JPS6396757A - 光デイスク記録膜の保護方法 - Google Patents
光デイスク記録膜の保護方法Info
- Publication number
- JPS6396757A JPS6396757A JP24037486A JP24037486A JPS6396757A JP S6396757 A JPS6396757 A JP S6396757A JP 24037486 A JP24037486 A JP 24037486A JP 24037486 A JP24037486 A JP 24037486A JP S6396757 A JPS6396757 A JP S6396757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording film
- optical disc
- recording
- layers
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 25
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 60
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 208000013201 Stress fracture Diseases 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光ディスク記録膜の保護方法に関する。さらに
詳しくは光磁気ディスク記録膜を保護するために保護膜
を塗布し、記録膜を内側にして2枚のディスクを接着剤
で貼り合わせてなる光ディスク記録膜の保護方法に関す
る。
詳しくは光磁気ディスク記録膜を保護するために保護膜
を塗布し、記録膜を内側にして2枚のディスクを接着剤
で貼り合わせてなる光ディスク記録膜の保護方法に関す
る。
(従来の技術)
従来、消去書替可能な高密度メモリーに利用される光照
射による加熱で記録され、磁気力効果、ファラデー効果
などの磁気光学効果を利用して読み出しのできる光磁気
ディスクがある。
射による加熱で記録され、磁気力効果、ファラデー効果
などの磁気光学効果を利用して読み出しのできる光磁気
ディスクがある。
光磁気ディスクの記録膜には特にGdTbFeCoから
なる非晶質薄膜がすぐれておシ、大面積の薄@全室温近
傍の温度で製作する際の製膜性、信号と小さな光熱エネ
ルギーで書込むための書き込み効率、および書込まれた
信号をS/N比よく読み出すための読み出し効率、15
0°C前後のキューリ一点を持つので光磁気記録媒体と
して最適である。
なる非晶質薄膜がすぐれておシ、大面積の薄@全室温近
傍の温度で製作する際の製膜性、信号と小さな光熱エネ
ルギーで書込むための書き込み効率、および書込まれた
信号をS/N比よく読み出すための読み出し効率、15
0°C前後のキューリ一点を持つので光磁気記録媒体と
して最適である。
しかし乍ら、一般にGdTbFeCo等の光磁気記録膜
層は耐食性が悪いという欠点を有している。すなわち大
気、水蒸気に触れると酸化されて磁気特性が低下し、最
終的には完全に酸化されて透明化する。
層は耐食性が悪いという欠点を有している。すなわち大
気、水蒸気に触れると酸化されて磁気特性が低下し、最
終的には完全に酸化されて透明化する。
記録膜の酸化を防止するためSin、Sin、、Sl、
N、 、 Ae、 O,等の無機物の保護層で記録膜を
サンドイッチするか及び/l−たけ防湿性を有するハロ
ゲン化有機閲脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂、−11
、、熱硬化 型エポキシ樹脂等で記録膜を被覆する方法が提案されて
いる。
N、 、 Ae、 O,等の無機物の保護層で記録膜を
サンドイッチするか及び/l−たけ防湿性を有するハロ
ゲン化有機閲脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂、−11
、、熱硬化 型エポキシ樹脂等で記録膜を被覆する方法が提案されて
いる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし乍ら、S:LO,Sj−○2等の無機物の保護層
は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しなければ
ならず、またその成膜にも時間がかかるため設備投資お
