JPH08122504A

JPH08122504A - 反射防止フィルム及びその製造方法

Info

Publication number: JPH08122504A
Application number: JP6284472A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Tsuchiya; 充土屋; Hiroko Suzuki; 裕子鈴木; Kiyotaka Takematsu; 清隆竹松; Hiroomi Katagiri; 博臣片桐; Motohiro Oka; 素裕岡
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1994-10-24
Filing date: 1994-10-24
Publication date: 1996-05-17

Abstract

(57)【要約】【目的】低屈折率層と高屈折率層とを有する反射防止
シートにおいて、低屈折率層と直接接する下層の屈折率
を、反射防止効果を生じさせるのに十分な屈折率に調整
することが容易にでき、各層との密着性に優れ、クラッ
ク等も生じにくく、且つ生産性に優れる反射防止フィル
ムを提供する。【構成】透明基材フィルム１の表裏面の少なくとも一
面に表面層である低屈折率層４が、他の層２を介して形
成されており、該他の層２の少なくとも一層が高屈折率
超微粒子をバインダー樹脂で相互に結着した高屈折率層
３からなり、該高屈折率層３は低屈折率層４と直接接し
ており、該高屈折率層３の屈折率が、該高屈折率層３の
前記低屈折率層４側とは反対側の面に接する層の屈折率
よりも高く、該高屈折率層３の膜厚Ｄは次式で示される
光学薄膜である。【数１】〔ｎは高屈折率層３の屈折率、λは可視光線の波長（３
８０≦λ≦７８０ｎｍ）、Ｎは０又は１の整数〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ワープロ、コンピュー
タ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用い
る偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレン
ズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ等
の光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓
ガラス等の表面の反射防止に優れた反射防止フィルム、
及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カーブミラー、バックミラー、ゴーグ
ル、窓ガラス、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、
その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラス
チック等の透明基板が用いられており、これらの透明基
板を通して物体や文字、図形の視覚情報を或いはミラー
では透明基板を通して反射層からの像を観察する場合
に、これらの透明基板の表面が光で反射して内部の視覚
情報が見えにくいという問題があった。

【０００３】従来、光の反射防止技術には、例えば、次
のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチッ
ク表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明
基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂等の極薄膜
や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプ
ラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その
上に蒸着によりＳｉＯ₂やＭｇＦ₂の膜を形成する方
法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜
を形成する方法があった。

【０００４】上記の反射防止技術の内、例えば、ガラス
上に形成された膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂の薄膜を
さらに説明する。入射光が薄膜に垂直に入射する場合
に、特定の波長をλ₀とし、この波長に対する反射防止
膜の屈折率をｎ₀、反射防止膜の厚みをｈ、および基板
の屈折率をｎ_gとすると、反射防止膜が光の反射を１０
０％防止し、光を１００％透過するための条件は、次の
式（１）および式（２）の関係を満たすことが必要であ
ることは既に知られている（サイエンスライブラリ物
理学＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年，株式会社
サイエンス社発行）。

【０００５】

【数３】ガラスの屈折率ｎ_g＝約１．５であり、ＭｇＦ₂膜の屈
折率ｎ₀＝１．３８、入射光の波長λ₀＝５５００Å
（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式
（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μ
ｍ前後の光学薄膜が最適であると計算される。

【０００６】前記式（１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜
の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことが分かり、このような原理を利用して、上層塗
膜の屈折率をその下層塗膜の屈折率よりも低い値として
光の反射防止を行うことが従来行われていた。

【０００７】従来、特に、液晶ディスプレイ等の表示体
の表面には、光のシャッターの役目をするフィルム状の
偏光素子が設けられているが、偏光素子自体がハード性
能に劣るために、ガラス、透明プラスチック板、又は透
明プラスチックフィルム等の透明保護基板により保護さ
れて、偏光板が形成されている。しかしながら、透明プ
ラスチック板又は透明プラスチックフィルム等のプラス
チックからなる透明保護基板自体においても傷がつきや
すいので、近年、このような偏光板の表面にハード性能
を持たせたものが開発されている。このような技術とし
て、例えば、特開平１−１０５７３８号公報に記載され
るものがある。

【０００８】この公報には、偏光素子に貼合されて偏光
板を構成するための、ハード性能が付与された透明保護
基板、即ち、光制御用トリアセテートフィルムが開示さ
れている。このフィルムは、未ケン化のトリアセテート
フィルムの一方の面に、紫外線硬化型エポキシアクリレ
ート系樹脂からなる硬化塗膜を設けることによりハード
性能に優れたトリアセテートフィルムとしている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のハード性を付与した反射防止シートは、透明基材フ
ィルム上に上記のような電離放射線硬化型樹脂や熱硬化
型樹脂の塗膜を形成し硬化させた後、その上に低屈折率
層を形成して得ていたが、上層と、その上層と直接接す
る下層との屈折率差を生じさせる材料が得難いため、反
射防止効果は満足いくものではなかった。

【００１０】そこで本発明は上記の問題点を解決すべ
く、少なくとも低屈折率層と高屈折率層とを透明基材フ
ィルム上に形成して得られる反射防止シートにおいて、
低屈折率層と直接接する下層の屈折率を、反射防止効果
を生じさせるのに十分な屈折率に調整することが容易に
でき、各層との密着性に優れ、クラック等も生じにくく
ハード性に優れ、且つ生産性に優れている反射防止フィ
ルムを提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記した問題点を解決す
るために、本発明の反射防止フィルムは、（１）透明基
材フィルムの表裏面の少なくとも一面に表面層である低
屈折率層が、単層又は多層からなる他の層を介して形成
されており、（２）該他の層の少なくとも一層が高屈折
率超微粒子をバインダー樹脂で相互に結着した高屈折率
層からなり、該高屈折率層は低屈折率層と直接接してお
り、（３）該高屈折率層の屈折率が、該高屈折率層の前
記低屈折率層側とは反対側の面に接する層の屈折率より
も高く、該高屈折率層の膜厚Ｄは次式（３）で示される
光学薄膜であることを特徴とする。

