JPS6173251A - 光デイスクの製造法 - Google Patents

光デイスクの製造法

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JPS6173251A
JPS6173251A JP19500384A JP19500384A JPS6173251A JP S6173251 A JPS6173251 A JP S6173251A JP 19500384 A JP19500384 A JP 19500384A JP 19500384 A JP19500384 A JP 19500384A JP S6173251 A JPS6173251 A JP S6173251A
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JP
Japan
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film
adhesive
plastic film
layer
optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP19500384A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Mochizuki
望月 秀晃
Toru Tamura
徹 田村
Kensuke Kuchiba
口羽 健介
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスクの貼り合わせ工法に関するもので
ある。
従来例の構成とその問題点 レーザー記録用ディスク(以後、光ディスクと称する)
は、直径30.中足らずの円盤上にA4文書が1万枚分
以上も記憶できるほど大容量のメモリー媒体であり、一
つのビットはわずか1μm前後の長さの小さなピットに
対応している。また、情報の書き込み、読み出しなどは
、1分間に1000回転以上の高速回転しているディス
ク上に、直径1μm前後に絞り込んだレーザー光を集光
し、位置検出、焦点調節を行ないながら実行されるもの
であり、硬くわずかな基板のソリ、平行度のズレ、変形
、傷、異物なども、信号エラーにつながってしまう。こ
のため、光ディスクの製造には、半導体製造時に劣らな
い程、細心の注意が要求されている。光ディスクは従来
、信頼性を高める目的から、図2に示すように、レザー
記録用薄膜4゜6を2枚の透明基板2.3の間にはさみ
込んだ構成となっている。(但し、図1は光ディスクを
切断した斜視図であり、以下、断面の一部Aを拡大して
積層状態を説明する。図2においては、両面記録用光デ
ィスクの例を示す。)このため、これら2枚の透明基板
2,3を接着層6を介して貼り合わせる接着工程が重要
であり、この工程により歩留りや光ディスクの信頼性が
左右されることも多い。従来、この接着法としてはホッ
トメルト系接着剤を用いる方式が知られているが、この
方法は、熱と圧力とが同時に加わるため、基板のソリや
歪み、傷つきや気泡などが発生しやすぐ、しかも、記録
膜によっては、熱影響による変質なども発生しており、
加えて、高湿度下では接着力低下による剥離も生じるな
ど、多くの問題点を有していた。
発明の目的 本発明は、従来の接着法の欠点を解決するものであり、
記録膜上の傷つきや気泡の発生がなく、高温高湿下にお
いても信頼性の高い接着性を有する光ディスクを高能率
に製造することを目的としている。
発明の構成 本発明の光ディスクの製造法は、120℃以下の温度で
粘着性を有する光硬化型接着剤を片側全面に塗布した離
型性のあるグラスチックフィルム上に、あらかじめ光記
録層を形成した透明基板を光記録層を内側にして気泡が
生じないように貼りつけ、光硬化型接着剤を紫外線で硬
化後、該グラスチックフィルムを剥離した上で低温下で
硬化できる接着剤を光硬化後の光硬化性樹脂上に塗布し
て、もう一枚の同一構成になる透明基板または透明基板
単体と前記接着剤を介して硬化するというものである。
実施例の説明 まず、本発明の要点を図により説明する。
本発明によって完成される両面使用型光ディスクの断面
構成を第3図に示す。すなわち、透明基板7.B上に光
記録層9,10を有し、紫外線硬化型樹脂11.12の
層があり、これらの中心に低温で硬化できる接着剤層1
3が存しているというものである。全体の製造工程は、
第6図に示すように主として6つの工程からなっている
。工程1は、記録膜15を形成した透明基板14上に、
光硬化性樹脂層16を有する離型性プラスチックフィル
ム17を貼りつけるというものであり、その一つの方法
は、第4図に示すように、加熱可能なロール18.19
の間を、前記プラスチックフィルムと透明基板を重ね合
わせて通過させ、ディスクの一端から空気を追い出しな
がら貼り合せていくというものである。もう一つの方法
は第6図に示すような減圧下での熱プレス法であって、
透明基板14上に、プラスチックフィルム17を重ね合
わせ、真空槽24中を排気系25iCより減圧にした状
態で、加熱可能な上下台座22.23により熱圧着する
というものである。上記いずれの方法によっても気泡を
生じることなく透明基板とフィルムの接着を行なうこと
ができる。この際の熱圧着条件は、基板や記録膜および
、使用する光硬化性粘着樹脂によって一様ではないが、
