JPH07287102A

JPH07287102A - 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置

Info

Publication number: JPH07287102A
Application number: JP6100582A
Authority: JP
Inventors: Norinaga Nakamura; 典永中村; Kiyotaka Takematsu; 清隆竹松; Natsuko Yamashita; 夏子山下; Hiroko Suzuki; 裕子鈴木; Yurie Oota; 友里恵太田; Hiroomi Katagiri; 博臣片桐; Mitsuru Tsuchiya; 充土屋; Motohiro Oka; 素裕岡
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1994-04-14
Filing date: 1994-04-14
Publication date: 1995-10-31

Abstract

(57)【要約】【目的】反射防止性と同時にハード性能を有し、且つ
内部の各層間の界面における光の反射を低減することが
できる反射防止フィルム、その製造方法、その反射防止
フィルムを使用した偏光板及び液晶表示装置を提供す
る。【構成】透明基材フィルム１１上に、表面層である低
屈折率層１３が、他の層を介して形成されており、その
他の層の少なくとも一層が樹脂を主体とする厚み０．５
μｍ以上の高屈折率ハードコート層１２となっている。
その高屈折率ハードコート層１２は低屈折率層１３と直
接接している。その高屈折率ハードコート層１２の屈折
率は、該高屈折率ハードコート層１２の低屈折率層１３
側とは反対側の面に接する層の屈折率よりも高いことを
特徴とする。この反射防止フィルムは偏光板、液晶表示
装置にラミネートして利用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ワープロ、コンピュー
タ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用い
る偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレン
ズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズな
どの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の
窓ガラス等の表面の反射防止に優れた反射防止フィルム
及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カーブミラー、バックミラー、ゴーグ
ル、窓ガラス、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、
その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラス
チック等の透明基板が用いられており、これらの透明基
板を通して物体や文字、図形の視覚情報を、或いはミラ
ーでは透明基板を通して反射層からの像を観察する場合
に、これらの透明基板の表面が光で反射して内部の視覚
情報が見えにくいという問題があった。

【０００３】従来、光の反射防止技術には、例えば、次
のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチッ
ク表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明
基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂等の極薄膜
や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプ
ラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その
上に蒸着によりＳｉＯ₂やＭｇＦ₂の膜を形成する方
法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜
を形成する方法があった。

【０００４】前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ
程度のＭｇＦ₂の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜
に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ₀とし、この
波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ₀、反射防止膜の
厚みをｈ、および基板の屈折率をｎ_gとすると、反射防
止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過す
るための条件は、次の式（１）および式（２）の関係を
満たすことが必要であることは既に知られている（サイ
エンスライブラリ物理学＝９「光学」７０〜７２頁、
昭和５５年，株式会社サイエンス社発行）。

【０００５】

【数１】

【０００６】

【数２】ガラスの屈折率ｎ_g＝約１．５であり、ＭｇＦ₂膜の屈
折率ｎ₀＝１．３８、入射光の波長λ₀＝５５００Å
（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式
（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μ
ｍが最適であると計算される。

【０００７】前記式（１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜
の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことが分かり、このような原理を利用して、上層塗
膜の屈折率を、その下層塗膜の屈折率よりも若干低い値
として光の反射防止を行なうことが従来行なわれてい
た。

【０００８】透明プラスチックフィルム上の最表面に低
屈折率層を形成した前記従来の反射防止フィルムは、低
屈折率層の厚みが約０．１μｍ前後と薄いため、形成さ
れた反射防止フィルムはハード性能に劣り、傷付きやす
いとう問題があった。このような問題を解決するため
に、０．１μｍ前後と薄い低屈折率層の下面にハードコ
ート層として膜厚０．５μｍ以上の塗膜を形成すること
により、ハード性能を付与することが試みられていた。

【０００９】一方、従来、液晶表示装置には、液晶素子
に光のシャッターの役目をするフィルム状の偏光素子が
設けられているが、この偏光素子自体の保護のために、
ガラス、透明プラスチック板又は透明プラスチックフィ
ルム等の透明保護基板が偏光素子に貼合されて偏光板が
形成されている。この偏光板においても、偏光素子に貼
合される透明保護基板自体も傷が付くことがあるので、
前記従来の反射防止フィルムと同様にこのようなハード
性能を持たせた透明保護基板が公開されている。このよ
うな技術として、例えば、特開平１−１０５７３８号公
報に記載されるものがある。この公報には、偏光素子に
貼合されて偏光板を形成するための光制御用トリアセチ
ルアセテートフィルムが開示されている。このフィルム
は、未ケン化のトリアセチルアセテートフィルムの一方
の面に、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂から
なる硬化塗膜を設けることによりハード性能に優れたト
リアセチルアセテートフィルムとしている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の透明プラスチックフィルム及び透明プラスチック板
等の透明保護基板のハード性能を改善するために形成さ
れた塗膜は通常数μｍと厚いため外部から入射した光が
この塗膜と他の層との界面において反射されるため、反
射防止効果を低下させる原因となっていた。