よび人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコヌトを上
昇させる原因となっていた。
は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しなければ
ならず、またその成膜にも時間がかかるため設備投資お
よび人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコヌトを上
昇させる原因となっていた。
またハロゲン化有機樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂
、熱硬化型エポキシ系樹脂等の有機樹脂からなる保護層
の場合はスプレー、コーター、印刷、スピンナー、浸漬
法等の塗布方法で記録層等の上に均一に塗布でき、溶剤
揮散、加熱、2液温合、紫外線照射等にょ9硬化できる
ので、短時間で保護層が形成され、設備費が少なく、作
業性の点からもすぐれ、低コストで製造できる点では無
機物の保護層よシすぐれている。
、熱硬化型エポキシ系樹脂等の有機樹脂からなる保護層
の場合はスプレー、コーター、印刷、スピンナー、浸漬
法等の塗布方法で記録層等の上に均一に塗布でき、溶剤
揮散、加熱、2液温合、紫外線照射等にょ9硬化できる
ので、短時間で保護層が形成され、設備費が少なく、作
業性の点からもすぐれ、低コストで製造できる点では無
機物の保護層よシすぐれている。
しかし乍ら、樹脂基板上に設けられた光磁気記録層は若
干の通気性があシ、記録膜と基板との密着性も強くはな
いので、有機樹脂からなる保護層を塗布した時に有機樹
脂中に含まれる溶剤やモノマーが記録膜に浸透し、記録
膜にシミ、斑点、ピンホール等を生ずる。
干の通気性があシ、記録膜と基板との密着性も強くはな
いので、有機樹脂からなる保護層を塗布した時に有機樹
脂中に含まれる溶剤やモノマーが記録膜に浸透し、記録
膜にシミ、斑点、ピンホール等を生ずる。
このような樹脂ディスク基板にレーザー光を照射して記
録、再生するとピットエラーとして現われる。また加熱
、紫外線照射等にょυ硬化させた時に硬化収縮により基
板がソリ返り(湾曲)、記録再生時にレーザー光を照射
するヘッドが追随できず、フォーカスエラー、トラッキ
ングエラーとなりはなはだしい時は全く記録再生が出来
なくなってしま−ウ。通常ディスクのソリを矯正するた
めに保護層を設けた2枚の同じディスクを記録膜を内側
にして接着剤で貼り合わせている。このようにするとソ
リは矯正されるが、硬化収縮にょシソリ#(湾曲)が生
じた時点で基板と記録膜と。
録、再生するとピットエラーとして現われる。また加熱
、紫外線照射等にょυ硬化させた時に硬化収縮により基
板がソリ返り(湾曲)、記録再生時にレーザー光を照射
するヘッドが追随できず、フォーカスエラー、トラッキ
ングエラーとなりはなはだしい時は全く記録再生が出来
なくなってしま−ウ。通常ディスクのソリを矯正するた
めに保護層を設けた2枚の同じディスクを記録膜を内側
にして接着剤で貼り合わせている。このようにするとソ
リは矯正されるが、硬化収縮にょシソリ#(湾曲)が生
じた時点で基板と記録膜と。
保護膜との間に応力歪が生じており、この時すでに記録
膜には多数のピンホールが発生している。このピンホー
ルは記録膜の一部分が応力破壊によシ基板から剥離した
ものと考えられている。また各種の方法でコーティング
した際に生ずる機械的なひっがき、引張り、抑圧、遠心
力等の力が加わり、ピンホールとなって現われるものと
も考えられている。従ってこのピンホールは記録膜が酸
化されて透明になったものではないと考えられている。
膜には多数のピンホールが発生している。このピンホー
ルは記録膜の一部分が応力破壊によシ基板から剥離した
ものと考えられている。また各種の方法でコーティング
した際に生ずる機械的なひっがき、引張り、抑圧、遠心
力等の力が加わり、ピンホールとなって現われるものと
も考えられている。従ってこのピンホールは記録膜が酸
化されて透明になったものではないと考えられている。
したがって2枚貼り合わせてソリを修正してもピンホー
ルの増加によるピットエラーは解消されない。
ルの増加によるピットエラーは解消されない。
(問題点を解決するための手段)
前述の問題点の解決に鑑み本発明の光ディスク記録膜の
保護方法はディスク基板がプラスチック円板からな9、
記録層が光磁気記録膜であって、記録膜の両面に無アル
カリガラヌからなる反射防止と防湿効果を有する層をサ
