JPH09224957A - レーザー光用集束レンズ、それを利用した歯科用又は口腔外科用治療器及びレーザー光の付着水滴による乱反射防止方法 - Google Patents

レーザー光用集束レンズ、それを利用した歯科用又は口腔外科用治療器及びレーザー光の付着水滴による乱反射防止方法

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JPH09224957A
JPH09224957A JP8272815A JP27281596A JPH09224957A JP H09224957 A JPH09224957 A JP H09224957A JP 8272815 A JP8272815 A JP 8272815A JP 27281596 A JP27281596 A JP 27281596A JP H09224957 A JPH09224957 A JP H09224957A
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focusing lens
dental
photocatalyst
surface layer
oral surgery
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JP8272815A
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Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
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Toto Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 湿分の凝縮により水滴が付着しても、レンズ
に入射されるレーザー光が乱反射されないような集束レ
ンズの提供。 【解決手段】 集束レンズ基材表面に、実質的に透明で
光触媒粒子を含有する表面層を備えるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光用集束
レンズ、それを利用した歯科用又は口腔外科用治療器及
びレーザー光用集束レンズの付着水滴による乱反射防止
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、レーザー光を利用した治療器
が歯科用又は口腔外科用治療器として提案されている。
例えば、特開昭５７−２０９０４５号では、患部を随時
レーザー光の照射光軸上から観察しながら、その患部に
レーザー光を照射して患部を切削或いは切開する歯科、
口腔外科用のハンドピース状のレーザーメス装置が提案
されている。また、特開昭５７−１３１２２号では、レ
ンズで焦点に集束後、拡散させたレーザービームを、一
定速度で歯形に沿って走査させることにより、簡単な操
作で相互に接近した歯すじ方向に長い歯の均一な焼入れ
を可能にする歯面の焼入硬化器が提案されている。さら
に、特開昭６０−７７７４９号では、レンズにより集束
させたレーザー光を歯の表面の充填レジンの辺縁部に照
射させることにより、歯のエナメル質の表層部と充填レ
ジンの辺縁部が同時に且つ瞬時に溶融して、両者間に互
いに入り組んだ契歯状の溶融嵌合構造を形成し、辺縁封
鎖が充分になされるようになる歯科用充填物辺縁封鎖装
置が提案されている。上記治療器においては、いずれも
強力なレーザー光を患部等に照射するため、口腔や歯に
照射させる直前に集束レンズが設けられている。
【０００３】
【発明の解決すべき課題】しかしながら、従来は実際に
は、使用時において、集束レンズに湿分の凝縮により水
滴が付着し、それが水滴状に成長して、レンズに入射さ
れるレーザー光を乱反射するために、充分なレーザー光
を患部等に照射し続けるのが困難であった。そこで、本
発明では、湿分の凝縮により水滴が付着しても、レンズ
に入射されるレーザー光が乱反射されないような集束レ
ンズ、及びレーザー光の付着水滴による乱反射防止方法
を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、光触媒を含有
する表面層を形成した部材において、光触媒を光励起す
ると、部材の表面が高度に親水化されるという発見に基
づく。この現象は以下に示す機構により進行すると考え
られる。すなわち、光触媒の価電子帯上端と伝導帯下端