【００１１】そこで本発明の目的は、反射防止性と同時
にハード性能を付与し、且つ内部の各層間の界面におけ
る光の反射を低減することができる反射防止フィルム及
びその製造方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために、本発明の反射防止フィルムは、透明基材フィ
ルムの表裏面の少なくとも一面に表面層である低屈折率
層が、他の層を介して形成されており、該他の層の少な
くとも一層がバインダー樹脂を主体とするハードコート
層であって、該ハードコート層は低屈折率層と直接接し
ており、該ハードコート層の屈折率が、該ハードコート
層の前記低屈折率層側とは反対側の面に接する層の屈折
率よりも高いことを特徴とする。

【００１３】また本発明の反射防止フィルムの製造方法
は、透明基材フィルムの表裏面の少なくとも一面に、直
接又は他の層を介して、バインダー樹脂と該バインダー
樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子
とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折
率が最終製品としての反射防止フィルムの層構成におけ
る該樹脂組成物を使用する層の下側に直接接する層の屈
折率よりも高い屈折率である樹脂組成物を塗工して塗膜
を形成し、該塗膜を硬化させてハードコート層とし、次
いで、該ハードコート層上に、該ハードコート層の屈折
率よりも低い屈折率の低屈折率層を設けることを特徴と
する。

【００１４】また本発明の反射防止フィルムの別の製造
方法は、表面が平滑な離型フィルム上に、バインダー樹
脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有す
る高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ該
樹脂組成物の屈折率が最終製品としての反射防止フィル
ムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下側に
直接接する層の屈折率よりも高い屈折率である樹脂組成
物を塗工して塗膜を形成し、一方、透明基材フィルムの
表裏面の少なくとも一面に、直接又は他の層を介して、
前記工程の塗膜が形成された離型フィルムを、該塗膜を
内側にしてラミネートし、このラミネート物に対して、
加熱処理及び／又は電離放射線照射処理を行なって、該
塗膜を硬化させ、塗膜の硬化したラミネート物から前記
離型フィルムを剥離して高屈折率ハードコート層を前記
透明基材フィルム側に転写し、次いで、該高屈折率ハー
ドコート層上に、該高屈折率ハードコート層の屈折率よ
りも低い屈折率の低屈折率層を設けることを特徴とす
る。

【００１５】また本発明の反射防止フィルムのさらに別
の製造方法は、表面が平滑な離型フィルム上に、バイン
ダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率
を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、
且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品としての反射防止
フィルムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の
下側に直接接する層の屈折率よりも高い屈折率である樹
脂組成物を塗工して塗膜を形成し、該塗膜を硬化させて
高屈折率ハードコート層とし、一方、透明基材フィルム
の表裏面の少なくとも一面に、接着剤層を介して、前記
工程の高屈折率ハードコート層が形成された離型フィル
ムを、該高屈折率ハードコート層を内側にしてラミネー
トし、前記接着剤層を硬化した後、ラミネート物から前
記離型フィルムを剥離して該高屈折率ハードコート層を
前記透明基材フィルム側に転写し、次いで、該高屈折率
ハードコート層上に、該高屈折率ハードコート層の屈折
率よりも低い屈折率の低屈折率層を設けることを特徴と
する。

【００１６】前記反射防止フィルムの各製造方法におい
て、低屈折率層を設ける方法は、気相法（真空蒸着法、
スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプ
レーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により無機材料
を用いて設けることができ、又は塗布により設けること
ができる。前記他の層はあってもなくてもよく、他の層
を例示すれば、接着剤層、プライマー層又は第２ハード
コート層等があげられる。

【００１７】本発明の偏光板は、前記反射防止フィルム
が偏光素子にラミネートされていることを特徴とする。

【００１８】また本発明の液晶表示装置は、前記偏光板
が液晶表示装置の構成要素として用いられることを特徴
とする。

【００１９】透明基材フィルム：透明基材フィルムとし
ては、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセ
ルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフ
ィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル
系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエ
ステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスル
ホンフィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペン
テンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）
アクリロニトリルフィルム等が使用できるが、特に、ト
リアセチルセルロースフィルム、及び一軸延伸ポリエス
テルが透明性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に
用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜１０００μｍ
程度のものが好適に用いられる。

【００２０】ハードコート層：ハードコート層に用いる
ことのできるバインダー樹脂には、透明性のあるもので
あればどのような樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化
型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等）でも使用することが
できる。ハード性能を付与するためには、ハードコート
層の厚みは０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上と
することにより、硬度を維持することができ、反射防止
フィルムにハード性能を付与することができる。

【００２１】なお、本発明において、「ハード性能を有
する」或いは「ハードコート」とは、ＪＩＳＫ５４００
で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を示すものを
いう。