ンドイッチし、その上に有機保護層として2液常温硬化
型エポキシ樹脂が炭素数4のアルコールを含み常温で予
備硬化させてから塗布し、完全硬化された有機保護層に
は炭素数qも、ア/l/ :2− )vが包含された状
態と77、cい、。
保護方法はディスク基板がプラスチック円板からな9、
記録層が光磁気記録膜であって、記録膜の両面に無アル
カリガラヌからなる反射防止と防湿効果を有する層をサ
ンドイッチし、その上に有機保護層として2液常温硬化
型エポキシ樹脂が炭素数4のアルコールを含み常温で予
備硬化させてから塗布し、完全硬化された有機保護層に
は炭素数qも、ア/l/ :2− )vが包含された状
態と77、cい、。
このディスクを2枚、記録層を内側にして反応型ホット
メルト接着剤で貼り合わせてなることを特徴とするもの
である。
メルト接着剤で貼り合わせてなることを特徴とするもの
である。
即ち、本発明は
L 光ディスク基板の記録膜表面に有機保護層を塗布し
常温から100°Cの間で約5分以上乾燥硬化後に該記
録膜を内側とし接着剤で光ディスク基板を貼り合わせる
ことを特徴とする光ディスク記録膜の保護方法。
常温から100°Cの間で約5分以上乾燥硬化後に該記
録膜を内側とし接着剤で光ディスク基板を貼り合わせる
ことを特徴とする光ディスク記録膜の保護方法。
2 前記第1項の有機保護層に2液常温硬化型エポキシ
樹脂を用い且つホラトメl )型接着剤で光ディスク記
録膜を内側とし光ディスク基板を貼り合わせることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク記録膜
の保護方法。
樹脂を用い且つホラトメl )型接着剤で光ディスク記
録膜を内側とし光ディスク基板を貼り合わせることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク記録膜
の保護方法。
3、 前記第1項の光ディスク基板がプラスチック成形
品から成9記録膜が光磁気記録膜で記録膜の片面又は両
面に無アルカリガラ″スから成る反射防止層と防湿層を
有しその上に有機保護層を積層することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法
。
品から成9記録膜が光磁気記録膜で記録膜の片面又は両
面に無アルカリガラ″スから成る反射防止層と防湿層を
有しその上に有機保護層を積層することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法
。
生 前記第2項の2液常温硬化型エポキシ樹脂が炭素数
4のアルコールを含む状態で予備硬化させて光ディスク
基板の記録表面に塗布することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法。
4のアルコールを含む状態で予備硬化させて光ディスク
基板の記録表面に塗布することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法。
5、 前記第2項のホットメルト型接着剤が反応型ホッ
トメルト接着剤であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法である。
トメルト接着剤であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法である。
本発明の光ディスク記録膜の保護方法はディスク基板と
して、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリ
カーボネー1−(PC)などのプラスチック成形品を用
いている。プラスチック基板はガラス基板に比べて、割
れにぐぐ射出成形機によシ容易に大量生産することが出
来るので低コヌトである。
して、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリ
カーボネー1−(PC)などのプラスチック成形品を用
いている。プラスチック基板はガラス基板に比べて、割
れにぐぐ射出成形機によシ容易に大量生産することが出
来るので低コヌトである。
しかし乍ら、プラスチック基板は吸水性があり、また透
過性もあシ、基板の片面に無機物、金属、有機物等の薄
膜を積層すると温度、湿度等の環境条件の変化によりデ
ィスク基板がソリ返り(湾曲し)、更に記録膜が酸化さ
れて磁気特性が低下する。
過性もあシ、基板の片面に無機物、金属、有機物等の薄
膜を積層すると温度、湿度等の環境条件の変化によりデ