【００１２】

【数４】〔ｎは高屈折率層の屈折率、λは可視光線の波長（３８
０≦λ≦７８０ｎｍ）、Ｎは０又は１の整数〕本発明の前記反射防止フィルムにおける多層からなる他
の層のうち、高屈折率層以外の層には、必要に応じて、
接着剤層、プライマー層又はハードコート層を設けても
よい。

【００１３】他の層のうち高屈折率層と共にハードコー
ト層を高屈折率層と接するように透明基材フィルム側に
設けた場合には、このハードコート層の屈折率は透明基
材フィルムの屈折率と同等、若しくはそれより高い屈折
率を持つことは、透明基材フィルム、ハードコート層、
高屈折率層の間の各界面での反射を防止することができ
るので好ましい。

【００１４】本発明の反射防止フィルムは、偏光素子に
ラミネートされることにより偏光板を構成することがで
きる。また、このように構成される偏光板は、液晶表示
装置の構成要素として用いることができる。

【００１５】本発明をさらに詳細に説明する。本発明の
反射防止フィルムはタイプＩとタイプIIがある。

【００１６】図１は、本発明のタイプＩの反射防止フィ
ルムの層構成の１例を示す。図１において、１は透明基
材フィルムである。２は透明基材フィルム上に形成され
ている他の層であり、該他の層２の最上層は低屈折率層
と直接接している高屈折率層３である。４は、本発明の
反射防止フィルムの最表面を構成する低屈折率層であ
る。

【００１７】図２は、本発明のタイプIIの反射防止フィ
ルムの層構成の１例を示す。タイプIIの反射防止フィル
ムは、タイプＩの反射防止フィルムにおける透明基材フ
ィルム１と他の層２との間に接着剤層５が設けられたも
のである。透明基材フィルム：本発明の反射防止フィルムにおける
透明基材フィルムとしては、トリアセチルセルロースフ
ィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブ
チレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフ
ィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系
樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネー
トフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィ
ルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケト
ンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使
用できるが、特に、トリアセチルセルロースフィルム、
及び一軸延伸ポリエステルフィルムが透明性に優れ、光
学的に異方性が無い点で好適に用いられる。その厚み
は、通常は８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用
いられる。

【００１８】低屈折率層：本発明の反射防止フィルムに
おいて、低屈折率層は透明基材フィルム上に他の層を介
して形成されている。低屈折率層の屈折率は、他の層に
少なくとも含まれ、低屈折率層に直接接している高屈折
率層の屈折率よりも低く設定されている。この低屈折率
層の屈折率ｎ_Lは、高屈折率層の屈折率ｎ_Hに比べて低
い範囲のものであることは勿論であるが、下記の式
（４）

【００１９】

【数５】に近づく程、反射防止効果は向上するので、上記式
（４）の条件に近づけることが望ましい。低屈折率層の
形成に使用される低屈折率材料は上記条件を満足するも
のであればどのような材料でもよく、無機材料、有機材
料が使用できる。

【００２０】低屈折率無機材料としては、例えば、Ｌｉ
Ｆ（屈折率１．４）、ＭｇＦ₂（屈折率１．４）、３Ｎ
ａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率
１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（氷晶石、屈折率１．３
３）、ＳｉＯ_X（ｘ：１．５０≦ｘ≦２．００）（屈折
率１．３５〜１．４８）等の無機材料が使用される。

【００２１】低屈折率無機材料で形成される膜は、硬度
が高く、特にプラズマＣＶＤ法で、ＳｉＯ_X（ｘは１．
５０≦ｘ≦４．００、望ましくは１．７０≦ｘ≦２．２
０）の膜を形成したものは硬度が良好であり、且つ下層
の塗膜との密着性に優れ、透明基材フィルムの熱ダメー
ジを他の気相法に比べて軽減できるので好ましい。

【００２２】低屈折率有機材料には、フッ素原子の導入
されたポリマー等の有機物がその屈折率が１．４５以下
と低い点から好ましい。溶剤が使用できる樹脂としてそ
の取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン
（屈折率ｎ＝１．４０）が挙げられる。低屈折率の有機
材料としてこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合に
は、低屈折率層の屈折率はほぼ１．４０程度となるが、
さらに低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフル
オロエチルアクリレート（屈折率ｎ＝１．３２）のよう
な低屈折率アクリレートを１０重量部から３００重量
部、好ましくは１００重量部から２００重量部添加して
もよい。

【００２３】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十
分ではないので、さらに多官能アクリレート、例えば、
電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加
することが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加
量が多いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観
点からはその添加量は少ない方がよく、１〜５０重量
部、好ましくは５〜２０重量部添加することが推奨され
る。

