JPWO2009069671A1 - 発光装置及びその製造方法 - Google Patents
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- H01L2224/05655—Nickel [Ni] as principal constituent
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- H01L2224/05663—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05664—Palladium [Pd] as principal constituent
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- H01L2224/05663—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05666—Titanium [Ti] as principal constituent
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- H01L2224/05669—Platinum [Pt] as principal constituent
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- H01L2224/05663—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05671—Chromium [Cr] as principal constituent
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- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05663—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05673—Rhodium [Rh] as principal constituent
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- H01L2224/0568—Molybdenum [Mo] as principal constituent
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- H01L2224/05684—Tungsten [W] as principal constituent
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- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
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- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
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- H01L2924/013—Alloys
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る発光装置1の概略断面図であり、図1に示す例の発光装置1の主な構造は、次の通りである。発光素子10と、この発光素子10より出射される光を透過する光透過部材15と、光透過部材15の一部を被覆する被覆部材26とから主に構成される。発光素子10は、配線基板9上に導電部材24を介して実装され、さらに発光素子10の上方には光透過部材15が光学的に接続されている。光透過部材15は、発光素子10からの光を受光する受光面15bと、受光した光を放出する面であって発光装置1の外面を構成する発光面15aとを有する。さらに、光透過部材15は、発光面15aと略直交する面であって厚さ方向と平行な側面15cを有する。
発光素子10は公知のもの、具体的には半導体発光素子を利用でき、GaN系半導体は、蛍光物質を効率良く励起できる短波長が発光可能であるため好ましい。実施の形態1の発光素子10は、同一面側に正電極および負電極が形成されているが、この形態に限定されず、例えば一の面に正および負の電極がそれぞれ形成されているものであってもよい。また、正および負の電極は、必ずしも一対に限定されず、それぞれ複数形成されていてもよい。
半導体層による発光素子構造は、後述する第1導電型(n型)層、第2導電型(p型)層との間に活性層を有する構造が出力、効率上好ましいがこれに限定されない。また、各導電型層に、絶縁、半絶縁性、逆導電型構造が一部に設けられても良く、またそれらが第1、2導電型層に対し付加的に設けられた構造でも良く、別の回路構造、例えば保護素子構造、を付加的に有しても良く、また上記基板が発光素子の導電型の一部を担う構造でも良く、基板が発光素子構造を構成しない場合には除去しても良い。また、成長基板を半導体層形成後に除去した基板の無い半導体素子構造、その取り出した半導体層を支持基板、例えば導電性基板に接着、フリップチップ実装した構造等とすること、また別の透光性部材、透光性基板を半導体層に接着した構造とすることもできる。具体的には、半導体層の光取り出し側の主面に成長基板、接着した部材・基板を有する場合は透光性とし、不透光性、遮光性、光吸収性の成長基板の場合は除去し、そのような基板に半導体層を接着する場合は、半導体層主面の光反射側に設ける構造とする。光取り出し側の透光性基板・部材から半導体層に電荷を供給する場合は、導電性のものを用いると良い。また、半導体層に接続する透光性部材・基板に代えて、光透過部材15を用いることもできる。その他、ガラス、樹脂などの透光性部材により半導体層が接着・被覆されて、支持された構造の素子でも良い。成長用基板の除去は、例えば装置又はサブマウントのチップ載置部に保持して、研磨、LLO(Laser Lift Off)で実施できる。また、透光性の異種基板であっても、基板除去することで、光取り出し効率、出力を向上させることができ、好ましい。
また、発光素子10は光反射構造を有することができる。具体的には、半導体層の互いに対向する2つの主面の内、光取り出し側と対向する他方の主面を光反射側(図1における下側)とし、この光反射側に反射構造を設け、特に半導体層内や電極などに設けることができる。
さらに、図2に示すように、p型半導体層7上に透光性導電層13を形成する。更には露出したn型半導体層6のほぼ全面に導電層を形成することもできる。また、透光性導電層13はその上に反射構造を設けることで電極形成面側を反射側とでき、またパッド電極から透光性導電層を露出させてそこから光を取り出す構造とすることもでき、またそのような透光性導電層を介さずに反射性電極を半導体層に設けた電極構造とすることもできる。また、透光性導電層13の被覆領域は、n型半導体層6及びp型半導体層7の双方の半導体層のみならず、どちらか一方の半導体層のみに限定することもできる。透光性導電層13は、好ましくはZn、In、Snよりなる群から選択された少なくとも一種の元素を含む酸化物とする。具体的には、ITO、ZnO、In2O3、SnO2等、Zn、In、Snの酸化物を含む透光性導電層13、好ましくはITOを使用する。あるいはNi等の金属を3nmの薄膜にした金属膜、その他の金属の酸化物、窒化物、それらの化合物、その他に窓部の開口部を有する金属膜のような光透過構造でもよい。このように、露出したp型半導体層7のほぼ全面に導電層が形成されることにより、電流をp型半導体層7全体に均一に広げることができる。また、透光性導電層13の厚さ、大きさは、その層の光吸収性と電気抵抗・シート抵抗、すなわち、光の透過、反射構造と電流広がりを考慮し、例えば厚さ1μm以下、具体的には厚さ10nmから500nmとする。
さらに、半導体層の上に電極層が形成され、上記透光性導電層が介在する場合には、それと電気的に接続される。電極は、p型半導体層7及びn型半導体層6側に適宜設けられた透光性導電層13上、あるいは半導体構造上に接して形成され、第1の電極3Aと第2の電極3Bとをそれぞれ構成する。電極層は、発光素子10と外部電極とを電気的に接続させ、パッド電極として機能させても良い。例えば、金属電極層表面にAuバンプのような導電部材24を配置し、導電部材を介して、発光素子の電極と、これに対向された外部電極との電気的接続させる。また、図2の例では、金属電極層3Bは透光性導電層13上に重なって電気的に直接接続されている。パッド電極には既存の構成が適宜採用できる。例えばAu、Pt、Pd、Rh、Ni、W、Mo、Cr、Tiのいずれかの金属またはこれらの合金やそれらの組み合わせから成る。金属電極層の一例として、下面からW/Pt/Au、Rh/Pt/Au、W/Pt/Au/Ni、Pt/AuもしくはTi/Rhの積層構造が採用できる。
金属電極層を形成した後、外部領域との接続領域を除いて半導体発光素子10のほぼ全面に絶縁性の保護膜14を形成できる。図2の例では、n型電極3A部分及びp型電極3B部分に被覆される保護膜14に、開口部がそれぞれ形成されており、各電極における露出領域を得る。保護膜14にはSiO2、TiO2、Al2O3、ポリイミド等が利用できる。
以下にその発光素子10の一例として、窒化物半導体の発光素子とその製造方法を説明する。
成長基板5は、半導体層11をエピタキシャル成長させる基板で、窒化物半導体における基板としては、C面、R面、及びA面のいずれかを主面とするサファイアやスピネル(MgAl2O4)のような絶縁性基板、また炭化珪素(6H、4H、3C)、Si、ZnS、ZnO、GaAs、ダイヤモンド、及び窒化物半導体と格子接合するニオブ酸リチウム、ガリウム酸ネオジウム等の酸化物基板、GaNやAlN等の窒化物半導体基板がある。
窒化物半導体としては、一般式がInxAlyGa1-x-yN(0≦x、0≦y、x+y≦1)であって、BやP、Asを混晶してもよい。また、n型半導体層6、p型半導体層7は、単層、多層を特に限定しない。窒化物半導体層11には活性層である発光層8を有し、この活性層は単一(SQW)又は多重量子井戸構造(MQW)とする。以下に窒化物半導体層11の例を示す。
一方、図1の発光装置1において、上記の発光素子10が実装される配線基板9は、少なくとも表面が素子の電極と接続される配線を形成したものが利用できる。基板の材料は、基板全体が窒化アルミニウムで構成される窒化アルミニウムの単結晶、多結晶などの結晶性基板、さらに焼結基板、他の材料としてアルミナ等のセラミック、ガラス、Si等の半金属あるいは金属基板、またそれらの表面に窒化アルミニウム薄膜層が形成された基板等、積層体、複合体が使用できる。金属基板、金属性基板、セラミック基板は放熱性が高いため、好ましい。また、配線パターンの形成はイオンミリング法或いはエッチング法等によって金属層のパターニングが施される。一例として上記基板の窒化アルミニウムからなる表面上に白金薄膜等からなる配線パターン等が挙げられる。更に、配線パターンを保護する目的で、基板の配線パターンが形成された側の表面にSiO2等の薄膜からなる保護膜を形成してもよい。発光素子の電極と接続される配線基板に限らず、素子が載置される基板には、配線を有していない基板でも良く、例えば、電極形成面側を主な発光側とする発光素子において、その基板側を実装して素子の電極を装置の電極にワイヤー接続する形態でも良い。また、その基板と被覆部材の形態としては、図示する発光装置のように、被覆部材が基板の上に設けられる形態の他、基板の側面を覆う形態でも良い。
また図1の発光装置1は、発光素子10からの光を透過する光透過部材15を備える。光透過部材15は通過する光の少なくとも一部を波長変換可能な光変換部材であって、波長変換部材を有することが好ましい。それにより、光源からの一次光が光透過部材15を通過する際に、波長変換部材としての蛍光体を励起することで、主光源の波長とは異なった波長を持つ二次光が得られ、この結果、波長変換されない一次光との混色により、所望の色相を有する出射光を実現できる。
