JPS61196498A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS61196498A JPS61196498A JP60039601A JP3960185A JPS61196498A JP S61196498 A JPS61196498 A JP S61196498A JP 60039601 A JP60039601 A JP 60039601A JP 3960185 A JP3960185 A JP 3960185A JP S61196498 A JPS61196498 A JP S61196498A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse signal
- circuit
- field effect
- signal
- load element
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/18—Address timing or clocking circuits; Address control signal generation or management, e.g. for row address strobe [RAS] or column address strobe [CAS] signals
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は半導体記憶装置に関し、特に、内部同期型ス
タティックRAMのような半導体記憶装置の改良に関す
る。
タティックRAMのような半導体記憶装置の改良に関す
る。
[従来の技術]
第2図は従来の半導体記憶装置の一例としての内部同期
型スタティックRAMの構成を示すブロック図である。
型スタティックRAMの構成を示すブロック図である。
まず、第2図を参照して従来の半導体記憶装置について
説明する。アドレス信号A、ないしAMは入力バッフ7
11ないし1Nに与えられる。また、チップセレクト入
力信号csextはCSバッファ2に入力され、このC
Sバッファ2からはチップセレクト信号C8が前述の入
力バッファ11ないし1Nに共通的に入力される。
説明する。アドレス信号A、ないしAMは入力バッフ7
11ないし1Nに与えられる。また、チップセレクト入
力信号csextはCSバッファ2に入力され、このC
Sバッファ2からはチップセレクト信号C8が前述の入
力バッファ11ないし1Nに共通的に入力される。
入力バッファ11ないし1Nはそれぞれアドレス信号と
チップセレクト信号C8を受けるNOR回路を構成する
。入力バッフ711ないし1Nのそれぞれの出力はアト
レストランディジョンディテクタ(以下、A丁りと称す
る)回路31ないし3Nに与えられる。このATO回路
31ないし3Nはアドレス信号A、ないしAMにおける
レベルの変化に応じてワンショットのパルス信号を発生
するものである。ATD回路31ないし3Nからそれぞ
れ出力されたワンショットのパルス信号はNOR回路4
に与えられる。
チップセレクト信号C8を受けるNOR回路を構成する
。入力バッフ711ないし1Nのそれぞれの出力はアト
レストランディジョンディテクタ(以下、A丁りと称す
る)回路31ないし3Nに与えられる。このATO回路
31ないし3Nはアドレス信号A、ないしAMにおける
レベルの変化に応じてワンショットのパルス信号を発生
するものである。ATD回路31ないし3Nからそれぞ
れ出力されたワンショットのパルス信号はNOR回路4
に与えられる。
NOR回路4はM OS型電界効果トランジスタ41な
いし4Nと負荷素子40とから構成される。
いし4Nと負荷素子40とから構成される。
すなわち、MOS型電界効果トランジスタ41ないし4
Nはそれぞれのゲート入力がATD回路31ないし3N
の出力に接続され、各ソースは接地電位に接続され、各
ドレインは共通接続されてインバータ5の入力に接続さ
れる。インバータ5の入力と電源電位vCCとの間には
負荷素子40が接続される。この負荷素子40はたとえ
ばMOS型電界効果トランジスタと抵抗との直列回路か
ら構成される。インバータ5はnチャネルMOS型電界
効果トランジスタを用いてE−E構成あるいはE−D構
成したものあるいは0MOS型のものによって構成され
ている。
Nはそれぞれのゲート入力がATD回路31ないし3N
の出力に接続され、各ソースは接地電位に接続され、各
ドレインは共通接続されてインバータ5の入力に接続さ
れる。インバータ5の入力と電源電位vCCとの間には
負荷素子40が接続される。この負荷素子40はたとえ
ばMOS型電界効果トランジスタと抵抗との直列回路か
ら構成される。インバータ5はnチャネルMOS型電界
効果トランジスタを用いてE−E構成あるいはE−D構
成したものあるいは0MOS型のものによって構成され
ている。
第3図は第2図に示した従来の半導体記憶装置の動作タ
イミング図である。次に、第2図および第3図を参照し
て、従来の半導体記憶装置の動作について説明する。ま
ず、第3図(、b)に示すように、チップセレクト入力
信号CS extが0−レベルになると、チップが能動
