JPS6168750A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6168750A JPS6168750A JP18965484A JP18965484A JPS6168750A JP S6168750 A JPS6168750 A JP S6168750A JP 18965484 A JP18965484 A JP 18965484A JP 18965484 A JP18965484 A JP 18965484A JP S6168750 A JPS6168750 A JP S6168750A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layers
- recording medium
- layer
- recording
- magneto
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は消去書替可俺な高密度メモリーに利用される光
照射による加熱で記録され、磁気カー効果、ファラデー
効果などの磁気光学効果を利用して読み出しのできるデ
ィスクやカード、シート状の光磁気記録媒体に関する。
照射による加熱で記録され、磁気カー効果、ファラデー
効果などの磁気光学効果を利用して読み出しのできるデ
ィスクやカード、シート状の光磁気記録媒体に関する。
従来、光磁気記録媒体置としてはＭｎＢ１． ＭｎＣｕ
Ｂ１などの多結晶ｔ’１ｌｌｌＱ、 ＧｄＣｏ、 Ｇｄ
Ｆｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ。
Ｂ１などの多結晶ｔ’１ｌｌｌＱ、 ＧｄＣｏ、 Ｇｄ
Ｆｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ。
ＧｄＴｂＦｅ、 ＴｂＤｌＦｅ、 ＧｄＦｅＧｏ、 Ｔ
ｂＦｅＣ：ｏ、 ＧｄＴｂＣｏなどの非晶質薄膜、 Ｔ
ｂＦｅＯ３などの単結晶薄膜などが知られている。
ｂＦｅＣ：ｏ、 ＧｄＴｂＣｏなどの非晶質薄膜、 Ｔ
ｂＦｅＯ３などの単結晶薄膜などが知られている。
これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で
製作する際の製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率を勘案して、
ａ近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。特に、 ＧｄＴｂＦｅはカー回
転角も大きく、１５０℃前後のキューリ一点を持つので
光磁気記録媒体として最適である。
製作する際の製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率を勘案して、
ａ近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。特に、 ＧｄＴｂＦｅはカー回
転角も大きく、１５０℃前後のキューリ一点を持つので
光磁気記録媒体として最適である。
このような非晶質薄膜からなら記録層を基板とに有する
記録媒体の２つを記録層が対向するように接着層によっ
て貼合わせ、両面で記録、再生可能な光磁気記録媒体が
知られている。
記録媒体の２つを記録層が対向するように接着層によっ
て貼合わせ、両面で記録、再生可能な光磁気記録媒体が
知られている。
しかしながら、一般にＧｄＴｂＦｅ等の光熱磁気記録媒
体をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性
体は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、
大気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には
完全に酸化されて透明化するに至る。
体をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性
体は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、
大気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には
完全に酸化されて透明化するに至る。
１１１１記の貼合わせ型の光磁気記録媒体においても、
貼合わせのために用いた接着層から大気、水分か浸透し
たり、接着層に含まれる気泡、水分が記録層の磁気特性
を低下させることが少なくなかった。また、記録層を貼
合わすまでに大気、水分により記録層が腐食されること
もあった。
貼合わせのために用いた接着層から大気、水分か浸透し
たり、接着層に含まれる気泡、水分が記録層の磁気特性