【００２４】低屈折率層の形成方法は、低屈折率無機材
料を用いる場合には、高屈折率層上に、低屈折率無機質
材料で蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、
プラズマＣＶＤ等の気相法により皮膜を単層又は多層形
成するか、或いはゾル−ゲル法によって複合酸化物の膜
を形成してもよい。また、低屈折率有機材料を用いる場
合には、低屈折率無機質材料を樹脂に含有させた低屈折
率樹脂組成物又は低屈折率有機材料を塗布し、単層又は
多層の塗膜を形成して行うことができる。低屈折率の有
機材料には、フッ素系、シリコーン系等の低屈折率の熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂或い
はそれらの混合物等何でも使用できる。低屈折率層に特
に、より硬度が必要な場合には、反応硬化型樹脂、即
ち、熱硬化型樹脂及び／または電離放射線硬化型樹脂を
用いることが好ましい。更に生産性、エネルギー効率、
透明基材の熱ダメージを考慮すると、電離放射線硬化型
樹脂を用いることが最適である。

【００２５】特に、低屈折率層をプラズマＣＶＤ法によ
り形成したＳｉＯ_x膜は、通常の真空蒸着膜と比べて密
度が高く、ガスバリヤー性が高い。そのため、防湿性に
優れ、本発明の反射防止フィルムを偏光素子にラミネー
トして使用する場合に、湿気に弱いとされている偏光素
子の防湿機能を果たす利点がある。低屈折率層の厚み
は、反射防止の観点から約０．１μｍ前後の薄膜で形成
することが望ましい。

【００２６】他の層：透明基材フィルムと低屈折率層と
の間には他の層が介在している。この他の層には、反射
防止フィルムに各種機能性を付与するための層を設ける
ことができる。他の層のうち、低屈折率層と直接接して
いる層は、低屈折率よりも屈折率が高い高屈折率層であ
ることが反射防止効果を高めるという本発明の目的のた
めには必須である。

【００２７】他の層のうち、前記高屈折率層以外の層に
は、例えば、透明基材フィルムとの接着性を向上させる
等の理由で、透明基材フィルム上にプライマー層や或い
は接着剤層を設けたり、また、ハード性能向上のために
ハードコート層を単層又は複数層設けてもよい。上記の
ように透明基材フィルムとハードコート層の中間に設け
られる他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率と
ハードコート層の屈折率との中間の値とすることが好ま
しい。

【００２８】他の層の形成方法は、上記のように透明基
材フィルム上に直接又は間接的に塗布して形成してもよ
く、また透明基材フィルム上に他の層を転写により形成
する場合には、予め転写フィルム上に形成した層上に、
他の層を塗布して形成し、その後、透明基材フィルムに
転写してもよい。次に他の層のうち、高屈折率層及びハ
ードコート層をさらに詳述する。

【００２９】高屈折率層：本発明の反射防止フィルムに
おける高屈折率層は、低屈折率層と直接接しており、透
明基材フィルム側に設けられている。高屈折率層の屈折
率は低屈折率層の屈折率及び透明基材フィルムの屈折率
よりも高いことは勿論であるが、高屈折率層の低屈折率
層側とは反対側の面に接する層の屈折率よりも高いこと
が反射防止効果をあげるために必須である。

【００３０】高屈折率層は、高屈折率超微粒子がバイン
ダー樹脂で相互に結着されて構成されている。この高屈
折率層は高屈折率超微粒子が樹脂バインダー中に分散さ
れたものではなく、高屈折率超微粒子自体が相互に結着
されているために、高屈折率層の屈折率を高屈折率超微
粒子自体の屈折率まで高めることができる。

【００３１】高屈折率層における高屈折率超微粒子とバ
インダー樹脂との比率は、体積比でバインダー樹脂１に
対して、高屈折率超微粒子が０．２〜２０、好ましくは
１〜１０であることが、高屈折率超微粒子相互を結着さ
せ、高屈折率層の屈折率を向上させ、高屈折率層の塗膜
のハード性能、靱性を向上させるために好ましい。体積
比でバインダー樹脂１に対して、高屈折率超微粒子が
０．２未満だと屈折率向上効果が小さく、また、２０を
越えると塗膜形成能が小さく、ハード性能、靱性の低下
を引き起こすので、いずれも好ましくない。

【００３２】高屈折率層に使用される高屈折率超微粒子
は、高屈折率超微粒子相互を結着させるバインダー樹脂
の屈折率よりも高く、且つ屈折率１．５以上であること
が、高屈折率層の屈折率を高く調整するために望まし
い。高屈折率層に使用される高屈折率超微粒子には、例
えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率
２．３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ
₂Ｏ₅（屈折率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率
１．９５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃
（屈折率１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａ
ｌ₂Ｏ₃（屈折率１．６３）等が挙げられる。

【００３３】これらの高屈折率超微粒子のうち、Ｚｎ
Ｏ、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂等を用いることにより、本発明
の反射防止フィルムにＵＶ遮蔽効果がさらに付与される
ので好ましい。また、アンチモンがドープされたＳｎＯ
₂或いはＩＴＯを用いることにより、電子伝導性が向上
し、帯電防止効果によるホコリの付着防止或いは本発明
の反射防止フィルムをＣＲＴに用いた場合の電磁波シー
ルド効果が得られるので好ましい。高屈折率超微粒子の
粒径は、高屈折率層の透明性を維持し、十分な光透過率
を得るためには、０．１μｍ以下、好ましくは４００ｎ
ｍ以下である。