ィスク基板がソリ返り(湾曲し)、更に記録膜が酸化さ
れて磁気特性が低下する。
この欠点を解消するために特開昭61−68750では
記録層の保護層として紫外線硬化樹脂を用い、エポキシ
樹脂接着剤で2枚のディスクを貼シ合わせる方法と、記
録層の保護層としてEVA系ホットメルトをオーバーコ
ートし、ゴム系ホットメtV )接着剤で2枚のディス
クを貼シ合わせる方法が提案されている。この方法は非
常にすぐれたものであシ、45°C1相対湿度95%の
耐久試験で1000時間保持できる。
記録層の保護層として紫外線硬化樹脂を用い、エポキシ
樹脂接着剤で2枚のディスクを貼シ合わせる方法と、記
録層の保護層としてEVA系ホットメルトをオーバーコ
ートし、ゴム系ホットメtV )接着剤で2枚のディス
クを貼シ合わせる方法が提案されている。この方法は非
常にすぐれたものであシ、45°C1相対湿度95%の
耐久試験で1000時間保持できる。
しかし乍ら保持力が10%低下というのは長期間例えば
10年間保証する実用レベ/Vを考えた時、未だ充分な
技術水準とは言えない。
10年間保証する実用レベ/Vを考えた時、未だ充分な
技術水準とは言えない。
さらに特開昭61−87253ではガラス基板を用いて
記録層の保護層としてエポキシ樹脂を用い、真空乾燥器
中で120 ℃で熱硬化させる方法が提案されている。
記録層の保護層としてエポキシ樹脂を用い、真空乾燥器
中で120 ℃で熱硬化させる方法が提案されている。
しかし乍ら基板が熱可塑性プラスチックの場合は耐熱性
のよいポリカーボネート円板の場合でも80℃以上では
ソリ返り(湾曲)と生じてしまい、この方法を適用する
ことが出来ない。
のよいポリカーボネート円板の場合でも80℃以上では
ソリ返り(湾曲)と生じてしまい、この方法を適用する
ことが出来ない。
本発明者らはエポキシ樹脂接着剤が比較的硬化収縮率が
小さいことに着目し、さらに硬化収縮率を光磁気ディス
クのソリ(湾曲)の発生が少なくなるようにエポキシ樹
脂に炭素数4のアルコ−/l/l包含させて調整塗布し
念保護層を見い出した。この炭素数4のアルコールは通
常の熱可塑性プラスチックに添加される可塑剤のように
経時変化により表面に浸出してくることはない。
小さいことに着目し、さらに硬化収縮率を光磁気ディス
クのソリ(湾曲)の発生が少なくなるようにエポキシ樹
脂に炭素数4のアルコ−/l/l包含させて調整塗布し
念保護層を見い出した。この炭素数4のアルコールは通
常の熱可塑性プラスチックに添加される可塑剤のように
経時変化により表面に浸出してくることはない。
この炭素数4のアルコールを包含したエポキシ樹脂被覆
剤の製法は、エポキシ樹脂接着剤の主剤と硬化剤を混合
し、その中にn−ゲタノール、1so−ブタノール、t
er−ブタノールのいづれかを添加し攪拌混合すると、
室温で初期にはエポキシ樹脂塗料の沈澱が生成している
が、室温で数時間攪拌を続けると透明な溶液となり、予
備硬化が完了する。この溶液をスピンナーを用いて、光
磁気ディスクの記録膜の上に塗布し、膜厚が5〜50p
、Wl、好ましくは20〜30 Pmになるように調整
する。保護層の膜厚とディスク基板のソリ(湾曲)が少
なくなるようにするには炭素数4のアルコールの添加量
と予備硬化条件とヌピンコート条件を変えることによっ
て任意に調整することが出来る。塗布した保護層の完全
硬化には室温で一日放置するか、60℃で数時間放置す
るとよい。
剤の製法は、エポキシ樹脂接着剤の主剤と硬化剤を混合
し、その中にn−ゲタノール、1so−ブタノール、t
er−ブタノールのいづれかを添加し攪拌混合すると、
室温で初期にはエポキシ樹脂塗料の沈澱が生成している
が、室温で数時間攪拌を続けると透明な溶液となり、予
備硬化が完了する。この溶液をスピンナーを用いて、光
磁気ディスクの記録膜の上に塗布し、膜厚が5〜50p
、Wl、好ましくは20〜30 Pmになるように調整
する。保護層の膜厚とディスク基板のソリ(湾曲)が少
なくなるようにするには炭素数4のアルコールの添加量
と予備硬化条件とヌピンコート条件を変えることによっ
て任意に調整することが出来る。塗布した保護層の完全
硬化には室温で一日放置するか、60℃で数時間放置す
るとよい。
エポキシ樹脂接着剤に炭素数4のアルコールを加えずに
スピンコードを行なうとスピンナーの遠心力によシ記録
膜にシミ、斑点、ピンホールが発生して好ましくない。
スピンコードを行なうとスピンナーの遠心力によシ記録
膜にシミ、斑点、ピンホールが発生して好ましくない。
