JPH10300902A - 反射防止フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、各種ディスプレイに使用する反射
防止フィルムにおいて、表面の光の反射を防止して、必
要な視覚情報を明確に判読できる反射防止フィルムを提
供する。 【解決手段】 透明基材フィルム５に、ハードコート層
４、中屈折率層３、高屈折率層２及び低屈折率層１をこ
の順に形成してなり、上記各層の隣接する屈折率は、
２．２０＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞
低屈折率層の屈折率＞１．４０の関係を満足する反射防
止フィルムに関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性をもつ光学
的機能をもつフィルムに関し、特にワープロ、コンピュ
ータ、テレビなどの各種ディスプレイ、液晶表示装置に
用いる偏光板の表面、透明なプラスチック類からなりサ
ングラスのレンズ、度付きメガネのレンズ、カメラ用フ
ァインダーのレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバ
ー、自動車、電車などの窓ガラスの表面の反射防止フィ
ルムに適する光学的特性に優れたフィルムに属する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】カー
ブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、パソコ
ン、ワープロなどのディスプレイその他種々の商業ディ
スプレイなどには、ガラスやプラスチックなどの透明基
板が使用されている。そして、これらの透明基板を通し
て物体や文字、図形などの視覚情報、あるいはミラーか
らの像を透明基板を通して反射層からの像を観察する場
合に、これら透明基板の表面が光を反射して、内部の必
要な視覚情報が判読し難いという問題点があった。

【０００３】従来、これらの光の反射を防止する技術に
は、ガラスやプラスチックの表面に反射防止塗料を塗工
する方法、ガラスなどの透明基板の表面に厚み０．１μ
ｍ程度のＭｇＦ₂ などの極薄膜や金属蒸着膜を設ける方
法、プラスチックレンズなどの表面に電離放射線硬化型
樹脂を塗工し、更に、その上に蒸着によりＳｉＯｘやＭ
ｇＦ₂ の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬
化膜の上に更に低屈折率の塗膜を形成したりする方法な
どがあった。

【０００４】前記のガラスに形成された厚みが０．１μ
ｍ程度のＭｇＦ₂ の薄膜を更に詳述する。該薄膜は、空
気中で入射光が薄膜に垂直に入射する場合に、特定の波
長をλ₀ とし、この波長に対する反射防止膜の屈折率を
ｎ₀ 、反射防止膜の厚みをｈ、及び基板の屈折率をｎ_z
とすると、反射防止膜が光の反射を１００％防止して、
かつ、光を１００％透過するための条件は次の式１及び
式２の関係を満たすことが必要であることは既に知られ
ている。（サイエンスライブラリ物理学＝９「光学」７
０〜７２頁、昭和５５年、（株）サイエンス社発行）。

【０００５】 ｎ₀ ＝（ｎ_z ）^1/2 （式１） ｎ₀ ｈ＝λ₀ ／４ （式２） ガラスの屈折率ｎ_z ＝１．５であり、ＭｇＦ₂ の膜の屈
折率ｎ₀ ＝１．３８、入射光の波長λ₀ ＝５５００オン
グストローム（基準）は既知である。これらの数値を前
記の（式２）に代入すると反射防止膜の厚みｈは約０．
１μｍが最適であることが算出される。

【０００６】前記（式１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層側の塗膜の屈折率が、それが
設けられる下層の屈折率の平方根の値に近い材料を選択
すればよい。

【０００７】本発明は、各種ディスプレイに使用して透
明基板を通して識別する物体や文字、図形などの視覚情
報、あるいはミラーからの像を透明基板を通して反射層
からの像を観察する場合に、これら透明基板の表面が光
の反射を防止して、内部の必要な視覚情報を透過して、
明瞭に判読できる反射防止フィルムの提供を課題とする
ものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する本
発明は、図１又は図２に示すように、透明基材フィルム
５に、ハードコート層４を介して、中屈折率層３、高屈
折率層２及び低屈折率層１を順に形成した反射防止フィ
ルム１０にあって、ＳｉＯｘ層よりなる低屈折率層１、
バインダーと、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子とか
らなる塗料の塗工で構成された中屈折率層３、導電性を
もつ高屈折率層２を有してなり、かつ、２．２０＞高屈
折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞低屈折率層の屈
折率＞１．４０の関係、低屈折率層が８０〜１１０ｎ
ｍ、高屈折率層が３０〜１１０ｎｍそして中屈折率層が
５０〜１００ｎｍである各屈折率層の厚み、可視光の波
長以下である光学的膜厚Ｄ（Ｄ＝ｎ・ｄ、但し、ｎ：中
屈折率の屈折率、ｄ＝中屈折率層の厚み）を有してなる
反射防止フィルムである。

【０００９】本発明においては、上記ハードコート層４
が、好ましくは、中屈折率層３と接する面に凹凸形状を
もち、透明基材フィルム５には図６に示すように、直接
あるいはプライマー層７及び／又は接着剤層９を介して
ハードコート３を設けた反射防止フィルム１０である。

