JPS63257939A

JPS63257939A - 光磁気デイスクの保護被覆剤

Info

Publication number: JPS63257939A
Application number: JP9260587A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Omori; 康司大森
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1987-04-15
Filing date: 1987-04-15
Publication date: 1988-10-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、光磁気ディスクの記録層を保護するための被
覆剤に関する。更に詳しくは、樹脂製基板を用いた光磁
気ディスクの保護膜とじて光増感剤を含む紫外線硬化型
樹脂とエポキシ樹脂との混合物からなる光磁気ディスク
の保護被覆剤に関する。

（従来技術）従来、消去書替可能な高密度メモリーに利用される光照
射による加熱で記録され、磁気カー効果、ファラデー効
果などの磁気光学効果を利用して読み出しの出来る光磁
気ディスクがある。

光磁気ディスクの記録膜には特にＧｄＴｂＦｅＣｏからなる非晶質薄膜が優れており、大
面積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の製膜性、信
号と小さな光熱エネルギーで書き込むための書き込み効
率、及び書き込まれた信号をＳ／Ｎ比よく読み出すため
の読み出し効率、大きなカー回転角、１５０°Ｃ前後の
キューリ一点を持つので光磁気記録媒体として最適であ
る。

しかしながら、一般にＧｄＴｂＦｅＣｏ等の光磁気記録
膜層は鮒な性が悪いという欠点を持っている。即ち大気
、水蒸気に触れると酸化されて磁気特性が低下し、最終
的には完全に酸化されて透明化する。

記録膜の酸化を防止するためＳｉｎ、　５ｉ０２゜Ｓｉ
３Ｎ４．　Ａｌ２Ｏ３の無機物の保護層で記録膜をサン
ドイッチするか、及び！又は防湿性を有するハロゲン化
有機樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂、熱硬化型エポ
キシ系樹脂で記録膜を被覆する方法が提案されている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、Ｓｉｎ、　５ｉ０２等の無機物の保護層
は蒸着・スパッタ等の真空装置を使って成膜しなければ
ならず、又その成膜にも時間がかかるため設備投資及び
人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコストを上昇さ
せる原因となっていた。

また、ハロゲン化有機樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹
脂、ＥＶＡホットメルト樹脂、熱硬化型エポキシ系樹脂
等の有機樹脂からなる保護層の場合はスプレー、コータ
ー、印刷、スピンナー、浸漬法等のコーティング方法で
記録層の上に均一に塗布でき、溶剤揮散、加熱、２液温
合、紫外線照射等により硬化できるので、短時間で保護
層が形成され、設備費が少なく、作業性の点からも優れ
、低コストで製造できるという点では無機物の保護層よ
り優れている。

しかしながら、樹脂製基板上に設けられた光磁気記録層
は若干の通気性があり、記録膜と基板との密着性も強く
はないので有機樹脂からなる保護層を塗布した時に、有
機樹脂中に含まれる溶剤や七ツマ−が浸透し、記録膜層
にシミ、斑点、ピンホール等を生ずる。このようなディ
スクにレーザー光を照射して記録、再生するとビットエ
ラーとして現れる。また加熱、紫外線照射等により硬化
させた時に硬化収縮により基板がソリ返り（湾１１１１
）、記録再生時にレーザー光を照射するヘッドが追随で
きず、フォーカスエラー、トラッキングエラーとなり、
甚だしい時には全く記録再生が出来なくなってしまう。

通常ディスクのソリを矯正するために保護層を設けた２
枚の同じディスクを記録膜を内側にして接着剤で貼り合
わせている。このようにするとソリは修正されるが、硬
化収縮によりソリ（湾曲）が生じた時点で基板と記録膜
と保護膜との間に応力歪が生じており、この時すでに記
録膜には多数のピンホールが発生している。

従って、２枚貼り合わせてソリを修正してもピンホール
の増加によるビットエラーは解消されない。それ故、本
発明者等は磁気記録層にピンホールを発生させない保護
層としての保護被覆剤を特願昭６１　＋　２４４７８０
で提案している。この被覆剤は紫外線硬化樹脂であって
、硬化収縮率が５％以下の樹脂と硬化収縮率が５％を超
える樹脂の混合物からなっている。

しかしながら、この被覆剤からなる保護層は記録層に発
生するピンホールは少なくすることができるけれども、
６０’Ｃ，９０％相対湿度条件下での耐久性促進テスト
でほぼ１０００時間目に該保護層にクラックを生じた。

このクラックは室内に取り出し、数日間放置すると消失
し、外観上は問題ないけれども、このようなりラックは
ノイズレベル悪化の原因になるので好ましくない。

（問題点を解決するための手段）本発明の光磁気ディスクの保護被覆剤は、少なくとも１
枚の樹脂製基板を有し、該基板上に情報を記録するため
の磁気記録層を設け、当該磁気記録層に光を照射して情
報の記録、再生、消去を行い得る光磁気ディスクであっ
て、前記磁気記録層が有機合成樹脂により被覆され、外
部空間から閉塞されてなる光磁気ディスクにおいて、前
記有機合成樹脂被覆居が光増感剤を含む紫外線硬化型樹
脂と硬化剤を含まないエポキシ樹脂との混合物からなる
ことを特徴とする。