また炭素数4のア〜コー/I/′ff:加えて予備硬化
させずに′、直ちにスピンコードしても、記録膜にシミ
が発生する。これは炭素数4のアルコールの一部が記録
膜に浸透して基板に到達し、記録膜が浮き上がるためで
ある。この現象は市販の、エポキシ樹脂塗料を用いる時
はさらに著しく、塗料中に含まれる各種溶剤が記録膜に
浸透し、甚しい時は基板のトラッキング溝まで溶解消失
させてしまう。
させずに′、直ちにスピンコードしても、記録膜にシミ
が発生する。これは炭素数4のアルコールの一部が記録
膜に浸透して基板に到達し、記録膜が浮き上がるためで
ある。この現象は市販の、エポキシ樹脂塗料を用いる時
はさらに著しく、塗料中に含まれる各種溶剤が記録膜に
浸透し、甚しい時は基板のトラッキング溝まで溶解消失
させてしまう。
しかして炭素数4のアルコールが包含されているエポキ
シ樹脂硬化保護層が積層されている光磁気ディスク基板
は記録膜にシミ、斑点、ピンホー/L’を発生しないは
かシでなく、経時変化においてもソリの発生が少ないの
で60℃、90%相対湿度の条件下に放置してもピンホ
ールの増加はほとんどなく、したがってビットエラーレ
ートの低下も非常に少ないものである。
シ樹脂硬化保護層が積層されている光磁気ディスク基板
は記録膜にシミ、斑点、ピンホー/L’を発生しないは
かシでなく、経時変化においてもソリの発生が少ないの
で60℃、90%相対湿度の条件下に放置してもピンホ
ールの増加はほとんどなく、したがってビットエラーレ
ートの低下も非常に少ないものである。
この効果は本発明の光磁気デスクに使用されている記録
膜がCdT1)FeC○磁性膜を無アルカリガラスから
なる反射防止、防湿層でサンドイッチされた形に形成さ
れていることも大きく影響しているものである。
膜がCdT1)FeC○磁性膜を無アルカリガラスから
なる反射防止、防湿層でサンドイッチされた形に形成さ
れていることも大きく影響しているものである。
次に接着剤を用いて記録膜を内側にして2枚のディスク
基板を貼り合わせるが、上下2枚のディスクに偏芯が生
じないように固定して硬化が行なわれる。
基板を貼り合わせるが、上下2枚のディスクに偏芯が生
じないように固定して硬化が行なわれる。
この場合エポキシ系接着剤を用いると硬化に長時間を要
するので好ましくない。また短時間で硬化できるエポキ
シ接着剤では接着層と記録層およびディスク基板との間
に応力歪が生じ易く、60°C190%の条件下で記録
膜とディスク基板との間から剥離を起すことがある。
するので好ましくない。また短時間で硬化できるエポキ
シ接着剤では接着層と記録層およびディスク基板との間
に応力歪が生じ易く、60°C190%の条件下で記録
膜とディスク基板との間から剥離を起すことがある。
その点ホットメルト系接着剤で貼り合わせることはすぐ
れた方法である。しかし乍ら、ゴム系のホットメlレト
接着剤を用いた時には60℃、90%相対湿度の条件下
ではピンホールの発生が増加し、ビットエラーレートの
低下が著しい。本発明者らが用いた反応型ホ・フトメ/
l/)接着剤の場合はビットエラーレートの低下は僅か
であった。この理由は明らかでないが、反応型ホットメ
ルト接着剤は貼り合せ硬化後は接着層がゴム系に比べて
60°C190%相対湿度の条件下で耐酸素透過性、防
湿性がすぐれているためではないかと思われる。
れた方法である。しかし乍ら、ゴム系のホットメlレト
接着剤を用いた時には60℃、90%相対湿度の条件下
ではピンホールの発生が増加し、ビットエラーレートの
低下が著しい。本発明者らが用いた反応型ホ・フトメ/
l/)接着剤の場合はビットエラーレートの低下は僅か
であった。この理由は明らかでないが、反応型ホットメ
ルト接着剤は貼り合せ硬化後は接着層がゴム系に比べて
60°C190%相対湿度の条件下で耐酸素透過性、防
湿性がすぐれているためではないかと思われる。
(実施例)
以下、本発明は実施例により更に詳細に第1図に従って
説明する。
説明する。
実施例 1
ポリカーボネート系樹脂よシなるドーナツ状のトラフキ
ング用溝付基板1.1′にそれぞれ反射防止、防湿層2
.2′として厚さ5oolの無アルカリガラス層をマグ
ネトロンスパッタリング後、記録層3.31として厚さ
700λのGclTbFeCoを同じくスパツタリング
法により反射防止防湿層2.2/上にそれぞれ積層し、
その後保護層4.4/とじて炭素数4のアルコ−μ包含
エポキシ樹脂をヌピンコート法によシロ転数500rp