【００１０】また、上記中屈折率層は、好ましくは、熱
硬化型樹脂及び／又は電離放射線型樹脂１重量部に対し
て、超微粒子のＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＣｅＯ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ
₅ 、ＳｎＯ₂ 、ＩＴＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｌａ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ₂
Ｏ₃ 、Ｈｆ₂ Ｏ₃ およびＺｒＯ₂ からなる群から選ばれ
た１種類以上の微粒子から選択したマット材が、０．１
〜２０重量部で構成されている反射防止フィルムであ
る。

【００１１】また、上記高屈折率層、及び低屈折率層
は、好ましくは、真空コーティングで設けられた層であ
る反射防止フィルムである。

【００１２】そして、上記高屈折率層が、好ましくは、
有機シロキサンの原料ガスの放電によるプラズマＣＶＤ
によって形成され、未分解の有機シロキサンがＳｉＯｘ
に対して０．１〜０．２部残存する反射防止フィルムで
ある。

【００１３】また、上記高屈折率層、更に防汚コート層
を形成することもできる。

【００１４】本発明の反射防止フィルムの第１の製造方
法は、図３に示すように、硬化反応型の未硬化のハード
コート層４６を透明基材フィルム５に設け、次いで、バ
インダーと、該バインダーの屈折率より高い屈折率をも
つ微粒子とを含む組成物からなる未硬化の中屈折率層３
６を透明基材フィルムに塗工・形成する。

【００１５】そして、上記未硬化のハードコート層及び
中屈折率層に、微細な凹凸をもつマット状の賦型フィル
ム６を積層・賦型した積層物（図３（ａ）参照）を加熱
処理及び／又は電離放射線処理によりハードコート層と
中屈折率層とを硬化する。

【００１６】更に、硬化した積層物から前記賦型フィル
ム６Ｈを剥離・除去して図３（ｂ）に示すとおりハード
コート層４の表面に凹凸をもつ中屈折率層３を形成す
る。

【００１７】そして、凹凸形状をもつ硬化形成した中屈
折率層３に、図３（ｃ）に示すように高屈折率層２を真
空蒸着、又はスパッタリングにて形成し、更に、ＳｉＯ
ｘ層よりなる低屈折率層１を真空蒸着、スパッタリング
又はプラズマＣＶＤで形成して反射防止フィルム１０を
構成する。

【００１８】また、上記の反射防止フィルムを製造する
第２の製造方法は、表面に凹凸形状をもつマット状の賦
型フィルム６に、バインダーと、該バインダーの屈折率
より高い屈折率をもつ微粒子を含む組成物からなる未硬
化の中屈折率層３６を塗工し、図４（ａ）に示すように
前記未硬化の中屈折率層と、透明基材フィルム５に設け
た未硬化のハードコート層４６とを積層する。

【００１９】そして、得られた積層物を加熱処理及び／
又は電離放射線処理により中屈折率層とハードコート層
とを硬化し、硬化した積層物から前記賦型フィルム６Ｈ
を剥離・除去してハードコート層４の表面に凹凸をもつ
中屈折率層３を形成する（図４（ｂ）参照）。

【００２０】そして、図４（ｃ）に示すように、第１の
製造方法と同様にして、高屈折率層２及び低屈折率層４
を積層形成するものである。また必要によっては防汚コ
ート層４２を低屈折率層に形成することもできる。

【００２１】本発明の反射防止フィルムを製造する第３
の方法は、図５（ａ）に示すとおり、賦型フィルム６
に、バインダーと該バインダーの屈折率より高い屈折率
をもつ微粒子を含む未硬化の中屈折率層及び未硬化のハ
ードコート層４を塗布・硬化して形成する。

【００２２】一方、透明基材フィルムに反応型接着剤層
９を塗工した未硬化状態の面と、前記の硬化した中屈折
率層とを積層して、得られた積層物を加熱処理及び／又
は電離放射線による処理を施し接着剤層を硬化して図５
（ｂ）に示す積層体を作成する。

【００２３】そして、硬化した積層物から前記賦型フィ
ルム６Ｈを剥離除去して透明基材フィルム５に接着剤層
９とハードコート層４を介して中屈折率層３を形成す
る。

【００２４】そして、第１の製造方法と同様にして、図
５（ｃ）に示すように高屈折率層２及び低屈折率層１を
積層して反射防止フィルム１０を構成するものである。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、図に基づいて好ましい実施
形態を挙げ説明を行う。

【００２６】図１又は図２に示すように、本発明の反射
防止フィルム１０は、透明基材フィルム５の一方の面
に、ミラー状又は凹凸形状を賦型したハードコート層４
を介して、中屈折率層（第１層）３、高屈折率層（第２
層）２及び低屈折率層（第３層）１を順に積層したもの
である。