【００２２】また、ハードコート層の硬度をより向上さ
せるためには、ハードコート層に使用するバインダー樹
脂には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又
は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。前
記熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹
脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これ
らの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用す
る。

【００２３】前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ
オール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。

【００２４】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。

【００２５】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を
混合するのが好ましい。

【００２６】電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し
溶剤乾燥型樹脂を１０重量部以上１００重量部以下含ま
せてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑
性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する
溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが
使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエス
テルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物
を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリ
メタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸
ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において
有利である。

【００２７】また、透明基材フィルムとして、特にトリ
アセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるとき
には、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂
には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチ
ルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び
透明性の点で有利である。

【００２８】その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶
媒としてトルエンを使用した場合、透明基材フィルムで
あるトリアセチルセルロースの非溶解性の溶剤であるト
ルエンを用いるにもかかわらず、透明基材フィルムにこ
の溶剤乾燥型樹脂を含む塗料の塗布を行なっても、透明
基材フィルムと塗膜樹脂との密着性を良好にすることが
でき、しかもこのトルエンは、透明基材フィルムである
トリアセチルセルロースを溶解しないので、透明基材フ
ィルムの表面は白化せず、透明性が保たれる利点がある
からである。

【００２９】ハードコート層の形成には、塗布による方
法又は転写による方法が利用できる。前者の塗布による
方法には、透明基材フィルムに直接又は他の層を介し
て、例えばグラビヤリバースコート法等により前記ハー
ドコート層用の樹脂組成物を塗布して形成することがで
きる。また後者の転写による方法には、表面が平滑な離
型フィルム上に、前記ハードコート層用の樹脂組成物を
例えばグラビヤリバースコート法等により塗工して塗膜
を形成し、一方、透明基材フィルムの表裏面の少なくと
も一面に、直接又は他の層を介して、前の工程の塗膜が
形成された離型フィルムを、その塗膜を内側にしてラミ
ネートし、このラミネート物に対して、加熱処理及び／
又は電離放射線照射処理を行なって、該塗膜を硬化さ
せ、その後、塗膜の硬化したラミネート物から前記離型
フィルムを剥離してハードコート層を形成したり、或い
は前記のラミネートを行なう前に離型フィルム上の塗膜
に加熱処理及び／又は電離放射線照射処理を行なって、
該塗膜を硬化させ、次いで、透明基材フィルムの表裏面
の少なくとも一面に、接着剤層を介して、前の工程の硬
化塗膜が形成された離型フィルムと、その塗膜を内側に
してラミネートし、その後、ラミネート物から前記離型
フィルムを剥離してハードコート層を形成することがで
きる。

【００３０】本発明におけるハードコート層は、塗布に
よる塗膜であるので、その膜厚は０．５μｍ以上であ
り、気相法（例えば、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、プラズマＣＶＤ法等）による膜に比
べて厚い。よって、得られた反射防止フィルムにはハー
ド性能が付与される。

【００３１】ハードコート層の屈折率を高くするために
は、高屈折率を持つバインダー樹脂を使用するか、ハー
ドコート層に用いられるバインダー樹脂の屈折率よりも
高い屈折率を有する高屈折率微粒子をバインダー樹脂に
添加することによって行なうか、あるいは、これらを併
用することによって行なう。

【００３２】前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、
芳香環を含む樹脂、Ｆ以外のハロゲン化元素、例え
ば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原
子を含む樹脂等が挙げられ、これらの少なくとも一つの
条件を満足する樹脂が高屈折率となるため好ましい。

【００３３】前記の樹脂の例には、ポリスチレン等の
スチロール樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビ
ニルカルバゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネー
ト等が挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリ塩化ビ
ニル、ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエ
ーテル等が挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリビ
スフェノールＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジ
ン等が挙げられる。

【００３４】前記高屈折率微粒子には、例えば、ＺｎＯ
（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．３〜２．
７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（屈折
率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、
Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率１．
９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈
折率１．６３）等が挙げられる。これらの高屈折率微粒
子のうち、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂等を用いること
により、本発明の反射防止フィルムにＵＶ遮蔽効果がさ
らに付与されるので好ましい。また、アンチモンがドー
プされたＳｎＯ₂或いはＩＴＯを用いることにより、電
子伝導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防
止、或いは本発明の反射防止フィルムをＣＲＴに用いた
場合の電磁波シールド効果が得られるので好ましい。高
屈折率微粒子の粒径は、ハードコート層を透明とするた
めには４００ｎｍ以下であることが好ましい。

【００３５】ハードコート層にバインダー樹脂として電
離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方
法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電
子線または紫外線の照射によって硬化することができ
る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好まし
くは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線
等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等
が利用できる。

【００３６】低屈折率層：前記したハードコート層上に
接して該ハードコート層の屈折率よりも低い屈折率の低
屈折率層が形成されている。この低屈折率層の屈折率ｎ
_Lは、ハードコート層の屈折率ｎ_Hに比べて低い範囲の
ものであることは勿論であるが、下記の式（３）、