【００３４】高屈折率層に使用されるバインダー樹脂
は、高屈折率層のハード性、密着性、靱性及び高屈折率
超微粒子の分散性を考慮して、従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂或いはそれら
の混合物等を用いることができる。特に、より硬度が必
要な場合には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及
び／または電離放射線硬化型樹脂を用いることが好まし
く、例えば、後記されているハードコート層の樹脂の例
が使われる。更に生産性、エネルギー効率、透明基材の
熱ダメージを考慮すると、電離放射線硬化型樹脂を用い
ることが最適である。更に、高屈折率超微粒子の分散性
を考慮すると、無水酸のエステル化多官能アクリレート
を用いることが好ましい。

【００３５】高屈折率層の最適な膜厚Ｄは、その屈折率
と、反射を防止する光の波長にもよって異なるが、上記
式（３）によって示される厚みが好ましい。具体的な数
値を挙げれば、高屈折率超微粒子の屈折率と、反射を防
止する光の波長によっても異なるが、例えば、５０ｎｍ
〜２５０ｎｍ程度の薄膜で形成するのが好ましい。

【００３６】さらに反射防止性能を高めるためには、高
屈折率層を複数層設けることが好ましい。その場合に
は、低屈折率層と直接接する第１高屈折率層に対して、
低屈折率層側とは反対側に形成される第２高屈折率層の
屈折率は、第１高屈折率層よりも低くすることが反射防
止効果を上げるために好ましい。また、いずれの高屈折
率層の屈折率も、透明基材フィルムの屈折率よりも高い
ことが必要である。

【００３７】ハードコート層：前記他の層に含まれるハ
ードコート層に用いることのできるバインダー樹脂に
は、透明性のあるものであればどのような樹脂（例え
ば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹
脂等）でも使用することができる。ハード性能を付与す
るためには、ハードコート層の厚みは０．５μｍ以上、
好ましくは、３μｍ以上とすることにより、硬度を維持
することができ、反射防止フィルムにハード性能を付与
することができる。

【００３８】なお、本発明において、「ハード性能」或
いは「ハードコート」とは、ＪＩＳＫ５４００で示され
る鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を示すものをいう。

【００３９】また、ハードコート層の硬度をより向上さ
せるために、ハードコート層に使用するバインダー樹脂
には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は
電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。前記
熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリ
ルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹
脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これ
らの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用す
る。

【００４０】前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ
オール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。

【００４１】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。

【００４２】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を
混合するのが好ましい。

【００４３】ハードコート層に、特に、屈曲性を付与す
るためには、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し
溶剤乾燥型樹脂を１０重量部以上１００重量部以下含ま
せてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑
性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する
溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが
使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエス
テルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物
を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリ
メタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸
ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において
有利である。

【００４４】また、透明基材フィルムとして、特にトリ
アセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるとき
には、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂
には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチ
ルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び
透明性の点で有利である。

【００４５】その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶
媒としてトルエンを使用した場合、透明基材フィルムで
あるトリアセチルセルロースの非溶解性の溶剤であるト
ルエンを用いるにもかかわらず、透明基材フィルムにこ
の溶剤乾燥型樹脂を含む塗料の塗布を行っても、透明基
材フィルムと塗膜樹脂との密着性を良好にすることがで
き、しかもこのトルエンは、透明基材フィルムであるト
リアセチルセルロースを溶解しないので、透明基材フィ
ルムの表面は白化せず、透明性が保たれる利点があるか
らである。

【００４６】ハードコート層にバインダー樹脂として電
離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方
法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電
子線または紫外線の照射によって硬化することができ
る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好まし
くは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線
等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等
が利用できる。

【００４７】ハードコート層の屈折率は、高屈折率層の
屈折率を越えない範囲で、透明基材フィルムの屈折率と
同等或いはそれ以上であることが反射防止効果を向上さ
せるために好ましい。ハードコート層の屈折率を向上さ
せる方法としては、例えば、前記高屈折率層の屈折率
を向上させる方法と同様にハードコート層中に、屈折率
の高い微粒子を分散させて用いるか、ハードコート樹
脂を構成する分子或いは原子として、屈折率の高い成分
を導入することにより達成される。屈折率の高い超微粒
子は、高屈折率層で用いられるものと同様のものを用い
ることができる。また、屈折率を向上させる成分の分子
及び原子としては、例えば、芳香族環、Ｆ以外のハ
ロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子等が挙げられる。

【００４８】反射防止フィルムの製造方法：本発明の反
射防止フィルムを製造する方法は、透明基材フィルム上
に順次、少なくとも高屈折率層を含む他の層、低屈折率
層を形成することにより、製造することができる。特
に、高屈折率層を形成する方法は、透明基材フィルム上
に直接又は他の層を介して、前記高屈折率層を構成する
材料を適当な溶媒に溶解させ、コーティングし、必要に
応じて加熱処理、紫外線、電子線等の電離放射線照射処
理を行って、塗膜を硬化させることによって行われる。

【００４９】また、本発明の反射防止フィルムを製造す
る方法には、離型フィルムを用いた転写による方法も可
能である。その場合は、離型フィルム上の塗工された層
上に又は透明基材フィルム上に接着剤を塗布しておく
か、或いは離型フィルム上に接着性を有するハードコー
ト層等の層を形成しておくことが必要である。

【００５０】すなわち、本発明の反射防止フィルムの一
番目の製造方法は、（１）離型フィルム上に高屈折率超
微粒子をバインダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を
形成し、（２）該高屈折率層上又は別に用意した透明基
材フィルム上のいずれか一方に、接着剤を塗工するか、
或いはハードコート剤をそのまま又は溶媒に溶解、分散
させて塗工して接着性を有した状態とし、（３）得られ
た離型フィルムを塗工面を内側にして該接着剤又はハー
ドコート剤を介して透明基材フィルムとラミネートした
後、離型フィルムを剥離することにより、離型フィルム
上の各層を透明基材フィルム上に転写し、（４）その
後、透明基材フィルム上に転写された各層の最上層であ
る高屈折率層上に低屈折率層を形成することを特徴とす
る。