【００２７】そして、低屈折率層１は、ＳｉＯｘ層であ
り、中屈折率層３は、凹凸形状に賦型したハードコート
層４に、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子とバインダ
ーとからなる塗料の塗工で構成され、高屈折率層２は、
導電性、電磁遮蔽性をもち、かつ、上記各層の隣接する
屈折率層の各屈折率は、２．２０＞高屈折率層の屈折率
＞中屈折率層（又は凹凸形状を賦型した中屈折率層）の
屈折率＞低屈折率層の屈折率＞１．４０の関係を満足
し、各屈折率層の厚みは、低屈折率層１が８０〜１００
ｎｍ、高屈折率層が３０〜１１０ｎｍ、そして中屈折率
層３が５０〜１００ｎｍの範囲を有し、Ｄ＝ｎ・ｄ（但
し、ｎ：中屈折率層の屈折率、ｄ＝中屈折率層の厚み）
の式で、算出される光学的膜厚Ｄが可視光の波長以下で
ある反射防止フィルム１０である。

【００２８】好ましくは、上記ハードコート層４の中屈
折率層３と接するハードコート層側が凹凸形状をもち、
ハードコート層は、透明基材フィルム５に直接あるいは
図６に示すプライマー層７を設けたり、図５に示す接着
剤層９を介して設けられたり、また低屈折率層１に防汚
コート層４２を設けることがある反射防止フィルム１０
である。

【００２９】上記中屈折率層３は、好ましくは、熱硬化
型樹脂及び／又は電離放射線型樹脂１重量部に対して、
超微粒子のＺｎＯ（屈折率１．９０、以下数値は屈折率
を示す）、ＴｉＯ₂ （２．３〜２．７）、ＣｅＯ
₂ （１．９５）、Ｓｂ₂ Ｏ₅（１．７１）、ＩＴＯ（屈
折率１．９５）、Ｙ₂ Ｏ₃ （屈折率１．８７）、Ｌａ₂
Ｏ₃ （屈折率１．９５）、ＺｒＯ₂ （屈折率２．０
５）、Ａｌ₂ Ｏ₃（１．６３）からなる群から選ばれた
１種類以上の微粒子から選択したマット材が、０．１〜
２０重量部で構成されている反射防止フィルム１０であ
る。超微粒子は、中屈折率層のバインダーよりも屈折率
が、高く、かつ屈折率が１．５以上のものが好ましい。
超微粒子の平均粒径は、５〜５０ｎｍが好ましく、さら
に好ましくは、５〜１０ｎｍである。

【００３０】また、上記高屈折率層２、及び低屈折率層
１は好ましくは、真空コーティングで設けられた層であ
る。

【００３１】そして、上記ＳｉＯｘ層よりなる高屈折率
層１は、好ましくは、有機シロキサンの原料ガスの放電
によるプラズマＣＶＤにより形成され、未分解の有機シ
ロキサンがＳｉＯｘ層に残存している層からなる。

【００３２】また、上記高屈折率層１に、更に図６で示
す防汚コート層４２を形成することもできる。

【００３３】本発明の透明基材シートは、ガラスなどの
セラミックス、又は透明のプラスチックの延伸又は未延
伸のフィルムから形成される。

【００３４】通常の光学ガラスの他に、ポリエステル、
ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチル
ペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポ
リメタアクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレ
タンなどの熱可塑性樹脂を使用することができる。

【００３５】透明基材フィルムに、直接又はハードコー
ト層の接着を強固にするプライマー層を設けて、微細凹
凸形状をもつハードコート層に図２に示す中屈折率層３
を設けて他の屈折層を設けることもできる。

【００３６】中屈折率層３は、高屈折率層２より屈折率
が低く、低屈折率層１ハードコート層４及び／又は透明
基材フィルム５よりは高い屈折率をもつものである。

【００３７】中屈折率層３は、好ましくは、バインダー
にＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＣｅＯ₂ （屈折率１．９５）や、
Ｓｂ₂ Ｏ₅ 、ＳｎＯ₂ 、ＩＴＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｌａ
₂ Ｏ₃ 、ＺｒＯ₂ （屈折率２．０５）、Ａｌ₂ Ｏ₃ およ
びＨｆ₂ Ｏ₃ からなる群から選ばれた１種類以上の微粒
子から選択したマット材の超微粒子の金属酸化物からな
る組成物を塗工して塗膜を形成して基材フィルム５に設
けるものである。

【００３８】中屈折率層３は、図３に示すように、上記
組成物の未硬化のハードコート層４６を透明基材フィル
ム５に塗工し、更に未硬化の中屈折率層３６を塗工して
未硬化状態で賦型フィルム６と積層して加熱及び／又は
電離放射線処理で硬化して、賦型フィルム６を剥離して
形成する。

【００３９】また、図４に示すように、凹凸形状をもつ
賦型フィルム６に未硬化の中屈折率層３６及びハードコ
ート４６を設けて透明基材フィルムに必要によっては接
着剤層９を設けて積層して硬化・賦型する転写方法で中
屈折率層を構成することができる。

