JPH05159366A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH05159366A JPH05159366A JP3349799A JP34979991A JPH05159366A JP H05159366 A JPH05159366 A JP H05159366A JP 3349799 A JP3349799 A JP 3349799A JP 34979991 A JP34979991 A JP 34979991A JP H05159366 A JPH05159366 A JP H05159366A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録膜の保護効果が高く、長期保存性に優れ
た光情報記録媒体を提供する。 【構成】 透明基板１のプリフォーマットパターン形成
面２に、少なくとも記録膜４を含む１層又は複数層の薄
膜３〜６を担持してなる光情報記録媒体において、少な
くとも前記薄膜を覆うように、反応性ポリシロキサン製
の保護膜１１をスピンコートする。
た光情報記録媒体を提供する。 【構成】 透明基板１のプリフォーマットパターン形成
面２に、少なくとも記録膜４を含む１層又は複数層の薄
膜３〜６を担持してなる光情報記録媒体において、少な
くとも前記薄膜を覆うように、反応性ポリシロキサン製
の保護膜１１をスピンコートする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光情報記録媒体に係り、
特に、記録膜を腐食性雰囲気から保護するための保護膜
材料に関する。
特に、記録膜を腐食性雰囲気から保護するための保護膜
材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４に、従来より知られている光情報記
録媒体の膜構造の一例を示す。これは、光磁気記録媒体
を示すものであって、透明基板１のプリフォーマットパ
ターン形成面２に、無機誘電体製のエンハンス膜３と、
光磁気記録膜４と、無機誘電体製の無機保護膜５と、ア
ルミニウムなどの金属製の反射膜６とがスパッタリング
によって順次積層されており、これらの薄膜３〜６を覆
うようにして、紫外線硬化性樹脂製の樹脂保護膜７が形
成されている。
録媒体の膜構造の一例を示す。これは、光磁気記録媒体
を示すものであって、透明基板１のプリフォーマットパ
ターン形成面２に、無機誘電体製のエンハンス膜３と、
光磁気記録膜４と、無機誘電体製の無機保護膜５と、ア
ルミニウムなどの金属製の反射膜６とがスパッタリング
によって順次積層されており、これらの薄膜３〜６を覆
うようにして、紫外線硬化性樹脂製の樹脂保護膜７が形
成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、紫外線硬化
性樹脂は硬化時の反応率が低く、吸水性及び透水性が高
い樹脂材料であり、またアルミニウムのスパッタ薄膜は
多孔質であり、さらに無機誘電体のスパッタ薄膜はピン
ホールなどの欠陥が生じやすいので、前記構造の光情報
記録媒体は、空気中の水分が光磁気記録膜４に達しやす
い。欠陥がない部分及び塩素イオンなどの腐食性物質が
存在しない環境下においては、水分が付着しても光磁気
記録膜４は腐食しにくいが、欠陥部分に水分が付着する
と、そこから光磁気記録膜４の腐食が急速に進行する。
一般に、大面積の透明基板１上に無欠陥の光磁気記録膜
４を形成することは困難であり、一部に欠陥を含む場合
の方がむしろ普通である。このため、前記構造の光情報
記録媒体は、空気中の水分によって光磁気記録膜４が腐
食されやすく、長期保存性が低いという問題がある。
性樹脂は硬化時の反応率が低く、吸水性及び透水性が高
い樹脂材料であり、またアルミニウムのスパッタ薄膜は
多孔質であり、さらに無機誘電体のスパッタ薄膜はピン
ホールなどの欠陥が生じやすいので、前記構造の光情報
記録媒体は、空気中の水分が光磁気記録膜４に達しやす
い。欠陥がない部分及び塩素イオンなどの腐食性物質が
存在しない環境下においては、水分が付着しても光磁気
記録膜４は腐食しにくいが、欠陥部分に水分が付着する
と、そこから光磁気記録膜４の腐食が急速に進行する。
一般に、大面積の透明基板１上に無欠陥の光磁気記録膜
４を形成することは困難であり、一部に欠陥を含む場合
の方がむしろ普通である。このため、前記構造の光情報
記録媒体は、空気中の水分によって光磁気記録膜４が腐
食されやすく、長期保存性が低いという問題がある。
【０００４】本発明は、かかる従来技術の不備を解決す
るためになされたものであって、樹脂保護膜の吸水性及