を低下させることが少なくなかった。また、記録層を貼
合わすまでに大気、水分により記録層が腐食されること
もあった。
このような欠点を除くために、従来から接着層とそれぞ
れの記録層の間に透明物質の保護力／ヘー、例えば５ｉ
０２． ＳｉＯ等の無機系の保護層を設けることが提案
されている。
れの記録層の間に透明物質の保護力／ヘー、例えば５ｉ
０２． ＳｉＯ等の無機系の保護層を設けることが提案
されている。
しかしながら、Ｓｉｎ、 ＳｉＯ□等の無機物の保護層
は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しなければ
ならず、又その成膜にも時間がかかる為設備投資及び人
件費が膨大なものとなり、記録媒体のコストを上昇させ
る原因となっていた。
は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しなければ
ならず、又その成膜にも時間がかかる為設備投資及び人
件費が膨大なものとなり、記録媒体のコストを上昇させ
る原因となっていた。
本発明は以上の問題点を解決するためになされたもので
あり、低コストかつ短時間で、しかも簡易な操作で形成
可能な貼合わせ構造上に最適な保護層を有する光磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
あり、低コストかつ短時間で、しかも簡易な操作で形成
可能な貼合わせ構造上に最適な保護層を有する光磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
本発明の光磁気記録媒体は、基板上に少なくとも記録層
を有してなる記録媒体の２つが接着層を介して該記録層
が対向する様に貼合わせられた光磁気記録媒体において
、それぞれの前記記録層と前記接着層との間に有機樹脂
からなる保護層を有してなることを特徴とする。
を有してなる記録媒体の２つが接着層を介して該記録層
が対向する様に貼合わせられた光磁気記録媒体において
、それぞれの前記記録層と前記接着層との間に有機樹脂
からなる保護層を有してなることを特徴とする。
本発明の光磁気記録媒体の有する保護層は有機系樹脂か
らなる。保護層は、貼合わせる２つの記録媒体のそれぞ
れの記録層上に直接設けるか、記録層の上に他の層が設
けられている場合にはこの層の上に設けてもよい。
らなる。保護層は、貼合わせる２つの記録媒体のそれぞ
れの記録層上に直接設けるか、記録層の上に他の層が設
けられている場合にはこの層の上に設けてもよい。
この保護層はスプレー、コーター、印刷、スピンナ、浸
漬法等のコーティング方法で記録層等の上に均一に塗布
でき、溶剤揮散、加熱、２液温合、Ｕ、Ｖ、照射等によ
り硬化できるものであれば良く、アクリル系、エポキシ
系、ウレタン系。
漬法等のコーティング方法で記録層等の上に均一に塗布
でき、溶剤揮散、加熱、２液温合、Ｕ、Ｖ、照射等によ
り硬化できるものであれば良く、アクリル系、エポキシ
系、ウレタン系。
シリコン系、ポリアミド系、ポリエステル系樹脂、シリ
ケート系ゴム等が使用される。特にホットメルト型の樹
脂は加熱溶融後記録層等の上に塗布するとすぐに放熱が
生じ、急速な温度降下により固化し、短時間で保ＩＪ層
が形成され１作業性の点からもすぐれ、またコストも低
く済む。
ケート系ゴム等が使用される。特にホットメルト型の樹
脂は加熱溶融後記録層等の上に塗布するとすぐに放熱が
生じ、急速な温度降下により固化し、短時間で保ＩＪ層
が形成され１作業性の点からもすぐれ、またコストも低
く済む。
保護層の厚さはその材料、記録層の厚さ等によって異な
るが、ｉ１１常３０００Ａ〜１００膵程度である。
るが、ｉ１１常３０００Ａ〜１００膵程度である。
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。第１図
は本発明の光磁気記録媒体の一実施例を示す模式断面図
である。
は本発明の光磁気記録媒体の一実施例を示す模式断面図
である。
１ 、 Ｌ’は基板、 ２ 、２’は反射防止層であり
、記録光、再生光の反射を防止して、それらの光のエネ
ルギーを有効に利用するためのものである。
、記録光、再生光の反射を防止して、それらの光のエネ
ルギーを有効に利用するためのものである。
３は記録層である。基板１．１；反射防止層２ 、２’
、記Ｍ層３．３′は従来公知の材料を使用できシ６例
えば、基板ｌ、１′としてガラス、アクリＩｔ／系樹脂
、ポリカーボネート等：反射防止層２゜２′はＳｈｏ、
５ｉ０２ ＊ Ｓｉ３Ｎ４ ＊ ＴｉＯ□等；記録層
３，３′は、本発明の目的から非晶質磁性薄膜によって
形成されるが、従来公知の磁気光学効果を有する薄ＩＩ
Ｉ、例えば、ＭｎＢ１． Ｍｒ＋ＣｕＢ１等の多結晶薄
膜等であってもよい。