【００５１】本発明の反射防止フィルムの二番目の製造
方法は、（１）離型フィルム上に低屈折率層を形成し、
次いで該低屈折率層上に高屈折率超微粒子をバインダー
樹脂で相互に結着した高屈折率層を形成し、高屈折率層
上又は別に用意した透明基材フィルム上のいずれか一方
に、接着剤を塗工するか、或いはハードコート剤をその
まま又は溶媒に溶解、分散させて塗工して接着性を有し
た状態とし、得られた離型フィルムを塗工面を内側にし
て該接着剤又はハードコート剤を介して透明基材フィル
ムとラミネートした後、離型フィルムを剥離することに
より、離型フィルム上の各層を透明基材フィルム上に転
写することを特徴とする。

【００５２】本発明の反射防止フィルムの三番目の製造
方法は、（１）離型フィルム上に高屈折率超微粒子をバ
インダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を形成し、
（２）該高屈折率層上にハードコート層を形成し、該ハ
ードコート層を硬化させ、（３）得られた離型フィルム
のハードコート層を内側にして、接着剤を介して透明基
材フィルムとラミネートし、（４）該ラミネート物から
離型フィルムを剥離することにより離型フィルム上の各
層を透明基材フィルム上に転写し、（５）透明基材フィ
ルム上に転写された高屈折率層上に低屈折率層を形成す
ることを特徴とする。

【００５３】本発明の反射防止フィルムの四番目の製造
方法は、（１）離型フィルム上に低屈折率層を形成し、
（２）次いで該低屈折率層上に高屈折率超微粒子をバイ
ンダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を形成し、
（３）該高屈折率層上にハードコート層を形成し、該ハ
ードコート層を硬化させ、（４）得られた離型フィルム
のハードコート層を内側にして、接着剤を介して透明基
材フィルムとラミネートし、（５）該ラミネート物から
離型フィルムを剥離することにより離型フィルム上の各
層を透明基材フィルム上に転写することを特徴とする。

【００５４】上記の反射防止フィルムの製造方法を分か
りやすく図示して説明する。本発明の反射防止フィルム
の三番目の製造方法のフローを一例として図３に示す。
図３（ａ）は、離型フィルム６上に高屈折率超微粒子を
バインダー樹脂で相互に結着した高屈折率層３を形成
し、該高屈折率層３上にハードコート層を形成してハー
ドコートを硬化した状態を示す。なお、高屈折率層３と
ハードコート層から他の層２が構成されている。（ｂ）
は、透明基材フィルム１側或いは、離型フィルム６上の
他の層２側の何れか一方に接着剤層５を形成し、両者を
ラミネートしようとする状態を示している。（ｃ）は、
ラミネート物から離型フィルム６を剥離している状態を
示し、（ｄ）は、上記の工程により得られた本発明のタ
イプIIの反射防止フィルムの層構成を示す。

【００５５】図４は、さらに本発明の反射防止フィルム
の四番目の製造方法のフロー図の一例である。図４
（ａ）は、離型フィルム６上に、最初に低屈折率層４を
形成し、次いで高屈折率超微粒子をバインダー樹脂で相
互に結着した高屈折率層３を形成し、該高屈折率層３上
にハードコート層を形成してハードコートを硬化した状
態を示す。以下、図４（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）工程は、
上記図３の（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）工程と同様に行われ
る。

【００５６】上記の反射防止フィルムの製造方法により
製造される反射防止フィルムにおける高屈折率層の膜厚
は、前記式（３）で示される膜厚の光学薄膜とすること
が、反射防止フィルムの反射防止効果を向上させるため
に好ましい。

【００５７】本発明の反射防止フィルムにおいて、その
最表面は微細な凹凸が形成されていてもよい。このよう
な凹凸により、反射防止フィルムに防眩性及び／又は反
射防止性が付与される。この微細な凹凸の形成方法は、
例えば、微細な凹凸表面の離型フィルム上に各層を積層
した後に、透明基材フィルムにラミネートし、離型フィ
ルムを剥離することにより、積層物の表面に微細な凹凸
を付与することができる。

【００５８】本発明の反射防止フィルムの下面には、粘
着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは
反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用
いることができる。

【００５９】なお、本発明の反射防止フィルムの製造方
法は、上記の製造方法に限定されず、種々の変法が可能
である。偏光板及び液晶表示装置：偏光素子に本発明の反射防止
フィルムをラミネートすることによって、反射防止性の
改善された偏光板とすることができる。この偏光素子に
は、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビ
ニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィル
ム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができ
る。このラミネート処理にあたって接着性を増すため及
び静電防止のために、前記反射防止フィルムの基材フィ
ルムが例えば、トリアセチルセルロースフィルムである
場合には、トリアセチルセルロースフィルムにケン化処
理を行う。このケン化処理はトリアセチルセルロースフ
ィルムにハードコートを施す前または後のどちらでもよ
い。

【００６０】図５に本発明の反射防止フィルムが使用さ
れた偏光板の一例を示す。図中、本発明の一つの例の反
射防止フィルム（透明基材フィルム／接着剤層／高屈折
率層を有する他の層／低屈折率層から構成される反射防
止フィルム）が偏光素子７上にラミネートされており、
一方、偏光素子７の他面にはトリアセチルセルロースフ
ィルム（略：ＴＡＣフィルム）８がラミネートされてい
る。また偏光素子７の両面に本発明の反射防止フィルム
がラミネートされてもよい。