【００３７】

【数３】に近づく程、反射防止効果は向上するので、上記式
（３）の条件に近づけることが望ましい。

【００３８】低屈折率層の形成に使用される低屈折率材
料は上記条件を満足するものであればどのような材料で
もよく、無機材料、有機材料が使用できる。

【００３９】低屈折率無機材料としては、例えば、Ｌｉ
Ｆ（屈折率１．４）、ＭｇＦ₂（屈折率１．４）、３Ｎ
ａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率
１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（氷晶石、屈折率１．３
３）、ＳｉＯ_X（ｘ：１．５０≦ｘ≦４．００）（屈折
率１．３５〜１．４８）、ＮａＭｇＦ₃（屈折率１．３
６）等の無機材料が使用される。

【００４０】低屈折率無機材料で形成される膜は、硬度
が高く、特にプラズマＣＶＤ法で、ＳｉＯ_X（ｘは１．
５０≦ｘ≦４．００、望ましくは１．７０≦ｘ≦２．２
０）の膜を形成したものは、一般の真空蒸着法による蒸
着膜よりも密度が高いため硬度が良好で耐擦傷性の膜と
なり、且つハードコート層との密着性に優れ、透明基材
フィルムの熱ダメージを他の気相法に比べて軽減できる
ので好ましい。さらにプラズマＣＶＤ法により形成した
ＳｉＯ_x膜は、通常の真空蒸着膜と比べてガスバリヤー
性が高い。そのため、防湿性に優れるのでプラズマＣＶ
Ｄ法によるＳｉＯ_x膜を形成した反射防止フィルムを偏
光素子にラミネートして使用する場合に、湿気に弱いと
されている偏光素子を防湿する利点がある。

【００４１】下記の表１にプラズマＣＶＤ法により形成
したＳｉＯ_x膜の優位性を示す実験データを示す。防湿
実験の対象としたフィルムには、トリアセチルセルロー
スフィルム（ＴＡＣと表示する）、トリアセチルセルロ
ースフィルム上に膜厚７μｍのハードコート樹脂の塗膜
を形成したもの〔ＨＣ（７μｍ）／ＴＡＣと表示す
る〕、トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚１μｍ
のフッ化ビニリデンの塗膜を形成したもの〔Ｋコート：
フッ化ビニリデン（１μｍ）／ＴＡＣと表示する〕、ト
リアセチルセルロースフィルム上に膜厚１０００ÅのＳ
ｉＯ_xのプラズマＣＶＤ膜を形成したもの〔ＳｉＯ
_x（１０００Å）／ＴＡＣと表示する〕を使用した。こ
れらの各フィルムを湿度９０％、温度４０℃で、ＪＩＳ
（Ｚ０２０８）の防湿試験に従ってその１日当りの透湿
度を測定した。

【００４２】

【表１】上記表１によれば、ＳｉＯ_x（１０００Å）／ＴＡＣが
透湿度が一番少なく、防湿性に優れていることが分か
る。なお、フッ化ビニリデン（１μｍ）／ＴＡＣは、防
湿性はやや良いが、その塗膜が柔らかいこと及び経時的
に黄変するため光学材料として用いることは好ましくな
い。

【００４３】さらにその偏光素子や、その他の層中に染
料等が使用されている場合には、プラズマＣＶＤ膜はそ
れらの劣化を防止することができる。また、プラズマＣ
ＶＤ法は通常の真空蒸着膜と比べて、ＳｉＯ_x膜のｘの
値の変更が比較的容易であり、さらに通常の真空蒸着膜
のｘがせいぜい２未満であるのに対して、プラズマＣＶ
Ｄ法による膜は２を越えることが可能である。そのた
め、プラズマＣＶＤ法により形成したＳｉＯ_x膜は、通
常の真空蒸着膜よりも低屈折率とすることができ、得ら
れた膜は透明性が高いとう利点がある。

【００４４】低屈折率有機材料には、フッ素原子の導入
されたポリマー等の有機物がその屈折率が１．４５以下
と低い点から好ましい。溶剤が使用できる樹脂としてそ
の取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン
（屈折率ｎ＝１．４０）が挙げられる。低屈折率の有機
材料としてこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合に
は、低屈折率層の屈折率はほぼ１．４０程度となるが、
さらに低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフル
オロエチルアクリレート（屈折率ｎ＝１．３２）のよう
な低屈折率アクリレートを１０重量部から３００重量
部、好ましくは１００重量部から２００重量部添加して
もよい。

【００４５】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため低屈折率層に膜強度がで
ないので、さらに多官能アクリレート、例えば、電離放
射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加するこ
とが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加量が多
いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観点から
はその添加量は少ない方がよく、１〜５０重量部、好ま
しくは５〜２０重量部添加することが推奨される。