化される。そして、第3図(a )に示すように、アド
レス信号A1ないしAHのうちのいずれかのレベルが変
化すると、入力バッファ11ないし1Nのうちレベルの
変化したアドレス信号に対応するものの出力が変化する
。そして、ATD回路31ないし3Nのうち出力の変化
した入カバソファに対応するものが第3図(C)に示す
ようなワンショットのパルス信号ATDiを発生する。
イミング図である。次に、第2図および第3図を参照し
て、従来の半導体記憶装置の動作について説明する。ま
ず、第3図(、b)に示すように、チップセレクト入力
信号CS extが0−レベルになると、チップが能動
化される。そして、第3図(a )に示すように、アド
レス信号A1ないしAHのうちのいずれかのレベルが変
化すると、入力バッファ11ないし1Nのうちレベルの
変化したアドレス信号に対応するものの出力が変化する
。そして、ATD回路31ないし3Nのうち出力の変化
した入カバソファに対応するものが第3図(C)に示す
ようなワンショットのパルス信号ATDiを発生する。
NOR回路4では、ATO回路31ないし3Nのいずれ
かからワンショットのパルス信号ATD+が入力される
と、第3図((lに示すようなATD信号をインバータ
5に与える。インバータ5はATD信号の極性を反転し
て第3図(e)に示すATO信号を出力する。
かからワンショットのパルス信号ATD+が入力される
と、第3図((lに示すようなATD信号をインバータ
5に与える。インバータ5はATD信号の極性を反転し
て第3図(e)に示すATO信号を出力する。
ここで、^TD信号は第3図(d )に示すように、そ
の立ち下がりは速いが立ち上がりは電源電位■CCとイ
ンバータ5の入力との間に接続された負荷素子40によ
る蓄電で行なわれるために遅くなってしまう。このよう
にして、発生されたATD信号は、図示しないセンスア
ンプ回路やビット線負荷などの周辺回路の動作時期を制
御するための基本り0ツク信号として用いられる。
の立ち下がりは速いが立ち上がりは電源電位■CCとイ
ンバータ5の入力との間に接続された負荷素子40によ
る蓄電で行なわれるために遅くなってしまう。このよう
にして、発生されたATD信号は、図示しないセンスア
ンプ回路やビット線負荷などの周辺回路の動作時期を制
御するための基本り0ツク信号として用いられる。
次に、第3図(f)に示すようにチップセレクト入力信
号Q 3 extがハイレベルからローレベルに変化し
た場合には、入力バッファ11ないし1Nの出力はすべ
てハイレベルからローレベルに変化する。このとき、チ
ップセレクト入力信号τ10xtがハイレベルからロー
レベルに変化したとき、このチップセレクト入力信号Q
5eXtはCSバッファ2によって遅延されて、第3
図1)に示すチップセレクト信号C8としてハイレベル
からローレベルに変化する。すると、この遅延分だけ遅
れて、ATD回路31ないし3Nの出力が変化し、結局
第3図(j >に示すATD信号はCSバッファ2によ
って遅延された分だけ遅延することになる。
号Q 3 extがハイレベルからローレベルに変化し
た場合には、入力バッファ11ないし1Nの出力はすべ
てハイレベルからローレベルに変化する。このとき、チ
ップセレクト入力信号τ10xtがハイレベルからロー
レベルに変化したとき、このチップセレクト入力信号Q
5eXtはCSバッファ2によって遅延されて、第3
図1)に示すチップセレクト信号C8としてハイレベル
からローレベルに変化する。すると、この遅延分だけ遅
れて、ATD回路31ないし3Nの出力が変化し、結局
第3図(j >に示すATD信号はCSバッファ2によ
って遅延された分だけ遅延することになる。
[発明が解決しようとする問題点]
上述のごとく、従来の半導体記憶装置は第2図に示すよ
うに構成されているため、CSバッファ2によりチップ
セレクト入力信号C3extが遅延されることにより、
ATD信号が第3図に示す時間tだけ遅れることになる
。すなわち、アドレス信号A、ないしAMによるアクセ
スよりも、チップセレクト入力信号C3extによるア
クセスが遅れてしまうという欠点があった。
うに構成されているため、CSバッファ2によりチップ
セレクト入力信号C3extが遅延されることにより、
ATD信号が第3図に示す時間tだけ遅れることになる
。すなわち、アドレス信号A、ないしAMによるアクセ
スよりも、チップセレクト入力信号C3extによるア
クセスが遅れてしまうという欠点があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、従来の構成を大
きく変化することなく、チップセレクト入力信号が変化
したときにおける続出速度を向上し得る半導体記憶装置
を提供することである。
きく変化することなく、チップセレクト入力信号が変化
したときにおける続出速度を向上し得る半導体記憶装置
を提供することである。
[問題点を解決するための手段]
この発明は、複数のアドレス信号のそれぞれに対応1ノ
で設けられた第1のパルス信号発生回路から、アドレス
信号のレベル変化に応じて第1のパルス信号を発生し、
その第1のパルス信号を論理和回路を介して出力する半