封止部材26は、図1に示すように、光透過部材15の一部を被覆し、具体的には少なくとも光透過部材15の側面15cを被覆する。
ところで、上述の通り、発光素子10からの出射光は、光透過部材15の受光面15bを進行し、光透過部材15内を通過した後、発光面15aより放出される。したがって、光透過部材15における少なくとも側面15cを封止部材26でもって被覆することにより、以下の作用、効果を得られる。第一に、側面15c領域から光が漏れ出すのを回避できる。第二に、発光面15aからの発光と比較して、無視できないほどの色味差を有する光が、側面15c側より外方へ放出するのを抑止して、全体の発光色における色ムラの発生を低減できる。第三に、側面15c方向へと進行した光を光取り出し方向側へと反射して、さらに外部への発光領域を制限することで、放出される光の指向性を高めるとともに、発光面15aにおける輝度を高められる。第四に、光透過部材15から発生する熱を封止部材26へ伝導させることにより光透過部材15の放熱性が高めることができる。光透過部材15が波長変換部材を含有する場合には、波長変換部材の発熱が著しいため、特に本構成が有効となる。
また、被覆・封止部材26、光透過部材15には、光反射性材料2、光変換部材の他、粘度増量剤等、使用用途に応じて適切な部材を添加することができ、これによって所望の発光色、それら部材若しくは装置表面の色、例えば外光に対するコントラストを高めるために被覆部材の外表面を黒色に着色するなど、指向特性を有する発光装置が得られる。同様に外来光や発光素子からの不要な波長をカットするフィルター効果を持たせたフィルター材として各種着色剤を添加させることもできる。
発光素子10と光透過部材15との界面には接着材17が介在されており、これにより双方の部材を固着する。この接着材17は、発光素子10からの出射光を光透過部材15側へと有効に導光でき、双方の部材を光学的に連結できる材質が好ましい。その材料としては上記各部材に用いられる樹脂材料が挙げられ、一例としてシリコーン樹脂などの透光性接着材料を用いる。また、発光素子10と光透過部材15との固着には、熱圧着による結晶接合等も採用できる。
上記の発光素子10を配線基板9上にフリップチップ実装して、上記光透過部材、被覆部材を備えて、図1に示される例の発光装置1を得る。この製造方法の一例として、その製造方法について、図3を用いて説明する。まず図3(a)に示すように、配線基板9上、又は発光素子10に、フリップチップ実装するパターンに従い、バンプ24を形成する。次にこのバンプ24を介して発光素子10をフリップチップ実装する。この例ではサブマウント基板9上で、一の発光装置に対応する領域に、各々1個のLEDチップを並べて実装しているが、チップの搭載個数は発光面、光透過部材の大きさに応じて適宜変更できる。なお、発光素子10の実装は共晶でもって達成してもよい。これにより配線基板9と発光素子10との接合面積を大きくして熱引きを促進できるため、放熱性を高められる。
一方、光透過部材15の発光素子10に対する位置合わせの他の例を実施の形態2とする。図4は、実施の形態2に係る発光装置20の概略断面図である。図4の発光装置20では、光透過部材15の側面15cが、発光素子10の端面33と略同一面上に位置しており、すなわち双方の側面が略面一に構成される。これにより、上記実施の形態1における光透過部材の素子外方に突出した部分、すなわちその外縁部で、発光素子からの光量が不足してその部分において色むらが発生しやすくなるのを防止できる。ただし、本明細書でいう「略同一面」とは、上述した機能上で実質的に同一面であれば良く、例えばその同一面の発光装置の光透過部材、発光素子の寸法に比して±10%程度とすることができる。また、これに限らず、光透過部材の発光面とそれを包囲する被覆部材の外表面の同一面、などについても同様に適用できる。
さらに、図5に実施の形態3に係る発光装置30の概略断面図を示す。図5の発光装置30では、光透過部材15が発光素子10の一部のみを積層し、すなわち光透過部材15の側面15cが、発光素子10の端面33よりも内側に位置している。
また、封止部材26は、 少なくとも光透過部材15における発光面15aの周囲を構成し、すなわち側面15cと接面して形成されて、発光装置の発光領域を発光面15aに限定することが重要であり、他の封止部材26の被覆領域については特に限定されない。ここで、封止部材26の発光素子10に対する被覆領域の点で実施の形態1〜3と相違する発光装置40を実施の形態4として挙げる。図6は実施の形態4に係る発光装置40の概略断面図である。発光装置40において、封止部材26bの被覆領域を除く他の構造については実施の形態1〜3と実質上同様であり、したがって同様の構成については同一の符号を付して適宜説明を省略する。
一方、比較例1に係る発光装置200の概略断面図を図7に示す。発光装置200は、実施例1の発光装置1と比較して、光透過部材15に対する封止部材26の被覆領域のみが実質的に異なる。すなわち、光透過部材15は、封止部材26の表面よりも上方に突出して形成されている。さらに封止部材26は、光透過部材15の側面15cを被覆しておらず、したがってこの側面15cは外部に露出している。
また、封止部材26中に介在する光反射性材料2について、実施例1の発光装置1では、封止部材26としてシリコーン樹脂に光反射性材料2であるTiO2を含有させており、そのように、透明樹脂中の光反射性材料の含有量と、被覆部材26の肉厚に依り、その反射能力、その部材中への光到達深さ、が変化する。例えば、実施例1同様のセラミック基板上に、反射率の高いAlの膜と低いWの膜を成膜し、実施例1同様のTiO2粒子(平均粒径0.2μm)をシリコーン樹脂に混練して、そのシリコーン樹脂に対する重量比を25%、33%、50%の被覆部材の原料をそれぞれ調製し、上記セラミック基板上にその原料を塗布して、塗布回転数を2000、4000、6000rpmの条件でスピンコートし、樹脂を熱硬化させ試料を作製し、その各原料、塗布条件の試料についてその表面法線方向の光反射率を測定することで、上記光反射性、光到達深さ等を評価できる。
2…光反射性材料
3A…第1の電極(n型パッド電極)
3B…第2の電極(p型パッド電極)
5…成長基板(サファイア基板)
6…第1の窒化物半導体層(n型半導体層)
7…第2の窒化物半導体層(p型半導体層)
8…発光層(活性層)
9…配線基板(サブマウント)
10…発光素子
11…半導体構造
13…透光性導電層(透光性電極、ITO)
14…保護膜
15…光透過部材
15a…発光面
15b…受光面
15c…側面
16…光透過部材の欠損部
17…接着材(シリコーン樹脂)
24…導電部材
26、26b…被覆部材(封止部材、樹脂)
33…端面
100、200…発光装置
102…LED素子
103…ケース
104…側面
105A…光取出面
110…蛍光体層
110A…発光面
111…コーティング材
111A…光反射粒子
L1、L2…光
Claims (22)
- 発光素子と、該発光素子より出射される光が入射される光透過部材と、被覆部材と、を有する発光装置であって、
前記光透過部材は、外部に露出された発光面と、該発光面から連続する側面と、を備える無機材料の光変換部材であり、
前記被覆部材は、光反射性材料を含有し、少なくとも前記光透過部材の側面を被覆することを特徴とする発光装置。 - 請求項1に記載の発光装置であって、
前記被覆部材が、前記発光素子を包囲することを特徴とする発光装置。 - 請求項2に記載の発光装置であって、
前記光透過部材は板状であって、前記発光面に対向する受光面を有し、
前記発光素子は、前記受光面に接合されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項3に記載の発光装置であって、
前記発光素子は、実装基板上にフリップチップ実装されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項3に記載の発光装置であって、
前記被覆部材は、前記発光素子を被覆することを特徴とする発光装置。 - 請求項3に記載の発光装置であって、
前記発光面側からの平面視において、前記発光素子が前記光透過部材に内包されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項2に記載の発光装置であって、
一の光透過部材に複数の発光素子が光学的に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 発光素子と、該発光素子を包囲する被覆部材と、光透過部材と、を有する発光装置であって、
前記光透過部材は、外部に露出された発光面と、該発光面から連続する側面と、前記発光面に対向する受光面と、を備える無機材料からなる板状の光変換部材であり、
前記光透過部材の受光面に、複数の前記発光素子が接合されて、該発光素子から光が各々入射され、
前記被覆部材は、光反射性材料を含有し、少なくとも前記光透過部材の側面を被覆することを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記発光素子は、実装基板上に各々フリップチップ実装されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記被覆部材は、前記発光素子を各々被覆することを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記発光素子は、空隙により前記被覆部材と各々離間されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
当該発光装置の前記発光面側であって、前記被覆部材が、前記発光面と略同一面となるような表出面を備えることを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記発光面側からの平面視において、前記発光素子が前記光透過部材に内包されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項13に記載の発光装置であって、
前記光透過部材の受光面に、前記発光素子が接合された接合領域と、前記被覆部材により被覆された被覆領域と、が設けられることを特徴とする発光装置。 - 請求項14に記載の発光装置であって、
前記発光素子は互いに離間され、前記光透過部材の受光面において前記接合領域の間に離間領域が設けられており、
前記被覆領域が前記離間領域に設けられることを特徴とする発光装置。 - 請求項14または15に記載の発光装置であって、
前記光透過部材は前記発光素子よりも外方に突出した突出領域を有し、
前記受光面の突出領域に前記被覆領域が設けられることを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記被覆部材は、透光性樹脂中に、Ti、Zr、Nb、Alよりなる群から選択される少なくとも1種の酸化物の前記光反射性材料を含有していることを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記被覆部材は、Al2O3、AlN、MgF、TiO2、ZrO2、Nb2O5、SiO2よりなる群から選択される少なくとも1種の前記光反射性材料で構成される多孔質体であることを特徴とする発光装置。 - 請求項8に記載の発光装置であって、
前記光変換部材は、蛍光体を含有し、前記発光素子から発せられる光の少なくとも一部を波長変換可能であることを特徴とする発光装置。 - 請求項19に記載の発光装置であって、
前記光変換部材は、無機物と前記蛍光体との焼結体であることを特徴とする発光装置。 - 請求項20に記載の発光装置であって、