m、s秒とさらに2000rpm%10秒の条件で30
μm 厚に記録層3.3′上にそれぞれ塗布した。
ング用溝付基板1.1′にそれぞれ反射防止、防湿層2
.2′として厚さ5oolの無アルカリガラス層をマグ
ネトロンスパッタリング後、記録層3.31として厚さ
700λのGclTbFeCoを同じくスパツタリング
法により反射防止防湿層2.2/上にそれぞれ積層し、
その後保護層4.4/とじて炭素数4のアルコ−μ包含
エポキシ樹脂をヌピンコート法によシロ転数500rp
m、s秒とさらに2000rpm%10秒の条件で30
μm 厚に記録層3.3′上にそれぞれ塗布した。
ここで保護層4.4′として用いた炭素数4のアルコー
ル包含エポキシ樹脂は以下の如く調製したものである。
ル包含エポキシ樹脂は以下の如く調製したものである。
エポキシ樹脂接着剤の主剤(エコボンド45、クリヤー
;ブレースジャパン■社製)20g、同硬化剤(キャタ
リスト15、り空 リヤ;ブレースジャパン■社m)20gを混合し、これ
にn−ブタノ−/L/ 209を加えて攪拌混合させる
と初期にはエポキシ主剤と思われる白色の沈澱物が生成
しているが、室温で攪拌を続けると、予備硬化が進行し
て2時間後に透明な均一溶液となった。
;ブレースジャパン■社製)20g、同硬化剤(キャタ
リスト15、り空 リヤ;ブレースジャパン■社m)20gを混合し、これ
にn−ブタノ−/L/ 209を加えて攪拌混合させる
と初期にはエポキシ主剤と思われる白色の沈澱物が生成
しているが、室温で攪拌を続けると、予備硬化が進行し
て2時間後に透明な均一溶液となった。
これを保護層被覆用炭素数4のアルコール包含エポキシ
樹脂とした。
樹脂とした。
塗布した保護層付ディスクは一思夜室温で放置し、完全
硬化させた。このディスクの外観は記録膜にシミ、斑点
は全く発生せず、ピンホールの増加も、ソリ(湾曲)の
発生も皆無であった。
硬化させた。このディスクの外観は記録膜にシミ、斑点
は全く発生せず、ピンホールの増加も、ソリ(湾曲)の
発生も皆無であった。
次にこの保護層4.4′上に120°Cで溶融した反応
型ホットメルト接着剤(試作品H1積水化学■社製)5
をロールコータ−を用いて30μmの厚味に塗布した。
型ホットメルト接着剤(試作品H1積水化学■社製)5
をロールコータ−を用いて30μmの厚味に塗布した。
この2つのディスク基板を記録層膜を内側にして保護層
4と保護層4′とを接着加圧し、貼り合わせて本発明の
光ディスク記録膜の保護方法を完成させた。このディス
クを60℃190%相対湿度の条件下に1000時間放
置したところ、ピンホールの増加はほとんどなく、ビッ
トエラーレートは初期の2×10−に対し6×10″と
僅かな低下であった。
4と保護層4′とを接着加圧し、貼り合わせて本発明の
光ディスク記録膜の保護方法を完成させた。このディス
クを60℃190%相対湿度の条件下に1000時間放
置したところ、ピンホールの増加はほとんどなく、ビッ
トエラーレートは初期の2×10−に対し6×10″と
僅かな低下であった。
比較例 1
接着剤として反応型ホットメルト接着剤をゴム系ホット
メ/l/)接着剤に代えて使用した以外は実施例1と同
様にしてポリカーボネート樹脂基板を用dへi固結シ合
わせ光磁気ディスクを作成し、60°C190%相対湿
度の条件下に放置したところ、わずか100時間経過し
ただけでピンホールの発生数は2倍とな9、ビットエラ
ーレートは初期の2X10’に対し、3X10 ’と一
桁も低下していた。
メ/l/)接着剤に代えて使用した以外は実施例1と同
様にしてポリカーボネート樹脂基板を用dへi固結シ合
わせ光磁気ディスクを作成し、60°C190%相対湿
度の条件下に放置したところ、わずか100時間経過し
ただけでピンホールの発生数は2倍とな9、ビットエラ
ーレートは初期の2X10’に対し、3X10 ’と一
桁も低下していた。
比較例 2
保護層として、用いたエポキシ樹脂接着剤主剤(エコボ
ンド45、クリヤー;グレースジャバン■社製)20g
と同硬化剤(キャタリスト15、クリヤー;ブレースジ
ャパン■社製)20gとを混合し、n−ブタノールを加
えずにスピンコーターで実施例1と同様に塗布、硬化さ
せた。この保護膜付きディスクは記録膜に渦巻き状に基
30Pm の大きさの)多数発生していた。
ンド45、クリヤー;グレースジャバン■社製)20g
と同硬化剤(キャタリスト15、クリヤー;ブレースジ
ャパン■社製)20gとを混合し、n−ブタノールを加
えずにスピンコーターで実施例1と同様に塗布、硬化さ