【００４６】低屈折率層の形成方法は、高屈折率ハード
コート層上に、低屈折率の無機質材料で気相法（真空蒸
着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イ
オンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により皮
膜を単層又は多層形成するか、或いは、低屈折率の無機
質材料を含有させた低屈折率樹脂組成物又は低屈折率有
機材料を塗布により単層又は多層の塗膜を形成して行な
うことができる。

【００４７】他の層：本発明の反射防止フィルムには、
上記に説明した各層の他に、各種機能性を付与するため
の層をさらに設けることができる。例えば、透明基材フ
ィルムとハードコート層との接着性を向上させる等の理
由で、透明基材フィルム上にプライマー層や或いは接着
剤層を設けたり、また、ハード性能向上のためにハード
コート層を複数層設けてもよい。上記のように透明基材
フィルムとハードコート層の中間に設けられるその他の
層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率とハードコー
ト層の屈折率との中間の値とすることが好ましい。

【００４８】他の層の形成方法は、上記のように透明基
材フィルム上に直接又は間接的に塗布して形成してもよ
く、また透明基材フィルム上にハードコート層を転写に
より形成する場合には、予め離型フィルム上に形成した
ハードコート層上に、他の層を塗布して形成し、その
後、透明基材フィルムと離型フィルムとを塗布面を内側
にしてラミネートし、次いで離型フィルムを剥離するこ
とにより、透明基材フィルムに他の層を転写してもよ
い。

【００４９】本発明の反射防止フィルムの下面には、粘
着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは
反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用
いることができる。

【００５０】界面での反射防止が行なえる作用：図１
は、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム
（略：ＴＡＣ基材フィルム）１上に屈折率１．４６のＳ
ｉＯ_X蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。図５
にこの積層フィルムの分光反射率曲線を示す。

【００５１】図２は、屈折率１．４９のＴＡＣ基材フィ
ルム１上に屈折率１．４９のハードコート層（略：ＨＣ
層）２、及びさらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_X
蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。図６にこの
積層フィルムの分光反射率曲線を示す。

【００５２】図３は、図２の積層フィルムにおけるＨＣ
層の屈折率を高めたものについてであり、屈折率１．４
９のＴＡＣ基材フィルム１上に屈折率１．５５のＨＣ層
２、及びさらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_X蒸着
膜３が形成された積層フィルムを示す。図７にこの積層
フィルムの分光反射率曲線を示す。図７の分光反射率曲
線を図６のものと重ね合わせると、目標波長５５０ｎｍ
（人間の目に最も感じられると言われている波長）付近
では、図７の波の一番高い所と図６の曲線が重なり、図
７の他の波長部分では、波が低くなった分だけ反射率は
低くなる。

【００５３】従って、ＳｉＯ_X蒸着層とＴＡＣ基材フィ
ルムとの中間のＨＣ層の屈折率を、他の各層よりも高く
すると界面での反射防止が行なえることが分かる。

【００５４】また、図８の分光反射率曲線によれば、波
のピッチは、膜厚が薄くなると大きくなることを示して
いる。この場合も、図５と図８に示されている反射率の
傾向は同じであることが分かる。なお、図８の分光反射
率曲線を持つ積層フィルムの層構成は、基材ＴＡＣ（屈
折率１．４９）／ＨＣ層（膜厚３μｍ、屈折率１．５
５）／低屈折率層（膜厚９５ｎｍ、屈折率１．４６）か
らなる。

【００５５】図９は、図３の積層フィルムにおいて、Ｈ
Ｃ層の屈折率をさらに１．６５に高めた場合の分光反射
率曲線を示す。このようにＨＣ層の屈折率を上げると、
波が大きく（深くなり）、その分だけ反射率を下げるこ
とができることが分かる。

【００５６】図４は、ケン化処理された屈折率１．４９
のＴＡＣ基材フィルム１上に、屈折率１．５５のプライ
マー層４を設け、さらにその上に高屈折率微粒子である
ＺｎＯを分散した樹脂からなる屈折率１．６５のＨＣ層
２を形成し、さらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_X
蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。ここで、こ
のプライマー層４はＨＣ層２に比べて厚みが薄い層と
し、その屈折率は、ＨＣ層２とＴＡＣ基材フィルム１の
各屈折率の中間程度のものとした。図１０にこの積層フ
ィルムの分光反射率曲線を示す。図１０の分光反射率曲
線によれば、その分光反射率は、図９の波の間の値にな
り、目標波長５５０ｎｍ付近では、波の高さが小さくな
って、最表層にＳｉＯ_Xよりも低い屈折率の材料を積層
したような効果を生じたことを示している。

【００５７】しかしながら、ＨＣ層とプライマー層は、
ロールコート等のようなコーティング塗膜であるので、
ＨＣ層−透明基材フィルム間の界面、ＨＣ層−プライマ
ー層間の界面、プライマー−透明基材フィルム間の界面
は明確ではないと思われ、屈折率差ができにくく、実際
には、分光反射率曲線に表れる波は出来にくい。