前記無機物はアルミナ(Al2O3)であって、前記蛍光体はYAG(Y3Al5O12)であることを特徴とする発光装置。 - 発光素子と、該発光素子より出射される光が入射される光透過部材と、被覆部材と、を有する発光装置の製造方法であって、
前記発光素子を配線基板に実装し、該発光素子と該配線基板とを電気的に接続させる第1の工程と、
前記発光素子の実装側と対向する光取り出し側の少なくとも一部を前記光透過部材と光学的に接続させる第2の工程と、
前記光透過部材の厚みを構成する側面を前記被覆部材でもって被覆し、該被覆部材の外面が前記光透過部材の外面に沿うように該被覆部材を成形する第3の工程と、
を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013182918A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2015099942A (ja) * | 2011-03-28 | 2015-05-28 | 日東電工株式会社 | 発光ダイオード装置の製造方法 |
JPWO2014171277A1 (ja) * | 2013-04-17 | 2017-02-23 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
Families Citing this family (247)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2489774C2 (ru) * | 2007-11-29 | 2013-08-10 | Нития Корпорейшн | Светоизлучающее устройство и способ его изготовления |
US8187752B2 (en) * | 2008-04-16 | 2012-05-29 | Envia Systems, Inc. | High energy lithium ion secondary batteries |
JP5107882B2 (ja) * | 2008-12-11 | 2012-12-26 | 日東電工株式会社 | 光半導体封止用シート |
JP4724222B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2011-07-13 | 株式会社東芝 | 発光装置の製造方法 |
US20110316033A1 (en) * | 2009-03-05 | 2011-12-29 | Koito Manufacturing Co., Ltd. | Light emitting module, method of manufacturing the light emitting module, and lamp unit |
JP5689225B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2015-03-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP5482378B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2014-05-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP5332921B2 (ja) * | 2009-06-05 | 2013-11-06 | 三菱化学株式会社 | 半導体発光装置、照明装置、及び画像表示装置 |
JP5326837B2 (ja) * | 2009-06-08 | 2013-10-30 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US9048404B2 (en) * | 2009-07-06 | 2015-06-02 | Zhuo Sun | Thin flat solid state light source module |
US8431423B2 (en) * | 2009-07-16 | 2013-04-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Reflective substrate for LEDS |
US8273588B2 (en) * | 2009-07-20 | 2012-09-25 | Osram Opto Semiconductros Gmbh | Method for producing a luminous device and luminous device |
US8097894B2 (en) | 2009-07-23 | 2012-01-17 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | LED with molded reflective sidewall coating |
DE102009036621B4 (de) | 2009-08-07 | 2023-12-21 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Halbleiterbauteil |
JP5329341B2 (ja) * | 2009-08-19 | 2013-10-30 | スタンレー電気株式会社 | 光半導体装置及びその製造方法 |
US20110049545A1 (en) * | 2009-09-02 | 2011-03-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Led package with phosphor plate and reflective substrate |
DE102009040148A1 (de) | 2009-09-04 | 2011-03-10 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Konversionsmittelkörper, optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips |
JP5617210B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2014-11-05 | デクセリアルズ株式会社 | 光反射性異方性導電接着剤及び発光装置 |
JP5396215B2 (ja) * | 2009-09-24 | 2014-01-22 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置の製造方法、半導体発光装置および液晶表示装置 |
JP2011071272A (ja) | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Toshiba Corp | 半導体発光装置及びその製造方法 |
DE102009051746A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement |
JP5526698B2 (ja) | 2009-10-16 | 2014-06-18 | デクセリアルズ株式会社 | 光反射性導電粒子、異方性導電接着剤及び発光装置 |
US8471280B2 (en) * | 2009-11-06 | 2013-06-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Silicone based reflective underfill and thermal coupler |
US20110108854A1 (en) * | 2009-11-10 | 2011-05-12 | Chien-Min Sung | Substantially lattice matched semiconductor materials and associated methods |
DE102009058006B4 (de) * | 2009-12-11 | 2022-03-31 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Halbleiterbauteil |
TWI411140B (zh) * | 2009-12-21 | 2013-10-01 | Harvatek Corp | 採用二次封裝之發光二極體封裝結構及其製作方法 |
JP5463901B2 (ja) * | 2009-12-24 | 2014-04-09 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US8556672B2 (en) | 2010-01-29 | 2013-10-15 | Citizen Electronics Co., Ltd. | Method of producing light-emitting device and light-emitting device |
US9196805B2 (en) * | 2010-02-09 | 2015-11-24 | Nichia Corporation | Light emitting device and method for manufacturing light emitting device |
JP2011199193A (ja) | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Toshiba Corp | 発光装置及びその製造方法 |
DE102010003321A1 (de) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement |
WO2011126000A1 (ja) | 2010-04-08 | 2011-10-13 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
EP2378576A2 (en) * | 2010-04-15 | 2011-10-19 | Samsung LED Co., Ltd. | Light emitting diode package, lighting apparatus having the same, and method for manufacturing light emitting diode package |
DE102010027875A1 (de) * | 2010-04-16 | 2011-10-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements |
DE102010028407B4 (de) | 2010-04-30 | 2021-01-14 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements |
DE102010029368A1 (de) * | 2010-05-27 | 2011-12-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Elektronische Anordnung und Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Anordnung |
CN105244422B (zh) * | 2010-05-31 | 2018-09-04 | 日亚化学工业株式会社 | 发光装置及其制造方法 |
JP4875185B2 (ja) | 2010-06-07 | 2012-02-15 | 株式会社東芝 | 光半導体装置 |
JP5451534B2 (ja) * | 2010-06-07 | 2014-03-26 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置および半導体発光装置の製造方法 |