び透水性を低下せしめて、長期保存性に優れた光情報記
録媒体を提供することを目的とする。
るためになされたものであって、樹脂保護膜の吸水性及
び透水性を低下せしめて、長期保存性に優れた光情報記
録媒体を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成するため、透明基板の片面に、少なくとも記録膜を
含む１層又は複数層の薄膜を担持してなる光情報記録媒
体において、少なくとも前記薄膜を覆うように、下記の
構造式で表わされる反応性ポリシロキサンを塗布、硬化
させてなる保護膜を設けた。
達成するため、透明基板の片面に、少なくとも記録膜を
含む１層又は複数層の薄膜を担持してなる光情報記録媒
体において、少なくとも前記薄膜を覆うように、下記の
構造式で表わされる反応性ポリシロキサンを塗布、硬化
させてなる保護膜を設けた。
【０００６】 但し、Ｒはメチル基、フェニル基、フロロアルキル基、
アルコキシ基などの有機基である。なお、反応性ポリシ
ロキサンは、粘度の低い液状であるため、スピンコート
法によって前記保護膜を形成することができる。この場
合、前記反応性ポリシロキサン製保護膜は任意の厚さに
形成可能であるが、膜厚の大きな保護膜を形成するため
には、反応性ポリシロキサンのスピンコートと乾燥とを
何度も繰り返さなくてはならず、量産性が悪くなるた
め、３０μｍ以下とすることが特に好ましい。
アルコキシ基などの有機基である。なお、反応性ポリシ
ロキサンは、粘度の低い液状であるため、スピンコート
法によって前記保護膜を形成することができる。この場
合、前記反応性ポリシロキサン製保護膜は任意の厚さに
形成可能であるが、膜厚の大きな保護膜を形成するため
には、反応性ポリシロキサンのスピンコートと乾燥とを
何度も繰り返さなくてはならず、量産性が悪くなるた
め、３０μｍ以下とすることが特に好ましい。
【０００７】
【作用】紫外線硬化性樹脂の反応率はせいぜい８０％程
度であるのに対し、反応性ポリシロキサンの反応率は、
９５％近くもある。したがって、反応性ポリシロキサン
製の保護膜は、紫外線硬化性樹脂製の保護膜に比べて吸
水率及び透水率が格段に小さく、仮に透明基板上に担持
された記録膜に欠陥が生じていたとしても、この欠陥部
に空気中の水分が侵入して付着するということが起りに
くく、光情報記録媒体の長期保存性が改善される。
度であるのに対し、反応性ポリシロキサンの反応率は、
９５％近くもある。したがって、反応性ポリシロキサン
製の保護膜は、紫外線硬化性樹脂製の保護膜に比べて吸
水率及び透水率が格段に小さく、仮に透明基板上に担持
された記録膜に欠陥が生じていたとしても、この欠陥部
に空気中の水分が侵入して付着するということが起りに
くく、光情報記録媒体の長期保存性が改善される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図１及び図２に
基づいて説明する。図１は本例に係る光情報記録媒体の
断面図であり、図２は透明基板に形成されるプリフォー
マットパターンを模式的に示す本例に係る光情報記録媒
体の平面図である。
基づいて説明する。図１は本例に係る光情報記録媒体の
断面図であり、図２は透明基板に形成されるプリフォー
マットパターンを模式的に示す本例に係る光情報記録媒
体の平面図である。
【０００９】図１に示すように、本例の光情報記録媒体
は、透明基板１のプリフォーマットパターン形成面２
に、無機誘電体製のエンハンス膜３と、光磁気記録膜４
と、無機誘電体製の無機保護膜５と、金属製の反射膜６
とがスパッタリングによって順次積層されており、これ
らの薄膜３〜６を覆うように、反応性ポリシロキサン製
の保護膜１１が被覆されている。
は、透明基板１のプリフォーマットパターン形成面２
に、無機誘電体製のエンハンス膜３と、光磁気記録膜４
と、無機誘電体製の無機保護膜５と、金属製の反射膜６
とがスパッタリングによって順次積層されており、これ
らの薄膜３〜６を覆うように、反応性ポリシロキサン製
の保護膜１１が被覆されている。
【００１０】透明基板１は、例えばポリカーボネート、
ポリメチルメタクリレート、ポリメチルペンテン、エポ
キシ、光硬化性樹脂などの透明プラスチック材料をもっ
て、図２に示すように中心部にセンター孔１ａを有する
所望直径の円板状に形成されている。そして、その片面
には、プリフォーマットパターン２が、センター孔１ａ
と同心の渦巻状もしくは同心円状に形成されている。プ
リフォーマットパターン２は、例えば光学ヘッドをトラ
ッキングするための案内溝と、各トラックあるいは各ト
ラックを周方向に等分してなるセクタのアドレスなどを
表示するヘッダー信号や情報信号などを表わすピット列
