JPH10135304A - 処理装置およびその方法、ロボット装置 - Google Patents

処理装置およびその方法、ロボット装置

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JPH10135304A
JPH10135304A JP8288376A JP28837696A JPH10135304A JP H10135304 A JPH10135304 A JP H10135304A JP 8288376 A JP8288376 A JP 8288376A JP 28837696 A JP28837696 A JP 28837696A JP H10135304 A JPH10135304 A JP H10135304A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は複数の処理部を小さなスペ−スで
設置できるようにした処理装置を提供することにある。 【解決手段】 被処理物を処理するための処理装置にお
いて、 上下二段に配置された複数の処理部と、上段あ
るいは下段のどちらか一方の一端に位置する処理部に対
向して配置され未処理の被処理物を保持したロ−ダ部４
と、上段あるいは下段の他方の一端に位置する処理部に
対向して配置され処理済みの被処理物が格納されるアン
ロ−ダ部７３と、上下動自在に配置され上記ロ−ダ部か
ら上段あるいは下段のどちらか一方の一端に位置する処
理部へ未処理の被処理物を供給する第１の受け渡し手段
６と、上下動自在に配置され上段あるいは下段のどちら
か一方の他端に位置する処理部から被処理物を受けてそ
の被処理物を他方の他端に位置する処理部へ供給する第
２の受け渡し手段３１とを具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶用ガラス基板
や半導体ウエハなどの被処理物を複数の処理部によって
順次処理する処理装置およびその方法、上記被処理物を
搬送するためのロボット装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶用ガラス基板や半導体ウ
エハなどの被処理物に回路パタ−ンを形成する製造工程
においては、その被処理物に対して種々の処理を行うこ
とが要求され、その処理の１つに上記被処理物を高い清
浄度で洗浄することが要求される工程がある。
【０００３】被処理物の洗浄には、その被処理物に紫外
線を照射し有機物を分解して除去する紫外線照射手段、
搬送される被処理物に薬液などを吹き付けながらブラシ
で洗浄するブラシ洗浄手段、被処理物をテ−ブルに保持
して回転させながら薬液などを吹き付けるスピン洗浄手
段など、種々の洗浄手段（処理部）が知られており、複
数の洗浄手段を用いて被処理物を洗浄処理する場合に
は、それらの洗浄手段に対して被処理物を搬入、搬出処
理する搬送手段（処理部）も設けられる。
【０００４】被処理物の清浄度を高めるためには、上述
した複数の洗浄手段のうち、できるだけ多くの洗浄手段
によって被処理物を洗浄するようにしている。その場
合、ユニット化された各洗浄手段をクリ−ンル−ムに平
面的に並設し、洗浄する被処理物を複数の洗浄手段に対
して搬送手段で順次搬入、搬出するということが行なわ
れている。
【０００５】しかしながら、複数の洗浄手段や上記搬送
手段を平面的に配置すると、クリ−ンル−ムにおいて各
洗浄手段や搬送手段が占めるスペ−スが大きくなるとい
うことがあった。クリ−ンル−ムにおいてはスペ−スを
できるだけ有効に活用することが要求されている。した
がって、被処理物を洗浄する場合、複数の洗浄手段や搬
送手段が占有するスペ−スを小さくすることが望まれて
いる。
【０００６】上記被処理物を並設された洗浄手段間で搬
送するには、その洗浄手段における洗浄処理が連続的に
行なえる場合にはコンベアによって連続搬送すればよ
い。しかしながら、洗浄手段における洗浄処理が、たと
えばスピン洗浄などのように連続的に行なえない場合に
は、上記被処理物を処理部の１つである上述した搬送手
段を構成するロボット装置によって搬送するということ
が行なわれている。
【０００７】搬送手段としてロボット装置を用いると、
このロボット装置を並設された洗浄手段に沿って走行さ
せるということが行なわれる。その場合、上記ロボット
装置の走行範囲にわたって軌道を設けるようにしてい
る。
【０００８】しかしながら、上記ロボット装置によって
洗浄された被処理物を搬入、搬出すると、被処理物から
滴下する洗浄液が上記軌道に滴下するということがあ
る。洗浄液としては純水以外にたとえば酸性度の高い薬
液などが用いられることがある。そのため、被処理物か
ら滴下した薬液が軌道を腐食させたり、上記ロボット装
置を制御するためのケ−ブルを損傷させるなどのことが
あった。
【０００９】さらに、ロボット装置によって被処理物を
所定の洗浄手段に搬入する場合、その洗浄手段での被処
理物の洗浄が終了するまで、前工程で洗浄された被処理
物を保持して待機しなければならないことがある。その
場合、待機時間が長くなると、前工程で上記被処理物に
付着した洗浄液が乾燥し、その被処理物に染みなどが付
いてしまうということもあった。
【００１０】なお、上述したスペ−スの問題は被処理物
を洗浄処理する場合だけに発生するものでなく、種々の
工程でも問題になる。たとえば被処理物に対してレジス
トを塗布する場合には、塗布装置、加熱装置、予備加熱
装置などの複数の処理部を設けることになるから、同様
の問題が発生することになる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は被
処理物を複数の処理部で処理する場合、その複数の処理
部を平面的に配置していたので、配置スペ−スが大きく
なるということがあり、とくにクリ−ンル−ムにおいて
配置スペ−スが大きくなるとそのクリ−ンル−ムの有効
活用が阻害される。
【００１２】複数の処理部間における被処理物の受け渡
しを行う手段がロボット装置で、そのロボット装置を並
設された処理部に沿って走行させる場合、その軌道やロ
ボット装置を制御するためのケ−ブルなどに洗浄液を滴
下させ、これらを早期に損傷させるということがある。
【００１３】さらに、ロボット装置がつぎの処理部に供
給する被処理物を保持した状態で待機すると、たとえば
その被処理物が前工程で洗浄された場合、その被処理物
に付着した洗浄液が乾燥して染みなどができるというこ
ともある。
【００１４】この発明の目的は、複数の処理部を少ない
スペ−スに設置できるようにした処理装置を提供するこ
とにある。この発明の他の目的は、被処理物をロボット
装置で受け渡すため、そのロボット装置を処理部に沿っ
て走行させるようにした場合、上記被処理物から処理液
が上記ロボットの軌道などに滴下することがないように
した処理装置を提供することにある。
【００１５】この発明のさらに他の目的は、ロボット装
置が処理部に受け渡す被処理物を保持して待機しても、
その被処理物を乾燥させずにすむようにした処理装置を
提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の処理部を有し、これら処理部に被処理物を順次搬送す
ることで処理する処理装置において、上記複数の処理部
は上下二段に配置されていることを特徴とする。
【００１７】請求項２の発明は、被処理物を処理するた
めの処理装置において、上下二段に配置された複数の処
理部と、上段あるいは下段のどちらか一方の一端に位置
する処理部に対向して配置され未処理の被処理物を保持
したロ−ダ部と、上段あるいは下段の他方の一端に位置
する処理部に対向して配置され処理済みの被処理物が格
納されるアンロ−ダ部と、上記ロ−ダ部から上段あるい
は下段のどちらか一方の一端に位置する処理部へ未処理
の被処理物を供給する第１の受け渡し手段と、上段ある
いは下段のどちらか一方の他端に位置する処理部から被
処理物を受けてその被処理物を他方の他端に位置する処
理部へ供給する第２の受け渡し手段とを具備したことを
特徴とする。
【００１８】請求項３の発明は、請求項１または請求項
２の発明のいて、上段あるいは下段のどちらか一方に
は、上記被処理物に対して同じ処理をする複数の処理部
が直列に設けられ、これら処理部の側方には各処理部に
対して被処理物を搬入搬出する搬入搬出手段が設けられ
ていることを特徴とする。
【００１９】請求項４の発明は、請求項３の発明におい
て、上記搬入搬出手段は下段に配置され、この搬入搬出
手段の側方には他の処理部が並列に配置されていて、上
記搬入搬出手段と上記他の処理部との間には、上記他の
処理部に供給された清浄空気の一部を上記搬入搬出手段
に向けて分流する分流手段が設けられていることを特徴
とする。
【００２０】請求項５の発明は、請求項２の発明におい
て、上記第２の受け渡し手段は、被処理物を搬送する搬
送機構と、この搬送機構によって搬送される被処理物に
向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給手段と、上
記搬送機構の下面側に設けられ上記液体供給手段から供
給された液体を集積するとともに上記搬送機構と一体的
に上下駆動されるドレンパンと、このドレンパンに接続
されドレンパンに集積された液体を排出する可動パイプ
と、この可動パイプがスライド自在に挿入され可動パイ
プから排出される液体が導入される固定パイプとからな
ることを特徴とする。
【００２１】請求項６の発明は、請求項２の発明におい
て、所定の処理部の搬出側には所定の高さで配置される
とともにその処理部から搬出された被処理物を受ける固
定式ロ−ラユニットが設けられ、上記第２の受け渡し手
段は、上下方向に駆動されるとともに上昇位置で上記固
定式ロ−ラユニットに搬出された被処理物を受けて下降
する可動式ロ−ラユニットからなり、上記可動式ロ−ラ
ユニットが上昇したときに隣り合う上記固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの一側には、各ロ−ラ
ユニットの内方に向かって低く傾斜した傾斜部を有する
第１の防水カバ−と第２の防水カバ−とが設けられ、上
記可動ユニットに設けられた第２の防水カバ−の傾斜部
は、この可動ユニットが上昇したときに上記固定式ロ−
ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下方に重合位置する
ことを特徴とする。
【００２２】請求項７の発明は、請求項３の発明におい
て、上記搬入搬出手段は、その移動方向に沿って設けら
れたガイド部と、このガイド部と平行かつ所定の間隔を
介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部と駆動装置
との間に配置されるとともにこれらガイド部と駆動装置
とによって走行自在に支持されかつ駆動装置によってそ
の走行方向に沿って駆動されるロボットと、このロボッ
トの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆動装置とを
覆う状態で設けられたカバ−体とからなることを特徴と
する。
【００２３】請求項８の発明は、被処理物を搬送処理す
る処理方法において、未処理の被処理物を所定の高さで
供給する供給工程と、この供給工程から供給搬送された
被処理物をほぼ同じ搬送高さで処理する第１の処理工程
と、この第１の処理工程で処理された被処理物の搬送高
さを変更する高さ変更工程と、この高さ変更工程で変更
された高さとほぼ同じ高さで上記被処理物を処理する第
２の処理工程と、この第２の処理工程で処理された被処
理物を格納する格納工程とを具備したことを特徴とす
る。
【００２４】請求項９の発明は、複数のリンクを回動自
在に連結するとともに先端に被処理物を保持するための
セッタが設けられて伸縮駆動される第１のア−ム体と第
２のア−ム体とを備えたロボット装置において、上記第
１のア−ム体のセッタは、上記第２のア−ム体のセッタ
よりも下方に位置するとともに、この第２のア−ム体の
セッタにはここに保持された被処理物に向けて液体を噴
射するノズル体が設けられていることを特徴とする。
【００２５】請求項１と請求項２の発明によれば、複数
の処理部を上下二段に配置したことで、平面的に配置す
る場合に比べて占有面積を小さくすることができる。請
求項３の発明によれば、被処理物に対して同じ処理を行
う一対の処理部を直列に設けられ、これら処理部の側方
には各処理部に対して被処理物を搬入搬出する搬入搬出
手段を移動自在に設けたことで、被処理物に対してバッ
チ処理が行われる場合、全体としてのサイクルタイムを
短くできる。
【００２６】請求項４の発明によれば、複数の処理部を