US20110303940A1 (en) * | 2010-06-14 | 2011-12-15 | Hyo Jin Lee | Light emitting device package using quantum dot, illumination apparatus and display apparatus |
DE102010024864B4 (de) | 2010-06-24 | 2021-01-21 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Halbleiterbauteil |
DE102010026344A1 (de) * | 2010-07-07 | 2012-01-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Leuchtdiode |
DE102010027253B4 (de) | 2010-07-15 | 2022-05-12 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Halbleiterbauteil |
DE102010031945A1 (de) * | 2010-07-22 | 2012-01-26 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements |
DE102010038396B4 (de) | 2010-07-26 | 2021-08-05 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Bauelement und Leuchtvorrichung damit |
DE102010044560A1 (de) * | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements |
DE102010048162A1 (de) * | 2010-10-11 | 2012-04-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Konversionsbauteil |
DE102010049312B4 (de) | 2010-10-22 | 2023-08-03 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur Herstellung eines Konversionsplättchens und Konversionsplättchen |
JP2012099544A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置の製造方法 |
EP2448028B1 (en) * | 2010-10-29 | 2017-05-31 | Nichia Corporation | Light emitting apparatus and production method thereof |
JP5648422B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2015-01-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
KR20120066973A (ko) * | 2010-12-15 | 2012-06-25 | 삼성엘이디 주식회사 | 발광 디바이스 및 그 제조방법 |
KR20120067153A (ko) * | 2010-12-15 | 2012-06-25 | 삼성엘이디 주식회사 | 발광소자, 발광소자 패키지, 발광소자의 제조방법, 및 발광소자의 패키징 방법 |
JP5647028B2 (ja) * | 2011-02-14 | 2014-12-24 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置およびその製造方法 |
JP5763365B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2015-08-12 | 日東電工株式会社 | 発光ダイオード素子および発光ダイオード装置 |
EP2500623A1 (en) * | 2011-03-18 | 2012-09-19 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method for providing a reflective coating to a substrate for a light-emitting device |
KR101251738B1 (ko) * | 2011-03-22 | 2013-04-05 | 엘지이노텍 주식회사 | 표시장치 |
JP2012216712A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-11-08 | Nitto Denko Corp | 発光ダイオード装置の製造方法および発光ダイオード素子 |
JP5666962B2 (ja) | 2011-03-28 | 2015-02-12 | 日東電工株式会社 | 発光ダイオード装置およびその製造方法 |
JP5745319B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2015-07-08 | 日東電工株式会社 | 蛍光反射シート、および、発光ダイオード装置の製造方法 |
JP5670249B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2015-02-18 | 日東電工株式会社 | 発光素子転写シートの製造方法、発光装置の製造方法、発光素子転写シートおよび発光装置 |
JP5840377B2 (ja) | 2011-04-14 | 2016-01-06 | 日東電工株式会社 | 反射樹脂シートおよび発光ダイオード装置の製造方法 |
JP5700544B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2015-04-15 | 日東電工株式会社 | 発光ダイオード装置の製造方法 |
WO2012144030A1 (ja) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | 株式会社エルム | 発光装置及びその製造方法 |
JP5680472B2 (ja) * | 2011-04-22 | 2015-03-04 | シチズンホールディングス株式会社 | 半導体発光装置の製造方法 |
DE102011100728A1 (de) * | 2011-05-06 | 2012-11-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauelement |
US9269878B2 (en) * | 2011-05-27 | 2016-02-23 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device and light emitting apparatus |
JP5744643B2 (ja) * | 2011-06-28 | 2015-07-08 | シチズン電子株式会社 | 発光装置の製造方法 |
JP2013021175A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Toshiba Corp | 半導体発光素子 |
US9134595B2 (en) * | 2011-09-29 | 2015-09-15 | Casio Computer Co., Ltd. | Phosphor device, illumination apparatus and projector apparatus |
US20130095581A1 (en) * | 2011-10-18 | 2013-04-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Thick window layer led manufacture |
KR101288367B1 (ko) * | 2011-11-09 | 2013-07-22 | 포항공과대학교 산학협력단 | 백색광 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
KR101969334B1 (ko) * | 2011-11-16 | 2019-04-17 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 이를 구비한 발광 장치 |
JP5860289B2 (ja) * | 2012-01-05 | 2016-02-16 | シチズン電子株式会社 | Led装置の製造方法 |
JP6207402B2 (ja) * | 2012-02-02 | 2017-10-04 | シチズン時計株式会社 | 発光装置 |
US8957429B2 (en) * | 2012-02-07 | 2015-02-17 | Epistar Corporation | Light emitting diode with wavelength conversion layer |
DE102012101102A1 (de) | 2012-02-10 | 2013-08-14 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauelement und Anordnung mit einer Mehrzahl von derartigen Bauelementen |
US20130240934A1 (en) * | 2012-03-14 | 2013-09-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light emitting element package and method of manufacturing the same |
TWI499031B (zh) * | 2012-03-22 | 2015-09-01 | Kun Hsin Technology Inc | 發光裝置 |
WO2013168037A1 (en) * | 2012-05-08 | 2013-11-14 | Koninklijke Philips N.V. | Remote phosphor and led package |
JP6094062B2 (ja) * | 2012-06-01 | 2017-03-15 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
JP6099901B2 (ja) * | 2012-08-23 | 2017-03-22 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置 |
DE102012217521A1 (de) * | 2012-09-27 | 2014-03-27 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement |
JP6535598B2 (ja) | 2012-11-07 | 2019-06-26 | ルミレッズ ホールディング ベーフェー | フィルタ及び保護層を含む発光デバイス |
JP6149487B2 (ja) * | 2012-11-09 | 2017-06-21 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法および発光装置 |
JP6127468B2 (ja) * | 2012-11-22 | 2017-05-17 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP2013042191A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-02-28 | Toshiba Corp | 半導体発光装置 |