とのエネルギーギャップ以上のエネルギーを有する光が
光触媒に照射されると、光触媒の価電子帯中の電子が励
起されて伝導電子と正孔が生成し、そのいずれかまたは
双方の作用により、おそらく表面に極性が付与され、水
や水酸基等の極性成分が集められる。そして伝導電子と
正孔のいずれかまたは双方と、上記極性成分との協調的
な作用により、表面と前記表面に化学的に吸着した汚染
物質との化学結合を切断すると共に、表面に化学吸着水
が吸着し、さらに物理吸着水層がその上に形成されるの
である。また一旦部材表面が高度に親水化されたなら
ば、部材を暗所に保持しても、表面の親水性はある程度
の期間持続する。
【０００５】本発明では、集束レンズ基材表面に、実質
的に透明で光触媒粒子を含有する表面層を備えたレーザ
ー光用集束レンズを提供する。光触媒粒子を含有する表
面層を備えることにより、光触媒の光励起に応じて表面
は高度の親水性を呈し、それにより付着した湿分の凝縮
水及び／又は水滴が前記層の表面に一様に広がり、レー
ザー光が付着水滴によって乱反射されるのが防止される
ようになる。
【０００６】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらにシリカが含有されているようにする。シリ
カが含有されることにより、表面が水濡れ角０゜に近い
高度の親水性を呈しやすくなると共に、暗所に保持した
ときの親水維持性が向上する。その理由はシリカは構造
中に水を蓄えることができることと関係していると思わ
れる。
【０００７】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらに固体超強酸が含有されているようにする。
超強酸が含有されることにより、表面が水濡れ角０゜に
近い高度の親水性を呈しやすくなると共に、暗所に保持
したときの親水維持性が向上する。その理由は表面層に
超強酸が含有されると、表面の極性が、光の有無にかか
わらず極端に大きな状態にあるために、疎水性分子より
も極性分子である水分子を選択的に吸着させやすい。そ
のため安定な物理吸着水層が形成されやすく、暗所に保
持しても、表面の親水性をかなり長期にわたり高度に維
持できる。
【０００８】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらにシリコーンが含有されているようにする。
シリコーンが含有されることにより、光触媒の光励起に
よって、シリコーン中のシリコン原子に結合する有機基
の少なくとも一部が水酸基に置換され、さらにその上に
物理吸着水層が形成されることにより、表面が水濡れ角
０゜に近い高度の親水性を呈するようになると共に、暗
所に保持したときの親水維持性が向上する。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の具体的な構成につ
いて説明する。本発明におけるレーザー光用集束レンズ
の表面には、図１又は図２に示すように、基材の表面に
結晶性酸化チタン等の光触媒を含む層が形成されてい
る。このような表面構造をとることで、レーザー光用集
束レンズの表面は、光触媒の光励起に応じて高度に親水
化されるのである。それにより、雰囲気の湿分が凝縮し
て付着しても水滴状には成長せず、一様に水膜化するよ
うになり、レーザー光の乱反射が防止される。
【００１０】図１において、表面層が光触媒粒子のみか
らなる場合には、光触媒は酸化物であることが好まし
い。酸化物は、環境中の汚染物質が吸着していない状態
では親水性を示すので、光励起作用によりその汚染物質
を排斥させ、吸着水層を形成させることで、一様な水膜
が形成できるからである。図２において、Ｍは金属元素
を示す。従って、図２の場合、最表面は一般の無機酸化
物からなる。この場合も、酸化物は、環境中の汚染物質
が吸着していない状態では親水性を示すので、上記無機
酸化物以外に表面層に混入する光触媒の光励起作用によ
りその汚染物質を排斥させ、吸着水層を形成させること
で、一様な水膜が形成できる。
【００１１】本発明における集束レンズ基材には、ガラ
ス、プラスチック等の透明体からなる凸レンズが好適に
利用できる。その用途は、特に限定されるものではない
が、歯科用又は口腔外科用の患部を切削或いは切開する
ための装置、歯科用の歯面の焼入硬化器、歯科用充填物
辺縁封鎖装置等の歯科用又は口腔外科用治療器に特に好
適に利用できる。