【００４０】中屈折率層における、超微粒子とバインダ
ーとの比率（重量比）は、バインダーが１に対して超微
粒子が１〜２０が好ましく、１未満では、反射防止の効
果が低下し、２０を超えると超微粒子の固着性が低下し
脱落する傾向が増大するという問題がある。

【００４１】本発明の中屈折率層を設ける凹凸形状は、
賦型したハードコート層３上に設けるばかりでなく、透
明基材フィルムに設ける層である接着剤層９、プライマ
ー層７に凹凸形状を賦型して同一の機能をもたせること
もできる。ハードコート層４の凹凸形状は、中屈折率層
３と直接に接触されるものであり、その屈折率は、中屈
折率層の屈折率より小さく形成する。

【００４２】上記の、要件を満たす、中屈折率層又はハ
ードコート層を形成するための反応型の樹脂は、好まし
くは、アクリレート系の官能基をもつもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル
系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹
脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオ
ールポリエン系樹脂、多価アルコールなどの多官能化合
物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリ
レートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと
記載する。）などのオリゴマー又はプレポリマー及び反
応性の希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルト
ルエン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、
並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）
アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどを
比較的多量に含むものを使用する。

【００４３】更に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外
線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホス
フィンなどを混合して使用することが好ましい。

【００４４】上記の電離放射線硬化型樹脂には、次の反
応性有機ケイ素化合物を含ませることもできる。

【００４５】Ｒ_m Ｓｉ（０Ｒ′）_n で表せる化合物であ
り、ここでＲ、Ｒ′は炭素数１〜１０のアルキル基を表
し、ｍ＋ｎ＝４であり、そしてｍ及びｎはそれぞれ整数
である。更に具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブト
キシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−
ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリプロポキシシラン，メチルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラ
ン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラ
ン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラ
ン、ヘキシルトリメトキシシランなどがあげられる。

【００４６】ハードコート層４の厚みは、好ましくは、
０．５〜６μｍ、さらに好ましくは３μｍ以上に形成す
る。０．５μｍ未満では、透明基材フィルムに形成する
中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の硬度を維持でき
ず、３μｍ以上にした場合、良好な硬度を維持すること
ができ反射防止フィルムにハード性能を与えることがで
きる。

【００４７】ハードコート層を必要以上に厚くすること
は、反射防止フィルムの可撓性を損なうばかりでなく、
硬化時間を必要とし生産性、コスト面からの制約を受け
ることとなる。

【００４８】なお、本発明において、「ハード性能」あ
るいは「ハードコート」とは、ＪＩＳＫ５４００で示す
鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を示すを意味する。

【００４９】本発明の高屈折率層２に用いる材料は、中
屈折率層のバインダーよりも屈折率が高く、かつ屈折率
が１．５以上のものが高屈折率層の屈折率を高くするた
めに望ましく、中屈折率層で用いた微粒子材料と同様の
材料を用いることができる。上記の中から選ばれた１種
類以上の材料を用いて、高屈折率層ぬえて、真空蒸着又
はスパッタリングすることによって形成する。そして、
その厚みｄは、８０〜１１０ｎｍ、それによって得られ
る屈折率ｎは１．９０〜２．１０になるように本発明の
各層のなかで最も屈折率を高くするようにする。そし
て、屈折率ｎと厚みｄとの積（光学的厚みＤ）が、可視
光の波長以下に構成して、光の反射を防止するととも
に、可視光の透過を最適に行えるようにする。

【００５０】上記高屈折率層は、好ましくは、ＩＴＯの
スパッタ膜からなり、かつ、その表面抵抗値が１０³ Ω
／□以下であることが望ましい。

【００５１】さらに、この場合、中屈折率層のバインダ
ーが、熱及び／又は電離放射線硬化型有機ケイ素化合物
からなることが好ましい。これにより、上述したＩＴＯ
層との密着性をさらに向上させることができる。

【００５２】また、上記の中屈折率層の超微粒子は、Ｚ
ｒＯ₂ 粒子からなることが耐久性を一層すぐれたものと
する上で特に好ましい。

【００５３】本発明の低屈折率層は、ＳｉＯｘ（ｘは
１．５〜４．０）からなり、ＣＶＤ、好ましくは有機シ
ロキサンを原料ガスとして、他の無機蒸着源が存在しな
い条件下でプラズマＣＶＤによって形成され得る。そし
て、被蒸着フィルムをできるだけ低温度に維持する。

【００５４】本発明のＳｉＯｘ層（低屈折率層）には未
分解の有機シロキサンを含み、ケイ素に対して炭素が
０．１〜０．２残存するようにすることにより、ＳｉＯ
ｘの可撓性と接着性を維持する効果をさらに向上させる
ことができる。

【００５５】このようにして形成された上記低屈折率層
は、水に対する表面の接触角が、４０〜１８０度のＳｉ
Ｏｘ層からなり、したがって、粉塵の付着を防止する上
でもすぐれている。

【００５６】上記のように構成された反射防止フィルム
１０を、偏光素子と積層して得られる偏光板や、反射防
止フィルム１０を表面に貼合したブラウン管は、鮮明な
画像をもつとともに反射のないものである。