JP5995695B2 (ja) * | 2012-12-03 | 2016-09-21 | シチズンホールディングス株式会社 | Led装置の製造方法 |
WO2014091914A1 (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-19 | シチズンホールディングス株式会社 | Led装置及びその製造方法 |
JP6065811B2 (ja) | 2012-12-18 | 2017-01-25 | 豊田合成株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
US9054235B2 (en) | 2013-01-22 | 2015-06-09 | Micron Technology, Inc. | Solid-state transducer devices with optically-transmissive carrier substrates and related systems, methods, and devices |
DE102013100711B4 (de) * | 2013-01-24 | 2021-07-01 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl optoelektronischer Bauelemente |
DE102013100821B4 (de) * | 2013-01-28 | 2017-05-04 | Schott Ag | Polykristalline Keramiken, deren Herstellung und Verwendungen |
JP2016066632A (ja) * | 2013-02-07 | 2016-04-28 | パナソニック株式会社 | 発光装置 |
JP2014225636A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-12-04 | 株式会社ディスコ | 発光デバイス |
TWI594661B (zh) * | 2013-04-19 | 2017-08-01 | 隆達電子股份有限公司 | 發光二極體顯示器及其製造方法 |
WO2014184757A1 (en) | 2013-05-15 | 2014-11-20 | Koninklijke Philips N.V. | Light emitting device with an optical element and a reflector |
JP5537700B2 (ja) * | 2013-05-23 | 2014-07-02 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置 |
JP5610036B2 (ja) * | 2013-06-03 | 2014-10-22 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP6186904B2 (ja) * | 2013-06-05 | 2017-08-30 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
TWI540766B (zh) * | 2013-07-10 | 2016-07-01 | 隆達電子股份有限公司 | 發光二極體封裝結構 |
JP6258619B2 (ja) * | 2013-07-18 | 2018-01-10 | シチズン電子株式会社 | 照明装置 |
JP6175952B2 (ja) * | 2013-07-19 | 2017-08-09 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
DE102013215646A1 (de) * | 2013-08-08 | 2015-02-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Anzeigevorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung |
CN105453282B (zh) * | 2013-08-20 | 2020-12-15 | 亮锐控股有限公司 | 减少重复反射的成形磷光体 |
CN104425672A (zh) * | 2013-08-23 | 2015-03-18 | 展晶科技(深圳)有限公司 | 发光二极管制造方法 |
JP2014030026A (ja) * | 2013-08-30 | 2014-02-13 | Dexerials Corp | 異方性導電接着剤及び発光装置 |
JP2015056563A (ja) * | 2013-09-12 | 2015-03-23 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその製造方法 |
DE102013110114A1 (de) * | 2013-09-13 | 2015-04-02 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils |
US9698323B2 (en) * | 2013-09-13 | 2017-07-04 | Koninklijke Philips N.V. | Frame based package for flip-chip LED |
TWI533478B (zh) * | 2013-10-14 | 2016-05-11 | 新世紀光電股份有限公司 | 覆晶式發光二極體封裝結構 |
JP6164038B2 (ja) | 2013-10-16 | 2017-07-19 | 豊田合成株式会社 | 発光装置 |
JP6387780B2 (ja) | 2013-10-28 | 2018-09-12 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
JP6438648B2 (ja) | 2013-11-15 | 2018-12-19 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
RU2545492C1 (ru) * | 2013-12-05 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ФГБОУ ВПО "СГГА") | Устройство полупроводникового светодиода |
DE102013114691A1 (de) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauteil und adaptiver Scheinwerfer für ein Kraftfahrzeug |
JP6331389B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2018-05-30 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
KR102323289B1 (ko) * | 2014-01-07 | 2021-11-08 | 루미리즈 홀딩 비.브이. | 인광체 변환기를 갖는 비접착식 발광 디바이스 |
EP3092664B1 (en) * | 2014-01-09 | 2019-08-14 | Lumileds Holding B.V. | Light emitting device with reflective sidewall |
JP6187277B2 (ja) | 2014-01-21 | 2017-08-30 | 豊田合成株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
JP6152801B2 (ja) | 2014-01-21 | 2017-06-28 | 豊田合成株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
US9666771B2 (en) * | 2014-02-27 | 2017-05-30 | Koninklijke Philips N.V. | Method of forming a wavelength converted light emitting device |
WO2015162004A1 (en) * | 2014-04-21 | 2015-10-29 | Koninklijke Philips N.V. | Lighting device and luminaire |
JP2015216355A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-12-03 | 日東電工株式会社 | 波長変換部材およびその製造方法 |
CN103943735B (zh) * | 2014-04-23 | 2016-08-24 | 陕西光电科技有限公司 | 一种led日光灯管的制作方法 |
CN105098025A (zh) | 2014-05-07 | 2015-11-25 | 新世纪光电股份有限公司 | 发光装置 |
JP5834109B2 (ja) * | 2014-05-14 | 2015-12-16 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置、半導体発光装置の製造方法、発光装置の製造方法 |
US9997676B2 (en) | 2014-05-14 | 2018-06-12 | Genesis Photonics Inc. | Light emitting device and manufacturing method thereof |
US10439111B2 (en) | 2014-05-14 | 2019-10-08 | Genesis Photonics Inc. | Light emitting device and manufacturing method thereof |
US9543465B2 (en) | 2014-05-20 | 2017-01-10 | Nichia Corporation | Method for manufacturing light emitting device |
JP7148826B2 (ja) * | 2014-05-21 | 2022-10-06 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
KR102252475B1 (ko) * | 2014-06-02 | 2021-05-17 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 모듈 |
TWI557952B (zh) | 2014-06-12 | 2016-11-11 | 新世紀光電股份有限公司 | 發光元件 |
JP2017520118A (ja) * | 2014-06-19 | 2017-07-20 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 小型光源を有する波長変換発光デバイス |
JP6519311B2 (ja) | 2014-06-27 | 2019-05-29 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP2016027077A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-02-18 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 表面処理蛍光体の製造方法、この方法で得られた表面処理蛍光体、並びにこれを用いた波長変換部材及び発光装置 |