上下二段に配置した場合、上段の処理部から下段の処理
部へ清浄空気を分流できるため、処理部を上下二段に配
置しても、下段の処理部におけるクリ−ン度を確保でき
る。
【００２７】請求項５の発明によれば、上下駆動されて
上段と下段の処理部の間で被処理物を受け渡す第２の受
け渡し手段に被処理物の乾燥を防止するために供給され
た液体は、上下駆動されるドレンパンに接続されこのド
レンパンとともに上下動する可動パイプおよびこの可動
パイプが挿通された固定パイプを通じて排出されるた
め、液体の排出処理のためのスペ−スを小さくできる。
【００２８】請求項６の発明によれば、固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの隣り合う一側に、そ
れぞれ傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カ
バ−とを、上記可動式ロ−ラユニットが上昇したとき
に、その第２の防水カバ−の傾斜部が上記第１の防水カ
バ−の傾斜部の下方に重合位置するように設けたこと
で、被処理物が固定式ロ−ラユニットから可動式ロ−ラ
ユニットへ受け渡されるときに、上記被処理物から洗浄
液などの液体が滴下しても、その液体は第１の防水カバ
−の傾斜部と第２の防水カバ−の傾斜部に滴下して各ロ
−ラユニットの内部へガイドされ、外部に飛散すること
がない。
【００２９】請求項７の発明によれば、ロボットの走行
をガイドするガイド部およびこのガイド部と平行に設け
られ上記ロボットを走行駆動するための駆動装置とをカ
バ−体で覆うようにしたため、上記ロボットによって搬
送される被処理物から液体が滴下しても、その液体でガ
イド部が腐食させられたり、駆動装置の故障を招くなど
のことが防止される。
【００３０】請求項８の発明によれば、被処理物を所定
の搬送高さで処理するとともに、その搬送高さを変えて
さらに処理するようにしたことで、被処理物を処理する
ためのスペ−スを立体的に有効に利用することができ
る。
【００３１】請求項９の発明によれば、下側に位置する
第２のア−ム体のセッタにノズル体を設け、このセッタ
に保持された被処理物に液体を噴射できるようにしたか
ら、そのセッタに保持された被処理物の表面が乾燥する
のを防止でき、また上側に位置する第１のア−ム体のセ
ッタに保持された被処理物に上記液体が付着するのを防
止できる。
【００３２】
【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図１に示すこの発明の処理装置は
被洗浄物としての液晶用ガラス基板を洗浄処理するため
の洗浄処理装置１を示す。この洗浄処理装置１は同図に
鎖線で示す複数の処理ユニット、この実施形態では第１
乃至第５の処理ユニット１ａ〜１ｅ有し、第１乃至第３
の処理ユニット１ａ〜１ｃと、第４、第５の処理ユニッ
ト１ｄ、１ｅが二列に並設されている。なお、図中２は
電装ユニットである。
【００３３】上記第１の処理ユニット１ａ内には架台３
上に設置されたロ−ダ部４を有する。このロ−ダ部４に
は複数の液晶用ガラス基板５が積層保持されていて、上
記架台３に設けられた図示しない搬出機構によって液晶
用ガラス基板５が下方から順次一枚ずつ搬出されるよう
になっている。
【００３４】上記ロ−ダ部４から搬出された液晶用ガラ
ス基板５は第１の受け渡し機構６によって第２の処理ユ
ニット１ｂに送り込まれるようになっている。上記第１
の受け渡し機構６は垂直に立設された支柱７を有する。
この支柱７にはロ−ラユニット８が図示しない駆動源に
よって上下駆動自在に設けられている。このロ−ラユニ
ット８はフレ−ム９を有し、このフレ−ム９には複数の
ロ−ラ１１が軸線を平行にして回転自在に架設されてい
る。フレ−ム９の一側には上記ロ−ラ１１を回転駆動す
るための駆動源１２が設けられている。
【００３５】上記ロ−ラユニット８は、その上面を上記
ロ−ダ部４から搬出される液晶用ガラス基板５と同じ高
さに下降して待機している。上記ロ−ダ部４から搬出さ
れた液晶用ガラス基板５は上記ロ−ラユニット８上に供
給される。液晶用ガラス基板５を受けたロ−ラユニット
８は上昇し、第２の処理ユニット１ｂ内に所定の高さで
設けられた紫外線照射装置１５に液晶用ガラス基板５を
供給する。
【００３６】上記紫外線照射装置１５は一側に供給口１
６が形成されていて、上記ロ−ラユニット８はその上面
に載置された液晶用ガラス基板５が上記供給口１６と同
じ高さになる位置まで上昇する。ついで、ロ−ラ１１が
駆動源１２によって回転駆動されることで、上記液晶用
ガラス基板５が上記紫外線照射装置１５内へ供給され
る。
【００３７】上記紫外線照射装置１５は、詳細は図示し
ないが、その内部に、液晶用ガラス基板５を搬送する搬
送ロ−ラおよびこの搬送ロ−ラによって搬送される液晶
用ガラス基板５に紫外線を照射する紫外線ランプを有
し、紫外線によって照射されることで、液晶用ガラス基
板５に付着した有機物が分解除去されるようになってい
る。
【００３８】上記第２の処理ユニット１ｂには、上記紫
外線照射装置１５と隣接しかつ同じ高さでブラシ洗浄ユ
ニット２０が配置されていて、この内部には上記紫外線
照射装置１５で処理された液晶用ガラス基板５を連続し
て搬送する図示しない搬送手段が設けられている。
【００３９】上記ブラシ洗浄ユニット２０は、一側に上
記液晶用ガラス基板５が供給される供給口２１が形成さ
れるとともにその内部には不活性ガスが供給されて内部
雰囲気が中性に維持されるニュ−トラル室２２と、この
ニュ−トラル室２２を通過した液晶用ガラス基板５に薬
液などの洗浄液を吹き付けながらブラシ洗浄するブラシ
洗浄室２３と、このブラシ洗浄室２３で洗浄された液晶
用ガラス基板５を純水でシャワ−洗浄するシャワ−室２
４とが順次並設されている。このシャワ−室２４にはシ
ャワ−洗浄された液晶用ガラス基板５が搬出される図示
しない搬出口が形成されている。
【００４０】上記シャワ−室２４の搬出口から搬出され
た液晶用ガラス基板５は、受け渡し用のロ−ラユニット
３０（固定式ロ−ラユニット）を介して上記第１の受け
渡し機構６とほぼ同じ構成の第２の受け渡し機構３１に
よって受け取られる。この第２の受け渡し機構３１は支
柱３２を有する。この支柱３２には可動式ロ−ラユニッ
ト３３が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設け
られている。この可動式ロ−ラユニット３３は上面が開
口した有底状の筐体３４（ドレンパン）を有し、この筐
体３４には複数のロ−ラ３５が軸線を平行にして回転自
在に架設されている。上記筐体３４の一側には駆動源３
４ａ（図４に示す）が設けられ、この駆動源によって上
記ロ−ラ３５が回転駆動されるようになっている。
【００４１】上記可動式ロ−ラユニット３３はその上面
を上記シャワ−室２４の搬出口から送り出される液晶用
ガラス基板５とほぼ同じ高さに上昇して待機している。
上記シャワ−室２４から搬出された液晶用ガラス基板５
を上記可動式ロ−ラユニット３３が受けると、この可動
式ロ−ラユニット３３は下降する。
【００４２】可動式ロ−ラユニット３３に載置された液
晶用ガラス基板５はロボット装置である搬入搬出機構４
０（処理部の１つである）を構成するロボット４１によ
って取り出され、上記第４の処理ユニット１ｄに並設さ
れた第１のスピン処理装置４２と第２のスピン処理装置
４３のどちらか一方に供給される。
【００４３】上記第２の受け渡し機構３１の可動式ロ−
ラユニット３３に受け渡された液晶用ガラス基板５は、
上記搬入搬出機構４０のロボット４１に受け渡される前
に乾燥すると、染みなどができるから、それを防止する
ために乾燥防止用の液体として純水が散布される。
【００４４】つまり、可動式ロ−ラユニット３３は図２
に示すようにドレンパンとしての上述した有底箱状の筐
体３４を有し、この筐体３４の上部両側にはパイプ状の
シャワ−ノズル３７が配置されている。各シャワ−ノズ
ル３７からは上記可動式ロ−ラユニット３３に保持され
た液晶用ガラス基板５に向けて純水が噴射されるように
なっている。
【００４５】上記筐体３４の底部には可動パイプ３８の
上端が接続されている。この可動パイプ３８は垂設さ
れ、これよりも大径な固定パイプ３９にスライド自在に
挿通されている。この固定パイプ３９は中途部が第２の
受け渡し機構３１の架台３１ａに固定され、下端部は図
示しない廃液部に連通している。それによって、可動式
ロ−ラユニット３３に保持された液晶用ガラス基板５に
向けて噴射された純水はユニット本体３６から可動パイ
プ３８および固定パイプ３９を通って排出されるように
なっている。
【００４６】ユニット本体３６に可動パイプ３８を接続
し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９に挿通したこ
とで、可動式ロ−ラユニット３３が上下動しても、ユニ
ット本体３６からのドレンの排出を確実に行うことがで
きる。
【００４７】すなわち、通常、可動部からドレンを排出
する場合、可動部の動きに対応できるようにするため、
フレキシブルチュ−ブが用いられる。その場合、フレキ
シブルチュ−ブは可動部が上昇できる長さに設定されて
いるから、下降したときには屈曲して側方へ突出する。
そのため、上記フレキシブルチュ−ブを側方へ屈曲させ
るためのスペ−スを確保しなければならなかったり、可
動部の上下動によってフレキシブルチュ−ブが屈曲を繰
り返すことで、その屈曲部分が早期に損傷するというこ
とがあった。
【００４８】しかしながら、この発明では、フレキシブ
ルチュ−ブを用いず、ユニット本体３６に可動パイプ３
８を接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９にス
ライド自在に挿通した。そのため、ユニット本体３６の
上下動によって可動パイプ３８が固定パイプ３９内をス
ライドするから、固定パイプ３９を設置するに必要なス
ペ−スを確保するだけですみ、しかもフレキシブルチュ
−ブのように屈曲により早期に損傷するということもな
い。
【００４９】図６に示すように、上記受け渡し用ロ−ラ
ユニット３０は、上記可動式ロ−ラユニット３３と同
様、筐体１３１を有する。この筐体１３１には、中心部
に向かって低く傾斜した底部の中心部に排液管１３２が
設けられ、対向する一対の側壁間には複数のロ−ラ１３
３が軸線を平行にして所定間隔で回転自在に架設されて
いる。このロ−ラ１３３は図示しない駆動源によって回
転駆動されるようになっている。
【００５０】したがって、上記シャワ−室２４から上記
受け渡し用ロ−ラユニット３０のロ−ラ１３３上に搬出
された液晶用ガラス基板５は、そのロ−ラ１３３が回転
駆動されることで、上記可動式ロ−ラユニット３３のロ
−ラ３５上に受け渡される。
【００５１】上記可動式ロ−ラユニット３３が上昇位置
にあるときに隣り合う、上記受け渡し用ロ−ラユニット
３０と上記可動式ロ−ラユニット３３の筐体１３１，３
４の側壁には、それぞれ第１の防水カバ−１３４と第２
の防水カバ−１３５とが設けられている。
【００５２】各防水カバ−１３４、１３５は垂直部１３
４ａ、１３５ａと、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂとを有
し、垂直部１３４ａ、１３５ａの下端部が上記側壁の内
面にスペ−サ１３６を介して取付けられている。それに
よって、各防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４
ｂ、１３５ｂは各筐体１３１、３４の側壁から外方に向
かって突出するとともに、各筐体１３１、３４の内方に
向かって低く傾斜している。
【００５３】さらに、可動式ロ−ラユニット３３が上昇
した状態において、液晶用ガラス基板５の搬送方向上流
側となる受け渡しロ−ラユニット３０に設けられた第１
の防止カバ−１３４の傾斜部１３４ｂは、可動式ロ−ラ
ユニット３３に設けられた第２の防水カバ−１３５の上
方に重合位置する用になっている。
【００５４】それによって、シャワ−室２４で洗浄され
た液晶用ガラス基板５が固定式ロ−ラユニット３０から
可動式ロ−ラユニット３３へ受け渡される場合、そのガ
ラス基板５から滴下する洗浄液は各防水カバ−１３４、
１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂに滴下し、その傾斜
に沿って各筐体１３１、３４内へ流入する。そのため、
液晶用ガラス基板５から滴下する洗浄液が周囲に飛散す
るのが防止される。
【００５５】しかも、一対の防水カバ−１３４、１３５
の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂは重合しているから、洗浄