【００５８】図１１に、ＴＡＣ基材フィルム（屈折率
１．４９）／高屈折率ハードコート層（屈折率１．６
２）／低屈折率層（屈折率１．４６）からなる積層フィ
ルムの分光反射率曲線を示し、比較のため、ＴＡＣ基材
フィルムのみの場合と、ＴＡＣ基材フィルム（屈折率
１．４９）／通常ハードコート層（屈折率１．４９）／
低屈折率層（屈折率１．４６）からなる積層フィルムの
分光反射率曲線を併せて示す。図１１によれば、短波長
側ではほとんど波が無くなっている。

【００５９】偏光板及び液晶表示装置：偏光素子に本発
明の反射防止フィルムをラミネートすることによって、
反射防止性の改善された偏光板とすることができる。こ
の偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸し
てなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホル
マールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いる
ことができる。このラミネート処理にあたって接着性を
増すため及び静電防止のために、前記反射防止フィルム
の基材フィルムが例えば、トリアセチルセルロースフィ
ルムである場合には、トリアセチルセルロースフィルム
にケン化処理を行う。このケン化処理はトリアセチルセ
ルロースフィルムにハードコートを施す前または後のど
ちらでもよい。

【００６０】図１４に本発明の反射防止フィルムが使用
された偏光板の一例を示す。図中、１５は本発明の反射
防止フィルムであり、前記で説明したように透明基材フ
ィルムとしてのＴＡＣフィルム（トリアセチルセルロー
スフィルムの略）１７、高屈折率ハードコート層１２、
低屈折率層１３から形成されている。該反射防止フィル
ム１５が偏光素子１６上にラミネートされており、一
方、偏光素子１６の他面にはＴＡＣフィルム１７がラミ
ネートされている。この偏光板の各層間には必要に応じ
て接着剤層が設けられる。特に、高屈折率ハードコート
層１２と透明基材フィルムとしてのＴＡＣフィルム１７
との間に、接着剤層を設けることが望ましい。この図１
４に示した偏光板の層構成は、ＴＡＣフィルム／偏光素
子／反射防止フィルムと簡略に表示することができる。
また本発明の反射防止フィルムが使用された偏光板の別
の例には、偏光素子１６の両面に本発明の反射防止フィ
ルム１５がラミネートされたものでもよい。

【００６１】図１５に本発明の反射防止フィルムが使用
された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子１８上
に、図１４に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム／偏
光素子／反射防止フィルムからなる層構成の偏光板がラ
ミネートされており、また液晶表示素子１８の他方の面
には、ＴＡＣフィルム／偏光素子／ＴＡＣフィルムから
なる層構成の偏光板がラミネートされている。図１５の
液晶表示装置において、最下面のＴＡＣフィルム１７側
にさらに高屈折率ハードコート層１２が、さらにその高
屈折率ハードコート層１２の外側に低屈折率層１３が形
成されていてもよい。図１５に示した液晶表示装置にお
いて、バックライトは図１５の下側から照射される。な
お、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光
板との間に、位相差板が挿入される。この液晶表示装置
の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられる。

【００６２】

【実施例】

〔実施例１〕透明基材フィルムとして厚さ８０μｍのト
リアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商
品名、富士写真フィルム製、屈折率１．４９）を用意し
た。一方、ＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３００：商品名、住
友セメント製、屈折率１．９）と電離放射線硬化型樹脂
（ＨＮ−２：商品名、三菱油化製、屈折率１．５４）を
重量比で２：１に混合して得られた樹脂組成物を、前記
トリアセチルセルロースフィルム上に、７μｍ／ｄｒｙ
となるようにグラビアリバースコートにより塗工し、電
子線を１５０ＫＶで３Ｍｒａｄ照射し、塗膜を硬化して
高屈折率のハードコート層を形成した。

【００６３】前記ハードコート層上に、プラズマＣＶＤ
法にてＳｉＯ_X（屈折率１．４６）を膜厚１００ｎｍと
なるように成膜して低屈折率層を形成した。

【００６４】得られた本実施例１の反射防止フィルムの
全光線透過率は９４．２％、ヘイズ値１．０であり、反
射防止性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈで
あり、ハード性能にも優れていた。

【００６５】図１２は、本実施例１で得られた反射防止
フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透明基材
フィルム、１２は高屈折率ハードコート層、１３は低屈
折率層である。

【００６６】〔実施例２〕厚さ８０μｍのトリアセチル
セルロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商品名、富士
写真フィルム製）を６０℃の２ＮＫＯＨ槽中に１分間
浸漬し、ケン化処理を行なって、透明基材フィルム（屈
折率１．４９）とした。一方、塩酢ビ系樹脂（ＳＢＰプ
ライマーＧ：商品名、大日精化製）に硬化剤としてイソ
シアネートを樹脂に対して１０重量部加えてなるプライ
マー（屈折率１．５５）を、前記透明基材フィルム上に
膜厚０．７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバース
コートにより塗工し、６０℃で１分間乾燥後、４０℃で
２日間エージングした。得られたフィルム上に前記実施
例１と同様の方法で、高屈折率のハードコート層及び低
屈折率層を形成した。