【００６１】図６に本発明の反射防止フィルムが使用さ
れた液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子９上に、
図５に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム／偏光素子
／本発明の反射防止フィルムからなる層構成の偏光板が
ラミネートされており、また液晶表示素子９の他方の面
には、ＴＡＣフィルム／偏光素子／ＴＡＣフィルムから
なる層構成の偏光板がラミネートされている。なお、Ｓ
ＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との
間に、位相差板が挿入される。

【００６２】

【実施例】

〔実施例１〕透明基材フィルムである８０μｍのケン化
処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（屈折率
１．４０）上に、下記の組成の高屈折率層組成物をスラ
イドコート法にて膜厚が約１００ｎｍ／ｄｒｙとなるよ
うに塗工し、１００℃のオーブンを用いて溶媒を除去
し、塗膜とした。この塗膜に対し、電子線照射装置（キ
ュアトロン：日新ハイボルテージ（株）製）を用いて、
１７５ＫＶ、５Ｍｒａｄの電子線を照射し硬化させ、高
屈折率層とした。

【００６３】このようにして得られた高屈折率層上に真
空蒸着法を用いて低屈折率層としてＳｉＯ₂膜（屈折率
１．４６）を約９０ｎｍの厚さで形成し、反射防止フィ
ルムを得た。

【００６４】（高屈折率層組成物）ＺｎＯ超微粒子比重５．６ｇ／ｃｍ³（商品名：ＺＳ
−３００、住友セメント（株）製）３．９重量部ジペンタエリスリトールジアクリレート（商品名：カヤ
ラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．１重量部トルエン（溶媒）９６重量部〔実施例２〕本実施例２は図５の本発明の反射防止フィ
ルムの製造フロー図に該当する実施例である。

【００６５】離型フィルムであるアクリル＝メラミン処
理を施した膜厚５０μｍのポリエステルフィルム（商品
名：ＭＣ−１９、（株）麗光製）上に、下記の高屈折率
層用樹脂組成物を用いて高屈折率層を形成した。その上
に電離放射線硬化性ハードコート樹脂組成物（商品名：
ＥＸＧ４０−９、大日精化（株）製）をロールコート法
を用いて膜厚約５μｍ／ｄｒｙで塗工し、１００℃のオ
ーブンで溶媒を除去した。再びその塗膜に対し１７５Ｋ
Ｖ、５Ｍｒａｄの電子線を照射し、ハードコート層を形
成した。

【００６６】更に下記に示した組成のウレタン系接着剤
を、グラビアリバース法によって約３μｍ／ｄｒｙにな
るように塗工し、溶媒である酢酸エチルを除去した後、
４０℃のラミネーションロールを用いて、ケン化処理を
施したトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４
９）とラミネーションを行った。得られたラミネーショ
ンフィルムを４０℃のオーブン中で４８時間エージング
処理を行った後、離型フィルムを除去することにより、
高屈折率層及び、ハードコート層をトリアセチルセルロ
ースフィルム上に転写形成した。更に高屈折率層上に低
屈折率層として真空蒸着法を用いてＳｉＯ₂膜（屈折率
１．４６）を膜厚約９０ｎｍで形成し、反射防止フィル
ムを得た。

【００６７】（高屈折率層用樹脂組成物）ＺｎＯ超微粒子比重５．６ｇ／ｃｍ³（商品名：ＺＳ
−３００、住友セメント（株）製）３．９重量部ポリメチルメタクリレート（略語：ＰＭＭＡ）（商品
名：ＢＲ−８７、三菱レーヨン（株）製）０．１重量
部トルエン４８重量部メチルエチルケトン（略語：ＭＥＫ）４８重量部（ウレタン接着剤組成物）主剤タケラックＡ−３１０（商品名、武田薬品工業
（株）製）１６重量部硬化剤タケネートＡ−３（商品名、武田薬品工業
（株）製）４重量部溶媒酢酸エチル８０重量部〔実施例３〕離型フィルムであるアクリル＝メラミン処
理を施した膜厚５０μｍのポリエステルフィルム（商品
名：ＭＣ−１９、（株）麗光製）上に、下記の高屈折率
層用樹脂組成物（Ｉ）、（II）を用いて、膜厚がそれぞ
れ１５０ｎｍ、８０ｎｍとなるように順次高屈折率層を
２層形成した。その上に電離放射線硬化性ハードコート
樹脂組成物（商品名：ＥＸＧ４０−９、大日精化（株）
製）をロールコート法を用いて膜厚約５μｍ／ｄｒｙで
塗工し、１００℃のオーブンで溶媒を除去した。再びそ
の塗膜に対し１７５ＫＶ、５Ｍｒａｄの電子線を照射
し、ハードコート層を形成した。

【００６８】更に前記実施例２で使用した組成のウレタ
ン系接着剤を、グラビアリバース法によって約３μｍ／
ｄｒｙになるように塗工し、溶媒である酢酸エチルを除
去した後、４０℃のラミネーションロールを用いて、ケ
ン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（屈
折率１．４９）とラミネーションを行った。得られたラ
ミネーションフィルムを４０℃のオーブン中で４８時間
エージング処理を行った後、離型フィルムを除去するこ
とにより、高屈折率層及び、ハードコート層をトリアセ
チルセルロースフィルム上に転写形成した。更に高屈折
率層上に低屈折率層として真空蒸着法を用いてＳｉＯ₂
膜（屈折率１．４６）を膜厚約９０ｎｍで形成し、反射
防止フィルムを得た。