【００１２】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギーギャップよりも大きなエネルギー
（すなわち短い波長）の光（励起光）を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起（光励起）が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナター
ゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、酸化錫、酸化亜
鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二
鉄、チタン酸ストロンチウム等が好適に利用できる。こ
こで光触媒の光励起に用いる光源としては、蛍光灯、白
熱電灯、メタルハライドランプ、水銀ランプのような室
内照明、太陽、それらの光源からの光を低損失のファイ
バーで誘導した光源等が好適に利用できる。光触媒の光
励起により、基材表面が高度に親水化されるためには、
励起光の照度は、０．００１ｍＷ／ｃｍ２以上あればよ
いが、０．０１ｍＷ／ｃｍ２以上だと好ましく、０．１
ｍＷ／ｃｍ２以上だとより好ましい。
【００１３】光触媒を含有する表面層の膜厚は、０．４
μｍ以下にするのが好ましい。そうすれば、光の乱反射
による白濁を防止することができ、表面層は実質的に透
明となる。さらに光触媒を含有する表面層の膜厚を０．
２μｍ以下にすると一層好ましい。そうすれば、光の干
渉による表面層の発色を防止することができる。また表
面層が薄ければ薄いほどその透明度は向上する。更に、
膜厚を薄くすれば、表面層の耐摩耗性が向上する。上記
表面層の表面に、更に、親水化可能な耐摩耗性又は耐食
性の保護層や他の機能膜を設けても良い。
【００１４】上記表面層は、基材と比較して屈折率があ
まり高くないのが好ましい。好ましくは表面層の屈折率
は２以下であるのがよい。そうすれば、基材と表面層と
の界面、及び表面層と空気との界面における光の反射を
抑制できる。表面層の屈折率を２以下にするには、光触
媒に２以下の屈折率を有する物質を用いるか、或いは光
触媒が屈折率２以上の場合には、屈折率２以下の他の物
質を表面層に添加する。２以下の屈折率を有する光触媒
としては、酸化錫（屈折率１．９）等が利用できる。２
以上の屈折率を有する光触媒には、アナターゼ型酸化チ
タン（屈折率２．５）やルチル型酸化チタン（屈折率
２．７）があるが、この場合には、屈折率２以下の他の
物質、例えば、炭酸カルシウム（屈折率１．６）、水酸
化カルシウム（屈折率１．６）、炭酸マグネシウム（屈
折率１．５）、炭酸ストロンチウム（屈折率１．５）、
ドロマイト（屈折率１．７）、フッ化カルシウム（屈折
率１．４）、フッ化マグネシウム（屈折率１．４）、シ
リカ（屈折率１．５）、アルミナ（屈折率１．６）、ケ
イ砂（屈折率１．６）、モンモリロナイト（屈折率１．
５）、カオリン（屈折率１．６）、セリサイト（屈折率
１．６）、ゼオライト（屈折率１．５）、酸化錫（屈折
率１．９）等を表面層に添加する。
【００１５】上記表面層には、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎのよう
な金属を添加することができる。前記金属を添加した表
面層は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させる
ことができる。
【００１６】上記表面層には、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ、Ｏｓのような白金族金属を添加することがで
きる。前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元
活性を増強でき、脱臭浄化作用等が向上する。また、光
触媒以外に固体超強酸を添加した場合には、白金族金属
の添加により固体超強酸の酸度が向上するので、親水維
持性も向上し、付着水の水膜化がより促進されると共
に、ある程度長期間光触媒に励起光が照射されない場合
の親水維持性も向上する。
【００１７】基材がナトリウムのようなアルカリ網目修
飾イオンを含むガラス（ソーダライムガラス、並板ガラ
ス等）の場合には、基材と表面層との間にシリカ等の中
間層を形成してもよい。そうすれば、焼成中にアルカリ
網目修飾イオンが基材から表面層へ拡散するのが防止さ
れ、光触媒機能がよりよく発揮される。