【００５７】そして、上記の偏光板を、組込んだ液晶表
示装置においても、反射光のない鮮明な画像を表示する
ものである。

【００５８】

【実施例】以下、実施例について図面を参照して更に詳
細に説明する。

【００５９】実施例１ 図４に示す賦型フィルム６として、厚み５０μｍの二軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）
製 ルミラーＴ−６０＃５０）の一方の側に、ＺｒＯ₂
微粒子コーティング液Ｎｏ．１２７５（ＺｒＯ₂ 微粒子
１００重量部に対しバインダー（電離放射線硬化型有機
ケイ素化合物）０．３重量部よりなる塗工液（住友大阪
セメント（株）製 商品名）を厚み５７ｎｍ（乾燥時の
厚みを示す、以下同様）になるように、未硬化の中屈折
率層３６（屈折率１．７４）をワイヤーバーで塗工し
た。

【００６０】一方、紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３
１：大日精化工業（株）製 商品名）を、透明基材フィ
ルム５として厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４
３５０＃１８８ 東洋紡（株）商品名）に、厚みが６μ
ｍになるように塗工して、溶剤成分を乾燥して未硬化ハ
ードコート層４６を形成した。

【００６１】次いで、前記の賦型フィルム６に設けた未
硬化の中屈折率層３６と、透明基材フィルム５に設けた
未硬化ハードコート層４６とを相接するように積層・圧
着して、紫外線を４８０ｍＪ（１０ｍ／ｍｉｎ）照射し
て、未硬化の中屈折率層３６とハードコート層４６を硬
化して中屈折率層３とハードコート層４とを形成し、賦
型フィルム６を剥離した。

【００６２】図４（ｂ）に示すように、剥離賦型フィル
ム６Ｈを除いた透明基材フィルム５には、中屈折率層３
の微粒子が、ハードコート層４の表面に埋没・転写され
て、ハードコート層４と中屈折率層３とが透明基材フィ
ルム５の上に積層・形成された。

【００６３】更に、図４（ｃ）に示すように、前記中屈
折率層３の側に、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．
０）を、真空度が５×１０^-6ｔｏｒｒ、基板温度が室
温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／
ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６オングストロ
ーム／ｓで１０５ｎｍの条件で行い、高屈折率層２を形
成した。

【００６４】そして、前記の高屈折率層２に更に、Ｓｉ
Ｏ₂ （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０^-6ｔｏ
ｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６オングストロー
ム／ｓで８５ｎｍの低屈折率層１を構成した。

【００６５】上記、低屈折率層２の側に、更に、フッ素
界面活性剤剤ＦＣ−７７２（３Ｍ製商品名）をワイヤー
バーで、厚み２ｎｍで塗工して実施例１の反射防止フィ
ルム１０を作製した。

【００６６】実施例２ 図５に示すように、表面にアクリル・メラミン樹脂によ
り処理された厚み５０μｍの賦型フィルム６としてＭＣ
−１９（麗光（株）製 商品名）の一方の側に、ＺｒＯ
₂ 微粒子コーティング液Ｎｏ．１２２１（ＺｒＯ₂ 微粒
子１００重量部に対しバインダー（電離放射線硬化型有
機ケイ素化合物）０．３重量部よりなるコーティング
液：住友大阪セメント（株）製 商品名）を膜厚が５７
ｎｍになるように未硬化の中屈折率層３６（屈折率１．
７４）をワイヤーバーで塗工して設けた。

【００６７】そして、中屈折率層３６の側に、紫外線硬
化型樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３１：大日精化工業（株）製 商
品名）を、厚みが８μｍになるように塗工して、溶剤成
分を乾燥して未硬化ハードコート層４６を形成した。

【００６８】次いで、未硬化の中屈折率層３６と、ハー
ドコート層４６とに紫外線を４８０ｍＪ（１０ｍ／ｍｉ
ｎ）照射して、未硬化の中屈折率層及び未硬化のそれぞ
れの樹脂層を硬化して中屈折率層３及びハードコート層
４とを賦型フィルム６に設けた。

【００６９】これにより中屈折率層３の超微粒子が、透
明硬化樹脂層４の表面に埋没・転写され、ハードコート
層４の中屈折率層３とが透明離形フィルム８の上に積層
・形成された。

【００７０】更に、ハードコート層４の側に、ウレタン
系２液硬化型接着剤：ＬＸ−６６０／ＫＷ７５＝４／１
（ＤＩＣ製 商品名）を厚み１０μｍになるようにワイ
ヤーバーコートで設けた、未硬化接着剤層４３と、透明
基材フィルム５としてトリアセチルセルロースフィルム
ＦＴ−ＵＶ８０（富士写真フィルム（株）製 商品名）
とを積層し、４０℃で７日間のエージングして接着剤の
硬化を完結し、透明硬化接着剤層４６を形成し、賦型フ
ィルム６を剥離した。そして剥離した賦型フィルム６Ｈ
を除いた中屈折率層３の面に、実施例１と同様の条件で
高屈折率層２となるＩＴＯのスパッタリングし、更にＳ
ｉＯ₂ をプラズマＣＶＤ法により積層して実施例２の反
射防止フィルム１０を作製した。