基板の熱変形温度以下の温度であり、圧力も15Kg/
7以下であることが望ましい。これ以上の条、件下では
、基板の変形が発生しやすくなる。工程2は、工程1で
貼りつけたフィルムを通過して、紫外線を照射するもの
であり、このため、プラスチックフィルムは光を通過す
ることが必要となる。紫外線により硬化することにより
透明基板上の光記録膜は気泡のない強固な保護層で保護
されるため、後工程が容易になると同時に、光ディスク
としての信頼性が大幅に向上する。また、第7図に示す
ように、プラスチックフィルムを剥離後にあらかじめ光
硬化した樹脂16の上に接着剤層26を塗布するため、
接着剤の塗布時に少々の異物や気泡が混入しても光デイ
スク性能を低下させない上に、すでに硬化した光硬化樹
脂層16を介するため透明基板14の耐溶剤性の良否に
左右されることなく接着剤を選択できる。さらに、硬化
層16の保護があるため、光記録膜1γの傷つきという
不良が大幅に減少できる。接着剤をロール、スプレー。
グラビア法、ノ・ケ塗りなどにより塗布した後、2枚の
ディスクを、光記録層を内側にし、両ディスクの中心軸
を一致させて貼り合わせた上で、室温もしくは6o〜7
0℃に加熱することにより第3図に示すように本発明の
光ディスクが完成する。
この工程4に用いる接着剤は、低温硬化剤の接着剤が有
効であり、エポキン系接着剤、アクリル系接着剤、ウレ
タン系接着剤、ポリブタジェン系接着剤ポリエステル系
接着剤が使用される。中でも、二液非混合型(以下SG
Aと称す)接着剤が使いやすく、この場合には、接着剤
の二成分を、貼り合わせようとする2枚のディスクにそ
れぞれ塗り分ける方法を採用できるだめ、工程上、非常
に有利となる。なお、上記実施例として主としてディス
ク両面を使用した光ディスクについて述べてきたが、前
記第5の工程(貼り合わせ)において、一方の側に光記
録膜を用いず、ディスクの片側使用を目的としたディス
クの製造も本発明に含まれる。すなわ工程5において工
程4までに完成した光記録膜28上に紫外線硬化樹脂2
9からなる完全な保護層を有する1枚のディスク27を
、接着剤層31を介して他の透明基板30と貼り合わせ
るというものであり、この場合には接着剤層31として
前記した両面使用ディスク用の各種接着剤に加えて紫外
線硬化接着剤も使用できる。
次に具体例について説明する。
具体例1 厚さ1.0m、外径200 rm 、内径3
5fiのメタクリル樹脂基板(以下、PMMA基板)上
べ、波長800〜850訓のレーザー光により相変化を
起して反射率が変化するTo 系薄膜を蒸着し、この上
に、厚さ25μmのシリコンによる離型処理を施したポ
リエステルフィルム上に、20μmの・厚さにアクリル
系光硬化性樹脂層で硬化点が40〜6Q℃の接着層を形
成した接着フィルムを、先述したゴムロールを用いて貼
りつけた。
ロールの条件は、80℃、圧力は5Psiとした。
この後、プラスチックフィルム側から300mT(ミリ
ジュール)の紫外線を照射して硬化したのち、プラスチ
ックフィルムを剥離し、2枚の同一構成の透明基板の光
硬化性樹脂上の全面に、2/g。
混合型アクリル接着剤の二つの成分を各々6μmづつゴ
ムローラーで塗り分けた後、これらを、ディスクの中心
軸を一致させて平行に貼り合わせ、室温で硬化させて光
ディスクを完成した。完成した光ディスクの性能を表に
示す。性能のうちエラーレイトは、波長820順の半導
体レーザーを用い、1μmに集光した状態で書き込みを
行ない、それを読み取った際の不良ビットの発生頻度を
完成ディスク100枚について平均した結果を示すもの
であり、例えば1×1o とは1000ピット当り、1
回の読み取り不良を示すものである。また、歩留りは、
全工程終了時のエラーレイトがlX10  以上を良品
として判定した結果である。
耐湿性は60℃−90%RH下に7日間放置した後の基
板の接着部の変化を目視した結果である。
具体例2 厚さ1類、外径200団、内径35順のポリ
カーボネイト基板(以下Pc基板)上に、具体例1のT
o 系記録膜を蒸着し、この上から、20μmの粘着性
のあるポリブタジェン系硬化樹脂層を形成した厚さ16
μmの離型処理したポリエステルフィルムを第6図に示
す減圧接着装置で貼りつけた。貼りつける際の条件は、
真空度1 ton、圧力0.1Kq/cA、室温1分間
とした。常圧に戻したのち、600m1の紫外線で硬化
し、硬化した光硬化性樹脂の上に、2液温合型の低温硬
化型エポキシ樹脂の混合フェノを厚さ30μmに塗布し
た。塗布にはゴムローラーを用いた。この上から、同一
構成になる光デイスク基板の中心軸を合致させて貼り合
わせ、70℃で6分間仮硬化し、その後、室温で24時
間の本硬化を行なうことにより、両面使用型光ディスク
を製造した。本光ディスクの性能を表に示す。
具体例3 厚さ1.0聰、外径200園、内径36団の
Pc 基板を用い、実施例1と同一の方法により、フィ
ルムを貼りつけ光硬化しフィルムのみを剥離した。一方
、他の一枚の同一寸法の透明基板上に、回転塗布法によ
り液状のアクリル系紫外線硬化性接着剤を10μmの厚
さに塗布したのち、前記の光硬化性樹脂層を形成した基
板と中心軸を一致させ、光記録膜が内側になるように密
着させ、透明基板側から300mJ  の紫外線で硬化
した。
硬化後、余分なフィルムを切除して片側記録用光ディス