、記Ｍ層３．３′は従来公知の材料を使用できシ６例
えば、基板ｌ、１′としてガラス、アクリＩｔ／系樹脂
、ポリカーボネート等：反射防止層２゜２′はＳｈｏ、
５ｉ０２ ＊ Ｓｉ３Ｎ４ ＊ ＴｉＯ□等；記録層
３，３′は、本発明の目的から非晶質磁性薄膜によって
形成されるが、従来公知の磁気光学効果を有する薄ＩＩ
Ｉ、例えば、ＭｎＢ１． Ｍｒ＋ＣｕＢ１等の多結晶薄
膜等であってもよい。
反射防止層２ 、２’ ；記録層３．３′は上記の材料
を用いて真空蒸着法、スパッタリング法、電子ビーム蒸
着法等によって形成できる。
を用いて真空蒸着法、スパッタリング法、電子ビーム蒸
着法等によって形成できる。
４．４′は前記の有機系樹脂の保護層である。
５、は接着層であり、材料は特に限定されないが、保護
層４に対する密着性が良く作業性の良い物が好ましく、
アクリル系、シリコン系、エポキシ系、ウレタン系等の
接着剤が使用できる。
層４に対する密着性が良く作業性の良い物が好ましく、
アクリル系、シリコン系、エポキシ系、ウレタン系等の
接着剤が使用できる。
なお、反射防止層２．２′は記録効率、再生効率の装束
程度によっては省略してもよく、また種々の目的で他の
層を所定の位置に被覆してもよい。
程度によっては省略してもよく、また種々の目的で他の
層を所定の位置に被覆してもよい。
貼合わせ構造の記録媒体に有機系樹脂の保護層を設けた
本発明の光磁気記録媒体では、従来の無機物の保護層を
設けたものと比較して＃腐食性の性能の点ではほとんど
変わらず、しかも製造コス（・、製造時間を大幅に減少
させることか可能となった。
本発明の光磁気記録媒体では、従来の無機物の保護層を
設けたものと比較して＃腐食性の性能の点ではほとんど
変わらず、しかも製造コス（・、製造時間を大幅に減少
させることか可能となった。
以下、本発明は実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
アクリル系樹脂よりなるドーナツ状の基板１゜１′にそ
れぞれ反射防止層２．２′として厚さ ５００へのＳｉ
Ｏを真空蒸着後、記録層３，３′として厚さ＋２０ＯＡ
（７） ＧｄＴｂＦｅＣ：ａをスパッタリング法によ
り反射防止層２．２′上にそれぞれ積層し、その後保護
層４．４゛とじてアクリル系の紫外線硬化型樹脂（フォ
ー・トホント’−３００明星チャーチル■）をスピンコ
ード法により１０−厚に記録層３．３′上にそれぞれ塗
布し、高圧水銀燈を用い盤面北 ＬＯＷ／ｃｒｎ’の条
件で１分間照射しアクリル樹脂を硬化させた。この２つ
の記録媒体の保護層４と４′とをエポキシの接着剤によ
り貼合わせて本発明の貼合わせ構造の光磁気記録媒体を
作製した。
れぞれ反射防止層２．２′として厚さ ５００へのＳｉ
Ｏを真空蒸着後、記録層３，３′として厚さ＋２０ＯＡ
（７） ＧｄＴｂＦｅＣ：ａをスパッタリング法によ
り反射防止層２．２′上にそれぞれ積層し、その後保護
層４．４゛とじてアクリル系の紫外線硬化型樹脂（フォ
ー・トホント’−３００明星チャーチル■）をスピンコ
ード法により１０−厚に記録層３．３′上にそれぞれ塗
布し、高圧水銀燈を用い盤面北 ＬＯＷ／ｃｒｎ’の条
件で１分間照射しアクリル樹脂を硬化させた。この２つ
の記録媒体の保護層４と４′とをエポキシの接着剤によ
り貼合わせて本発明の貼合わせ構造の光磁気記録媒体を
作製した。
この光磁気記録媒体を４５°Ｃ１相対湿度９５％の条件
下に １，０００時間放置したところ、保磁力は初期イ
１＾の１０％の低下であった。
下に １，０００時間放置したところ、保磁力は初期イ
１＾の１０％の低下であった。
比較例１
保護層４．４′として、厚さ３，０００へのＳ ｉ ０
１１Ｑを真空蒸着法により形成した以外は、実施例１と
同様にして光磁気記録媒体を作製し、４５°Ｃ１相対湿
度９５％の条件下に１，０００時間放置したところ、保
磁力は初期値の９％の低下であった。
１１Ｑを真空蒸着法により形成した以外は、実施例１と
同様にして光磁気記録媒体を作製し、４５°Ｃ１相対湿
度９５％の条件下に１，０００時間放置したところ、保
磁力は初期値の９％の低下であった。
実施例１と比較例１とを比較すると明らかなように保護
層として有機樹脂層を設けた本発明では、簡単な工程で
膜厚を厚くできる為、保護効果が高い、よって従来の無
機物を保護層として設けたものと保磁力の経時変化をほ
とんど変えず、耐腐食性に関して同程度の性能を有する
ものができる。またアクリル系の保護層の形成は、上述
したように非常に短時間に行うことができ、従来の真空
中での無機物の薄膜形成に比べ、非常に低コストで厚い
膜を形成することができ、全体として非常にコストの安
い光磁気記録媒体を提供することができた。
層として有機樹脂層を設けた本発明では、簡単な工程で
膜厚を厚くできる為、保護効果が高い、よって従来の無