液が各ロ−ラユニット３０、３３の隙間から飛散すると
いうこともない。
【００５６】さらに、洗浄液が仮に防水カバ−１３４、
１３５の下面に付着し、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂから
垂直部１３４ａ、１３５ａへと流れても、垂直部１３４
ａ、１３５ａの下端はスペ−サ１３６を介して筐体３
４、１３１の側壁内面に取着されている。そのため、防
水カバ−１３４、１３５の下面に沿って流れた洗浄液が
筐体１３１、３４の外部に滴下するということもない。
【００５７】上記ロボット４１は並設された複数、この
実施形態では一対のスピン処理装置４２、４３の側方
で、上記紫外線照射装置１５とブラシ洗浄装置２０の下
方、つまり図５に示すように第２の処理ユニット１ｂ
に、上記第４の処理ユニット１ｄに配置された上記一対
のスピン処理装置４２、４３の並設方向に沿って移動自
在に設けられている。すなわち、図３に示すように上記
スピン処理装置４２、４３の側方にはガイド部を形成す
るガイドレ−ル４４およびこのガイドレ−ル４４と所定
間隔で平行に離間して駆動装置としてのリニアモ−タ４
５が設けられている。
【００５８】上記ガイドレ−ル４４にはスライダ４６が
スライド自在に設けられ、このスライダ４６の上面には
第１の水平部材４７が設けられている。この第１の水平
部材４７には第１の垂直部材４８が垂設されている。
【００５９】上記リニアモ−タ４５は固定部４５ａと、
この固定部４５ａに沿って駆動される可動部４５ｂとか
らなり、この可動部４５ｂには第２の水平部材４９が取
着されている。この第２の水平部材４７には第２の垂直
部材５１が垂設されている。
【００６０】上記第１の垂直部材４８と第２の垂直部材
５１との下端間には載置板５２が水平に架設されてい
て、この載置板５２上に上記ロボット４１が設置固定さ
れている。このロボット４１は柱状の本体部４１ａを有
し、この本体部４１ａは一対の垂直部材４８、４９の間
隔よりも小さな径寸法に形成されている。
【００６１】上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−タ４５
の固定部４５ａとはそれぞれ耐蝕性の高い金属や合成樹
脂等の材料からなるカバ−体５３ａ、５３ｂによって覆
われている。各カバ−体５３ａ、５３ｂは上端が上記ロ
ボット４１の走行方向に沿って設けられたフレ−ム５４
に固定され、中途部がロボット４１に向かって低く傾斜
し、かつそれぞれが上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−
タ４５の固定部４５ａを覆い、下端部は各垂直部材４
８、５１とロボット４１との間に挿入されている。
【００６２】上記一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの下端
側には、上記ロボット４１の走行範囲の全長にわたって
耐蝕性の高い材料からなるドレンパン５５が設けられて
いる。このドレンパン５５には、後述するように上記ロ
ボット４１からカバ−体５３ａ、５３ｂに滴下したドレ
ンが集積されるようになっている。
【００６３】上記ロボット４１は図４に示すようにツイ
ンア−ムロボットで、その本体部４１ａ内には図示しな
い駆動源が設けられている。上記本体部４１ａの上面に
は第１のア−ム体５６と第２のア−ム体５７とが設けら
れている。第１のア−ム体５６は、第１のリンク５６ａ
と第２のリンク５６ｂとからなっており、第２のア−ム
体５７は第３のリンク５７ａと第４のリンク５７ｂから
なっており、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７ａ
の一端が上記駆動源の駆動軸に連結されている。
【００６４】第１のリンク５６ａの他端には第２のリン
ク５６ｂの一端が第１のリンクの回動に連動して回動す
るよう連結されている。各第３のリンク５７ａの他端に
は第４のリンク５７ｂの一端が第３のリンク５７ａの回
動に連動して回動するように連結されている。第２のリ
ンク５６ｂと第４のリンク５６ｂの他端にはそれぞれ第
１のセッタ５６ｃと、第２のセッタ５７ｃの一端が第２
のリンク５６ｂと第４のリンク５７ｂの回動に連動して
回動するよう連結されている。
【００６５】したがって、一対の第１、第２のア−ム体
５６、５７は、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７
ａが回動されることで、第２のリンク５６ｂおよび第４
のリンク５７ｂと、第１のセッタ５６ｃおよび第２のセ
ッタ５７ｃとがそれぞれ連動し、伸縮運動するようにな
っている。さらに、第１、第２のア−ム体５６、５７は
伸縮する方向を変えたり、上下駆動されるようになって
いる。図４は第１のア−ム体５６が縮小し、第２のア−
ム体５７が伸長している状態を示している。
【００６６】一対のア−ム体５６、５７が縮小したと
き、第２のリンク５６ａと第３のリンク５７ａとが、ま
た第１のセッタ５６ｃと第２のセッタ５７ｃとが夫々干
渉するのを防止するため、これらは高さを違えて設けら
れている。この実施形態では第２のア−ム体５７が第１
のア−ム体５６よりも低く設けられている。
【００６７】第１のア−ム体５６はドライ状態にある液
晶用ガラス基板５を専用に搬送し、第２のア−ム体５７
はウエット状態にある液晶用ガラス基板５を専用に搬送
するようになっている。
【００６８】各ア−ム体５６、５７の第１のセッタ５６
ｃと第２のセッタ５７ｃには所定の大きさの液晶用ガラ
ス基板５を位置決め保持するための複数の保持部材６１
が設けられている。また、第２のア−ム体５７の第２の
セッタ５７ｃの基端部上面には一対のノズル体６２が設
けられている。各ノズル体６２からは第２のセッタ５７
ｃに保持された液晶用ガラス基板５が乾燥するのを防止
するための液体としてたとえば純水が噴射されるように
なっている。
【００６９】つまり、ブラシ洗浄装置２０で洗浄されて
第２の受け渡し機構３１に受け渡されたウエット状態に
ある液晶用ガラス基板５は第２のア−ム体５７の第２の
セッタ５７ｃによって受け取られる。ついで、その液晶
用ガラス基板５は第１あるいは第２のスピン処理装置４
２、４３に供給される。その際、各スピン処理装置４
２、４３はバッチ処理であるから、ウエット状態の液晶
用ガラス基板５を供給する間、所定時間待機しなければ
ならない。待機中には上記ノズル体６２から液晶用ガラ
ス基板５に向けて純水が噴射される。それによって、ウ
エット状態にある液晶用ガラス基板５が乾燥するのが防
止されるから、乾燥による染みなどができるのが防止さ
れる。
【００７０】一対のスピン処理装置４２、４３は液晶用
ガラス基板５に対して同じ処理を行うようになってい
る。つまり、液晶用ガラス基板５を保持して高速度で回
転させるとともに、その上面に超音波振動が付与された
薬液を薬液供給ノズル６５から供給して薬液洗浄したの
ち、純水を純水供給ノズル６６から供給してすすぎ洗浄
する。ついで、液晶用ガラス基板５に薬液や純水を供給
せずに高速回転させることで、乾燥処理する。
【００７１】上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄
ユニット２０は液晶用ガラス基板５を連続的に処理す
る。それに対してスピン処理装置４２、４３による液晶
用ガラス基板５の処理はバッチ処理である。そのため、
液晶用ガラス基板５の流れが不連続となってタクトタイ
ムが長くなる。
【００７２】しかしながら、上述したごとく、液晶ガラ
ス基板５に対して同じ処理を行う一対のスピン処理装置
４２、４３を並設して設け、これらスピン処理装置に対
してブラシ洗浄ユニット２０からの液晶ガラス基板５を
交互に供給するようにした。そのため、１つのスピン処
理装置で１枚の液晶ガラス基板５を順次処理する場合に
比べ、洗浄処理装置１全体としてのタクトタイムを短く
することが可能となる。
【００７３】各スピン処理装置４２、４３で乾燥処理さ
れてドライ状態にある液晶ガラス基板５はロボット４１
の第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃによって取
り出され、第５の処理ユニット１ｅへ搬送される。
【００７４】なお、ロボット４１による液晶ガラス基板
５の各スピン処理装置４２、４３に対する着脱は、図１
と図５に示すように第２の処理ユニット１ｂと第４の処
理ユニット１ｄとを連通する開口部６３を介して行われ
る。この開口部６３は図示しないゲ−トによって開閉さ
れるようにしてもよい。
【００７５】上記ロボット４１は、ウエット状態にある
液晶ガラス基板５を第２のア−ム体５７で受け渡し、洗
浄処理が完了してドライ状態にある液晶ガラス基板５を
第１のア−ム体５６で受け渡すようにしている。そのた
め、第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃにはウエ
ット状態にある液晶ガラス基板５の汚れが付着するとい
うことがないから、上記第１のセッタ５６ｃで受け渡し
する清浄な状態の液晶ガラス基板５がロボット４１での
受け渡しによって汚損されることがない。
【００７６】しかも、第１のア−ム体５６は第２のア−
ム体の５７の上方に位置するから、第２のア−ム体５７
の第２のセッタ５７ｃに保持されたウエット状態の液晶
ガラス基板５から滴下する液体などによって第１のア−
ム体５６の第１のセッタ５６ｃやここに保持された液晶
ガラス基板５が汚されるということもない。
【００７７】上記ロボット４１の第２のア−ム体５７が
ウエット状態にある液晶ガラス基板５を一対のスピン処
理装置４２、４３のいずれか一方に供給する場合、リニ
アモ−タ４５によって駆動され、ガイドレ−ル４４に沿
って走行する。その際、ウエット状態にある液晶ガラス
基板５からは一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの中間部上
面に処理液などのドレンが滴下する。
【００７８】上記カバ−体５３ａ、５３ｂの中間部はロ
ボット４１に向かって低く傾斜しているから、カバ−体
５３ａ、５３ｂの中間部に滴下した処理液は図３に矢印
で示すようにその中間部から下端部を経てドレンパン５
５に集積される。
【００７９】つまり、ウエット状態の液晶ガラス基板５
から滴下した処理液がロボット４１の走行をガイドする
ガイドレ−ル４４に滴下してこのガイドレ−ル４４を早
期に腐食させたり、リニアモ−タ４５に滴下してこれを
損傷させるなどのことが防止される。
【００８０】上記第５の処理ユニット１ｅは図１に示す
ように複数のロ−ラからなる搬出部７１を有する。この
搬出部７１の一端側には上記ロボット４１の第１のア−
ム体５６の第１のセッタ５６ｃに保持された液晶ガラス
基板５を受け取るプッシャ７２が上下動自在に設けられ
ている。
【００８１】上記プッシャ７２が上昇して第１のセッタ
５６ｃから液晶ガラス基板５を受け取ると、下降してそ
の液晶ガラス基板５を上記搬出部７１へ受け渡す。搬出
部７１の他端にはアンロ−ダ部７３が配設されていて、
上記搬出部７１を搬送されてきた液晶ガラス基板５はこ
のアンロ−ダ部７３に積層収容される。なお、洗浄装置
１における液晶ガラス基板５の流れは図１に矢印で示
す。
【００８２】上記洗浄処理装置１はクリ−ンル−ムに設
置されるとともに、各処理ユニット１ａ〜１ｅの上部外
面には図５に示すようにクリ−ンユニット７５が設けら
れている。クリ−ンユニット７５はクリ−ンル−ム内の
空気を清浄化して各処理ユニット１ａ〜１ｅへ導入す
る。
【００８３】第２の処理ユニット１ｂにおいては、上記
ロボット４１がブラシ洗浄ユニット２０の下方に配置さ
れている。そのため、第２の処理ユニット１ｂの上部の
クリ−ンユニット７５から供給された清浄空気はブラシ
洗浄ユニット２０に遮られ、上記ロボット４１に保持さ
れた液晶ガラス基板５の清浄度を維持することが難しく
なる。
【００８４】そこで、上記第２の処理ユニット１ｂに並
設された第４の処理ユニット１ｄの上部には、クリ−ン
ユニット７５からの清浄空気の一部を分流するための第
１のガイド体７６が設けられている。同図に矢印で示す
ように第１のガイド体７６で分流された清浄空気は上記
第４の処理ユニット１ｄと第２の処理ユニット１ｂとを
連通する通孔７７へガイドされる。
【００８５】第２の処理ユニット１ｂには上記通孔７７
から流入した清浄空気を下方へ向かってガイドする第２
のガイド体７８が設けられている。それによって、その
清浄空気はロボット４１に向かって流れるから、このロ
ボット４１に保持された液晶ガラス基板５の清浄度を維
持することができる。
【００８６】上記構成の洗浄処理装置１によれば、液晶
