JPS63116781A - 光磁気記録媒体の保護膜塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ロールコータ−で光磁気記録媒体に保護膜を
塗布する方法に関する。

（従来技術） 従来、消去書替可能な高密度メモリーに利用される光照
射による加熱で記録され、磁気カー効果、ファラデー効
果などの磁気光学効果を利用して読み出しのできる光磁
気ディスクがある。

光磁気ディスクの記録膜には特に ＧｄＴｂＦｅＣｏからなる非晶質薄膜が優れており、大
面積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の製膜性、信
号と小さな光熱エネルギーで書き込むための書き込み効
率、及び書き込まれた信号をＳｌＮ比よく読み出すため
の読み出し効率、大きなカー回転角、１５０６Ｃ前後の
キューリー点を持つので光磁気記録媒体として最適であ
る。

しかしながら、一般にＧｄＴｂＦｅＣｏ等の光磁気記録
膜層は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち
大気、水蒸気に触れると酸化されて磁気特性が低下し、
最終的には完全に酸化されて透明化する。

記録膜の酸化を防止するためＳｉｎ、　ＳｉＯ２゜Ｓｉ
３Ｎ４．　Ａｌ２Ｏ３等の無機物の保護層で記録膜をサ
ンドイッチするか、及び／または防湿性を有するハロゲ
ン化有機樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂、熟硬化型
エポキシ樹脂、ホットメルト合成樹脂等で記録膜を被覆
する方法が提案されている。

（発明が解決する問題点） しかしながら、Ｓｉｎ、　５ｉ０２等の無機物の保護層
は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しなければ
ならず、またその製膜にも時間がかかるため設備投資及
び人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコストを上昇
させる原因となっていた。

またハロゲン化有機樹脂、紫外線硬化アクリル系樹脂、
熱硬化エポキシ系樹脂、ホットメルト合成樹脂等からな
る保護層の場合は、スプレー。

コーター、印刷、スピンナー、浸漬法等のコーティング
方法で記録層等の上に均一に塗布でき、溶剤揮散、加熱
、２液温合、紫外線照射等により硬化できるので、短時
間で保護層が形成され設備費が少なく、作業性の点から
も優れ、低コストで製造出来るという点では無機物の保
護層より優れている。

しかしながら、樹脂基板上に設けられた光磁気記録層は
若干の通気性があり、記録膜と基板との密着性も強くは
ないので、有機樹脂からなる保護層を塗布した時に有機
樹脂中に含まれる溶剤やモノマーが記録膜に浸透し、記
録膜にシミ、斑点、ピンホール等を生ずる。このような
ディスクにレーザー光を照射して記録、再生するとピッ
トエラーとして現れる。また、加熱、紫外線等により硬
化させた時に、硬化収縮により基板がソリ返り（湾曲）
、記録、再生時にレーザー光を照射するヘッドが追随で
きず、フォーカスエラー、トラッキングエラーとなり甚
だしい時は、全く記録、再生が出来なくなってしまう。

通常ディスクのソリを矯正するために保護層を設けた２
枚の同じディスクを記録層を内側にして接着剤で貼り合
わせている。このようにするとソリは矯正されるが、硬
化収縮によりソリ（湾曲）が生じた時点で基板と記録膜
と保護膜との間に応力歪が生じており、この時すでに記
録膜には多数のピンホールが発生している。このピンホ
ールは記録膜の一部分が応力破壊により基板から剥離し
たものと考えられている。また各種の方法でコーティン
グした際に生ずる機械的なひっかき、引っ張り、押圧、
遠心力等が加わり、ピンホールとなって現れるものと考
えられている。従って、何れの方法でコーティングして
も未だピンホールの増加を食い止められないのが現状で
あり、ここで生じるピンホールは記録膜が酸化されて透
明になったものでもない。

一方、６０°Ｃ２９０％相対湿度のような条件下での耐
久促進テストで増加するピンホールは、記録膜の一部が
完全に酸化されて透明化したものであり、未だこれらの
ピンホールの増加をも簡単な手法で完全に食い止める方
法がないのが現状である。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、基板と記録膜からなる光磁気記録媒体の記録
膜を合成樹脂で保護膜塗布するロールコータ−コーティ
ング方法において、ロールコータ−のロール間のクリア
ランスは該基板の厚みと合成樹脂の保護膜の厚みを加え
たものであった。かつロールに付着する合成樹脂層の厚
みは、合成樹脂の保護膜の厚みの２倍以上であることを
特徴とする光磁気記録媒体の保護膜塗布方法である。

本発明のロールコータ−で光磁気記録媒体に合成樹脂の
保護膜を塗布する方法はディスク基板として、ガラス及
び／またはポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、
ポリカーボネー）　（ＰＣ）等のプラスチック成形品を
用いている。プラスチック基板はガラス基板に比べて割
れにくく、射出成形機により容易に大量生産できるので
低コストである。