導体記憶装置において、チップセレクト信号のレベル変
化に応じて第2のパルス信号発生回路から第2のパルス
信号を発生し、その第2のパルス信号に応じて動作速度
制御回路により論理和回路の動作速度を早めるように制
御したものである。
で設けられた第1のパルス信号発生回路から、アドレス
信号のレベル変化に応じて第1のパルス信号を発生し、
その第1のパルス信号を論理和回路を介して出力する半
導体記憶装置において、チップセレクト信号のレベル変
化に応じて第2のパルス信号発生回路から第2のパルス
信号を発生し、その第2のパルス信号に応じて動作速度
制御回路により論理和回路の動作速度を早めるように制
御したものである。
[作用]
この発明における半導体記憶装置は、チップセレクト信
号のレベル変化に応じて論理和回路から出力される第1
のパルス信号の後縁の立ち上がり速度を速くすることに
より、チップセレクト信号のレベル変化時におけるアク
セスタイムがアドレス信号変化時におけるアクセスタイ
ムより遅れるのを防止するものである。。
号のレベル変化に応じて論理和回路から出力される第1
のパルス信号の後縁の立ち上がり速度を速くすることに
より、チップセレクト信号のレベル変化時におけるアク
セスタイムがアドレス信号変化時におけるアクセスタイ
ムより遅れるのを防止するものである。。
[発明の実施例]
第1図はこの発明の一実施例の概略ブロック図である。
この第1図に示す半導体記憶装置は、前述の第2図に示
したCSバッファ2の出力にチップセレクト信号C8が
ハイレベルからローレベルに変化したときにワンショッ
トのCSパルス信号を出力するC3TD回路を接続し、
このC3TD回路6から出力されるC8T信号を負荷素
子7に与えるようにしたものである。負荷素子7は電源
電位VccとNOR回路4に含まれるM OS型電界効
果トランジスタ4・1ないし4Nの共通接続されたドレ
インとの間に接続されるpチャネルM OS型電界効果
トランジスタ71と抵抗からなる負荷72との直列回路
から構成される。
したCSバッファ2の出力にチップセレクト信号C8が
ハイレベルからローレベルに変化したときにワンショッ
トのCSパルス信号を出力するC3TD回路を接続し、
このC3TD回路6から出力されるC8T信号を負荷素
子7に与えるようにしたものである。負荷素子7は電源
電位VccとNOR回路4に含まれるM OS型電界効
果トランジスタ4・1ないし4Nの共通接続されたドレ
インとの間に接続されるpチャネルM OS型電界効果
トランジスタ71と抵抗からなる負荷72との直列回路
から構成される。
なお、第3図(k ’)ないしくp)は第1図に示した
この発明の一実施例のタイミング図を示している。チッ
プセレクト入力信号C3extが第3図(k)に示すよ
うにハイレベルからローレベルに変化すると、第3図(
JIL)に示すようにチップセレクト信号C8はCSバ
ッファ2によつて一定時間遅延され、ハイレベルからロ
ーレベルに変化する。一方、入力バッファ11ないし1
Nの出力はローレベルに固定されているが、チップセレ
クト信@C8がローレベルになったことにより、アドレ
ス信号A、ないしAII+のレベル変化に応じて変化す
る。すると、ATO回路31ないし3Nは前述の第2図
の説明と同様にして、第3図(n)に示すワンショット
のパルス信号ATDiを出力する。このとき、ワンショ
ットのパルス信号ATDiはCSバッファ2による遅延
分だけ遅れている。
この発明の一実施例のタイミング図を示している。チッ
プセレクト入力信号C3extが第3図(k)に示すよ
うにハイレベルからローレベルに変化すると、第3図(
JIL)に示すようにチップセレクト信号C8はCSバ
ッファ2によつて一定時間遅延され、ハイレベルからロ
ーレベルに変化する。一方、入力バッファ11ないし1
Nの出力はローレベルに固定されているが、チップセレ
クト信@C8がローレベルになったことにより、アドレ
ス信号A、ないしAII+のレベル変化に応じて変化す
る。すると、ATO回路31ないし3Nは前述の第2図
の説明と同様にして、第3図(n)に示すワンショット
のパルス信号ATDiを出力する。このとき、ワンショ
ットのパルス信号ATDiはCSバッファ2による遅延
分だけ遅れている。
ATD回路31ないし3Nのいずれかから出力されたワ
ンショットのパルス信号ATDiはMOS型電界効果ト
ランジスタ41ないし4Nのいずれかを介して、第3図
(0)に示すATO信号としてインバータ5に入力され
る。インバータ5の入力すなわちATD信号はATO回
路31ないし3Nの出力のパルスの立ち上がりを受けて
急速に立ち下がり、そのパルスの立ち下がりを受けて緩
かに立ち上がる。この立ち上がりは電源電位Vccとイ
ンバータ5の入力との間に接続−された負荷素子40だ
けによって行なわれるために緩かに立ち上がる。
ンショットのパルス信号ATDiはMOS型電界効果ト
ランジスタ41ないし4Nのいずれかを介して、第3図
(0)に示すATO信号としてインバータ5に入力され
る。インバータ5の入力すなわちATD信号はATO回
路31ないし3Nの出力のパルスの立ち上がりを受けて
急速に立ち下がり、そのパルスの立ち下がりを受けて緩