ガラス基板５を処理するための処理部としての紫外線照
射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０とを上段に配置
し、これらの下段に同じく処理部としてのロボット４１
を配置した。
【００８７】そのため、洗浄処理装置１全体としての幅
寸法は、上記ロボット装置４０を紫外線照射装置１５と
ブラシ洗浄ユニット２０に対して横方向に並設した場合
よりも小さくできるから、その分、クリ−ンル−ムを占
有するスペ−スも小さくすることができる。
【００８８】上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄
ユニット２０と、ロボット４１とを上下二段に配置する
とともに、上段の紫外線照射装置１５の入口側には第１
の受け渡し機構６を設け、ブラシ洗浄ユニット２０の出
口側には第２の受け渡し機構３１を設けるようにした。
【００８９】そのため、複数の処理部を上下二段に配置
しても、液晶ガラス基板５のロ−ダ部４から紫外線照射
装置１５への受け渡しやブラシ洗浄ユニット２０からロ
ボット４１への受け渡しを確実に行うことが可能であ
る。
【００９０】上段に紫外線照射装置１５およびブラシ洗
浄ユニット２０を配置し、下段にロボット４１を配置し
たことで、第２の処理ユニット１ｂの上部からのダウン
フロ−が上段の処理部によって遮られる。
【００９１】しかしながら、上記第２の処理ユニット１
ｂに並設された第４の処理ユニット１ｄからのダウンフ
ロ−の一部は、第１のガイド体７６によって分流され、
第２、第４の処理ユニット１ｂ、１ｄを連通する通孔７
７を通って第２のガイド体７８によりロボット４１に向
かってガイドされる。
【００９２】したがって、ロボット４１に保持された洗
浄処理後の液晶ガラス基板５は第２の処理ユニット１ｂ
に隣接する第４の処理ユニット１ｄからの清浄空気によ
って清浄度が維持される。つまり、複数の処理部を上下
二段に配置しても、下段に配置された処理部の清浄度を
クリ−ンユニット７５からの清浄空気によって確実に維
持することができる。
【００９３】この発明は上記一実施形態に限定されず、
種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では処
理装置として洗浄処理装置を挙げたが、それ以外の処理
を行う装置であっても、複数の処理部を有するものであ
れば、この発明を適用することができる。
【００９４】たとえば被処理物としての半導体ウエハや
液晶ガラス基板に回路パタ−ンを形成するために行われ
る現像処理、エッチング処理、薄膜形成処理などを行う
処理部を備えた処理装置であってもよく、要は処理部の
種類や組み合わせ、さらには被処理物の種類なども限定
されるものでない。
【００９５】さらに、上記一実施形態ではロ−ダ部に収
容された被処理物を第１の受け渡し機構で上段の処理部
に供給し、上段の最後の処理部で処理された被処理物を
第２の受け渡し機構で下段の処理部に受け渡すようにし
たが、処理部の配置状態によってはロ−ダ部の被処理物
を第１の受け渡し機構によって下段の処理部に受け渡
し、第２の受け渡し機構によって下段の処理部で処理さ
れた被処理物を上段の処理部に受け渡すようにしてもよ
い。その場合、ロ−ダ部と下段の処理部とが同じ高さで
あれば、第１の受け渡し機構を上下動自在な構成としな
くてもよい。
【００９６】また、一対のスピン処理装置を１つの処理
ユニットに配置したが、別々の処理ユニットに配置する
ようにしてもよく、その点は処理部の大きさや処理ユニ
ットの大きさなどによって設計変更できることである。
【００９７】また、上記一実施形態では、紫外線照射装
置およびブラシ洗浄ユニットを上方に配置し、その下方
にロボットを配置し、スピン処理装置は上記ロボットの
側方で、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニット
の斜め下方に配置したが、上記ロボットおよびスピン処
理装置を、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニッ
トの真下に配置するようにしてもよいこと勿論である。
その場合、ロ−ダ部とアンロ−ダ部も上下方向に配置す
ればよい。
【００９８】
【発明の効果】請求項１と請求項２の発明によれば、複
数の処理部を上下二段に配置し、上段あるいは下段のど
ちらか一方の処理部で処理された被処理物を他方の処理
部で処理するようにした。
【００９９】そのため、複数の処理部を平面的に配置す
る場合に比べて装置を設置するに要する占有面積を小さ
くすることができるから、たとえばクリ−ンル−ム内の
スペ−スを有効に利用することができる。
【０１００】さらに、請求項２の発明によれば、複数の
処理部を上下二段に配置しても、第１の受け渡し手段と
第２の受け渡し手段とによって被処理物を上段の処理部
から下段の処理部あるいはその逆に流すことができるか
ら、被処理物の流れの選択幅を拡大することができる。
【０１０１】請求項３の発明によれば、被処理物に対し
て同じ処理を行う複数の処理部を直列に設け、これら処
理部の側方には各処理部に対して被処理物を搬入搬出す
る供搬入搬出手段を移動自在に設けるようにした。
【０１０２】そのため、被処理物をバッチ処理する処理
部と連続処理する処理部とが混在する場合、バッチ処理
する複数の処理部を並設することで、バッチ処理する処
理部での見掛上の処理時間をその処理部の数に応じて大
幅に短縮できるから、全体のタクトタイムも短縮するこ
とができる。
【０１０３】請求項４の発明によれば、複数の処理部を
上下二段に配置した場合、隣接する処理部に供給された
清浄空気を下段に配置された処理部へ分流できるように
した。
【０１０４】そのため、処理部を上下二段に配置して
も、下段の処理部におけるクリ−ン度を確保することが
できる。請求項５の発明によれば、上下駆動されて上段
と下段の処理部の間で被処理物を受け渡す受け渡し手段
のドレンパンに可動パイプを接続し、この可動パイプを
固定パイプにスライド自在に挿通することで、受け渡し
手段に保持された被処理物の乾燥を防止するために噴射
された液体を上記ドレンパンから可動パイプおよび固定
パイプを通じて排出できるようにした。
【０１０５】そのため、ドレンパンの下方には固定パイ
プを設置できるだけのスペ−スを確保すればよいから、
液体を排出するために必要となるスペ−スを小さくでき
る。しかも、上下駆動手段の上下動によって可動パイプ
が固定パイプをスライドする構成であるから、上下動が
繰り返されても損傷することがほとんどない。
【０１０６】請求項６の発明によれば、固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの隣り合う一側に、そ
れぞれ傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カ
バ−とを、上記可動式ロ−ラユニットが上昇したとき
に、その第２の防水カバ−の傾斜部が上記第１の防水カ
バ−の傾斜部の下方に重合位置するように設けた。
【０１０７】そのため、被処理物が固定式ロ−ラユニッ
トから可動式ロ−ラユニットへ受け渡されるときに、上
記被処理物から洗浄液などの液体が滴下しても、その液
体は第１の防水カバ−の傾斜部と第２の防水カバ−の傾
斜部に滴下して各ロ−ラユニットの内部へガイドされる
から、外部に飛散するのを防止することができる。
【０１０８】請求項７の発明によれば、被処理物に対し
て同じ処理を行う一対の処理部を設置し、この処理部に
上記被処理物を供給排出する手段としてのロボットを処
理部の並設方向に沿って走行させる場合、そのロボット
の走行をガイドするガイド部およびこのガイド部と平行
に設けられ上記ロボットを走行駆動するためのリニアモ
−タとをカバ−体で覆うようにした。
【０１０９】そのため、上記ロボットによって搬送され
る被処理物から液体が滴下しても、その液体によってガ
イド部が腐食されたり、リニアモ−タの故障を招くなど
のことを防止できる。
【０１１０】請求項８の発明によれば、被処理物を所定
の搬送高さで処理するとともに、その搬送高さを変えて
さらに処理するようにした。そのため、被処理物を処理
するためのスペ−スを立体的に有効に利用することがで
きる。つまり、被処理物に対して複数の処理を行う場
合、それらの処理に必要なスペ−スを小さくすることが
できる。
【０１１１】請求項９の発明によれば、第１のア−ム体
と第２のア−ム体とを有するロボット装置において、第
１のア−ム体のセッタを、第２のア−ム体のセッタより
も下方に位置させるとともに、この第２のア−ム体のセ
ッタにはここに保持される被処理物に向けて液体を噴射
するノズル体を設けるようにした。
【０１１２】そのため、第２のア−ム体のセッタに保持
された被処理物を受け渡すまでに待機時間を要するよう
な場合、上記ノズル体から液体を噴射させることで、上
記被処理物が乾燥するのを防止できる。
【０１１３】しかも、第２のア−ム体のセッタが第１の
ア−ム体のセッタよりも下方に位置するため、第２のア
−ム体に保持された被処理物から液体が滴下しても、そ
の液体が第１のア−ム体のセッタやこれに保持された被
処理物を汚損させるということがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態を示す全体構成図。
【図２】同じく第２の受け渡し機構を示す側面図。
【図３】同じくロボットの配置状態の側面図。
【図４】同じくロボットの斜視図。
【図５】同じくロボットへ清浄空気を導入する構成の説
明図。
【図６】同じく可動ロ−ラユニットと固定ロ−ラユニッ
トを示す断面図。
【符号の説明】
４…ロ−ダ部 ５…液晶ガラス基板（被処理物） ６…第１の受け渡し手段 １５…紫外線照射装置（処理部） ２０…ブラシ洗浄ユニット（処理部） ３１…第２の受け渡し手段 ３３…ロ−ラユニット（搬送機構） ３４…筐体（ドレンパン） ３７…シャワ−ノズル（液体供給手段） ３８…可動パイプ ３９…固定パイプ ４１…ロボット（処理部） ４２…第１のスピン処理装置（処理部） ４３…第２のスピン処理装置（処理部） ４４…ガイドレ−ル（ガイド部） ４５…リニアモ−タ ５３ａ、５３ｂ…カバ−体 ６２…ノズル体 ７３…アンロ−ダ部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年１０月２３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 処理装置およびその方法、ロボッ
ト装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶用ガラス基板
や半導体ウエハなどの被処理物を複数の処理部によって
順次処理する処理装置およびその方法、上記被処理物を
搬送するためのロボット装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶用ガラス基板や半導体ウ
エハなどの被処理物に回路パタ−ンを形成する製造工程
においては、その被処理物に対して種々の処理を行うこ
とが要求され、その処理の１つに上記被処理物を高い清
浄度で洗浄することが要求される工程がある。
【０００３】被処理物の洗浄には、その被処理物に紫外
線を照射し有機物を分解して除去する紫外線照射手段、
搬送される被処理物に薬液などを吹き付けながらブラシ
で洗浄するブラシ洗浄手段、被処理物をテ−ブルに保持
して回転させながら薬液などを吹き付けるスピン洗浄手
段など、種々の洗浄手段（処理部）が知られており、複
数の洗浄手段を用いて被処理物を洗浄処理する場合に
は、それらの洗浄手段に対して被処理物を搬入、搬出処
理する搬送手段（処理部）も設けられる。
【０００４】被処理物の清浄度を高めるためには、上述
した複数の洗浄手段のうち、できるだけ多くの洗浄手段
によって被処理物を洗浄するようにしている。その場
合、ユニット化された各洗浄手段をクリ−ンル−ムに平
面的に並設し、洗浄する被処理物を複数の洗浄手段に対
して搬送手段で順次搬入、搬出するということが行なわ
れている。
【０００５】しかしながら、複数の洗浄手段や上記搬送
手段を平面的に配置すると、クリ−ンル−ムにおいて各
洗浄手段や搬送手段が占めるスペ−スが大きくなるとい
うことがあった。クリ−ンル−ムにおいてはスペ−スを
できるだけ有効に活用することが要求されている。した
がって、被処理物を洗浄する場合、複数の洗浄手段や搬
送手段が占有するスペ−スを小さくすることが望まれて
いる。
【０００６】上記被処理物を並設された洗浄手段間で搬
送するには、その洗浄手段における洗浄処理が連続的に
行なえる場合にはコンベアによって連続搬送すればよ