【００１８】親水性とは、表面に水を滴下したときにな
じみやすい性質をいい、一般に水濡れ角が９０゜未満の
状態をいう。本発明における高度の親水性とは、表面に
水を滴下したときに非常になじみやすい性質をいい、よ
り具体的には水濡れ角が１０゜以下、好ましくは５゜以
下となる状態をいう。
【００１９】本発明における固体超強酸とは、ハメット
の酸度関数Ｈｏ≦−１１．９３なる固体酸化物を構成要
素に含む強酸をいい、具体的には、硫酸担持Ａｌ
２Ｏ３、硫酸担持ＴｉＯ２、硫酸担持ＺｒＯ２、硫酸担
持ＳｎＯ２、硫酸担持Ｆｅ２Ｏ３、硫酸担持ＳｉＯ２、
硫酸担持ＨｆＯ２、ＴｉＯ２／ＷＯ３、ＷＯ３／ＳｎＯ
２、ＷＯ３／ＺｒＯ２、ＷＯ３／Ｆｅ２Ｏ３、ＳｉＯ２
・Ａｌ２Ｏ３等が好適に利用できる。
【００２０】次に、表面層の形成方法について説明す
る。まず表面層が光触媒のみからなる場合の製法につい
て、光触媒がアナターゼ型酸化チタンの場合を例にとり
説明する。この場合の方法は、大別して３つの方法があ
る。１つの方法はゾル塗布焼成法であり、他の方法は有
機チタネート法であり、他の方法は電子ビーム蒸着法で
ある。 （１）ゾル塗布焼成法 アナターゼ型酸化チタンゾルを、基材表面に、スプレー
コーティング法、ディップコーティング法、フローコー
ティング法、スピンコーティング法、ロールコーティン
グ法等の方法で塗布し、焼成する。 （２）有機チタネート法 チタンアルコキシド（テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキ
シチタン等）、チタンアセテート、チタンキレート等の
有機チタネートに加水分解抑制剤（塩酸、エチルアミン
等）を添加し、アルコール（エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等）などの非水溶媒で希釈した後、部分
的に加水分解を進行させながら又は完全に加水分解を進
行させた後、混合物をスプレーコーティング法、ディッ
プコーティング法、フローコーティング法、スピンコー
ティング法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、
乾燥させる。乾燥により、有機チタネートの加水分解が
完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタンの脱水縮
重合により無定型酸化チタンの層が基材表面に形成され
る。その後、アナターゼの結晶化温度以上の温度で焼成
して、無定型酸化チタンをアナターゼ型酸化チタンに相
転移させる。 （３）電子ビーム蒸着法 酸化チタンのターゲットに電子ビームを照射することに
より、基材表面に無定型酸化チタンの層を形成する。そ
の後、アナターゼの結晶化温度以上の温度で焼成して、
無定型酸化チタンをアナターゼ型酸化チタンに相転移さ
せる。
【００２１】次に、表面層が光触媒とシリカからなる場
合について、光触媒がアナターゼ型酸化チタンの場合を
例にとり説明する。この場合の方法は、例えば、以下の
３つの方法がある。１つの方法はゾル塗布焼成法であ
り、他の方法は有機チタネート法であり、他の方法は４
官能性シラン法である。 （１）ゾル塗布焼成法 アナターゼ型酸化チタンゾルとシリカゾルとの混合液
を、基材表面にスプレーコーティング法、ディップコー
ティング法、フローコーティング法、スピンコーティン
グ法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、焼成す
る。 （２）有機チタネート法 チタンアルコキシド（テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキ
シチタン等）、チタンアセテート、チタンキレート等の
有機チタネートに加水分解抑制剤（塩酸、エチルアミン
等）とシリカゾルを添加し、アルコール（エタノール、
プロパノール、ブタノール等）などの非水溶媒で希釈し
た後、部分的に加水分解を進行させながら又は完全に加
水分解を進行させた後、混合物をスプレーコーティング
法、ディップコーティング法、フローコーティング法、
スピンコーティング法、ロールコーティング法等の方法
で塗布し、乾燥させる。乾燥により、有機チタネートの
加水分解が完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタ
ンの脱水縮重合により無定型酸化チタンの層が基材表面
に形成される。その後、アナターゼの結晶化温度以上の