からなり、前記透明基板２の片面に微細な凹凸の形で形
成される。なお、プリフォーマットパターン２の形状、
寸法、配列、製造方法等については、公知に属する技術
であり、かつ本発明の要旨でもないので、説明を省略す
る。
ポリメチルメタクリレート、ポリメチルペンテン、エポ
キシ、光硬化性樹脂などの透明プラスチック材料をもっ
て、図２に示すように中心部にセンター孔１ａを有する
所望直径の円板状に形成されている。そして、その片面
には、プリフォーマットパターン２が、センター孔１ａ
と同心の渦巻状もしくは同心円状に形成されている。プ
リフォーマットパターン２は、例えば光学ヘッドをトラ
ッキングするための案内溝と、各トラックあるいは各ト
ラックを周方向に等分してなるセクタのアドレスなどを
表示するヘッダー信号や情報信号などを表わすピット列
からなり、前記透明基板２の片面に微細な凹凸の形で形
成される。なお、プリフォーマットパターン２の形状、
寸法、配列、製造方法等については、公知に属する技術
であり、かつ本発明の要旨でもないので、説明を省略す
る。
【００１１】エンハンス膜３は、透明基板１のプリフォ
ーマットパターン２形成面と光磁気記録膜４との間で再
生用レーザビームを多重反射させ、見掛け上のカー回転
角を大きくして大きな再生Ｃ／Ｎ比を得るために設けら
れるものであって、例えばＳｉＯ，ＳｉＯ2 ，ＳｉＮ，
Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＡｌＮ，Ａｌ2 Ｏ3 など、再生用レーザビ
ームの屈折率が透明基板１よりもやや大きな無機誘電体
にて形成される。
ーマットパターン２形成面と光磁気記録膜４との間で再
生用レーザビームを多重反射させ、見掛け上のカー回転
角を大きくして大きな再生Ｃ／Ｎ比を得るために設けら
れるものであって、例えばＳｉＯ，ＳｉＯ2 ，ＳｉＮ，
Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＡｌＮ，Ａｌ2 Ｏ3 など、再生用レーザビ
ームの屈折率が透明基板１よりもやや大きな無機誘電体
にて形成される。
【００１２】光磁気記録膜３としては、公知に属する任
意の光磁気記録材料からなるものを用いることができる
が、特に、希土類元素と遷移金属とを主成分とする垂直
磁化膜が好適である。この種の記録材料としては、Ｇｄ
−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ，Ｄｙ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｃｏなどの２
元合金、Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｔｂ−
Ｆｅ−Ｃｏ，Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏなどの３元合金、Ｇｄ−
Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏなどの４元
合金などがある。
意の光磁気記録材料からなるものを用いることができる
が、特に、希土類元素と遷移金属とを主成分とする垂直
磁化膜が好適である。この種の記録材料としては、Ｇｄ
−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ，Ｄｙ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｃｏなどの２
元合金、Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｔｂ−
Ｆｅ−Ｃｏ，Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏなどの３元合金、Ｇｄ−
Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏなどの４元
合金などがある。
【００１３】無機保護膜５は、光磁気記録膜４を衝撃力
や腐食性雰囲気から保護すると共に、光磁気記録膜４と
反射膜６との間で、光磁気記録膜４を透過した再生用レ
ーザビームを多重反射させ、見掛け上のカー回転角を大
きくして大きな再生Ｃ／Ｎ比を得るために設けられるも
のであって、前記エンハンス膜３と同様の無機誘電体に
て形成される。
や腐食性雰囲気から保護すると共に、光磁気記録膜４と
反射膜６との間で、光磁気記録膜４を透過した再生用レ
ーザビームを多重反射させ、見掛け上のカー回転角を大
きくして大きな再生Ｃ／Ｎ比を得るために設けられるも
のであって、前記エンハンス膜３と同様の無機誘電体に
て形成される。