【００７１】実施例３ 図３に示す透明基材フィルム２として、厚み１８８μｍ
の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムＴ−Ｐ
ＥＴ（東洋紡（株）製 Ａ−４３５０）の一方の側に、
実施例１に用いたものと同様の未硬化のハードコート層
４６を厚み８μｍ、及びＴｉＯ₂ 微粒子１００重量部に
対しバインダー０．４重量部よりなる塗工液（住友大阪
セメント（株）製 商品名）を５７ｎｍになるように塗
工して、未硬化の中屈折率層３６（屈折率１．７４）と
をワイヤーバーで塗工した。

【００７２】そして、上記未硬化の中屈折率層３６の面
と実施例１で使用した賦型フィルム６とを積層・硬化し
た。

【００７３】そして、実施例１と同様にハードコート層
４と、凹凸形状をもつ中屈折率層３とを形成して剥離賦
型フィルム６Ｈを剥離した。

【００７４】更に、前記中屈折率層３の側に、ＩＴＯス
パッタリング（屈折率：２．０）よりなる１０５ｎｍの
高屈折率層２及びＳｉＯ₂ （屈折率：１．４６）を８５
ｎｍで設けて低屈折率層１を構成した。

【００７５】上記低屈折率層２の側に、更に実施例１で
用いたフッ素系界面活性剤ＦＣ−７７２を２ｎｍ塗工し
た。

【００７６】上記、実施例１とは、ＺｒＯ₂ にかえてＴ
ｉＯ₂ とした実施例３の反射防止フィルム１０を作製し
た。

【００７７】比較例１ 図５に示すように、透明基材フィルム５として、厚み１
８８μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４３５０ ＃１８８
東洋紡（株）製 商品名）の一方の側にハードコート層
４５を８μｍ設け、更にＭｇＯ（屈折率：１．７２）を
５７ｎｍになるように蒸着した屈折層２６を設けた。次
いで実施例１と同様にＩＴＯスパッタリングによる屈折
層２７、ＳｉＯ₂ の蒸着による屈折層２８を設けた比較
例の反射防止フィルム１０Ｈを構成した。

【００７８】比較例２ 比較例１の第２屈折層をＩＴＯのスパッタリングからＴ
ｉＯ₂ の蒸着に代えた以外は、比較例１と同一に構成し
た比較例２の反射防止フィルムを作製した。

【００７９】基材フィルム５の一方の側にハードコート
層４５を８μｍ設けた側に、更にＭｇＯ（屈折率：１．
７２）を５７ｎｍになるように蒸着した屈折層２６を設
けた。次いで、ＴｉＯ₂ の蒸着による高屈折層２７（膜
厚１００ｎｍ）、ＳｉＯ₂の蒸着による屈折層２８（膜
厚８５ｎｍ）を設けた比較例の反射防止フィルム１０Ｈ
を構成した。

【００８０】比較例３ 図６に示すように、比較例１と同様に透明基材フィルム
５にハードコート層４５を厚み８μｍで設けた。

【００８１】更に、前記ハードコート層４５の側に、Ｉ
ＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５
×１０^-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００
ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポ
ジットレート１．６オングストローム／ｓで膜厚が２５
ｎｍの条件で行い、第１屈折率層２６を形成した。

【００８２】そして、前記の第１屈折率層２６に更に、
ＳｉＯ₂ （屈折率：１．４３）を、真空度が５×１０^-6
ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２オングストロ
ーム／ｓで、厚みが２０ｎｍの第２屈折率層２７を構成
した。

【００８３】更に、前記第２屈折層２７の側にＩＴＯス
パッタリングを、真空度が５×１０^-6ｔｏｒｒ、基板温
度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓ
ｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６オング
ストローム／ｓで膜厚が１２０ｎｍとなる条件で行い、
第３屈折率層２８を形成した。

【００８４】そして、前記の第３屈折率層２８にＳｉＯ
₂ 蒸着を、真空度が５×１０^-6ｔｏｒｒ、基板温度が室
温、蒸着速度を２オングストローム／ｓで、厚みが１０
０ｎｍの第４屈折率層２９を構成して、比較例３の反射
防止フィルムを作製した。

【００８５】実施例４ 中屈折率層（ＺｒＯ₂ ：ｎ＝１．７４）の膜厚を９０ｎ
ｍ 高屈折率層（ＩＴＯ：ｎ＝２．０）の膜厚を４０ｎｍ 低屈折率層（ＳｉＯ₂ ：ｎ＝１．４６）の膜厚を１００
ｎｍ とすること以外は実施例１と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。