温度で焼成して、無定型酸化チタンをアナターゼ型酸化
チタンに相転移させる。 （３）４官能性シラン法 テトラアルコキシシラン（テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメ
トキシシラン等）とアナターゼ型酸化チタンゾルとの混
合物を基材の表面にスプレーコーティング法、ディップ
コーティング法、フローコーティング法、スピンコーテ
ィング法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、必
要に応じて加水分解させてシラノールを形成した後、加
熱等の方法でシラノールを脱水縮重合に付す。
【００２２】次に、表面層が光触媒と固体超強酸からな
る場合について、光触媒がアナターゼ型酸化チタン、固
体超強酸がＴｉＯ２／ＷＯ３の場合を例にとり説明す
る。この場合の方法は、タングステン酸のアンモニア溶
解液とアナターゼ型酸化チタンゾルとを混合し、必要に
応じて希釈液（水、エタノール等）で希釈した混合物を
基材の表面にスプレーコーティング法、ディップコーテ
ィング法、フローコーティング法、スピンコーティング
法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、焼成す
る。
【００２３】次に、表面層が光触媒とシリコーンからな
る場合について、光触媒がアナターゼ型酸化チタンの場
合を例にとり説明する。この場合の方法は、未硬化の若
しくは部分的に硬化したシリコーン又はシリコーンの前
駆体からなる塗料とアナターゼ型酸化チタンゾルとを混
合し、シリコーンの前駆体を必要に応じて加水分解させ
た後、混合物を基材の表面にスプレーコーティング法、
ディップコーティング法、フローコーティング法、スピ
ンコーティング法、ロールコーティング法等の方法で塗
布し、加熱等の方法でシリコーンの前駆体の加水分解物
を脱水縮重合に付して、アナターゼ型酸化チタン粒子と
シリコーンからなる表面層を形成する。形成された表面
層は、紫外線を含む光の照射によりアナターゼ型酸化チ
タンが光励起されることにより、シリコーン分子中のケ
イ素原子に結合した有機基の少なくとも一部を水酸基に
置換され、さらにその上に物理吸着水層が形成されて、
高度の親水性を呈する。ここでシリコーンの前駆体に
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチルトリプ
ロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
フェニルトリプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジメト
キシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、フェニル
メチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシ
ラン、フェニルメチルジブトキシシラン、フェニルメチ
ルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、及びそれらの加水分解物、それらの混
合物が好適に利用できる。
【００２４】
【実施例】テトラエトキシシラン（和光純薬）０．６９
ｇとアナターゼ型酸化チタンゾル（日産化学、ＴＡ−１
５、平均粒径１０ｎｍ）１．０７ｇとエタノール２９．
８８ｇと、純水０．３６ｇを混合し、コーティング液を
調製した。このコーティング液をフローコーティング法
により、径１０ｃｍの凸レンズ基材上に塗布した。この
レンズ板を約２０分間約１５０℃の温度に保持すること
により、テトラエトキシシランを加水分解と脱水縮重合
に付し、アナターゼ型酸化チタン粒子が無定型シリカで
結着されたコーティングをガラス板表面に形成した。こ
のコーティング中の、酸化チタンとシリカとの重量比は
１であった。このレンズ板を数日間暗所に放置した後、
紫外線光源（三共電気、ブラックライトブルー（ＢＬ
Ｂ）蛍光灯）を用いて試料の表面に０．５ｍＷ／ｃｍ２
の紫外線照度で約１時間紫外線を照射し、＃１試料を得
た。比較のため、径１０ｃｍの凸レンズを数日間暗所に
放置した＃２試料も準備した。まず、＃１試料と＃２試
料に水滴を滴下し、滴下後の様子を観察した。その結果
＃１試料はマイクロシリンジから試料表面に水滴を滴下
されると、水滴が一様に水膜状に試料表面を拡がる様子