かに立ち上がる。この立ち上がりは電源電位Vccとイ
ンバータ5の入力との間に接続−された負荷素子40だ
けによって行なわれるために緩かに立ち上がる。
一方、C3TD回路6はCSバッファ2の出力すなわち
チップセレクト信号C8がハイレベルからローレベルに
変化したことに応じて、第3図(−)に示すようなワン
ショットのパルス信号で−pチャネルMOS型電界効果
トランジスタ71がオンし、電源電位Vccとインバー
タ5の入力との闇のインピーダンスが低下する。このた
めに、このインピーダンスと、MOS型電界効果トラン
ジスタ41ないし4Nの容量との積である時定数が減少
し、第3図(p)に示すようにATD信号が急峻に立ち
上がる。したがって、ATD信号の立ち上がりが速くな
り、チップセレクト入力信号C3extが変化したとき
におけるアクセスタイムが、CSバッフy2による遅れ
分だけアドレス信号A、ないしAMによるアクセスより
も遅れ時間が補償され、アドレス信号A、ないしAMに
よるアクセスと同等のチップセレクト信号によるアクセ
スを得ることができる。
チップセレクト信号C8がハイレベルからローレベルに
変化したことに応じて、第3図(−)に示すようなワン
ショットのパルス信号で−pチャネルMOS型電界効果
トランジスタ71がオンし、電源電位Vccとインバー
タ5の入力との闇のインピーダンスが低下する。このた
めに、このインピーダンスと、MOS型電界効果トラン
ジスタ41ないし4Nの容量との積である時定数が減少
し、第3図(p)に示すようにATD信号が急峻に立ち
上がる。したがって、ATD信号の立ち上がりが速くな
り、チップセレクト入力信号C3extが変化したとき
におけるアクセスタイムが、CSバッフy2による遅れ
分だけアドレス信号A、ないしAMによるアクセスより
も遅れ時間が補償され、アドレス信号A、ないしAMに
よるアクセスと同等のチップセレクト信号によるアクセ
スを得ることができる。
なお、上述の実施例では、負荷素子7をpチャネルMO
S型電界効果トランジスタ71と抵抗72との直列接続
としたが、pチャネルMOS型電界効果トランジスタ7
1のみで構成してもよい。
S型電界効果トランジスタ71と抵抗72との直列接続
としたが、pチャネルMOS型電界効果トランジスタ7
1のみで構成してもよい。
すなわち、C8TDImf86から出力されるパルスQ
号C5Tによプて制−可能な負荷素子であればどのよう
なものでもよい。
号C5Tによプて制−可能な負荷素子であればどのよう
なものでもよい。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、チップセレクト信号
のレベル変化に応じて第2のパルス信号を発生し、この
パルス信号に応じて論理和回路の動作速度を速めるよう
にIIJlllするようにしたので、論理和回路から出
力される第1のパルス信号発生回路からの第1のパルス
信号の立ち上がりを急峻にすることができ、アドレス信
号によるアクセスに対する遅れを防止できる。
のレベル変化に応じて第2のパルス信号を発生し、この
パルス信号に応じて論理和回路の動作速度を速めるよう
にIIJlllするようにしたので、論理和回路から出
力される第1のパルス信号発生回路からの第1のパルス
信号の立ち上がりを急峻にすることができ、アドレス信
号によるアクセスに対する遅れを防止できる。
第1図はこの発明の一実施例の概略ブロック図である。
第2図は従来の半導体記憶装置のブロック図である。第
3図は第1図および第2図の動作を説明するためのタイ
ミング図である。 図において、11ないし1Nは入力バッファ、2はCS
バッフ1.31ないし3NはATD回路、4はNOR回
路、41ないし4NはMOS型電界効果トランジスタ、
5はインバータ、6はC3TD回路、7は負荷素子、7
1はpチャネルMOS型電界効果トランジスタ、72は
負荷抵抗を示す。
3図は第1図および第2図の動作を説明するためのタイ
ミング図である。 図において、11ないし1Nは入力バッファ、2はCS
バッフ1.31ないし3NはATD回路、4はNOR回
路、41ないし4NはMOS型電界効果トランジスタ、
5はインバータ、6はC3TD回路、7は負荷素子、7
1はpチャネルMOS型電界効果トランジスタ、72は
負荷抵抗を示す。
Claims (5)
- (1)複数のメモリセルと、 前記メモリセルのアドレスを指定するための複数のアド
レス信号のそれぞれに対応して設けられ、対応するアド
レス信号におけるレベルの変化に応じて第1のパルス信
号を発生する第1のパルス信号発生回路と、 前記各第1のパルス信号発生回路から発生された各第1
のパルス信号の論理和をとるための論理和回路と、 チップを能動化するためのチップセレクト信号における
レベルの変化に応じて、第2のパルス信号を発生する第
2のパルス信号発生回路と、前記第2のパルス信号発生
回路から発生された第2のパルス信号に応じて、前記論
理和回路の動作速度を制御するための動作速度制御回路
とを備えた、半導体記憶装置。 - (2)前記第2のパルス信号発生回路は、前記チップセ
レクト信号が前記チップを能動化するためのレベルに変
化したことに応じて前記第2のパルスを発生するように