【００８６】比較例４ 図示はしないが、比較例４と同様にしてＰＥＴフィルム
５に比較例４で使用したハードコート層４５を７μｍ設
け、更に第１屈折層、及び第２屈折層からなる２層の屈
折層として、ＩＴＯ、ＳｉＯ₂ の順に（λ／４−λ／
４）の光学膜厚すなわち蒸着積層膜厚６９ｎｍ，９４ｎ
ｍで蒸着積層して、比較例５の反射防止フィルムを作製
した。

【００８７】実施例及び比較例で得られた試料につい
て、反射防止膜のスペクトル図を測定し、１％以下の低
反射率の領域及び、表面特性（表面抵抗：４端子法で測
定、表面の接触角：エルマ社製接触角測定器 Ｍｏｄｅ
ｌ Ｇ１にて測定、耐湿試験：５０℃相対湿度９５％の
環境下で４８時間放置した後における外観変化の目視評
価、及び動摩擦係数）を測定評価した。

【００８８】その測定結果を図９及び表１に示す。

【００８９】

【表１】 本発明の反射防止フィルムは、以上説明したように、基
材フィルムに、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率
層及び低屈折率層の順で構成され、そして、ハードコー
ト層は、熱硬化又は電離放射線硬化型樹脂で形成されて
いる。したがって、基材フィルムとの接着も強固に安定
し、かつ防眩性に優れた反射防止フィルムを提供でき
る。

【００９０】また、実施例１及び２の反射防止フィルム
の屈折層は３層で構成されているにもかかわらず、比較
例２の４層品と同等の反射防止効果が得られ、しかも４
層品と比較して工程数を削減することができる点でも有
利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止フィルムの基本的層構成を示
す断面図。

【図２】本発明の反射防止フィルムに凹凸形状をもつ中
屈折率層を付加した構成を示す断面図。

【図３】図３（ａ）、３（ｂ）および３（ｃ）は、本発
明の第１の製造方法の工程を示す断面概略図。

【図４】図４（ａ）、４（ｂ）および４（ｃ）は、本発
明の第２の製造方法の工程を示す断面概略図。

【図５】図５（ａ）、５（ｂ）および５（ｃ）は、本発
明の第３の製造方法の工程を示す断面概略図。

【図６】本発明の他の構成を示す断面概略図。

【図７】比較例の構成を示す断面概略図。

【図８】他の比較例の構成を示す断面概略図である。

【図９】本発明の実施例及び比較例の反射防止フィルム
の一部について可視光線部における反射スペクトルを示
す図。

【符号の説明】 １ 低屈折率層 ２ 高屈折率層 ３ 中屈折率層 ３６ 未硬化の中屈折率層 ４ ハードコート層 ４２ 防汚コート層 ４５ 比較例のハードコート層 ４６ 未硬化のハードコート層 ５ 透明基材フィルム ６ 賦型フィルム ６Ｈ 剥離賦型フィルム ７ プライマー層 ９ 接着剤層 ９６ 未硬化接着剤層 １０ 反射防止フィルム １０Ｈ 比較例の反射防止フィルム １０ 反射防止フィルム ２６ 第１屈折層 ２７ 第２屈折層 ２８ 第３屈折層 ２９ 第４屈折層