【００６９】（高屈折率層用樹脂組成物（Ｉ））ＴｉＯ₂超微粒子（比重４．２ｇ／ｃｍ³）２．９重
量部ＰＭＭＡ（商品名：ＢＲ−８７、三菱レーヨン（株）
製）０．１重量部トルエン９７重量部（高屈折率層用樹脂組成物（II））ＺｎＯ超微粒子比重５．６ｇ／ｃｍ³（商品名：ＺＳ
−３００、住友セメント（株）製）３．９重量部ポリメチルメタクリレート（略語：ＰＭＭＡ）（商品
名：ＢＲ−８７、三菱レーヨン（株）製）０．１重量
部トルエン４８重量部メチルエチルケトン（略語：ＭＥＫ）４８重量部〔実施例４〕本実施例４は図６の本発明の反射防止フィ
ルムの製造フロー図に該当する実施例である。

【００７０】離型フィルムであるアクリル＝メラミン処
理を施した膜厚５０μｍのポリエステルフィルム（商品
名：ＭＣ−１９、（株）麗光製）上に、屈折率１．４３
の電離放射線硬化型フッソ系樹脂（商品名：ＫＺ、日本
合成ゴム（株）製）〔即ち、フッ化ビニリデン６０重量
部、ヘキサフルオロプロピレン２０重量部、テトラフル
オロエチレン２０重量部からなるフッ素含有共重合体６
０重量部に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト４０重量部を混合しながら電離放射線硬化型フッ素系
樹脂組成物〕を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになるように塗
工し、電子線を１Ｍｒａｄ照射して低屈折率層とした。

【００７１】次いで、低屈折率層上に電離放射線硬化性
ハードコート樹脂組成物（商品名：ＥＸＧ４０−９、大
日精化（株）製）をロールコート法を用いて膜厚約５μ
ｍ／ｄｒｙで塗工し、１００℃のオーブンで溶媒を除去
した。再びその塗膜に対し１７５ＫＶ、５Ｍｒａｄの電
子線を照射し、ハードコート層を形成した。

【００７２】更に下記に示した組成のウレタン系接着剤
を、グラビアリバース法によって約３μｍ／ｄｒｙにな
るように塗工し、溶媒である酢酸エチルを除去した後、
４０℃のラミネーションロールを用いて、ケン化処理を
施したトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４
９）とラミネーションを行った。得られたラミネーショ
ンフィルムを４０℃のオーブン中で４８時間エージング
処理を行った後、離型フィルムを除去することにより、
高屈折率層及びハードコート層をトリアセチルセルロー
スフィルム上に転写形成して本実施例４の反射防止フィ
ルムを得た。

【００７３】〔比較例１〕透明基材フィルムとして、厚
さ約８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に真
空蒸着法にてＳｉＯ₂膜（屈折率１．４６）を膜厚約９
０ｎｍで形成し、反射防止フィルムを得た。

【００７４】〔比較例２〕透明基材フィルムとして、厚
さ約８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に真
空蒸着法にてＴｉＯ₂膜（屈折率２．３）とＳｉＯ₂膜
（屈折率１．４６）をそれぞれ２００ｎｍ、９０ｎｍの
厚さで形成し、反射防止フィルムを得た。以上の実施例
１〜３及び比較例１〜２に関して、以下〜の物性を
測定して比較したものを下記の表１に示す。

【００７５】反射率：分光光度計にて測定された、５
５０ｎｍにおける反射防止フィルム表面の反射率。

【００７６】鉛筆硬度：ＪＩＳＫ５４００に示され
た試験結果。

【００７７】密着性：初期及び８０℃、９０％で１０
００ｈｒ放置後の基盤目試験結果。

【００７８】

【表１】

【００７９】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、高屈折率
層を光学薄膜とすることができるので、反射防止性に優
れている。

【００８０】低屈折率層と直接接する層が、高屈折率超
微粒子がバインダー樹脂で相互に結着して形成される高
屈折率層からなるので、低屈折率層と高屈折率層との屈
折率の差異を十分なものとすることができ、本発明の反
射防止フィルムは反射防止性に優れている。

【００８１】本発明の反射防止フィルムにおいて、高屈
折率層を構成する高屈折率超微粒子とバインダー樹脂と
の比率は、体積比でバインダー樹脂１に対して、高屈折
率超微粒子が０．２〜２０であるので、高屈折率層を高
屈折率化することができ、本発明の反射防止フィルムは
反射防止性に優れている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のタイプＩの反射防止フィルムの層構成
の１例を示す。