【００６７】得られた本実施例２の反射防止フィルムの
全光線透過率は９４．５％、ヘイズ値１．０であり、反
射防止性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈで
あり、ハード性能にも優れていた。

【００６８】図１３は、本実施例２で得られた反射防止
フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透明基材
フィルム、１４はプライマー層、１２は高屈折率ハード
コート層、１３は低屈折率層である。

【００６９】〔実施例３〕前記実施例２における反射防
止フィルムの製造方法において、低屈折率層としてプラ
ズマＣＶＤ法によるＳｉＯ_X膜の形成の代わりに、フッ
化マグネシウム超微粒子（屈折率１．４）を重量比で１
０％含有した電離放射線硬化型樹脂（ＤＴ−１：商品
名、住友セメント製、屈折率１．４２）を１００ｎｍ／
ｄｒｙの膜厚になるようにグラビアリバースコートによ
り塗工した後、電子線を１５０ＫＶで２Ｍｒａｄ照射し
塗膜を硬化した。この塗膜の屈折率は１．４２であっ
た。

【００７０】得られた本実施例３の反射防止フィルムの
全光線透過率は９４．７％、ヘイズ値１．０であり、反
射防止性は優れていた。またその表面鉛筆硬度がＨであ
り、ハード性能にも優れていた。

【００７１】〔実施例４〕前記実施例２における反射防
止フィルムの製造方法において、高屈折率のハードコー
ト層及び低屈折率層の形成を次のように変更した。即
ち、ケン化されたトリアセチルセルロースフィルム上に
プライマー層を形成した後に、そのプライマー層上に、
ＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント
製、屈折率１．９）と電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ４
０−９：商品名、大日精化製、屈折率１．４９）を重量
比で２：１に混合した樹脂組成物を、膜厚７μｍ／ｄｒ
ｙとなるようにグラビアリバースコートにより塗工し、
電子線を１５０ＫＶで３Ｍｒａｄ照射し、塗膜を硬化し
た。このフィルム上に前記実施例１と同様にＳｉＯ_X膜
を１００ｎｍの膜厚で形成した。

【００７２】得られた本実施例４の反射防止フィルムの
全光線透過率は９３．８％、ヘイズ値１．０であり、反
射防止性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈで
あり、ハード性能にも優れていた。

【００７３】〔実施例５〕表面が平滑なＰＥＴフィルム
フィルム（Ｔ−６００：商品名、ダイヤホイル株式会社
製、厚さ５０μｍ）上に電子線硬化型樹脂（ＨＮ−３：
商品名、三菱油化製）とＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３０
０：商品名、住友セメント製、屈折率１．９）を２：１
に配合した樹脂を７μ／ｄｒｙになるようにグラビアリ
バースコートにより塗工し、電子線を加速電圧１７５Ｋ
Ｖで４Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化して高屈折率ハード
コート層を形成した。得られたＰＥＴフィルムの高屈折
率ハードコート層上に接着剤（タケラック：商品名、武
田薬品工業製）をグラビアリバースコートにより塗工し
て接着剤層を形成し、次いで、この接着剤層を介してト
リアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商
品名、富士フィルム製、厚さ８０μｍ）をラミネート
し、４０℃で３日間エージングした後、ＰＥＴフィルム
を剥離して、高屈折率ハードコート層をトリアセチルセ
ルロースフィルム上に転写させた。このトリアセチルセ
ルロースフィルムの高屈折率ハードコート層上に、さら
にＳｉＯ_XをプラズマＣＶＤ法により膜厚が１００ｎｍ
となるように低屈折率のプラズマＣＶＤ膜を形成して、
反射防止フィルムを得た。

【００７４】得られた本実施例５の反射防止フィルムの
全光線透過率は９４．５％、ヘイズ値０．７であり、反
射防止性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈで
あり、ハード性能にも優れていた。

【００７５】〔比較例１〕透明基材フィルムとして厚さ
８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−Ｕ
Ｖ−８０：商品名、富士写真フィルム製、屈折率１．４
９）上に、電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ４０−９：商
品名、大日精化製、屈折率１．４９）を膜厚が７μｍ／
ｄｒｙになるようにグラビアリバースコートにより塗工
し、電子線を１５０ＫＶで３Ｍｒａｄ照射することによ
り塗膜を硬化した。得られたフィルム上に前記実施例１
と同様にＳｉＯ_Xを膜厚が１００ｎｍとなるようにプラ
ズマＣＶＤ法にて成膜した。