い。しかしながら、洗浄手段における洗浄処理が、たと
えばスピン洗浄などのように連続的に行なえない場合に
は、上記被処理物を処理部の１つである上述した搬送手
段を構成するロボット装置によって搬送するということ
が行なわれている。
【０００７】搬送手段としてロボット装置を用いると、
このロボット装置を並設された洗浄手段に沿って走行さ
せる場合がある。この場合、上記ロボット装置の走行範
囲にわたって軌道を設けるようにしている。
【０００８】しかしながら、上記ロボット装置によって
洗浄された被処理物を搬入、搬出すると、被処理物から
滴下する洗浄液が上記軌道に滴下するということがあ
る。洗浄液としては純水以外にたとえば酸性度の高い薬
液などが用いられることがある。そのため、洗浄液とし
て薬液を用いた場合、被処理物から滴下した薬液が軌道
を腐食させたり、上記ロボット装置を制御するためのケ
−ブルを損傷させるなどのことがあった。
【０００９】さらに、ロボット装置によって被処理物を
所定の洗浄手段に搬入する場合、その洗浄手段での被処
理物の洗浄が終了するまで、前工程で洗浄された被処理
物を保持して待機しなければならないことがある。その
場合、待機時間が長くなると、前工程で上記被処理物に
付着した洗浄液が乾燥し、その被処理物に染みなどが付
いてしまうということもあった。
【００１０】なお、上述したスペ−スの問題は被処理物
を洗浄処理する場合だけに発生するものでなく、種々の
工程でも問題になる。たとえば被処理物に対してレジス
トを塗布する場合には、塗布装置、加熱装置、予備加熱
装置などの複数の処理部を設けることになるから、同様
の問題が発生することになる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は被
処理物を複数の処理部で処理する場合、その複数の処理
部を平面的に配置していたので、配置スペ−スが大きく
なるということがあり、とくにクリ−ンル−ムにおいて
配置スペ−スが大きくなるとそのクリ−ンル−ムの有効
活用が阻害される。
【００１２】また、複数の処理部間における被処理物の
受け渡しを行う手段をロボット装置とした場合、そのロ
ボット装置を並設された処理部に沿って走行させると、
その軌道やロボット装置を制御するためのケ−ブルなど
に薬液が滴下し、これらを早期に損傷させるということ
がある。
【００１３】さらに、ロボット装置がつぎの処理部に供
給する被処理物を保持した状態で待機すると、たとえば
その被処理物が前工程で洗浄された場合、その被処理物
に付着した洗浄液が乾燥して染みなどができるというこ
ともある。
【００１４】この発明の目的は、複数の処理部を少ない
スペ−スに設置できるようにした処理装置を提供するこ
とにある。この発明の他の目的は、被処理物を処理部間
でロボット装置で受け渡すため、そのロボット装置を処
理部に沿って走行させるようにした場合、上記被処理物
から洗浄液としての薬液が上記ロボットの軌道などに滴
下することがないようにした処理装置を提供することに
ある。
【００１５】この発明のさらに他の目的は、ロボット装
置が処理部間において受け渡す被処理物を保持して待機
しても、その被処理物を乾燥させずにすむようにした処
理装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の処理部を有し、これら処理部に被処理物を順次搬送す
ることで処理する処理装置において、上記複数の処理部
は上下二段に配置されていることを特徴とする。
【００１７】請求項２の発明は、被処理物を処理するた
めの処理装置において、上段および下段の上下二段に配
置された複数の処理部と、上段あるいは下段のどちらか
一方の一端に位置する処理部に対向して配置され未処理
の被処理物を保持したロ−ダ部と、上段あるいは下段の
他方の一端に位置する処理部に対向して配置され処理済
みの被処理物が格納されるアンロ−ダ部と、上記ロ−ダ
部から上段あるいは下段のどちらか一方の一端に位置す
る処理部へ未処理の被処理物を供給する第１の受け渡し
手段と、上段あるいは下段のどちらか一方の他端に位置
する処理部から被処理物を受けてその被処理物を上段あ
るいは下段の他方の他端に位置する処理部へ供給する第
２の受け渡し手段とを具備したことを特徴とする。
【００１８】請求項３の発明は、請求項１または請求項
２の発明において、上段あるいは下段のどちらか一方に
は、上記被処理物を処理する複数の処理部が設けられ、
これら処理部の近傍には各処理部に対して被処理物を搬
入搬出する搬入搬出手段が設けられていることを特徴と
する。
【００１９】請求項４の発明は、請求項３の発明におい
て、上記搬入搬出手段は下段に配置され、この搬入搬出
手段の近傍には他の処理部が配置されていて、上記搬入
搬出手段と上記他の処理部との間には、上記他の処理部
に供給された清浄空気の一部を上記搬入搬出手段に分流
する分流手段が設けられていることを特徴とする。
【００２０】請求項５の発明は、請求項２の発明におい
て、上記第２の受け渡し手段は、被処理物を搬送する搬
送機構と、この搬送機構によって搬送される被処理物に
向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給手段と、上
記搬送機構の下面側に設けられ上記液体供給手段から供
給された液体を集積するとともに上記搬送機構と一体的
に上下駆動されるドレンパンと、このドレンパンに接続
されドレンパンに集積された液体を排出する可動パイプ
と、この可動パイプがスライド自在に挿入される固定パ
イプとからなることを特徴とする。
【００２１】請求項６の発明は、請求項２の発明におい
て、所定の処理部の搬出側には所定の高さで配置される
とともにその処理部から搬出された被処理物を受ける固
定式ロ−ラユニットが設けられ、上記第２の受け渡し手
段は、上下方向に駆動されるとともに上昇位置で上記固
定式ロ−ラユニットに並設し、この固定式ロ−ラユニッ
トに受け渡された被処理物を受けて下降する可動式ロ−
ラユニットからなり、上記可動式ロ−ラユニットが上昇
したときに隣り合う上記固定式ロ−ラユニットと可動式
ロ−ラユニットとの一側には、各ロ−ラユニットの内方
に向かって低く傾斜した傾斜部を有する第１の防水カバ
−と第２の防水カバ−とが設けられ、上記可動式ロ−ラ
ユニットに設けられた第２の防水カバ−の傾斜部は、こ
の可動式ロ−ラユニットが上昇したときに上記固定式ロ
−ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下方に重合位置す
ることを特徴とする。
【００２２】請求項７の発明は、請求項３の発明におい
て、上記搬入搬出手段は、その移動方向に沿って設けら
れたガイド部と、このガイド部と平行かつ所定の間隔を
介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部と駆動装置
との間に配置されるとともにこれらガイド部と駆動装置
とによって走行自在に支持されかつ駆動装置によってそ
の走行方向に沿って駆動されるロボットと、このロボッ
トの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆動装置とを
覆う状態で設けられたカバ−体とからなることを特徴と
する。
【００２３】請求項８の発明は、被処理物を搬送し複数
の処理部で順次処理する処理方法において、未処理の被
処理物を所定の高さで供給する供給工程と、この供給工
程から供給搬送された被処理物をその搬送高さとほぼ同
じ高さ位置に配設された処理部で処理する第１の処理工
程と、この第１の処理工程で処理された被処理物の搬送
高さを変更する高さ変更工程と、上記被処理物を上記高
さ変更工程で変更された高さ位置に配設された処理部で
処理する第２の処理工程と、この第２の処理工程で処理
された被処理物を格納する格納工程とを具備したことを
特徴とする。
【００２４】請求項９の発明は、請求項８の発明におい
て、上記被処理物は、上記高さ変更工程で高さ変更され
てから、搬送方向が逆方向に変更されることを特徴とす
る。請求項１０の発明は、複数のリンクを回動自在に連
結するとともに先端に被処理物を保持するためのセッタ
が設けられて伸縮駆動される第１のア−ム体と第２のア
−ム体とを備えたロボット装置において、上記第１のア
−ム体のセッタは、上記第２のア−ム体のセッタよりも
上方に位置するとともに、この第２のア−ム体のセッタ
にはここに保持された被処理物に向けて液体を噴射する
ノズル体が設けられていることを特徴とする。
【００２５】請求項１と請求項２の発明によれば、複数
の処理部を上下二段に配置したことで、平面的に配置す
る場合に比べて占有面積を小さくすることができる。請
求項３の発明によれば、被処理物を処理する複数の処理
部が設けられ、これら処理部の近傍には各処理部に対し
て被処理物を搬入搬出する搬入搬出手段を移動自在に設
けたことで、被処理物に対してバッチ処理が行われる場
合、全体としてのサイクルタイムを短くできる。
【００２６】請求項４の発明によれば、複数の処理部を
上下二段に配置した場合、上段の処理部から下段の処理
部へ清浄空気を分流できるため、処理部を上下二段に配
置しても、下段の処理部におけるクリ−ン度を確保でき
る。
【００２７】請求項５の発明によれば、上下駆動されて
上段と下段の処理部の間で被処理物を受け渡す第２の受
け渡し手段に被処理物の乾燥を防止するために供給され
た液体は、上下駆動されるドレンパンに接続されこのド
レンパンとともに上下動する可動パイプおよびこの可動
パイプが挿通された固定パイプを通じて排出されるた
め、液体の排出処理のためのスペ−スを小さくできる。
【００２８】請求項６の発明によれば、固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの隣り合う一側に、そ
れぞれ傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カ
バ−とを、上記可動式ロ−ラユニットが上昇したとき
に、その第２の防水カバ−の傾斜部が上記第１の防水カ
バ−の傾斜部の下方に重合位置するように設けたこと
で、被処理物が固定式ロ−ラユニットから可動式ロ−ラ
ユニットへ受け渡されるときに、上記被処理物から洗浄
液が滴下しても、その洗浄液は第１の防水カバ−の傾斜
部と第２の防水カバ−の傾斜部に滴下して各ロ−ラユニ
ットの内部へガイドされ、外部に飛散することがない。
【００２９】請求項７の発明によれば、ロボットの走行
をガイドするガイド部およびこのガイド部と平行に設け
られ上記ロボットを走行駆動するための駆動装置とをカ
バ−体で覆うようにしたため、上記ロボットによって搬
送される被処理物から洗浄液が滴下しても、その洗浄液
でガイド部が腐食させられたり、駆動装置の故障を招く
などのことが防止される。
【００３０】請求項８と請求項９の発明によれば、被処
理物を所定の搬送高さで処理するとともに、その搬送高
さを変えてさらに処理するようにしたことで、被処理物
を処理するためのスペ−スを立体的に有効に利用するこ
とができる。
【００３１】請求項１０の発明によれば、下側に位置す
る第２のア−ム体のセッタにノズル体を設け、このセッ
タに保持された被処理物に液体を噴射できるようにした
から、そのセッタに保持された被処理物の表面が乾燥す
るのを防止でき、また上側に位置する第１のア−ム体の
セッタに保持された被処理物に上記液体が付着するのを
防止できる。
【００３２】
【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図１に示すこの発明の処理装置は
被洗浄物としての液晶用ガラス基板を洗浄処理するため
の洗浄処理装置１を示す。この洗浄処理装置１は同図に
鎖線で示す複数の処理ユニット、この実施形態では第１
乃至第５の処理ユニット１ａ〜１ｅを有し、第１乃至第
３の処理ユニット１ａ〜１ｃと、第４、第５の処理ユニ
ット１ｄ、１ｅが二列に並設されている。なお、図中２
は電装ユニットである。
【００３３】上記第１の処理ユニット１ａ内には架台３
上に設置されたロ−ダ部４を有する。このロ−ダ部４に
は複数の液晶用ガラス基板５が積層保持されていて、上
記架台３に設けられた図示しない搬出機構によって液晶
用ガラス基板５が下方から順次一枚ずつ搬出されるよう
になっている。
【００３４】上記ロ−ダ部４から搬出された液晶用ガラ
ス基板５は第１の受け渡し機構６によって第２の処理ユ
ニット１ｂに送り込まれるようになっている。上記第１
の受け渡し機構６は垂直に立設された支柱７を有する。
この支柱７にはロ−ラユニット８が図示しない駆動源に
よって上下駆動自在に設けられている。このロ−ラユニ
ット８はフレ−ム９を有し、このフレ−ム９には複数の