が観察された。それに対し、＃２試料ではマイクロシリ
ンジから試料表面に水滴を滴下されると、水滴は表面に
なじんでいくものの、一様に水膜状になるまでには至ら
なかった。次に、＃１試料と＃２試料に息を吹きかけ曇
り発生の有無を調べた。その結果＃２試料では曇りが生
じたのに対し、＃１試料では曇りは生じなかった。さら
に、＃１試料を、その後２日間暗所に放置し、＃３試料
を得た。そして＃３試料について、＃１試料と同様に、
水滴を滴下した後の様子と、息を吹きかけた後の曇り発
生の有無を観察した。その結果、水滴が一様に水膜状に
試料表面を拡がる様子が観察され、曇りも生じなかっ
た。
【００２６】
【発明の効果】本発明では、集束レンズ基材表面に、実
質的に透明で光触媒粒子を含有する表面層を備えるよう
にしたことにより、光触媒の光励起に応じて表面は高度
の親水性を呈し、それにより付着した湿分の凝縮水及び
／又は水滴が前記層の表面に一様に広がり、レーザー光
が付着水滴によって乱反射されるのが防止されるように
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る集束レンズの表面構造を示す
図。
【図２】 本発明に係る集束レンズの他の表面構造を示
す図。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 集束レンズ基材表面に、実質的に透明で
    光触媒粒子を含有する表面層を備え、前記光触媒は光励
    起に応じて前記層の表面を親水性になし、以て付着した
    湿分の凝縮水及び／又は水滴が前記層の表面に一様に広
    がり、レーザー光が付着水滴によって乱反射されるのが
    防止されるようになったレーザー光用集束レンズ。
  2. 【請求項２】 前記光触媒粒子を含有する表面層には、
    さらにシリカが含有されていることを特徴とする請求項
    １に記載のレーザー光用集束レンズ。
  3. 【請求項３】 前記光触媒粒子を含有する表面層には、
    さらに固体超強酸が含有されていることを特徴とする請
    求項１に記載のレーザー光用集束レンズ。
  4. 【請求項４】 前記光触媒粒子を含有する表面層には、
    さらにシリコーンが含有されていることを特徴とする請
    求項１に記載のレーザー光用集束レンズ。
  5. 【請求項５】 前記表面層の膜厚は０．４μｍ以下であ
    ることを特徴とする請求項１〜４に記載のレーザー光用
    集束レンズ。
  6. 【請求項６】 前記表面層の膜厚は０．２μｍ以下であ
    ることを特徴とする請求項１〜４に記載のレーザー光用
    集束レンズ。
  7. 【請求項７】 前記表面層の表面に、さらに親水化可能
    な保護層が設けられていることを特徴とする請求項１〜
    ４に記載のレーザー光用集束レンズ。
  8. 【請求項８】 前記表面層の屈折率は２以下であること
    を特徴とする請求項１〜４に記載のレーザー光用集束レ
    ンズ。
  9. 【請求項９】 請求項１〜８のレーザー光用集束レンズ
    を備えた歯科用又は口腔外科用治療器。
  10. 【請求項１０】 前記歯科用又は口腔外科用治療器は、
    歯科用又は口腔外科用の患部を切削或いは切開するため
    の装置であることを特徴とする請求項９に記載の歯科用
    又は口腔外科用治療器。
  11. 【請求項１１】 前記歯科用又は口腔外科用治療器は、
    歯科用の歯面の焼入硬化器であることを特徴とする請求
    項９に記載の歯科用又は口腔外科用治療器。
  12. 【請求項１２】 前記歯科用又は口腔外科用治療器は、
    歯科用充填物辺縁封鎖装置であることを特徴とする請求
    項９に記載の歯科用又は口腔外科用治療器。
  13. 【請求項１３】 前記歯科用又は口腔外科用治療器は、
    歯科用又は口腔外科用のレーザーハンドピースであるこ
    とを特徴とする請求項９に記載の歯科用又は口腔外科用
    治療器。
  14. 【請求項１４】 請求項１〜８のレーザー光用集束レン
    ズを準備する工程、前記光触媒を光励起することによ
    り、前記層の表面を親水性になし、以て付着した湿分の
    凝縮水及び／又は水滴が前記層の表面に一様に広がらせ
    る工程；からなるレーザー光の乱反射防止方法。
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