TWI641285B (zh) | 2014-07-14 | 2018-11-11 | 新世紀光電股份有限公司 | 發光模組與發光單元的製作方法 |
WO2016009088A1 (en) * | 2014-07-18 | 2016-01-21 | Koninklijke Philips N.V. | Light emitting diodes and reflector |
KR102237112B1 (ko) | 2014-07-30 | 2021-04-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 이를 구비한 광원 모듈 |
DE102014112540A1 (de) * | 2014-09-01 | 2016-03-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauteil |
DE102014112883A1 (de) * | 2014-09-08 | 2016-03-10 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauteil |
JP5721894B2 (ja) * | 2014-09-25 | 2015-05-20 | 株式会社東芝 | 光半導体装置 |
JP6582382B2 (ja) | 2014-09-26 | 2019-10-02 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
US20160111581A1 (en) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | Semiconductor Components Industries, Llc | Packaged semiconductor devices and related methods |
JP6486078B2 (ja) * | 2014-11-21 | 2019-03-20 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置 |
US9978581B2 (en) * | 2014-12-02 | 2018-05-22 | Masataka Kamahara | Lighting device and lighting device manufacturing method |
US10205063B2 (en) | 2014-12-08 | 2019-02-12 | Lumileds Llc | Wavelength converted semiconductor light emitting device |
JP6476854B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-03-06 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子の製造方法 |
JP2015073140A (ja) * | 2015-01-20 | 2015-04-16 | 日東電工株式会社 | 発光ダイオード装置 |
TWI649900B (zh) * | 2015-02-04 | 2019-02-01 | 億光電子工業股份有限公司 | Led封裝結構及其製造方法 |
CN105990498A (zh) * | 2015-03-18 | 2016-10-05 | 新世纪光电股份有限公司 | 芯片封装结构及其制造方法 |
JP6006824B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-12 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置およびその製造方法 |
EP3279951B1 (en) * | 2015-04-03 | 2019-09-11 | Soko Kagaku Co., Ltd. | Nitride-semiconductor ultraviolet-light emitting element |
CN107615497B (zh) * | 2015-05-29 | 2019-05-21 | 西铁城电子株式会社 | 发光装置及其制造方法 |
JP6179555B2 (ja) | 2015-06-01 | 2017-08-16 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP5967269B2 (ja) * | 2015-06-11 | 2016-08-10 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
DE102015109413A1 (de) * | 2015-06-12 | 2016-12-15 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Konversions-Halbleiterchips und Verbund von Konversions-Halbleiterchips |
TWI587545B (zh) * | 2015-06-30 | 2017-06-11 | 艾笛森光電股份有限公司 | 發光模組以及具有此發光模組的頭燈 |
JP6623577B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2019-12-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
KR102378761B1 (ko) * | 2015-07-21 | 2022-03-25 | 엘지이노텍 주식회사 | 일체형 발광 패키지 및 이를 이용한 차량용 램프 |
DE102015112042B4 (de) * | 2015-07-23 | 2021-07-01 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronische Leuchtvorrichtung |
JP6217705B2 (ja) | 2015-07-28 | 2017-10-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
KR102501878B1 (ko) * | 2015-08-13 | 2023-02-21 | 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 | 발광소자 패키지 |
KR102373677B1 (ko) | 2015-08-24 | 2022-03-14 | 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 | 발광소자 |
US10170455B2 (en) * | 2015-09-04 | 2019-01-01 | PlayNitride Inc. | Light emitting device with buffer pads |
JP6667237B2 (ja) * | 2015-09-11 | 2020-03-18 | アルパッド株式会社 | 発光装置 |
CN111211206A (zh) | 2015-09-18 | 2020-05-29 | 新世纪光电股份有限公司 | 发光装置及其制造方法 |
CN105336837A (zh) * | 2015-09-29 | 2016-02-17 | 佛山市国星光电股份有限公司 | 一种led器件及其制作方法 |
JP6072192B2 (ja) * | 2015-10-22 | 2017-02-01 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置、半導体発光装置の製造方法、発光装置の製造方法 |
KR102481646B1 (ko) | 2015-11-12 | 2022-12-29 | 삼성전자주식회사 | 반도체 발광소자 패키지 |
US10510934B2 (en) * | 2015-11-30 | 2019-12-17 | Nichia Corporation | Light emitting device |
CN108475712B (zh) * | 2015-12-01 | 2021-11-09 | 夏普株式会社 | 图像形成元件 |
TWI583028B (zh) * | 2016-02-05 | 2017-05-11 | 行家光電股份有限公司 | 具有光形調整結構之發光裝置及其製造方法 |
CN107046091B (zh) * | 2016-02-05 | 2020-03-06 | 行家光电股份有限公司 | 具光形调整结构的发光装置及其制造方法 |
US10797209B2 (en) | 2016-02-05 | 2020-10-06 | Maven Optronics Co., Ltd. | Light emitting device with beam shaping structure and manufacturing method of the same |
JP2017157724A (ja) * | 2016-03-02 | 2017-09-07 | デクセリアルズ株式会社 | 表示装置及びその製造方法、並びに発光装置及びその製造方法 |
JP6447548B2 (ja) * | 2016-03-14 | 2019-01-09 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
JP6447557B2 (ja) * | 2016-03-24 | 2019-01-09 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
JP6304297B2 (ja) | 2016-04-06 | 2018-04-04 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
CN109791968A (zh) * | 2016-07-26 | 2019-05-21 | 克利公司 | 发光二极管、组件和相关方法 |
JP6724634B2 (ja) | 2016-07-28 | 2020-07-15 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
CN109844970B (zh) * | 2016-07-28 | 2023-04-04 | 亮锐有限责任公司 | 具有反射侧覆层的发光器件封装 |
US10193043B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-01-29 | Lumileds Llc | Light emitting device package with reflective side coating |
TWI599078B (zh) * | 2016-08-05 | 2017-09-11 | 行家光電股份有限公司 | 具濕氣阻隔結構之晶片級封裝發光裝置 |
EP3279952A1 (en) | 2016-08-05 | 2018-02-07 | Maven Optronics Co., Ltd. | Moisture-resistant chip scale packaging light-emitting device |
CN107706281B (zh) * | 2016-08-09 | 2019-07-19 | 行家光电股份有限公司 | 具湿气阻隔结构的晶片级封装发光装置 |
CN107946441A (zh) * | 2016-10-12 | 2018-04-20 | 亿光电子工业股份有限公司 | 发光装置及发光二极管封装结构 |
US10388838B2 (en) | 2016-10-19 | 2019-08-20 | Genesis Photonics Inc. | Light-emitting device and manufacturing method thereof |