ロ−ラ１１が軸線を平行にして回転自在に架設されてい
る。フレ−ム９の一側には上記ロ−ラ１１を回転駆動す
るための駆動源１２が設けられている。
【００３５】上記ロ−ラユニット８は、その上面を上記
ロ−ダ部４から搬出される液晶用ガラス基板５と同じ高
さに下降して待機している。上記ロ−ダ部４から搬出さ
れた液晶用ガラス基板５は上記ロ−ラユニット８上に供
給される。液晶用ガラス基板５を受けたロ−ラユニット
８は上昇し、第２の処理ユニット１ｂ内に所定の高さで
設けられた紫外線照射装置１５に液晶用ガラス基板５を
供給する。
【００３６】上記紫外線照射装置１５は一側に供給口１
６が形成されていて、上記ロ−ラユニット８はその上面
に載置された液晶用ガラス基板５が上記供給口１６と同
じ高さになる位置まで上昇する。ついで、ロ−ラ１１が
駆動源１２によって回転駆動されることで、上記液晶用
ガラス基板５が上記紫外線照射装置１５内へ供給され
る。
【００３７】上記紫外線照射装置１５は、詳細は図示し
ないが、その内部に、液晶用ガラス基板５を搬送する搬
送ロ−ラおよびこの搬送ロ−ラによって搬送される液晶
用ガラス基板５に紫外線を照射する紫外線ランプを有
し、紫外線によって照射されることで、液晶用ガラス基
板５に付着した有機物が分解除去されるようになってい
る。
【００３８】上記第２の処理ユニット１ｂには、上記紫
外線照射装置１５と隣接しかつ同じ高さでブラシ洗浄ユ
ニット２０が配置されていて、この内部には上記紫外線
照射装置１５で処理された液晶用ガラス基板５を連続し
て搬送する図示しない搬送手段が設けられている。
【００３９】上記ブラシ洗浄ユニット２０は、一側に上
記液晶用ガラス基板５が供給される供給口２１が形成さ
れるとともに他側にはドライエアや不活性ガスを供給す
ることで外部から液体や気体が入り込むのが規制された
ニュ−トラル室２２と、このニュ−トラル室２２を通過
した液晶用ガラス基板５に薬液などの洗浄液を吹き付け
ながらブラシ洗浄するブラシ洗浄室２３と、このブラシ
洗浄室２３で洗浄された液晶用ガラス基板５を純水でシ
ャワ−洗浄するシャワ−室２４とが順次並設されてい
る。このシャワ−室２４にはシャワ−洗浄された液晶用
ガラス基板５が搬出される図示しない搬出口が形成され
ている。
【００４０】上記シャワ−室２４の搬出口から搬出され
た液晶用ガラス基板５は、受け渡し用のロ−ラユニット
３０（固定式ロ−ラユニット）を介して上記第１の受け
渡し機構６とほぼ同じ構成の第２の受け渡し機構３１に
よって受け取られる。この第２の受け渡し機構３１は支
柱３２を有する。この支柱３２には可動式ロ−ラユニッ
ト３３が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設け
られている。この可動式ロ−ラユニット３３は上面が開
口した有底状の第１のドレンパン３４を有し、この筐体
３４には複数のロ−ラ３５が軸線を平行にして回転自在
に架設されている。上記筐体３４の一側には駆動源３４
ａ（図２に示す）が設けられ、この駆動源３４ａによっ
て上記ロ−ラ３５が回転駆動されるようになっている。
【００４１】上記可動式ロ−ラユニット３３はその上面
を上記シャワ−室２４の搬出口から送り出される液晶用
ガラス基板５とほぼ同じ高さに上昇して待機している。
上記シャワ−室２４から搬出された液晶用ガラス基板５
を上記可動式ロ−ラユニット３３が受けると、この可動
式ロ−ラユニット３３は下降する。
【００４２】可動式ロ−ラユニット３３に載置された液
晶用ガラス基板５はロボット装置である搬入搬出機構４
０（処理部の１つである）を構成するロボット４１によ
って取り出され、上記第４の処理ユニット１ｄに並設さ
れた第１のスピン処理装置４２と第２のスピン処理装置
４３のどちらか一方に供給される。
【００４３】上記第２の受け渡し機構３１の可動式ロ−
ラユニット３３に受け渡された液晶用ガラス基板５は、
上記搬入搬出機構４０のロボット４１に受け渡される前
に乾燥すると、染みなどができるから、それを防止する
ために乾燥防止用の液体として純水が散布される。
【００４４】つまり、可動式ロ−ラユニット３３は図２
に示すように上述した有底箱状の第１のドレンパン３４
を有し、この第１のドレンパン３４の上部両側にはパイ
プ状のシャワ−ノズル３７が配置されている。各シャワ
−ノズル３７からは上記可動式ロ−ラユニット３３に保
持された液晶用ガラス基板５に向けて純水が噴射される
ようになっている。
【００４５】上記第１のドレンパン３４の底部には可動
パイプ３８の上端が接続されている。この可動パイプ３
８は垂設され、これよりも大径な固定パイプ３９にスラ
イド自在に挿通されている。この固定パイプ３９は中途
部が第２の受け渡し機構３１の架台３１ａに固定され、
下端部は図示しない廃液部に連通している。それによっ
て、可動式ロ−ラユニット３３に保持された液晶用ガラ
ス基板５に向けて噴射された純水は第１のドレンパン３
４から可動パイプ３８および固定パイプ３９を通って排
出されるようになっている。
【００４６】第１のドレンパン３４に可動パイプ３８を
接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９に挿通し
たことで、可動式ロ−ラユニット３３が上下動しても、
第１のドレンパン３４からのドレンの排出を確実に行う
ことができる。
【００４７】すなわち、通常、可動部からドレンを排出
する場合、可動部の動きに対応できるようにするため、
フレキシブルチュ−ブが用いられる。その場合、フレキ
シブルチュ−ブは可動部が上昇できる長さに設定されて
いるから、下降したときには屈曲して側方へ突出する。
そのため、上記フレキシブルチュ−ブを側方へ屈曲させ
るためのスペ−スを確保しなければならなかったり、可
動部の上下動によってフレキシブルチュ−ブが屈曲を繰
り返すことで、その屈曲部分が早期に損傷するというこ
とがあった。
【００４８】しかしながら、この発明では、フレキシブ
ルチュ−ブを用いず、第１のドレンパン３４に可動パイ
プ３８を接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９
にスライド自在に挿通した。そのため、第１のドレンパ
ン３４の上下動によって可動パイプ３８が固定パイプ３
９内をスライドするから、固定パイプ３９を設置するに
必要なスペ−スを確保するだけですみ、しかもフレキシ
ブルチュ−ブのように屈曲により早期に損傷するという
こともない。
【００４９】図６に示すように、上記受け渡し用ロ−ラ
ユニット３０は、上記可動式ロ−ラユニット３３と同
様、第２のドレンパン１３１を有する。この第２のドレ
ンパン１３１には、中心部に向かって低く傾斜した底部
の中心部に排液管１３２が設けられ、対向する一対の側
壁間には複数のロ−ラ１３３が軸線を平行にして所定間
隔で回転自在に架設されている。このロ−ラ１３３は図
示しない駆動源によって回転駆動されるようになってい
る。
【００５０】したがって、上記シャワ−室２４から上記
受け渡し用ロ−ラユニット３０のロ−ラ１３３上に搬出
された液晶用ガラス基板５は、そのロ−ラ１３３が回転
駆動されることで、上記可動式ロ−ラユニット３３のロ
−ラ３５上に受け渡される。
【００５１】上記可動式ロ−ラユニット３３が上昇位置
にあるときに隣り合う、上記受け渡し用ロ−ラユニット
３０と上記可動式ロ−ラユニット３３の各ドレンパン１
３１，３４の側壁には、それぞれ第１の防水カバ−１３
４と第２の防水カバ−１３５とが設けられている。
【００５２】各防水カバ−１３４、１３５は垂直部１３
４ａ、１３５ａと、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂとを有
し、垂直部１３４ａ、１３５ａの下端部が上記側壁の内
面にスペ−サ１３６を介して取付けられている。それに
よって、各防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４
ｂ、１３５ｂは各ドレンパン１３１、３４の側壁から外
方に向かって突出するとともに、各ドレンパン１３１、
３４の内方に向かって低く傾斜している。
【００５３】さらに、可動式ロ−ラユニット３３が上昇
した状態において、液晶用ガラス基板５の搬送方向上流
側となる受け渡しロ−ラユニット３０に設けられた第１
の防水カバ−１３４の傾斜部１３４ｂは、可動式ロ−ラ
ユニット３３に設けられた第２の防水カバ−１３５の上
方に重合位置するようになっている。
【００５４】それによって、シャワ−室２４で洗浄され
た液晶用ガラス基板５が固定式ロ−ラユニット３０から
可動式ロ−ラユニット３３へ受け渡される場合、そのガ
ラス基板５から滴下する洗浄液は各防水カバ−１３４、
１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂに滴下し、その傾斜
に沿って各ドレンパン１３１、３４内へ流入する。その
ため、液晶用ガラス基板５から滴下する洗浄液が周囲に
飛散するのが防止される。
【００５５】しかも、一対の防水カバ−１３４、１３５
の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂは重合しているから、洗浄
液が各ロ−ラユニット３０、３３の隙間から飛散すると
いうこともない。
【００５６】さらに、洗浄液が仮に防水カバ−１３４、
１３５の下面に付着し、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂから
垂直部１３４ａ、１３５ａへと流れても、垂直部１３４
ａ、１３５ａの下端はスペ−サ１３６を介して各ドレン
パン３４、１３１の側壁内面に取着されている。そのた
め、防水カバ−１３４、１３５の下面に沿って流れた洗
浄液が各ドレンパン１３１、３４の外部に滴下するとい
うこともない。
【００５７】上記ロボット４１は並設された複数、この
実施形態では一対のスピン処理装置４２、４３の側方
で、上記紫外線照射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０
の下方、つまり図５に示すように第２の処理ユニット１
ｂに、上記第４の処理ユニット１ｄに配置された上記一
対のスピン処理装置４２、４３の並設方向に沿って移動
自在に設けられている。すなわち、図３に示すように上
記スピン処理装置４２、４３の側方にはガイド部を形成
するガイドレ−ル４４およびこのガイドレ−ル４４と所
定間隔で平行に離間して駆動装置としてのリニアモ−タ
４５が設けられている。
【００５８】上記ガイドレ−ル４４にはスライダ４６が
スライド自在に設けられ、このスライダ４６の上面には
第１の水平部材４７が設けられている。この第１の水平
部材４７には第１の垂直部材４８が垂設されている。
【００５９】上記リニアモ−タ４５は固定部４５ａと、
この固定部４５ａに沿って駆動される可動部４５ｂとか
らなり、この可動部４５ｂには第２の水平部材４９が取
着されている。この第２の水平部材４９には第２の垂直
部材５１が垂設されている。
【００６０】上記第１の垂直部材４８と第２の垂直部材
５１との下端間には載置板５２が水平に架設されてい
て、この載置板５２上に上記ロボット４１が設置固定さ
れている。このロボット４１は柱状の本体部４１ａを有
し、この本体部４１ａは一対の垂直部材４８、５１の間
隔よりも小さな径寸法に形成されている。
【００６１】上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−タ４５
の固定部４５ａとはそれぞれ耐蝕性の高い金属や合成樹
脂等の材料からなるカバ−体５３ａ、５３ｂによって覆
われている。
【００６２】各カバ−体５３ａ、５３ｂは上端が上記ロ
ボット４１の走行方向に沿って設けられたフレ−ム５４
に固定され、中途部がロボット４１に向かって低く傾斜
し、かつそれぞれが上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−
タ４５の固定部４５ａを覆い、下端部は各垂直部材４
８、５１とロボット４１との間に挿入されている。
【００６３】上記一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの下端
側には、上記ロボット４１の走行範囲の全長にわたって
耐蝕性の高い材料からなる第３のドレンパン５５が設け
られている。この第３のドレンパン５５には、後述する
ように上記ロボット４１からカバ−体５３ａ、５３ｂに
滴下した洗浄液が集積されるようになっている。
【００６４】上記ロボット４１は、たとえば図４に示す
ようにツインア−ムロボットで、その本体部４１ａ内に
は図示しない駆動源が設けられている。上記本体部４１