せた。この保護膜付きディスクは記録膜に渦巻き状に基
30Pm の大きさの)多数発生していた。
比較例 3
保護層として、用いたエポキシ樹脂接着゛剤主剤(エコ
ボンド45、クリヤー;グレースジャバン■社製)20
gと同硬化剤(キャタリスト15、クリヤー;ブレース
ジャパン■社1l)209とn−ブタノール209を混
合し、予備硬化させずに直ちに実施例1と同様にスピン
コードし、硬化させた。この保護膜付きディスクは記録
膜面全体にわたって基板側から見て白色に見えるシミ、
斑点が30〜100μmの大きさで多数発生した。
ボンド45、クリヤー;グレースジャバン■社製)20
gと同硬化剤(キャタリスト15、クリヤー;ブレース
ジャパン■社1l)209とn−ブタノール209を混
合し、予備硬化させずに直ちに実施例1と同様にスピン
コードし、硬化させた。この保護膜付きディスクは記録
膜面全体にわたって基板側から見て白色に見えるシミ、
斑点が30〜100μmの大きさで多数発生した。
比較例 4
保護層として、用いたエポキシ接着剤にメタノールまた
はi S (K”ミルアルコールを用い予備硬化させず
に直ちにディスクに塗布した以外は実施例1と同様にし
て保護層を積層した。このディスクは記録膜全面に無数
の白色に見えるシミ、斑点が基板側から見て発生してい
た。この場合予備硬化させてから塗布しても同様であっ
た。
はi S (K”ミルアルコールを用い予備硬化させず
に直ちにディスクに塗布した以外は実施例1と同様にし
て保護層を積層した。このディスクは記録膜全面に無数
の白色に見えるシミ、斑点が基板側から見て発生してい
た。この場合予備硬化させてから塗布しても同様であっ
た。
(発明の効果)
貼り合せ構造の光磁気ディスクに炭素数4合わせた本発
明のプラスチック基板を用いた光ディスク記録膜の保護
方法では、従来の有機樹脂の保護層を設け、ゴム系ホッ
トメルト接着剤で貼シ合わせたものと比較して保護層、
接着層積層時に発生する記録膜のシミ、斑点、ピンホー
/I/を少なくし、さらに60°C190%相対湿度の
条件下での酸化による記録膜のピンホールの増加とビッ
トエラーレートの低下を少なくすることが出来るので、
記録性能と長期信頼性を向上させることが可能となった
。
明のプラスチック基板を用いた光ディスク記録膜の保護
方法では、従来の有機樹脂の保護層を設け、ゴム系ホッ
トメルト接着剤で貼シ合わせたものと比較して保護層、
接着層積層時に発生する記録膜のシミ、斑点、ピンホー
/I/を少なくし、さらに60°C190%相対湿度の
条件下での酸化による記録膜のピンホールの増加とビッ
トエラーレートの低下を少なくすることが出来るので、
記録性能と長期信頼性を向上させることが可能となった
。
第1図は本発明の光磁気貼り合せディスクの模式断面図
である。 (符号の説明) 1.11ニブラスチツク基板(ポリカーボネート系樹脂
) 2.2′二反射防止、防湿層 3.3′:記録層 4.4′:保護層(炭素数4のアルコール包含エポキシ
樹脂)
である。 (符号の説明) 1.11ニブラスチツク基板(ポリカーボネート系樹脂
) 2.2′二反射防止、防湿層 3.3′:記録層 4.4′:保護層(炭素数4のアルコール包含エポキシ
樹脂)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光ディスク基板の記録膜表面に有機保護層を塗布し
、常温から100℃の間で約5分以上乾燥硬化の後に該
記録膜を内側とし接着剤で光ディスク基板を貼り合わせ
ることを特徴とする光ディスク記録膜の保護方法。 2、前記第1項の有機保護層に2液常温硬化型エポキシ
樹脂を用い、且つホットメルト型接着剤で光ディスク記
録膜を内側とし光ディスク基板を貼り合わせることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク記録膜
の保護方法。 3、前記第1項の光ディスク基板がプラスチック成形品
から成り記録膜が光磁気記録膜で記録膜の片面又は両面
に無アルカリガラスから成る反射防止層と防湿層を有し
その上に有機保護層を積層することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法。 4、前記第2項の2液常温硬化型エポキシ樹脂が炭素数
4のアルコールを含む状態で予備硬化させて光ディスク
基板の記録表面に塗布することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の光ディスク記録膜の保護方法。 5、前記第2項のホットメルト型接着剤が反応型ホット