（発明を実施するために好適な態様）本発明の樹脂基板を用いた光磁気ディスクの保護被覆剤
は光増感剤を含む紫外線硬化型樹脂と硬化剤を含まない
エポキシ樹脂との混合物からなる。

硬化剤とはアミン系、ポリアミド系、無水マレイン酸系
などを挙げることができる。被覆方法は樹脂製基板の上
に設けた光磁気記録層の上にスプレーアプリケーターワ
イヤーバーロールコータ−、フローコーター、スクリー
ン印刷、スピンコーター、ディッピング法等のコーティ
ング法で均一に塗布できる。

本発明で使用される光増感剤としてはベンゾフェノン系
、アセトフェノン系、アントラキノン系、オキシムエス
テル系等が挙げられる。紫外線硬化型樹脂はアクリル系
多官能化合物、ウレタン変性多官能アクリル系、エポキ
シ変性多官能アクリル系、ポリエステル変性多官能アク
リル系などのいずれであってもよい。好ましくは溶剤、
モノマーを含まず、粘度が５００〜１０００ｃｐｓ　／
　２５°Ｃの範囲が好ましい。また、硬化収縮率は５％
前後が好ましい。硬化収縮率が５％以下の紫外硬化樹脂
としては市販の紫外線硬化型樹脂のほとんどが適用でき
る。紫外線硬化表面硬化（ハードコート）剤にも硬化収
縮率が５％以下のものがあるけ“れども、はとんどの表
面硬化剤には溶剤、アクリルモノマーを含んでいるので
好ましくない。硬化収縮率が５％を超える紫外線硬化樹
脂としては市販の紫外線硬化保護コート剤のほとんどが
適用できる。

一方エボキシ樹脂の方はグルシジルエーテル系、フェノ
ールノボラック系、クレゾールノボラック系、脂環式系
、グリシジルエステル系、線状脂肪族系、ハロゲン化系
などのいずれであってもよい。好ましくは溶剤、モノマ
ーを含まず、粘度が５００〜１０００ｃｐｓ　／　２５
°Ｃの範囲が好ましい。また、本発明で用いられる紫外
線硬化型樹脂と相溶性があり、塗布された保護膜が無色
透明であることが好ましい。

次に紫外線硬化型樹脂とエポキシ樹脂との両者の混合比
率は混入されるエポキシ樹脂が少なすぎる場合は６０°
Ｃ２９０％相対湿度の条件下での耐久試験で保護層にク
ラックを生ずる。また、エポキシ樹脂の混入量が多ずぎ
る場合は保護層がやわらかくなるだけでなく、記録層に
ピンホールが発生しやすくなり好ましくない。混入比率
の範囲は紫外線硬化型樹脂が９０重量％、エポキシ樹脂
が１０重重量から紫外線硬化型樹脂が６０重量％、エポ
キシ樹脂が４０重量％までであり、好ましくは紫外線硬
化型樹脂が８０重量％、エポキシ樹脂が２０重量％であ
る。

保護層の厚みは通常０．５〜１１００ｐであり、好まし
くは２０〜５０ｐｍである。厚みが少なすぎるとひっか
き傷による記録膜の破壊があり、多すぎると適切な硬化
が行われない。

本発明のディスクはソリ（湾曲）がないのでそのまま単
板でも使用できるし、記録層を内側にして接着剤で２枚
を貼り合わせて使用することも出来る。

（発明の効果）樹脂基板を用いた光磁気ディスク記録層の上に保護層と
して本発明の光増感剤を含む紫外線硬化型樹脂と硬化剤
を含まないエポキシ樹脂との混合物からなる被覆剤を塗
布した光磁気ディスクはそのまま単板で使用してもソリ
（湾ａ）がないので、フォーカスエラー、トラッキング
エラーを生ずることがなく、基板、記録層、保護層間の
応力歪が小さいので記録層にピン系−ルの発生が少なく
、そのためにビットエラーを少なくすることができる。

また応力歪が小さいことは長期間保存に於て基板、記録
膜、保護膜の形状変化が少なく、６０’Ｃ，９０％相対
湿度条件下での耐久促進テストにおいてもクラックを発
生しない。

（実施例）以下、本発明は実施例により更に詳細に第１図も添付し
て説明する。

実施例１ポリカーボネート系樹脂よりなる同心円溝付ドーナツ状
の基板１に反射防止と防湿効果を有する無アルカリガラ
ス層２をマグ木トロンスパッタリング法で５０ＯＡの厚
さに積層し、更に記録層３と１．て厚さ７００人のＧｄ
ＴｂＦｅＣｏをスパッタ法で、その上に無アルカリガラ
ス層４を５０ＯＡそれぞれ積層し、その後保護層５とし
てアクリル系の紫外線硬化型樹脂（ＩＮＣ−１１７，日
本化桑株）を８０重量％とエポキシ樹脂（エコボンド４
５．エマ−ソン＆カミングカンパニー）を２０重量％混
合した本発明の保護被覆剤をスピンコード法により３０
ｐｍ厚に無アルカリガラス層４上に塗布し、高圧水銀灯
を用い１６０ｗ　／　ｃｍ、照射距離１５ｃｍで１０秒
間照射し、１分間空冷してから更に１０秒間照射して保
護被覆剤を硬化させ保護層５とした。