JP6932910B2 (ja) * | 2016-10-27 | 2021-09-08 | 船井電機株式会社 | 表示装置 |
US10971663B2 (en) | 2016-11-08 | 2021-04-06 | Stanley Electric Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device |
US10340425B2 (en) | 2016-11-25 | 2019-07-02 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting diode having light blocking layer |
JP2018101464A (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 波長変換部材、プロジェクタおよび照明装置 |
JP6566016B2 (ja) * | 2016-12-21 | 2019-08-28 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
JP6583247B2 (ja) * | 2016-12-21 | 2019-10-02 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US10580932B2 (en) | 2016-12-21 | 2020-03-03 | Nichia Corporation | Method for manufacturing light-emitting device |
JP6885055B2 (ja) | 2016-12-26 | 2021-06-09 | 日亜化学工業株式会社 | 充填材、樹脂組成物、パッケージ、発光装置及びそれらの製造方法 |
KR101920259B1 (ko) | 2016-12-26 | 2018-11-26 | (주)솔라루체 | 시트블록을 갖는 led 모듈 |
CN108336075B (zh) * | 2017-01-20 | 2020-03-27 | 光宝光电(常州)有限公司 | 发光二极管封装结构、发光二极管封装模块及其成形方法 |
CN106960821B (zh) * | 2017-03-14 | 2019-02-05 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 一种led组件及其制备方法 |
CN106848036B (zh) * | 2017-03-14 | 2018-10-30 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 一种led封装结构及其封装方法 |
JP6399132B2 (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-03 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
EP3396725B1 (en) * | 2017-04-25 | 2021-01-13 | Nichia Corporation | Light emitting device and method of manufacturing same |
JP6835962B2 (ja) * | 2017-05-30 | 2021-02-24 | シャープ株式会社 | 半導体モジュール、表示装置、および半導体モジュールの製造方法。 |
CN116884966A (zh) * | 2017-07-21 | 2023-10-13 | 日亚化学工业株式会社 | 背光装置以及光源 |
JP7037034B2 (ja) * | 2017-08-31 | 2022-03-16 | 日亜化学工業株式会社 | 充填材、樹脂組成物、パッケージ、発光装置及びそれらの製造方法 |
TW202249306A (zh) | 2017-11-05 | 2022-12-16 | 新世紀光電股份有限公司 | 發光裝置 |
US10784423B2 (en) | 2017-11-05 | 2020-09-22 | Genesis Photonics Inc. | Light emitting device |
JP7080625B2 (ja) * | 2017-12-01 | 2022-06-06 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置 |
KR20190074233A (ko) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 서울반도체 주식회사 | 발광 소자 및 이를 포함하는 발광 모듈 |
JP6555335B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2019-08-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及び発光装置の製造方法 |
CN110137332A (zh) | 2018-02-08 | 2019-08-16 | 隆达电子股份有限公司 | 发光二极管封装结构 |
JP6528872B2 (ja) * | 2018-03-01 | 2019-06-12 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
TWI688806B (zh) * | 2018-03-23 | 2020-03-21 | 行家光電股份有限公司 | 線型光源發光裝置、背光模組及發光裝置 |
EP3543776B1 (en) * | 2018-03-23 | 2024-06-26 | Maven Optronics Co., Ltd. | Chip-scale linear light-emitting device |
CN110364608B (zh) * | 2018-03-26 | 2022-02-25 | 行家光电股份有限公司 | 晶片级线型光源发光装置 |
JP7115888B2 (ja) * | 2018-04-02 | 2022-08-09 | 日本特殊陶業株式会社 | 光波長変換部材及び発光装置 |
US11024785B2 (en) * | 2018-05-25 | 2021-06-01 | Creeled, Inc. | Light-emitting diode packages |
WO2019244582A1 (ja) * | 2018-06-21 | 2019-12-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 白色発光装置 |
JP7178820B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2022-11-28 | シチズン時計株式会社 | Led発光装置 |
JP6729648B2 (ja) * | 2018-08-27 | 2020-07-22 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US11335833B2 (en) | 2018-08-31 | 2022-05-17 | Creeled, Inc. | Light-emitting diodes, light-emitting diode arrays and related devices |
USD902448S1 (en) | 2018-08-31 | 2020-11-17 | Cree, Inc. | Light emitting diode package |
US11233183B2 (en) | 2018-08-31 | 2022-01-25 | Creeled, Inc. | Light-emitting diodes, light-emitting diode arrays and related devices |
KR102065965B1 (ko) * | 2018-09-12 | 2020-01-14 | 유재익 | 광추출 효율이 개선된 자외선 조사용 led칩 |
KR102655479B1 (ko) * | 2018-09-13 | 2024-04-08 | 엘지전자 주식회사 | Led 필름 |
JP6822455B2 (ja) * | 2018-09-19 | 2021-01-27 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP7161100B2 (ja) * | 2018-09-25 | 2022-10-26 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
KR102590229B1 (ko) * | 2018-10-15 | 2023-10-17 | 삼성전자주식회사 | Led 소자 및 led 소자의 제조 방법 |
US11482650B2 (en) | 2018-11-07 | 2022-10-25 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device including light shielding layer |
JP6601552B2 (ja) * | 2018-12-05 | 2019-11-06 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
CN109860164A (zh) * | 2019-02-26 | 2019-06-07 | 深圳市穗晶光电股份有限公司 | 一种基于陶瓷荧光片封装的车用led光源及其封装工艺 |
JP7057508B2 (ja) | 2019-03-28 | 2022-04-20 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US11101411B2 (en) | 2019-06-26 | 2021-08-24 | Creeled, Inc. | Solid-state light emitting devices including light emitting diodes in package structures |
US11189757B2 (en) * | 2019-12-12 | 2021-11-30 | Lumileds Llc | Light emitting diodes with reflective sidewalls comprising porous particles |
JP7434037B2 (ja) | 2020-04-03 | 2024-02-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 発光素子の実装方法および表示装置 |
TWI764341B (zh) * | 2020-04-07 | 2022-05-11 | 億光電子工業股份有限公司 | 發光裝置 |
US11444225B2 (en) | 2020-09-08 | 2022-09-13 | Dominant Opto Technologies Sdn Bhd | Light emitting diode package having a protective coating |
DE102020125056A1 (de) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches bauelement und verfahren zur herstellung eines optoelektronischen bauelements |