【００１４】反射膜６は、光磁気記録膜４を透過した再
生用レーザビームを透明基板１側に戻し、大きな信号強
度を得るために設けられるものであって、例えばアルミ
ニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼などによって
形成される。
生用レーザビームを透明基板１側に戻し、大きな信号強
度を得るために設けられるものであって、例えばアルミ
ニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼などによって
形成される。
【００１５】保護膜１１は、下記の構造式で表わされる
反応性ポリシロキサンをスピンコートすることによって
形成される。
反応性ポリシロキサンをスピンコートすることによって
形成される。
【００１６】 但し、Ｒはメチル基、フェニル基、フロロアルキル基、
アルコキシ基などの有機基である。なお、この保護膜１
１は、好ましくは、３０μｍ以下の膜厚に形成される。
その理由は、膜厚の大きな保護膜１１を形成するために
は、反応性ポリシロキサンのスピンコートと乾燥とを何
度も繰り返さなくてはならず、量産性が悪くなるためで
ある。また、この保護膜１１を構成する反応性ポリシロ
キサンとしては、水蒸気透過率が１．０ｍｇ／ｃｍ2 ／
ｍｍ・２４ｈｒ以下のものが特に好適である。
アルコキシ基などの有機基である。なお、この保護膜１
１は、好ましくは、３０μｍ以下の膜厚に形成される。
その理由は、膜厚の大きな保護膜１１を形成するために
は、反応性ポリシロキサンのスピンコートと乾燥とを何
度も繰り返さなくてはならず、量産性が悪くなるためで
ある。また、この保護膜１１を構成する反応性ポリシロ
キサンとしては、水蒸気透過率が１．０ｍｇ／ｃｍ2 ／
ｍｍ・２４ｈｒ以下のものが特に好適である。
【００１７】以下に、本発明の実験例を掲げて、本発明
の効果を明らかにする。透明基板１のプリフォーマット
パターン形成面２に、無機誘電体製のエンハンス膜３と
光磁気記録膜４と無機誘電体製の無機保護膜５と金属製
の反射膜６とを順次スパッタ成膜した後に、反応性ポ
リシロキサン（東レ・ダウコーニング・シリコーン株式
会社製のＳＲ２４１０）を３０μｍの厚さにスピンコー
トし、８０℃の炉中で３時間加熱硬化した光記録単板
と、紫外線硬化性樹脂製の保護膜を５０μｍの厚さに
形成した光記録単板とを用意した。しかる後に、同種の
光記録単板どうしをホットメルト接着剤を介して貼り合
わせ、両面記録形の光磁気記録媒体を作製した。これら
の光磁気記録媒体を、気温が８０℃、相対湿度が９０％
の環境下に３０００時間放置した後、取りだして再生Ｃ
／Ｎ比の測定と腐食の有無の検査とを行なったところ、
従来技術に係る前記の光情報記録媒体については、再
生Ｃ／Ｎ比が３０％低下し、かつ光磁気記録膜４の一部
に腐食が認められたのに対し、本発明に係る前記の光
情報記録媒体については、再生Ｃ／Ｎ比の劣化及び腐食
が共に認められず、本発明に係る光情報記録媒体には、
腐食性雰囲気に対する高い保護効果があることが分かっ
た。
の効果を明らかにする。透明基板１のプリフォーマット
パターン形成面２に、無機誘電体製のエンハンス膜３と
光磁気記録膜４と無機誘電体製の無機保護膜５と金属製
の反射膜６とを順次スパッタ成膜した後に、反応性ポ
リシロキサン（東レ・ダウコーニング・シリコーン株式
会社製のＳＲ２４１０）を３０μｍの厚さにスピンコー
トし、８０℃の炉中で３時間加熱硬化した光記録単板
と、紫外線硬化性樹脂製の保護膜を５０μｍの厚さに
形成した光記録単板とを用意した。しかる後に、同種の
光記録単板どうしをホットメルト接着剤を介して貼り合
わせ、両面記録形の光磁気記録媒体を作製した。これら
の光磁気記録媒体を、気温が８０℃、相対湿度が９０％
の環境下に３０００時間放置した後、取りだして再生Ｃ
／Ｎ比の測定と腐食の有無の検査とを行なったところ、
従来技術に係る前記の光情報記録媒体については、再
生Ｃ／Ｎ比が３０％低下し、かつ光磁気記録膜４の一部
に腐食が認められたのに対し、本発明に係る前記の光
情報記録媒体については、再生Ｃ／Ｎ比の劣化及び腐食
が共に認められず、本発明に係る光情報記録媒体には、
腐食性雰囲気に対する高い保護効果があることが分かっ
た。
【００１８】なお、前記実施例においては、光情報記録
媒体の記録膜形成面側のみに保護膜１１を被覆したが、
透明基板１が例えばポリカーボネートのような吸湿性及
び透水性が高い物質をもって構成される場合には、図３
に示すように、光記録単板全体を保護膜１１にて覆うこ
ともできる。また、本発明の要旨は、記録膜を保護する
保護層の材質にあるのであって、基板の形状や材質、プ