この光磁気ディスクはほとんどソリ（湾曲）がなく、ピ
ンホールもほとんど増加していなかった。更にこのディ
スクを６０°Ｃ２９０％相対湿度の条件下に１０００時
間放置しても、ソリとピンホールは耐久テスト前の値と
ほとんど変わらず、記録層、保護層共クラックの発生は
なかった。結果を表１に示した。

実施例２保護被覆剤としてアクリル系の紫外線硬化型樹脂（ＩＮ
Ｃ−１１７，Ｉ　１本化薬株）を４０重量％、アクリル
系の紫外線硬化保護膜用コート剤（ＥＸ−１，大日本イ
ンキ株）を４０重量％、エポキシ樹脂（エコボンド４５
．エマーソン＆カミングカンパニー）ｔ−２０ｆｆｌ量
％を混合し、保護層５としてスピンコード法により塗布
した以外は実施例１と同様にして光磁気ディスクを作成
した。このディスクも６０°Ｃ２９０％相対湿度の条件
下に１０００時間放置してもソリとピンホールは耐久テ
スト前の値とほとんど変わらず記録層、保護層共クラッ
クの発生はなかった。結果を表１に示した。

実施例３保護被覆剤としてアクリル系の紫外線硬化保護コート剤
（ＥＸ−１，大日本インキ株）を８０重量％。

エポキシ樹脂（エコボンド４５．エマーソン＆カミング
カンパニー）を２０重量％を混合し、保３ｔｉ　ｆｊＪ
５としてスピンコード法により塗布した以外は実施例１
と同様にして光磁気ディスクを作成した。このディスク
も６０°Ｃ２９０％相対湿度の条件下に１０００時間放
置してもソリとピンホールは耐久テスト前め値とほとん
ど変わらず記録層、保護層共クラックの発光はなかった
。結果を表１に示した。

比較例１保護被覆剤としてアクリル系の紫外線硬化型樹脂（ＩＮ
Ｃ−１１７，日本化桑株）のみを保護層５としてスピン
コード法により塗布した以外は実施例１と同様にして光
磁気ディスクを作成した。このディスクは６０°Ｃ９９
０％相対湿度の条件下に１０００時間放置すると、基板
を内側に（記録膜を外側に）ソリ返り（湾曲し）、記録
膜、保護膜共にクラックが生じていた。結果を表１に示
す。

比較例２保護被覆剤としてアクリル系の紫外線硬化型樹脂（ＩＮ
Ｃ−１１７，日本化桑株）５０重重量とアクリル系の紫
外線硬化保護コート剤（ＥＸ−１，大日本インキ株）５
０重量％を混合し、保護層５としてスピンコード法によ
り塗布した以外は実施例１と同様にして光磁気ディスク
を作成した。このディスクは６０°Ｃ９９０％相スに’
＋−１度の条件下に１０００時間放置すると基板のソリ
返りはなかったが、記録膜、保護膜共にクラックが生じ
ていた。結果を表１に示す。

Ｓ　Ｉ　　□Ｓ −Ｉ＋１　　　　州 ※　　　※ 比較例３保護被覆剤としてアクリル系の紫外線硬化保護コート剤
（ＥＸ−１，大日本インキ株）を保護層５としてスピン
コード法により塗布した以外は実施例１と同様にして光
磁気ディスクを作成した。このディスクは６０°Ｃ９９
０％相対湿度の条件下に１０００時間放置すると記録膜
を内側に（基板を外側に）ソリ返り（湾曲し）、記録層
のピンホールも増加し、更に記録膜、保護膜共にクラッ
クが生じていた。結果を表１に示す。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光磁気ディスクの模式断面図である
。（符号の簡単な説明）１　：樹脂製基板２　：１反射防１１−兼防湿層３　：記録層４：反射防止兼防湿層５　：保護層レーザー光

Claims

【特許請求の範囲】

少なくとも１枚の樹脂製基板を有し、該基板上に情報を
記録するための磁気記録層を設け、当該磁気記録層に光
を照射して情報の記録、再生、消去を行い得る光磁気デ
ィスクであって、前記磁気記録層が有機合成樹脂により
被覆され、外部空間から閉塞されてなる光磁気ディスク
において、前記有機合成樹脂被覆層が光増感剤を含む紫
外線硬化型樹脂と硬化剤を含まないエポキシ樹脂との混
合物からなることを特徴とする光磁気ディスクの保護被
覆剤。