機物を保護層として設けたものと保磁力の経時変化をほ
とんど変えず、耐腐食性に関して同程度の性能を有する
ものができる。またアクリル系の保護層の形成は、上述
したように非常に短時間に行うことができ、従来の真空
中での無機物の薄膜形成に比べ、非常に低コストで厚い
膜を形成することができ、全体として非常にコストの安
い光磁気記録媒体を提供することができた。
実施例２
基板ｌ、１′上へ順次、反射防止層２ 、２’ 、記録
層３．３′を実施例１と同様に形成後、ＥＶＡ系ホット
メルト接着剤（Ｈｏｔ ｍｅｌｔ ０９２エイ・シーア
イ・ジャパン・リミテッド製）を １２０℃で溶融し、
ホットメルト用コールコーターで２０μｓの厚さに塗布
し保護層４，４′を形成した。この保護層、１ 、４′
ｌ−に １２０°Ｃで溶融した合成ゴム系のホット、Ａ
ルト接着剤（Ｈｏｔ ｍｅｌｔ ＰＳ−１５ｘイ・シー
・アイ・ジャパン・リミテッド製）を塗布した。この２
つの記録媒体の保護層４と４′とを接着加圧し。
層３．３′を実施例１と同様に形成後、ＥＶＡ系ホット
メルト接着剤（Ｈｏｔ ｍｅｌｔ ０９２エイ・シーア
イ・ジャパン・リミテッド製）を １２０℃で溶融し、
ホットメルト用コールコーターで２０μｓの厚さに塗布
し保護層４，４′を形成した。この保護層、１ 、４′
ｌ−に １２０°Ｃで溶融した合成ゴム系のホット、Ａ
ルト接着剤（Ｈｏｔ ｍｅｌｔ ＰＳ−１５ｘイ・シー
・アイ・ジャパン・リミテッド製）を塗布した。この２
つの記録媒体の保護層４と４′とを接着加圧し。
貼合わせて本発明の貼合わせ構造の光磁気記録媒体を作
製し、４５℃、相対湿度９５％の条件下に１．０００時
間放置したところ、保磁力は初期値の８％の低下であっ
た。
製し、４５℃、相対湿度９５％の条件下に１．０００時
間放置したところ、保磁力は初期値の８％の低下であっ
た。
比較例２
保護層４，４′として、厚さ４．０００へのＳｉＯ膜を
真空蒸着法により形成した以外は、実施例２と同様にし
て光磁気記録媒体を作製し、４５℃、相対湿度８５％の
条件下に１，０００時間放置したところ、保磁力は初期
値の８％の低下であった。
真空蒸着法により形成した以外は、実施例２と同様にし
て光磁気記録媒体を作製し、４５℃、相対湿度８５％の
条件下に１，０００時間放置したところ、保磁力は初期
値の８％の低下であった。
実施例２と比較例２とを比較すると明らかなように保護
層としてホットメルト型接着剤を使用した場合も、従来
の無機物を保護層として設けたものと同程度の性能を有
し、保護層の樹脂硬化時間がほとんど不用となる為に実
施例１にもまして短時間に光磁気記録媒体を作製するこ
とができた。
層としてホットメルト型接着剤を使用した場合も、従来
の無機物を保護層として設けたものと同程度の性能を有
し、保護層の樹脂硬化時間がほとんど不用となる為に実
施例１にもまして短時間に光磁気記録媒体を作製するこ
とができた。
第１図は本発明の光磁気記録媒体の模式断面図である。
１ 、１’ ：基板
２ 、２’ ：反射防止層
３ 、３’ ：記録層
４ 、４′ 二 保護）７
５：接着層
Claims (1)
- 基板上に少なくとも記録層を有してなる記録媒体の２つ
が接着層を介して該記録層が対向する様に積層されてな
る光磁気記録媒体において、それぞれの前記記録層と前
記接着層との間に有機樹脂からなる保護層を有してなる
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18965484A JPS6168750A (ja) | 1984-09-12 | 1984-09-12 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18965484A JPS6168750A (ja) | 1984-09-12 | 1984-09-12 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168750A true JPS6168750A (ja) | 1986-04-09 |
Family
ID=16244932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18965484A Pending JPS6168750A (ja) | 1984-09-12 | 1984-09-12 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168750A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01166347A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Hitachi Ltd | 光学式デイスク |