リフォーマットパターンの構成、それに記録膜の材質や
配列等については、前記実施例に拘らず、適宜設計する
ことができる。例えば、前記実施例においては、ディス
ク状光情報記録媒体を例にとって説明したが、カード状
又はテープ状など、他の形状の光情報記録媒体にも応用
できる。
媒体の記録膜形成面側のみに保護膜１１を被覆したが、
透明基板１が例えばポリカーボネートのような吸湿性及
び透水性が高い物質をもって構成される場合には、図３
に示すように、光記録単板全体を保護膜１１にて覆うこ
ともできる。また、本発明の要旨は、記録膜を保護する
保護層の材質にあるのであって、基板の形状や材質、プ
リフォーマットパターンの構成、それに記録膜の材質や
配列等については、前記実施例に拘らず、適宜設計する
ことができる。例えば、前記実施例においては、ディス
ク状光情報記録媒体を例にとって説明したが、カード状
又はテープ状など、他の形状の光情報記録媒体にも応用
できる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
吸水性及び透水性が低い反応性ポリシロキサンを用いて
保護膜を形成したので、保護膜の吸水及び透水に起因す
る記録膜の腐食を低減でき、光情報記録媒体の長期保存
性を向上することができる。
吸水性及び透水性が低い反応性ポリシロキサンを用いて
保護膜を形成したので、保護膜の吸水及び透水に起因す
る記録膜の腐食を低減でき、光情報記録媒体の長期保存
性を向上することができる。
【図１】本発明に係る光情報記録媒体の膜構造の一例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】本発明に係る光情報記録媒体の平面図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図４】従来例に係る光情報記録媒体の膜構造の一例を
示す断面図である。
示す断面図である。
１ 透明基板 ２ プリフォーマットパターン形成面 ３ 無機誘電体製のエンハンス膜 ４ 光磁気記録膜 ５ 無機誘電体製の無機保護 ６ 金属製の反射膜 １１ 保護膜
Claims (2)
- 【請求項１】 透明基板の片面に、少なくとも記録膜を
含む１層又は複数層の薄膜を担持してなる光情報記録媒
体において、少なくとも前記薄膜を覆うように、下記の
構造式で表わされる反応性ポリシロキサンを塗布、硬化
させてなる保護膜を設けたことを特徴とする光情報記録
媒体。 但し、Ｒはメチル基、フェニル基、フロロアルキル基、
アルコキシ基などの有機基である。 - 【請求項２】請求項１記載において、前記反応性ポリシ
ロキサン製保護膜の膜厚を３０μｍ以下に調整したこと
を特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3349799A JPH05159366A (ja) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3349799A JPH05159366A (ja) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05159366A true JPH05159366A (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=18406196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3349799A Pending JPH05159366A (ja) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05159366A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006004055A1 (ja) * | 2004-07-02 | 2006-01-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 光ディスク |
-
1991
- 1991-12-10 JP JP3349799A patent/JPH05159366A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006004055A1 (ja) * | 2004-07-02 | 2006-01-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 光ディスク |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001031 |