US11329206B2 (en) | 2020-09-28 | 2022-05-10 | Dominant Opto Technologies Sdn Bhd | Lead frame and housing sub-assembly for use in a light emitting diode package and method for manufacturing the same |
JP7248935B2 (ja) * | 2020-12-03 | 2023-03-30 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP2023000660A (ja) * | 2021-06-18 | 2023-01-04 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置 |
JP2023000659A (ja) * | 2021-06-18 | 2023-01-04 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置 |
CN113437198B (zh) * | 2021-07-13 | 2023-01-03 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所广东(佛山)研究院 | 一种深紫外led封装方法 |
TWI792460B (zh) * | 2021-07-28 | 2023-02-11 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板及其製造方法 |
JP2023076327A (ja) | 2021-11-22 | 2023-06-01 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置及び半導体発光モジュール |
WO2024006168A1 (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | Lumileds Llc | Improved phosphor-converted light emitting device |
WO2024091380A1 (en) * | 2022-10-28 | 2024-05-02 | Applied Materials, Inc. | Apparatus, systems, and methods of using a retaining device for light-emitting diode laser lift-off |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11320962A (ja) | 1998-05-19 | 1999-11-24 | Canon Inc | Led露光ヘッド |
US6653765B1 (en) * | 2000-04-17 | 2003-11-25 | General Electric Company | Uniform angular light distribution from LEDs |
JP2002050800A (ja) | 2000-05-24 | 2002-02-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置及びその形成方法 |
US6614103B1 (en) * | 2000-09-01 | 2003-09-02 | General Electric Company | Plastic packaging of LED arrays |
RU2187175C1 (ru) | 2001-04-05 | 2002-08-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Корвет-Лайтс" | Светодиодное устройство |
JP3991612B2 (ja) | 2001-04-09 | 2007-10-17 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子 |
DE10137641A1 (de) * | 2001-08-03 | 2003-02-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Hybrid-LED |
CN100423296C (zh) | 2001-09-03 | 2008-10-01 | 松下电器产业株式会社 | 半导体发光元件、发光装置及半导体发光元件的制造方法 |
US6870311B2 (en) * | 2002-06-07 | 2005-03-22 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Light-emitting devices utilizing nanoparticles |
CN101555128A (zh) * | 2003-01-20 | 2009-10-14 | 宇部兴产株式会社 | 用于光转化的陶瓷复合材料及其应用 |
JP4507636B2 (ja) | 2003-03-27 | 2010-07-21 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体発光素子 |
US20070013057A1 (en) * | 2003-05-05 | 2007-01-18 | Joseph Mazzochette | Multicolor LED assembly with improved color mixing |
US6914261B2 (en) * | 2003-10-10 | 2005-07-05 | Lambda Opto Technology Co., Ltd. | Light emitting diode module |
JP4443188B2 (ja) | 2003-10-30 | 2010-03-31 | 京セラ株式会社 | 発光素子収納用パッケージおよび発光装置 |
US7717589B2 (en) * | 2003-11-25 | 2010-05-18 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Light emitting device using light emitting diode chip |
JP2005191420A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Stanley Electric Co Ltd | 波長変換層を有する半導体発光装置およびその製造方法 |
JP4516337B2 (ja) | 2004-03-25 | 2010-08-04 | シチズン電子株式会社 | 半導体発光装置 |
WO2005104247A1 (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Led照明光源の製造方法およびled照明光源 |
JP4667803B2 (ja) | 2004-09-14 | 2011-04-13 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP2006093612A (ja) | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | 発光装置および照明装置 |
US7419839B2 (en) | 2004-11-12 | 2008-09-02 | Philips Lumileds Lighting Company, Llc | Bonding an optical element to a light emitting device |
US20080143242A1 (en) * | 2005-02-16 | 2008-06-19 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Light Emitting Device Comprising Inorganic Light Emitting Diode (S) |
TWI419375B (zh) * | 2005-02-18 | 2013-12-11 | Nichia Corp | 具備控制配光特性用之透鏡之發光裝置 |
WO2006104061A1 (ja) | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Kyocera Corporation | 反射部材、これを用いた発光装置および照明装置 |
DE602006003087D1 (de) | 2005-04-20 | 2008-11-20 | Philips Intellectual Property | Beleuchtungssystem mit einem keramischen lumineszenzumwandler |
JP2007019096A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置及びその製造方法 |
JP5196711B2 (ja) | 2005-07-26 | 2013-05-15 | 京セラ株式会社 | 発光装置およびそれを用いた照明装置 |
EP1935921B1 (en) * | 2005-09-22 | 2017-01-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Sealant for semiconductor light emitting device and method for manufacturing such sealant, and semiconductor light emitting device using such sealant |
JP2007173397A (ja) | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 発光モジュールとこれを用いた表示装置及び照明装置 |
EP2089916A1 (en) | 2006-11-07 | 2009-08-19 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Arrangement for emitting mixed light |
RU2489774C2 (ru) * | 2007-11-29 | 2013-08-10 | Нития Корпорейшн | Светоизлучающее устройство и способ его изготовления |
-
2008
- 2008-11-26 RU RU2010126475/28A patent/RU2489774C2/ru active
- 2008-11-26 WO PCT/JP2008/071473 patent/WO2009069671A1/ja active Application Filing
- 2008-11-26 EP EP08853642.0A patent/EP2216834B1/en active Active
- 2008-11-26 US US12/745,250 patent/US9024340B2/en active Active
- 2008-11-26 KR KR1020107011634A patent/KR101517644B1/ko active IP Right Grant
- 2008-11-26 CN CN2008801181736A patent/CN101878540B/zh active Active
- 2008-11-26 JP JP2009543833A patent/JP5526782B2/ja active Active
- 2008-11-28 TW TW097146455A patent/TWI501431B/zh active
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