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基材フィルム上に、ハードコート層を
   介して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層がこの
   順序で形成されてなる反射防止フィルムであって、 ＳｉＯｘ層よりなる低屈折率層、 バインダーと、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子とか
   らなる塗料の塗工で構成された中屈折率層、 高屈折率層を有してなり、かつ、 ２．２０＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞
   低屈折率層の屈折率＞１．４０の関係を有し、 低屈折率層が８０〜１１０ｎｍ、高屈折率層が３０〜１
   １０ｎｍそして中屈折率層が５０〜１００ｎｍである各
   屈折率層の厚みを有し、 可視光の波長以下である光学的膜厚Ｄ（Ｄ＝ｎ・ｄ、但
   し、ｎ：中屈折率の屈折率、ｄ＝中屈折率の厚み）を有
   する、反射防止フィルム。
2. 【請求項２】前記ハードコート層の前記中屈折率層と接
   する面に凹凸形状が形成されている、請求項１記載の反
   射防止フィルム。
3. 【請求項３】前記ハードコート層が、前記透明基材フィ
   ルム上に直接あるいはプライマー層及び／又は接着剤層
   を介して設けられてなる、請求項１記載の反射防止フィ
   ルム。
4. 【請求項４】前記中屈折率層が、熱硬化型樹脂、及び／
   又は電離放射線型樹脂１重量部と超微粒子のＺｎＯ、Ｔ
   ｉＯ₂ 、ＣｅＯ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₅ 、ＳｎＯ₂ 、ＩＴＯ、Ｙ
   ₂ Ｏ₃ 、Ｌａ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｈｆ₂ Ｏ₃ およびＺ
   ｒＯ₂ からなる群から選ばれた１種類以上の超微粒子
   ０．１〜２０重量部を含んでなる請求項１記載の反射防
   止フィルム。
5. 【請求項５】前記高屈折率層及び低屈折率層が、真空コ
   ーティングで設けられた層である、請求項１記載の反射
   防止フィルム。
6. 【請求項６】前記低屈折率層が、有機シロキサンの原料
   ガスの放電によるプラズマＣＶＤによって形成され、未
   分解のカーボンがケイ素に対し０．１〜０．２部残存す
   るようになる、請求項１記載の反射防止フィルム。
7. 【請求項７】前記低屈折率層に更に防汚コート層を設け
   てなる請求項１記載の反射防止フィルム。
8. 【請求項８】透明基材フィルム上に、ハードコート層、
   中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順序で形
   成してなる反射防止フィルムの製造方法であって、 未硬化のハードコート層を透明基材フィルム上に形成
   し、 バインダーと、該バインダーの屈折率より高い屈折率を
   もつ微粒子とを含む組成物からなる未硬化の中屈折率層
   を透明基材フィルム上に形成し、 前記未硬化の中屈折率層に、ミラー状又は微細な凹凸を
   もつマット状の賦型フィルム６を積層して前記中屈折率
   層の表面を賦型し、 得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線処理に
   より硬化し、 硬化した積層物から前記賦型フィルムを除去して表面が
   平滑又は微細な凹凸をもつ中屈折率層を透明基材フィル
   ム上に形成し、 前記中屈折率層上に、高屈折率層を、真空蒸着又はスパ
   ッタリングによって形成し、 前記高屈折率層上に、ＳｉＯｘ層よりなる低屈折率層
   を、真空蒸着、スパッタリング又はプラズマＣＶＤによ
   り形成する工程を含む、反射防止フィルムの製造方法。
9. 【請求項９】透明基材フィルム上に、ハードコート層、
   中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順序で形
   成してなる反射防止フィルムの製造方法であって、 ミラー状又は表面に凹凸形状をもつマット状の賦型フィ
   ルムに、バインダーと、該バインダーの屈折率より高い
   屈折率をもつ微粒子を含む組成物からなる未硬化の中屈
   折率層を形成し、 前記未硬化の中屈折率層と、透明基材フィルム上に設け
   た未硬化のハードコート層とを積層し、 得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線処理に
   より硬化し、 硬化した積層物から前記賦型フィルムを剥離・除去して
   表面が平滑又は微細な凹凸をもつ中屈折率層を透明基材
   フィルム上に形成し、 前記中屈折率層に、更に高屈折率層を、真空蒸着又はス
   パッタリングで形成し、 前記高屈折率層上に、ＳｉＯｘ層よりなる低屈折率層
   を、スパッタリング又はプラズマＣＶＤによって形成す
   る工程を含む、反射防止フィルムの製造方法。
10. 【請求項１０】透明基材フィルム上に、ハードコート層
    を介して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を順
    に形成してなる反射防止フィルムの製造方法であって、 表面がミラー状又はマット状の賦型フィルム上に、バイ
    ンダーと該バインダーの屈折率より高い屈折率をもつ微
    粒子を含む未硬化の中屈折率層及び未硬化のハードコー
    ト層とを塗工・硬化して中屈折率層及びハードコート層
    を形成し、 一方、透明基材フィルム上に反応型接着剤層を塗工した
    未硬化状態の面と、前記の硬化した中屈折率層とを積層
    する工程、 得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線による
    処理により前記接着剤層を硬化し、 硬化した積層物から前記離形フィルムを剥離除去して表
    面が平滑又は凹凸をもつ中屈折率層及びハードコート層
    を透明基材フィルム上に形成し、 前記の中屈折率層上に、更に高屈折率層を、真空蒸着又
    はスパッタリングによって形成し、 前記高屈折率層上にＳｉＯｘ層よりなる低屈折率層をス
    パッタリング又はプラズマＣＶＤによって形成する工程
    を含む、反射防止フィルムの製造方法。
11. 【請求項１１】前記高屈折率層が、ＩＴＯのスパッタ膜
    からなり、かつ、その表面抵抗値が１０³ Ω／□以下で
    ある、請求項１記載の反射防止フィルム。
12. 【請求項１２】前記中屈折率層のバインダーが、熱及び
    ／又は電離放射線硬化型有機ケイ素化合物からなる、請
    求項１記載の反射防止フィルム。
13. 【請求項１３】前記中屈折率層の超微粒子が、ＺｒＯ₂
    粒子からなる、請求項１記載の反射防止フィルム。
14. 【請求項１４】透明基材フィルム上に、ハードコート層
    を介して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層がこ
    の順序で形成されてなる反射防止フィルムであって、 ＳｉＯ_x 層よりなる低屈折率層、 バインダーと、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子とか
    らなる塗料の塗工で構成された中屈折率層、導電性をも
    つ高屈折率層を有してない、かつ２．２０＞高屈折率層
    の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞低屈折率層の屈折率＞
    １．４０の関係を有し、 前記中屈折率層の超微粒子が、ＺｒＯ₂ 粒子からなる、
    反射防止フィルム。
15. 【請求項１５】前記高屈折率層が導電性を有する、請求
    項１記載の反射防止フィルム。