダーの広い範囲で高精度に均一な膜厚が形成
できる優れた薄膜の形成方法を実現できるものである。
は、複数の基板を回転型ホルダーに保持した後、回転型
ホルダーを回転させながら同一円周上にある各基板に光
ビームを照射し、各基板から反射した光ビームを予め設
定した位置にあることを確認した後に成膜する方法で、
回転型ホルダーの広い範囲で高精度に均一な膜厚が形成
できる優れた薄膜の形成方法を実現できるものである。
【００５０】そして請求項２ないし５に記載する薄膜の
形成装置は、上記する請求項１に記載する形成方法を簡
単容易に実現できる効果を奏するものである。
形成装置は、上記する請求項１に記載する形成方法を簡
単容易に実現できる効果を奏するものである。
【図１】本発明の実施例１の薄膜の形成装置の概略構成
図
図
【図２】（ａ）は同薄膜の形成装置の回転ドームに被成
膜体を載置した状態を示す概略断面図 （ｂ）は同被成膜体の回転ドーム面の垂直方向の傾きを
示す説明図 （ｃ）は同被成膜体の回転ドーム面の水平方向の傾きを
示す説明図
膜体を載置した状態を示す概略断面図 （ｂ）は同被成膜体の回転ドーム面の垂直方向の傾きを
示す説明図 （ｃ）は同被成膜体の回転ドーム面の水平方向の傾きを
示す説明図
【図３】本発明の実施例２の薄膜の形成装置の概略構成
図
図
【図４】（ａ）は本発明の実施例３の薄膜の形成装置の
成膜治具の正面図 （ｂ）は（ａ）の側面略図
成膜治具の正面図 （ｂ）は（ａ）の側面略図
【図５】本発明の実施例４の薄膜の形成装置の回転型ホ
ルダーの要部斜面図
ルダーの要部斜面図
【図６】従来の薄膜の形成装置の概略構成図
【図７】光学多層膜の反射特性図
【図８】従来の薄膜の形成装置の回転ドームの概略正面
図
図
２ 真空槽 ５ 第１の蒸着材料（蒸着源） ８ 回転ドーム（回転型ホルダー） ９ 基板（被成膜体） １０ 第２の蒸着材料（蒸着源） １２ 光学的膜厚制御手段 １４ 発光手段 １５ 受光手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 博行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 真空槽内の所定位置に複数の被成膜体を
成膜治具を介して回転型ホルダーに保持した後、前記回
転型ホルダーを回転させながら同一円周上にある前記各
被成膜体に発光手段による光ビームを照射し、前記各被
成膜体から反射した前記光ビームが予め設定した位置に
あることを受光手段により確認した後、所定の蒸着材料
で前記被成膜体に成膜することを特徴とする薄膜の形成
方法。 - 【請求項２】 真空槽と、蒸着源と、嵌合する成膜治具
を介して複数の被成膜体を保持する回転型ホルダーと、
光源からの光ビームを前記被成膜体と同時成膜されるモ
ニタガラスに照射し、その反射した前記光ビームの光量
を光量センサにて検知して膜厚を制御する光学的膜厚制
御手段を設け、前記被成膜体に光ビームを照射する発光
手段と、前記被成膜体から反射した前記光ビームの位置
検出をする受光手段を備えたことを特徴とする薄膜の形
成装置。 - 【請求項３】 真空槽と、蒸着源と、嵌合する成膜治具
を介して複数の被成膜体を保持する回転型ホルダーと、
光源からの光ビームを前記被成膜体と同時成膜されるモ
ニタガラスに照射し、その反射した前記光ビームの光量
を光量センサにて検知して膜厚を制御する光学的膜厚制
御手段を設け、前記光源からの前記光ビームを前記複数
の被成膜体のうちの任意の被成膜体に照射し、前記任意
の被成膜体からの反射した前記光ビームをスリットを通
過させて前記光量センサに導く光学的検知手段を備えた
ことを特徴とする薄膜の形成装置。 - 【請求項４】 成膜治具の周辺部に３個以上の突起部を
立設し、前記突起部を回転型ホルダーに接触させて、前
記成膜治具を、嵌合させる構成としたことを特徴とする
請求項２または３記載の薄膜の形成装置。 - 【請求項５】 回転型ホルダーに形設した各孔の周辺部
に３個以上の突起体を設け、成膜治具を前記突起体に接
触させて、前記回転型ホルダーに嵌合させる構成とした
ことを特徴とする請求項２または３記載の薄膜の形成装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12666994A JPH07333451A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 薄膜の形成方法及びその形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12666994A JPH07333451A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 薄膜の形成方法及びその形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07333451A true JPH07333451A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=14940939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12666994A Pending JPH07333451A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 薄膜の形成方法及びその形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07333451A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11246968A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造方法 |
| WO2002069000A1 (fr) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Seiko Epson Corporation | Filtre a film multicouche et procede de production de celui-ci, filtre eliminateur d'uv, verre etanche aux poussieres, panneau d'affichage et unite d'affichage du type a projection |
-
1994
- 1994-06-09 JP JP12666994A patent/JPH07333451A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11246968A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造方法 |
| WO2002069000A1 (fr) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Seiko Epson Corporation | Filtre a film multicouche et procede de production de celui-ci, filtre eliminateur d'uv, verre etanche aux poussieres, panneau d'affichage et unite d'affichage du type a projection |
| US7172294B2 (en) | 2001-02-27 | 2007-02-06 | Seiko Epson Corporation | Multi-layer film cut filter and production method therefor, UV cut filter, dustproof glass, display panel and projection type display unit |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4474109B2 (ja) | スパッタ装置 | |
| US4940881A (en) | Method and apparatus for effecting selective ablation of a coating from a substrate, and controlling the wall angle of coating edge portions | |
| US7772527B2 (en) | Heat reflector and substrate processing apparatus comprising the same | |
| US6063436A (en) | Use of multiple masks to control uniformity in coating deposition | |
| JPH11200017A (ja) | 光学薄膜成膜装置およびこの光学薄膜成膜装置により成膜された光学素子 | |
| FR2732362A1 (fr) | Poste pour l'application de revetement sur des substrats courbes, notamment des lentilles optiques ou ophtalmiques | |
| JPH07333451A (ja) | 薄膜の形成方法及びその形成装置 | |
| JPH09292495A (ja) | Ｘ線反射装置 | |
| AU7238898A (en) | Mechanism for imparting water repellency to both sides simultaneously | |
| JP4555638B2 (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
| US6210540B1 (en) | Method and apparatus for depositing thin films on vertical surfaces | |
| JP3306394B2 (ja) | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 | |
| JP2007100123A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JP2005336535A5 (ja) | ||
| JPH06337310A (ja) | 光学多層膜並びにその成膜方法及びその成膜装置 | |
| JP2727540B2 (ja) | 光学的膜厚制御装置 | |
| JPH0819517B2 (ja) | レ−ザ蒸着方法 | |
| US6402900B1 (en) | System and method for performing sputter deposition using ion sources, targets and a substrate arranged about the faces of a cube | |
| EP0354195A2 (en) | Method for producing laser mirrors with radially variable reflectance | |
| JPH1171671A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JP5654255B2 (ja) | 蒸着装置 | |
| US20240167145A1 (en) | Method for depositing a layer optical element, and optical assembly for the duv wavelength range | |
| JPS62224669A (ja) | レ−ザセラミツクスコ−テイング方法 | |
| JP2825822B2 (ja) | 蒸着膜形成装置、蒸着膜形成方法及びこれらにより形成された基板 | |
| JP2024049687A (ja) | 光学装置、加工装置、及び物品の製造方法 |