クを完成した。この光ディスクの性能を表に示す。
4月 参考當 厚さ1.0叫、外径200mm、内径35朋の
アクリル基板上に、前記Te系光記録膜を形成しこの上
に、市販のホットメルトアプリケーターを用いて、30
μm厚にウレタン系ホットメルト接着剤を塗布した。ロ
ール温度は100℃とした。このようにしてホットメル
ト接着剤を塗布した2組の透明基板を中心軸を一致させ
て、接着剤面同志を密着させ、100℃の熱プレスを用
い、5 K97’crAの圧力で6分間プレスして貼り
合わせた。
この光ディスクの性能を表に示す。
発明の効果 表より明らかなように、本発明の製造法になる光ディス
クはいずれも、従来の一般的なホットメルト接着剤を用
いた方法と比較して、ピットの読み取りエラーの発生率
が極めて少なく、記録膜近傍における気泡の発生や膜の
損傷が少ない優れた製造法であることがわかる。しかも
、架橋型高分子によって保護されているため、高温高湿
下でも安定した接着状態を維持しているという特徴も有
しているなど、高信頼性の光ディスクの実現に大きく貢
献するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は光ディスクを切断し拡大部Aを示した斜視図、
第2図は従来のホットメルトによる接着ディスクの断面
図、第3図は、本発明の製造法によって完成される両面
使用ディスクの断面図、第4図は、ローラーにより、基
板上にフィルムを貼りつけている状態の説明図、第6図
は本発明の工程を示す流れ図、第6図は、減圧接着装置
の図、第7図は接着剤の塗布状態を示す断面図、第8図
は片側使用ディスクの断面図である。 1・・・・・・完成ディスク、2,3,7,8,14゜
27.30・・・・・・透明基板、4,5,9,10,
15゜28・・・・・・光記録膜、6・・・・・・ホッ
トメルト接着剤、11.12,16.29・・・・・・
紫外線硬化樹脂層、13.16.31・・・・・・低@
(Or 紫外線)硬化樹脂層、18.19・・・・・・
加熱ロール、20.21・・・・・・可動軸、22.2
3・・・・・・上下台座、24・・・・・・真空槽、2
5・・・・・・排気系。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 第5図 第7図 ?7

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表面に離型剤層を形成したプラスチックフィルム
    の片側全面に、120℃以下の温度で粘着性を有する光
    硬化性樹脂層を形成し、該光硬化性樹脂層をあらかじめ
    光記録層を形成した透明基板上に、光記録層を内側にし
    て気泡が生じないように貼りつけた後、紫外線により硬
    化し、前記プラスチックフィルムを剥離した上で硬化後
    の光硬化性樹脂層に低温下で硬化できる接着剤を塗布し
    て、もう一枚の同一構成になる透明基板、または透明基
    板単体と前記接着剤を介して貼り合わせて硬化するとい
    う工程によって構成される光ディスクの製造法。
  2. (2)離型性プラスチックフィルム上に形成された光硬
    化性樹脂を透明基板上に貼りつけるに際し、加熱可能な
    ロールを用いてなる特許請求の範囲第1項記載の光ディ
    スクの製造法。
  3. (3)離型性プラスチックフィルム上に形成された光硬
    化性樹脂を透明基板上に貼りつけるに際し、減圧下で加
    熱可能なプレスを用いてなる特許請求の範囲第1項記載
    の光ディスクの製造法。
  4. (4)光硬化性樹脂層を光記録膜上に形成して紫外線照
    射により硬化後の2枚の同一構成の透明基板の各々に、
    二液非混合型急速硬化接着剤の二成分を塗り分け、これ
    らを貼り合わせて硬化させてなる特許請求の範囲第1項
    記載の光ディスクの製造法。
JP19500384A 1984-09-18 1984-09-18 光デイスクの製造法 Pending JPS6173251A (ja)

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JP (1) JPS6173251A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63239628A (ja) * 1986-10-31 1988-10-05 Seiko Epson Corp 光記録媒体とその製造方法
US5312714A (en) * 1991-08-02 1994-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Optical recording medium, process for producing recording medium, and information recording method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63239628A (ja) * 1986-10-31 1988-10-05 Seiko Epson Corp 光記録媒体とその製造方法
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