メルト接着剤であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光ディスク記録膜の保護方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24037486A JPS6396757A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 光デイスク記録膜の保護方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24037486A JPS6396757A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 光デイスク記録膜の保護方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6396757A true JPS6396757A (ja) | 1988-04-27 |
Family
ID=17058539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24037486A Pending JPS6396757A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 光デイスク記録膜の保護方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6396757A (ja) |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP24037486A patent/JPS6396757A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200405322A (en) | Photo-data recording media | |
JPS6330880B2 (ja) | ||
JP2553171B2 (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
JPS6396757A (ja) | 光デイスク記録膜の保護方法 | |
JPS6045952A (ja) | 情報記録用ディスク | |
JPS6116815A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
JPH0443332B2 (ja) | ||
JPS63257939A (ja) | 光磁気デイスクの保護被覆剤 | |
JPH0790196B2 (ja) | 光磁気記録媒体の保護膜塗布方法 | |
JPS63257940A (ja) | 光磁気デイスク記録層の表面処理方法 | |
JPS63136343A (ja) | 光磁気デイスク | |
JPS6168750A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH02162547A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
JPH01192037A (ja) | 光磁気ディスクの保護コート方法 | |
JPS63129544A (ja) | 光磁気記録媒体の保護方法 | |
JPH03263625A (ja) | 情報記録用媒体 | |
JPH01169754A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JPS6398858A (ja) | 樹脂製基板を用いた光磁気デイスクの保護被覆剤 | |
JPS61151853A (ja) | 光デイスク | |
JPH0279238A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH0469826A (ja) | 片面型光記録媒体 | |
JPH01194152A (ja) | 光磁気ディスクの保護コート法 | |
JPH0279239A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH04212732A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
JPH0337843A (ja) | 光磁気記録媒体 |