しかしながら、プラスチック基板は吸水性があり、また
酸素透過性もあり、基板の片面に無機物、金属、有機物
等の薄膜を層設すると、温度。

湿度等の環境条件の変化によりディスク基板がソリ返り
（湾曲）、更に記録膜が酸化されて磁気特性が低下する
。

この欠点を解消するために特開昭６１−６８７５０では
記録層の保護膜として紫外線硬化樹脂を用い、エポキシ
系樹脂接着剤で２枚のディスクを貼り合わせる方法と記
録層の保護層としてＥＶＡ系（エチレン、酢酸ビニル共
重合体樹脂系）ホットメルトをオーバコートし、ゴム系
ホットメルト接着剤で２枚のディスクを貼り合わせる方
法が提案されている。これらの方法は非常に優れたもの
であり、４５°Ｃ２相対湿度９５％の耐久試験で１００
０時間保持できたことは驚くべきことである。しかしな
がら、保持力が１０％低下というのは長期間２例えば１
０年間保証する実用レベルを考えた時、未だ充分な技術
水準とは言えない。

本発明者らはロールコータ−を用いるホットメルト保護
層及びホットメルト貼り合わせ接着の方法が設備費が少
なく、作業性もよく、低コストで製造できることに着目
し、種々研究を重ねてきた。その結果、ロールコータ−
で光磁気記録媒体（以下、光磁気ディスクと称する）の
保護膜として、ホットメルト合成樹脂をオーバーコート
する方法において、ロールコータ−のロール間のクリア
ランスをディスク基板の厚み＋保護層の厚みとし、且つ
ロールに付着しているホットメルト合成樹脂層の厚みを
合成樹脂の保護膜の厚みの２倍以上、好ましくは５倍以
内とすることで、光磁気ディスクの記録層に発生するピ
ンホール数を著しく減少させることが出来ることを発見
し、本発明を完成したものである。

この機構は明らかではないが、以下に述べるような現象
の観察と測定により、合成樹脂保護膜の膜形成時におけ
る光磁気ディスクの記録層への機械的な力の加わり方に
起因しているものと推定される。

即ち、ホットメルト合成樹脂のオーバーコート剤をロー
ル温度と同一の温度の熱風乾燥器内に入れておき、−刀
先磁気ディスク担体基板も同乾燥器に入れておき、乾燥
器内でフローコート法によって光磁気ディスクに保護コ
ート膜を形成させると、光磁気ディスクの記録膜には殆
どピンホールが発生しないことがらである。

（発明の効果） 本発明の方法は、従来の基板をロール間に食い込ませる
方法と比べて、光磁気ディスクの記録膜に発生するピン
ホール数を著しく減少させることが出来た。即ち、ピン
ホールの発生数が少ないことは、外観上の商品価値を高
めるばかりでなく、ピットエラー率を良くすることにも
な、る。

（実施例） 以下、本発明は実施例により更に詳細に説明する。

実施例１ ポリカーボネート系樹脂よりなる直径 １３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのドーナッツ状のトラッキ
ング用溝付基板に反射防止、兼防湿層として厚さ５００
Ａの無機アルカリガラス層をマグネトロンスパッタ法で
層設後、記録膜として厚さ７００人のＧｄＴｂＦｅＣｏ
を同じくスパッタリング法により反射防止、防湿層上に
積層し、その後再び５００人の厚さの無機アルカリガラ
ス層を記録膜の上に積層した光磁気ディスク担体基板を
本発明の保護層塗布用のサンプルとした。

その後、第１図の如くロールコータ−を用いてＥＶＡ系
ホットメルト保護コート剤４（９５５０Ｂ、積水化学株
式会社製）を、１２０’Ｃのホットメルト樹脂温度で厚
みが１０ｐｍになるようにロール間のクリアランスを基
板の厚みの１．２ｍｍ＋ホットメルト樹脂膜の厚みの１
０ｐｍに設定して、ロール直径５０ｍｍ、ロール付着樹
脂厚み３０ｐｍ、ロール回転数３００ｒｐｍ（上部金属
ロール、下部ゴムロール）テ第１図の概要図の如く光磁
気ディスク担体基板の記録膜にロールコートした。また
、ホットメルト保護層を塗布した光磁気ディスク担体基
板を第２図に示した。

次に比較例１として、従来より行われているロール間に
光磁気ディスク担体基板を食い込ませて塗布（ロール間
のクリアランス１．１ｍｍ）する方法で他の条件は実施
例１と同様のキットメルト保護コート剤で光磁気ディス
ク担体基板の記録膜にロールコートした。

本発明の実施例１と比較例のピンホール数の結果を第１
表に示した。

第１表 第１表から明らかなように、比較例１ではピンホールが
４６個と多数増加しているが、実施例１では、それはわ
ずか６個しか認められない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の方法のロールコータ−による光磁気
ディスクの保護膜塗布方法の概略図である。 第２図は、本発明の方法で保護膜を塗布した光磁気ディ
スクの縦断面図である。 （符号の説明） １・・・・・・　金属ロール ２・・・・・・　ゴムロール ３・・・・・・　光磁気ディスク担体基板４・・・・・
・　ホットメルト合成樹脂５・・・・・・　光磁気ディ
スク基板 ６．６゛・・・・　防湿磨 ７・・・・・・　記録膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板と記録膜からなる光磁気記録媒体の記録膜を合成樹
   脂で保護膜塗布するロールコーターコーティング方法に
   おいて、ロールコーターのロール間のクリアランスは、
   該基板の厚みと合成樹脂の保護膜の厚みを加えたもので
   あって、かつロールに付着する合成樹脂層の厚みは、合
   成樹脂の保護膜の厚みの２倍以上であることを特徴とす
   る光磁気記録媒体の保護膜塗布方法。