ａの上面には第１のア−ム体５６と第２のア−ム体５７
とが設けられている。第１のア−ム体５６は、第１のリ
ンク５６ａと第２のリンク５６ｂとからなっており、第
２のア−ム体５７は第３のリンク５７ａと第４のリンク
５７ｂからなっており、第１のリンク５６ａと第３のリ
ンク５７ａの一端が上記駆動源の駆動軸に連結されてい
る。
【００６５】第１のリンク５６ａの他端には第２のリン
ク５６ｂの一端が第１のリンクの回動に連動して回動す
るよう連結されている。また、第３のリンク５７ａの他
端には第４のリンク５７ｂの一端が第３のリンク５７ａ
の回動に連動して回動するように連結されている。第２
のリンク５６ｂと第４のリンク５７ｂの他端にはそれぞ
れ第１のセッタ５６ｃと、第２のセッタ５７ｃの一端が
第２のリンク５６ｂと第４のリンク５７ｂの回動に連動
して直線運動（伸縮運動）するよう連結されている。
【００６６】したがって、一対の第１、第２のア−ム体
５６、５７は、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７
ａが回動されることで、第２のリンク５６ｂおよび第４
のリンク５７ｂと、第１のセッタ５６ｃおよび第２のセ
ッタ５７ｃとがそれぞれ連動し、伸縮運動するようにな
っている。さらに、第１、第２のア−ム体５６、５７は
伸縮する方向を変えたり、上下駆動されるようになって
いる。図４は第１のア−ム体５６が縮小し、第２のア−
ム体５７が伸長している状態を示している。
【００６７】一対のア−ム体５６、５７が縮小したと
き、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７ａとが、ま
た第１のセッタ５６ｃと第２のセッタ５７ｃとが夫々干
渉するのを防止するため、これらは高さを違えて設けら
れている。この実施形態では第２のア−ム体５７が第１
のア−ム体５６よりも低く設けられている。
【００６８】第１のア−ム体５６はドライ状態にある液
晶用ガラス基板５を専用に搬送し、第２のア−ム体５７
はウエット状態にある液晶用ガラス基板５を専用に搬送
するようになっている。
【００６９】各ア−ム体５６、５７の第１のセッタ５６
ｃと第２のセッタ５７ｃには所定の大きさの液晶用ガラ
ス基板５を位置決め保持するための複数の保持部材６１
が設けられている。また、第２のア−ム体５７の第２の
セッタ５７ｃの基端部上面には一対のノズル体６２が設
けられている。各ノズル体６２からは第２のセッタ５７
ｃに保持された液晶用ガラス基板５が乾燥するのを防止
するための液体としてたとえば純水が噴射されるように
なっている。
【００７０】つまり、ブラシ洗浄ユニット２０で洗浄さ
れて第２の受け渡し機構３１に受け渡されたウエット状
態にある液晶用ガラス基板５は第２のア−ム体５７の第
２のセッタ５７ｃによって受け取られる。ついで、その
液晶用ガラス基板５は第１あるいは第２のスピン処理装
置４２、４３に供給される。その際、各スピン処理装置
４２、４３はバッチ処理であるから、ウエット状態の液
晶用ガラス基板５を供給する間、所定時間待機しなけれ
ばならない。待機中には上記ノズル体６２から液晶用ガ
ラス基板５に向けて純水が噴射される。それによって、
ウエット状態にある液晶用ガラス基板５が乾燥するのが
防止されるから、乾燥による染みなどができるのが防止
される。
【００７１】一対のスピン処理装置４２、４３は液晶用
ガラス基板５に対して同じ処理を行うようになってい
る。つまり、液晶用ガラス基板５を保持して高速度で回
転させるとともに、その上面に超音波振動が付与された
薬液を薬液供給ノズル６５から供給して薬液洗浄したの
ち、純水を純水供給ノズル６６から供給してすすぎ洗浄
する。ついで、液晶用ガラス基板５に薬液や純水を供給
せずに高速回転させながら乾燥処理する。
【００７２】上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄
ユニット２０は液晶用ガラス基板５を連続的に処理す
る。それに対してスピン処理装置４２、４３による液晶
用ガラス基板５の処理はバッチ処理である。そのため、
液晶用ガラス基板５の流れが不連続となってタクトタイ
ムが長くなる。
【００７３】しかしながら、上述したごとく、液晶ガラ
ス基板５を処理する複数のスピン処理装置４２、４３を
並設し、これらスピン処理装置に対してブラシ洗浄ユニ
ット２０からの液晶ガラス基板５を交互に供給するよう
にした。そのため、１つのスピン処理装置で１枚の液晶
ガラス基板５を順次処理する場合に比べ、洗浄処理装置
１全体としてのタクトタイムを短くすることが可能とな
る。
【００７４】各スピン処理装置４２、４３で乾燥処理さ
れてドライ状態にある液晶ガラス基板５はロボット４１
の第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃによって取
り出され、第５の処理ユニット１ｅへ搬送される。
【００７５】なお、ロボット４１による液晶ガラス基板
５の各スピン処理装置４２、４３に対する着脱は、図１
と図５に示すように第２の処理ユニット１ｂと第４の処
理ユニット１ｄとを連通する開口部６３を介して行われ
る。この開口部６３は図示しないゲ−トによって開閉さ
れるようにしてもよい。
【００７６】上記ロボット４１は、ウエット状態にある
液晶ガラス基板５を第２のア−ム体５７で受け渡し、洗
浄処理が完了してドライ状態にある液晶ガラス基板５を
第１のア−ム体５６で受け渡すようにしている。そのた
め、第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃにはウエ
ット状態にある液晶ガラス基板５の汚れが付着するとい
うことがないから、上記第１のセッタ５６ｃで受け渡し
する清浄な状態の液晶ガラス基板５がロボット４１での
受け渡しによって汚損されることがない。
【００７７】しかも、第１のア−ム体５６は第２のア−
ム体の５７の上方に位置するから、第２のア−ム体５７
の第２のセッタ５７ｃに保持されたウエット状態の液晶
ガラス基板５から滴下する洗浄液などによって第１のア
−ム体５６の第１のセッタ５６ｃやここに保持された液
晶ガラス基板５が汚されるということもない。
【００７８】上記ロボット４１の第２のア−ム体５７が
ウエット状態にある液晶ガラス基板５を一対のスピン処
理装置４２、４３のいずれか一方に供給する場合、リニ
アモ−タ４５によって駆動され、ガイドレ−ル４４に沿
って走行する。その際、ウエット状態にある液晶ガラス
基板５からは一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの中間部上
面に洗浄液が滴下する。
【００７９】上記カバ−体５３ａ、５３ｂの中間部はロ
ボット４１に向かって低く傾斜しているから、カバ−体
５３ａ、５３ｂの中間部に滴下した洗浄液は図３に矢印
で示すようにその中間部から下端部を経て第３のドレン
パン５５に集積される。
【００８０】つまり、ウエット状態の液晶ガラス基板５
から滴下した洗浄液がロボット４１の走行をガイドする
ガイドレ−ル４４に滴下してこのガイドレ−ル４４を早
期に腐食させたり、リニアモ−タ４５に滴下してこれを
損傷させるなどのことが防止される。
【００８１】上記第５の処理ユニット１ｅは図１に示す
ように複数のロ−ラからなる搬出部７１を有する。この
搬出部７１の一端側には上記ロボット４１の第１のア−
ム体５６の第１のセッタ５６ｃに保持された液晶ガラス
基板５を受け取るプッシャ７２が上下動自在に設けられ
ている。
【００８２】上記プッシャ７２が上昇して第１のセッタ
５６ｃから液晶ガラス基板５を受け取ると、下降してそ
の液晶ガラス基板５を上記搬出部７１へ受け渡す。搬出
部７１の他端にはアンロ−ダ部７３が配設されていて、
上記搬出部７１を搬送されてきた液晶ガラス基板５はこ
のアンロ−ダ部７３に積層収容される。なお、洗浄装置
１における液晶ガラス基板５の流れは図１に矢印で示
す。
【００８３】上記洗浄処理装置１はクリ−ンル−ムに設
置されるとともに、各処理ユニット１ａ〜１ｅの上部外
面には図５に示すようにクリ−ンユニット７５が設けら
れている。このクリ−ンユニット７５はクリ−ンル−ム
内の空気を清浄化して各処理ユニット１ａ〜１ｅへ導入
する。
【００８４】第２の処理ユニット１ｂにおいては、上記
ロボット４１がブラシ洗浄ユニット２０の下方に配置さ
れている。そのため、第２の処理ユニット１ｂの上部の
クリ−ンユニット７５から供給された清浄空気はブラシ
洗浄ユニット２０に遮られ、上記ロボット４１に保持さ
れた液晶ガラス基板５の清浄度を維持することが難しく
なる。
【００８５】そこで、上記第２の処理ユニット１ｂに並
設された第４の処理ユニット１ｄの上部には、クリ−ン
ユニット７５からの清浄空気の一部を分流するための第
１のガイド体７６が設けられている。同図に矢印で示す
ように第１のガイド体７６で分流された清浄空気は上記
第４の処理ユニット１ｄと第２の処理ユニット１ｂとを
連通する通孔７７へガイドされる。
【００８６】第２の処理ユニット１ｂには上記通孔７７
から流入した清浄空気を下方へ向かってガイドする第２
のガイド体７８が設けられている。それによって、その
清浄空気はロボット４１に向かって流れるから、このロ
ボット４１に保持された液晶ガラス基板５の清浄度を維
持することができる。
【００８７】上記構成の洗浄処理装置１によれば、液晶
ガラス基板５を処理するための処理部としての紫外線照
射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０とを上段に配置
し、これらの下段に同じく処理部としてのロボット４１
を配置した。
【００８８】そのため、洗浄処理装置１全体としての幅
寸法は、上記ロボット４１を紫外線照射装置１５とブラ
シ洗浄ユニット２０に対して横方向に並設した場合より
も小さくできるから、その分、クリ−ンル−ムを占有す
るスペ−スも小さくすることができる。
【００８９】上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄
ユニット２０と、ロボット４１とを上下二段に配置する
とともに、上段の紫外線照射装置１５の入口側には第１
の受け渡し機構６を設け、ブラシ洗浄ユニット２０の出
口側には第２の受け渡し機構３１を設けるようにした。
【００９０】そのため、複数の処理部を上下二段に配置
しても、液晶ガラス基板５のロ−ダ部４から紫外線照射
装置１５への受け渡しやブラシ洗浄ユニット２０からロ
ボット４１への受け渡しを確実に行うことが可能であ
る。
【００９１】上段に紫外線照射装置１５およびブラシ洗
浄ユニット２０を配置し、下段にロボット４１を配置し
たことで、第２の処理ユニット１ｂの上部からのダウン
フロ−が上段の処理部によって遮られる。
【００９２】しかしながら、上記第２の処理ユニット１
ｂに並設された第４の処理ユニット１ｄからのダウンフ
ロ−の一部は、第１のガイド体７６によって分流され、
第２、第４の処理ユニット１ｂ、１ｄを連通する通孔７
７を通って第２のガイド体７８によりロボット４１に向
かってガイドされる。
【００９３】したがって、ロボット４１に保持された洗
浄処理後の液晶ガラス基板５は第２の処理ユニット１ｂ
に隣接する第４の処理ユニット１ｄからの清浄空気によ
って清浄度が維持される。つまり、複数の処理部を上下
二段に配置しても、下段に配置された処理部の清浄度を
クリ−ンユニット７５からの清浄空気によって確実に維
持することができる。
【００９４】この発明は上記一実施形態に限定されず、
種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では処
理装置として洗浄処理装置を挙げたが、それ以外の処理
を行う装置であっても、複数の処理部を有するものであ
れば、この発明を適用することができる。
【００９５】たとえば被処理物としての半導体ウエハや
液晶ガラス基板に回路パタ−ンを形成するために行われ
る現像処理、エッチング処理、薄膜形成処理などを行う
処理部を備えた処理装置であってもよく、要は処理部の
種類や組み合わせ、さらには被処理物の種類なども限定
されるものでない。
【００９６】さらに、上記一実施形態ではロ−ダ部に収
容された被処理物を第１の受け渡し機構で上段の処理部
に供給し、上段の最後の処理部で処理された被処理物を
第２の受け渡し機構で下段の処理部に受け渡すようにし
たが、処理部の配置状態によってはロ−ダ部の被処理物
を第１の受け渡し機構によって下段の処理部に受け渡
し、第２の受け渡し機構によって下段の処理部で処理さ
れた被処理物を上段の処理部に受け渡すようにしてもよ
い。その場合、ロ−ダ部と下段の処理部とが同じ高さで
あれば、第１の受け渡し機構を上下動自在な構成としな
くてもよい。