| JPH01194153A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-04 | Kyocera Corp | 光磁気記録素子の製法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57130243A (en) * | 1981-02-05 | 1982-08-12 | Toshiba Corp | Information storage medium |
-
1984
- 1984-09-12 JP JP18965484A patent/JPS6168750A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57130243A (en) * | 1981-02-05 | 1982-08-12 | Toshiba Corp | Information storage medium |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01166347A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Hitachi Ltd | 光学式デイスク |
| JPH01194153A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-04 | Kyocera Corp | 光磁気記録素子の製法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6168750A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS61267947A (ja) | 光デイスク | |
| JPH01112539A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS62239443A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS63257939A (ja) | 光磁気デイスクの保護被覆剤 | |
| JP2700888B2 (ja) | 光磁気記録素子の製法 | |
| JPS60217542A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPH02236836A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH01143040A (ja) | 光磁気記録素子の製法 | |
| JPH01144250A (ja) | 光磁気記録素子の製法 | |
| JPH02108257A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0790196B2 (ja) | 光磁気記録媒体の保護膜塗布方法 | |
| JPH02239447A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH01276452A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| JPS62285251A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS62121943A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6363146A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH02168453A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01192037A (ja) | 光磁気ディスクの保護コート方法 | |
| JPS62204446A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPH0279239A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS63197041A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6163944A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS63200335A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH05159366A (ja) | 光情報記録媒体 |