した、特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 - (3)前記論理和回路は、 ゲートが前記複数の第1のパルス信号発生回路の出力に
接続され、ソースが接地電位に接続され、ドレインが共
通接続された複数のMOS型電界効果トランジスタと、 電源電位と前記共通接続された複数のMOS型電界効果
トランジスタのドレインとの間に接続される第1の負荷
素子と、 前記電源電位と前記共通接続された複数のMOS型電界
効果トランジスタのドレインとの間に接続され、前記第
2のパルス信号発生回路からの第2のパルス信号によつ
て制御される第2の負荷素子とを含む、特許請求の範囲
第1項記載の半導体記憶装置。 - (4)前記第2の負荷素子は、MOS型電界効果トラン
ジスタを含む、特許請求の範囲第3項記載の半導体記憶
装置。 - (5)前記第2の負荷素子は、MOS型電界効果トラン
ジスタと抵抗との直列回路を含む、特許請求の範囲第3
項記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60039601A JPS61196498A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 半導体記憶装置 |
DE19863603289 DE3603289A1 (de) | 1985-02-26 | 1986-02-04 | Halbleiter-speicherelement |
FR8602651A FR2578085B1 (fr) | 1985-02-26 | 1986-02-26 | Dispositif de memoire a semiconducteur |
US07/133,153 US4893282A (en) | 1985-02-26 | 1987-12-07 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60039601A JPS61196498A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61196498A true JPS61196498A (ja) | 1986-08-30 |
JPH0418399B2 JPH0418399B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=12557629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60039601A Granted JPS61196498A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 半導体記憶装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4893282A (ja) |
JP (1) | JPS61196498A (ja) |
DE (1) | DE3603289A1 (ja) |
FR (1) | FR2578085B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0289286A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-03-29 | Seiko Epson Corp | 半導体記憶装置 |
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US5228003A (en) * | 1988-04-15 | 1993-07-13 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor memory |
JPH0261894A (ja) * | 1988-08-25 | 1990-03-01 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 非同期式メモリ |
JPH0821849B2 (ja) * | 1988-10-25 | 1996-03-04 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR900015148A (ko) * | 1989-03-09 | 1990-10-26 | 미다 가쓰시게 | 반도체장치 |
JPH04258885A (ja) * | 1991-02-12 | 1992-09-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JP3118063B2 (ja) * | 1992-03-23 | 2000-12-18 | ローム株式会社 | 不揮発性記憶素子およびこれを利用した不揮発性記憶装置、ならびに不揮発性記憶素子の製造方法 |
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Citations (1)
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