【００９７】また、複数のスピン処理装置を１つの処理
ユニットに配置したが、別々の処理ユニットに配置する
ようにしてもよく、その点は処理部の大きさや処理ユニ
ットの大きさなどによって設計変更できることである。
【００９８】また、上記一実施形態では、紫外線照射装
置およびブラシ洗浄ユニットを上方に配置し、その下方
にロボットを配置し、スピン処理装置は上記ロボットの
側方で、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニット
の斜め下方に配置したが、上記ロボットおよびスピン処
理装置を、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニッ
トの真下に配置するようにしてもよいこと勿論である。
その場合、ロ−ダ部とアンロ−ダ部も上下方向に配置す
ればよい。
【００９９】
【発明の効果】請求項１と請求項２の発明によれば、複
数の処理部を上下二段に配置し、上段あるいは下段のど
ちらか一方の処理部で処理された被処理物を他方の処理
部で処理するようにした。
【０１００】そのため、複数の処理部を平面的に配置す
る場合に比べて装置を設置するに要する占有面積を小さ
くすることができるから、たとえばクリ−ンル−ム内の
スペ−スを有効に利用することができる。
【０１０１】さらに、請求項２の発明によれば、複数の
処理部を上下二段に配置しても、第１の受け渡し手段と
第２の受け渡し手段とによって被処理物を上段の処理部
から下段の処理部あるいはその逆に流すことができるか
ら、被処理物の流れの選択幅を拡大することができる。
【０１０２】請求項３の発明によれば、被処理物を処理
する複数の処理部を設け、これら処理部の近傍には各処
理部に対して被処理物を搬入搬出する搬入搬出手段を移
動自在に設けるようにした。
【０１０３】そのため、被処理物をバッチ処理する処理
部と連続処理する処理部とが混在する場合、バッチ処理
する複数の処理部を並設することで、バッチ処理する処
理部での見掛上の処理時間をその処理部の数に応じて大
幅に短縮できるから、全体のタクトタイムも短縮するこ
とができる。
【０１０４】請求項４の発明によれば、複数の処理部を
上下二段に配置した場合、隣接する処理部に供給された
清浄空気を下段に配置された処理部へ分流できるように
した。
【０１０５】そのため、処理部を上下二段に配置して
も、下段の処理部におけるクリ−ン度を確保することが
できる。請求項５の発明によれば、上下駆動されて上段
と下段の処理部の間で被処理物を受け渡す受け渡し手段
のドレンパンに可動パイプを接続し、この可動パイプを
固定パイプにスライド自在に挿通することで、受け渡し
手段に保持された被処理物の乾燥を防止するために噴射
された液体を上記ドレンパンから可動パイプおよび固定
パイプを通じて排出できるようにした。
【０１０６】そのため、ドレンパンの下方には固定パイ
プを設置できるだけのスペ−スを確保すればよいから、
液体を排出するために必要となるスペ−スを小さくでき
る。しかも、上下駆動手段の上下動によって可動パイプ
が固定パイプをスライドする構成であるから、上下動が
繰り返されても損傷することがほとんどない。
【０１０７】請求項６の発明によれば、固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの隣り合う一側に、そ
れぞれ傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カ
バ−とを、上記可動式ロ−ラユニットが上昇したとき
に、その第２の防水カバ−の傾斜部が上記第１の防水カ
バ−の傾斜部の下方に重合位置するように設けた。
【０１０８】そのため、被処理物が固定式ロ−ラユニッ
トから可動式ロ−ラユニットへ受け渡されるときに、上
記被処理物から洗浄液が滴下しても、その洗浄液は第１
の防水カバ−の傾斜部と第２の防水カバ−の傾斜部に滴
下して各ロ−ラユニットの内部へガイドされるから、外
部に飛散するのを防止することができる。
【０１０９】請求項７の発明によれば、被処理物に対し
て同じ処理を行う複数の処理部を設置し、この処理部に
上記被処理物を供給排出する手段としてのロボットを処
理部の並設方向に沿って走行させる場合、そのロボット
の走行をガイドするガイド部およびこのガイド部と平行
に設けられ上記ロボットを走行駆動するためのリニアモ
−タとをカバ−体で覆うようにした。
【０１１０】そのため、上記ロボットによって搬送され
る被処理物から洗浄液が滴下しても、その洗浄液によっ
てガイド部が腐食されたり、リニアモ−タの故障を招く
などのことを防止できる。
【０１１１】請求項８と請求項９の発明によれば、被処
理物を所定の搬送高さで処理するとともに、その搬送高
さを変えてさらに処理するようにした。そのため、被処
理物を処理するためのスペ−スを立体的に有効に利用す
ることができる。つまり、被処理物に対して複数の処理
を行う場合、それらの処理に必要なスペ−スを小さくす
ることができる。
【０１１２】請求項１０の発明によれば、第１のア−ム
体と第２のア−ム体とを有するロボット装置において、
第１のア−ム体のセッタを、第２のア−ム体のセッタよ
りも上方に位置させるとともに、この第２のア−ム体の
セッタにはここに保持される被処理物に向けて液体を噴
射するノズル体を設けるようにした。
【０１１３】そのため、第２のア−ム体のセッタに保持
された被処理物を受け渡すまでに待機時間を要するよう
な場合、上記ノズル体から液体を噴射させることで、上
記被処理物が乾燥するのを防止できる。
【０１１４】しかも、第２のア−ム体のセッタが第１の
ア−ム体のセッタよりも下方に位置するため、第２のア
−ム体に保持された被処理物から液体が滴下しても、第
１のア−ム体のセッタやこれに保持された被処理物を汚
損させるということがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態を示す全体構成図。
【図２】同じく第２の受け渡し機構を示す側面図。
【図３】同じくロボットの配置状態の側面図。
【図４】同じくロボットの斜視図。
【図５】同じくロボットへ清浄空気を導入する構成の説
明図。
【図６】同じく可動ロ−ラユニットと固定ロ−ラユニッ
トを示す断面図。
【符号の説明】 ４…ロ−ダ部 ５…液晶ガラス基板（被処理物） ６…第１の受け渡し手段 １５…紫外線照射装置（処理部） ２０…ブラシ洗浄ユニット（処理部） ３１…第２の受け渡し手段 ３３…ロ−ラユニット（搬送機構） ３４…ドレンパン ３７…シャワ−ノズル（液体供給手段） ３８…可動パイプ ３９…固定パイプ ４１…ロボット（処理部） ４２…第１のスピン処理装置（処理部） ４３…第２のスピン処理装置（処理部） ４４…ガイドレ−ル（ガイド部） ４５…リニアモ−タ ５３ａ、５３ｂ…カバ−体 ６２…ノズル体 ７３…アンロ−ダ部
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の処理部を有し、これら処理部に被
    処理物を順次搬送することで処理する処理装置におい
    て、 上記複数の処理部は上下二段に配置されていることを特
    徴とする処理装置。
  2. 【請求項２】 被処理物を処理するための処理装置にお
    いて、 上下二段に配置された複数の処理部と、 上段あるいは下段のどちらか一方の一端に位置する処理
    部に対向して配置され未処理の被処理物を保持したロ−
    ダ部と、 上段あるいは下段の他方の一端に位置する処理部に対向
    して配置され処理済みの被処理物が格納されるアンロ−
    ダ部と、 上記ロ−ダ部から上段あるいは下段のどちらか一方の一
    端に位置する処理部へ未処理の被処理物を供給する第１
    の受け渡し手段と、 上段あるいは下段のどちらか一方の他端に位置する処理
    部から被処理物を受けてその被処理物を他方の他端に位
    置する処理部へ供給する第２の受け渡し手段とを具備し
    たことを特徴とする処理装置。
  3. 【請求項３】 上段あるいは下段のどちらか一方には、
    上記被処理物に対して同じ処理をする複数の処理部が直
    列に設けられ、これら処理部の側方には各処理部に対し
    て被処理物を搬入搬出する搬入搬出手段が設けられてい
    ることを特徴とする請求項１または請求項２記載の処理
    装置。
  4. 【請求項４】 上記搬入搬出手段は下段に配置され、こ
    の搬入搬出手段の側方には他の処理部が並列に配置され
    ていて、上記搬入搬出手段と上記他の処理部との間に
    は、上記他の処理部に供給された清浄空気の一部を上記
    搬入搬出手段に向けて分流する分流手段が設けられてい
    ることを特徴とする請求項３記載の処理装置。
  5. 【請求項５】 上記第２の受け渡し手段は、被処理物を
    搬送する搬送機構と、この搬送機構によって搬送される
    被処理物に向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給
    手段と、上記搬送機構の下面側に設けられ上記液体供給
    手段から供給された液体を集積するとともに上記搬送機
    構と一体的に上下駆動されるドレンパンと、このドレン
    パンに接続されドレンパンに集積された液体を排出する
    可動パイプと、この可動パイプがスライド自在に挿入さ
    れ可動パイプから排出される液体が導入される固定パイ
    プとからなることを特徴とする請求項２記載の処理装
    置。
  6. 【請求項６】 所定の処理部の搬出側には所定の高さで
    配置されるとともにその処理部から搬出された被処理物
    を受ける固定式ロ−ラユニットが設けられ、 上記第２の受け渡し手段は、上下方向に駆動されるとと
    もに上昇位置で上記固定式ロ−ラユニットに搬出された
    被処理物を受けて下降する可動式ロ−ラユニットからな
    り、 上記可動式ロ−ラユニットが上昇したときに隣り合う上
    記固定式ロ−ラユニットと可動式ロ−ラユニットとの一
    側には、各ロ−ラユニットの内方に向かって低く傾斜し
    た傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カバ−
    とが設けられ、上記可動ユニットに設けられた第２の防
    水カバ−の傾斜部は、この可動ユニットが上昇したとき
    に上記固定式ロ−ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下
    方に重合位置することを特徴とする請求項２記載の処理
    装置。
  7. 【請求項７】 上記搬入搬出手段は、その移動方向に沿
    って設けられたガイド部と、このガイド部と平行かつ所
    定の間隔を介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部
    と駆動装置との間に配置されるとともにこれらガイド部
    と駆動装置とによって走行自在に支持されかつ駆動装置
    によってその走行方向に沿って駆動されるロボットと、
    このロボットの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆
    動装置とを覆う状態で設けられたカバ−体とからなるこ
    とを特徴とする請求項３記載の処理装置。
  8. 【請求項８】 被処理物を搬送処理する処理方法におい
    て、 未処理の被処理物を所定の高さで供給する供給工程と、 この供給工程から供給搬送された被処理物をほぼ同じ搬
    送高さで処理する第１の処理工程と、 この第１の処理工程で処理された被処理物の搬送高さを
    変更する高さ変更工程と、 この高さ変更工程で変更された高さとほぼ同じ高さで上
    記被処理物を処理する第２の処理工程と、 この第２の処理工程で処理された被処理物を格納する格
    納工程とを具備したことを特徴とする被処理物の処理方
    法。
  9. 【請求項９】 複数のリンクを回動自在に連結するとと
    もに先端に被処理物を保持するためのセッタが設けられ
    て伸縮駆動される第１のア−ム体と第２のア−ム体とを
    備えたロボット装置において、 上記第１のア−ム体のセッタは、上記第２のア−ム体の
    セッタよりも下方に位置するとともに、この第２のア−
    ム体のセッタにはここに保持された被処理物に向けて液
    体を噴射するノズル体が設けられていることを特徴とす
    るロボット装置。
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