【図２】本発明のタイプIIの反射防止フィルムの層構成
の１例を示す。

【図３】本発明の反射防止フィルムの三番目の製造方法
のフロー図の一例である。

【図４】本発明の反射防止フィルムの四番目の製造方法
のフロー図の一例である。

【図５】本発明の反射防止フィルムが使用された偏光板
の一例を示す。

【図６】本発明の反射防止フィルムが使用された液晶表
示装置の一例を示す。

【符号の説明】

１透明基材フィルム２他の層３高屈折率層４低屈折率層５接着剤層６離型フィルム７偏光素子８ＴＡＣフィルム９液晶表示素子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ３２Ｂ 27/00 Ｎ 9349−4Ｆ (72)発明者片桐博臣東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者岡素裕東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）透明基材フィルムの表裏面の少な
くとも一面に表面層である低屈折率層が、単層又は多層
からなる他の層を介して形成されており、（２）該他の層の少なくとも一層が高屈折率超微粒子を
バインダー樹脂で相互に結着した高屈折率層からなり、
該高屈折率層は前記低屈折率層と直接接しており、（３）該高屈折率層の屈折率が、該高屈折率層の前記低
屈折率層側とは反対側の面に接する層の屈折率よりも高
く、該高屈折率層の膜厚Ｄは次式で示される光学薄膜で
あることを特徴とする反射防止フィルム。【数１】〔ｎは高屈折率層の屈折率、λは可視光線の波長（３８
０≦λ≦７８０ｎｍ）、Ｎは０又は１の整数〕
【請求項２】前記高屈折率超微粒子は、前記バインダ
ー樹脂の屈折率よりも高く、且つ屈折率１．５以上であ
ることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】前記高屈折率微粒子は、ＺｎＯ、ＴｉＯ
₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂、Ｙ₂Ｏ
₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃から選ばれた１
種以上の微粒子である請求項１又は２記載の反射防止フ
ィルム。
【請求項４】前記バインダー樹脂は、熱硬化型樹脂及
び／又は電離放射線硬化型樹脂であることを特徴とする
請求項１、２又は３記載の反射防止フィルム。
【請求項５】前記高屈折率層における高屈折率超微粒
子とバインダー樹脂との比率は、体積比でバインダー樹
脂１に対して、高屈折率超微粒子が０．２〜２０である
請求項１、２、３又は４記載の反射防止フィルム。
【請求項６】前記高屈折率層は複数の層からなり、低
屈折率層に直接接する第１番目の高屈折率層は、低屈折
率層に直接接しないで前記第１番目の高屈折率層に直接
接する第２番目の高屈折率層よりも、屈折率が高いこと
を特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の反射防
止フィルム。
【請求項７】前記多層からなる他の層のうち高屈折率
層以外の層は、接着剤層、プライマー層、ハードコート
層から選ばれたものである請求項１、２、３、４、５又
は６記載の反射防止フィルム。
【請求項８】前記ハードコート層は、高屈折率層と直
接接し、且つ透明基材フィルムの屈折率と同等、若しく
はそれより高い屈折率を持つことを特徴とする請求項７
記載の反射防止フィルム。
【請求項９】前記ハードコート層は、熱硬化型樹脂及
び／又は電離放射線硬化型樹脂からなるものである請求
項７又は８記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】前記ハードコート層は、厚みが０．５
μｍ以上のハード性能が高められたものであることを特
徴とする請求項７、８又は９記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】（１）離型フィルム上に高屈折率超微
粒子をバインダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を形
成し、（２）該高屈折率層上又は別に用意した透明基材フィル
ム上のいずれか一方に、接着剤を塗工するか、或いはハ
ードコート剤をそのまま又は溶媒に溶解、分散させて塗
工して接着性を有した状態とし、（３）得られた離型フィルムを塗工面を内側にして該接
着剤又はハードコート剤を介して透明基材フィルムとラ
ミネートした後、離型フィルムを剥離することにより、
離型フィルム上の各層を透明基材フィルム上に転写し、（４）その後、透明基材フィルム上に転写された各層の
最上層である高屈折率層上に低屈折率層を形成すること
を特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】（１）離型フィルム上に低屈折率層を
形成し、（２）次いで該低屈折率層上に高屈折率超微粒子をバイ
ンダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を形成し、（３）高屈折率層上又は別に用意した透明基材フィルム
上のいずれか一方に、接着剤を塗工するか、或いはハー
ドコート剤をそのまま又は溶媒に溶解、分散させて塗工
して接着性を有した状態とし、（４）得られた離型フィルムを塗工面を内側にして該接
着剤又はハードコート剤を介して透明基材フィルムとラ
ミネートした後、離型フィルムを剥離することにより、
離型フィルム上の各層を透明基材フィルム上に転写する
ことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１３】（１）離型フィルム上に高屈折率超微
粒子をバインダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を形
成し、（２）該高屈折率層上にハードコート層を形成し、該ハ
ードコート層を硬化させ、（３）得られた離型フィルムのハードコート層を内側に
して、接着剤を介して透明基材フィルムとラミネート
し、（４）該ラミネート物から離型フィルムを剥離すること
により離型フィルム上の各層を透明基材フィルム上に転
写し、（５）透明基材フィルム上に転写された高屈折率層上に
低屈折率層を形成することを特徴とする反射防止フィル
ムの製造方法。
【請求項１４】（１）離型フィルム上に低屈折率層を
形成し、（２）次いで該低屈折率層上に高屈折率超微粒子をバイ
ンダー樹脂で相互に結着した高屈折率層を形成し、（３）該高屈折率層上にハードコート層を形成し、該ハ
ードコート層を硬化させ、（４）得られた離型フィルムのハードコート層を内側に
して、接着剤を介して透明基材フィルムとラミネート
し、（５）該ラミネート物から離型フィルムを剥離すること
により離型フィルム上の各層を透明基材フィルム上に転
写することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１５】請求項１１、１２、１３又は１４記載
の反射防止フィルムの製造方法において、反射防止フィ
ルムを構成する高屈折率層の膜厚Ｄが次式で示される光
学薄膜であることを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。【数２】〔ｎは高屈折率層の屈折率、λは可視光線の波長（３８
０≦λ≦７８０ｎｍ）、Ｎは０又は１の整数〕