【００７６】得られた比較例１のフィルムの全光線透過
率は９２．７％、ヘイズ値１．０であり、反射防止性は
前記各実施例に比較して低下している。またその表面鉛
筆硬度が２Ｈであった。

【００７７】〔比較例２〕透明基材フィルムとして厚さ
８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−Ｕ
Ｖ−８０：商品名、富士写真フィルム製、屈折率１．４
９）上に、電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ４０−９：商
品名、大日精化製、屈折率１．４９）を膜厚が０．３μ
ｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバースコートにより
塗工し、電子線を１５０ＫＶで３Ｍｒａｄ照射すること
により塗膜を硬化した。得られたフィルム上に前記実施
例１と同様にＳｉＯ_Xを膜厚が１００ｎｍとなるように
プラズマＣＶＤ法にて成膜した。得られた比較例２の
反射防止フィルムの全光線透過率は９２．７％、ヘイズ
値１．０であり、反射防止性は前記各実施例に比較して
低下している。またその表面鉛筆硬度がＢであった。

【００７８】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムによれば、ハ
ードコート層上に低屈折率層が形成されており、そのハ
ードコート層の屈折率が、そのハードコート層が接する
低屈折率層側とは反対側の面に接する層の屈折率よりも
高いので、反射防止性と同時にハード性能を有し、且つ
そのハードコート層が接している層の界面における光の
反射を低減することができる。したがって、本発明の反
射防止フィルムをラミネート、貼着等により積層したも
の、例えば、偏光板、液晶表示装置は、上記の反射防止
フィルムの効果が付与される。

【００７９】本発明の反射防止フィルムにおいて、プラ
ズマＣＶＤ法により形成したＳｉＯ_X膜を低屈折率層と
した場合には、上記した効果に加えて、防湿性、ガスバ
リヤー性、透明性、耐擦傷性、接着性に優れた反射防止
フィルムとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィ
ルム上に屈折率１．４６のＳｉＯ_X蒸着膜が形成された
積層フィルムを示す。

【図２】屈折率１．４９のＴＡＣ基材フィルム上に屈折
率１．４９のハードコート層、及びさらにその上に屈折
率１．４６のＳｉＯ_X蒸着膜が形成された積層フィルム
を示す。

【図３】屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィ
ルム上に屈折率１．５５のハードコート層、及びさらに
その上に屈折率１．４６のＳｉＯ_X蒸着膜が形成された
積層フィルムを示す。

【図４】屈折率１．４９のケン化トリアセチルセルロー
スフィルム上に、屈折率１．５５のプライマー層を設
け、さらにその上に高屈折率微粒子であるＺｎＯを分散
した樹脂からなる屈折率１．６５のハードコート層を形
成し、さらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_X蒸着膜
が形成された積層フィルムを示す。

【図５】図１で示される積層フィルムの分光反射率曲線
を示す。

【図６】図２で示される積層フィルムの分光反射率曲線
を示す。

【図７】図３で示される積層フィルムの分光反射率曲線
を示す。

【図８】波のピッチは、膜厚が薄くなると大きくなるこ
とを示す分光反射率曲線を示す。

【図９】図３の積層フィルムにおいて、ＨＣ層の屈折率
をさらに１．６５に高めた場合の分光反射率曲線を示
す。

【図１０】図４で示される積層フィルムの分光反射率曲
線を示す。

【図１１】ＴＡＣ基材フィルム（屈折率１．４９）／高
屈折率ハードコート層（屈折率１．６２）／低屈折率層
（屈折率１．４６）からなる積層フィルムと他の積層フ
ィルムとの分光反射率曲線の比較を示す。

【図１２】実施例１で得られた反射防止フィルムの層構
成を示す断面図である。

【図１３】実施例２で得られた反射防止フィルムの層構
成を示す断面図である。

【図１４】本発明の反射防止フィルムがラミネートされ
た偏光板の層構成を示す。

【図１５】本発明の反射防止フィルムがラミネートされ
た偏光板を使用した液晶表示装置の層構成を示す。

【符号の説明】１１透明基材フィルム１２高屈折率ハードコート層１３低屈折率層１４プライマー層１６偏光素子１７ＴＡＣフィルム１８液晶表示装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木裕子東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者太田友里恵東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者片桐博臣東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者土屋充東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者岡素裕東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）透明基材フィルムの表裏面の少な
くとも一面に表面層である低屈折率層が、他の層を介し
て形成されており、（２）該他の層の少なくとも一層がバインダー樹脂を主
体とするハードコート層であって、該ハードコート層は
低屈折率層と直接接しており、（３）該ハードコート層の屈折率が、該ハードコート層
の前記低屈折率層側とは反対側の面に接する層の屈折率
よりも高いことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】前記ハードコート層の厚みが０．５μｍ
以上であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フ
ィルム。
【請求項３】前記ハードコート層は、バインダー樹脂
と、該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率１．５
以上の高屈折率微粒子とを含むことを特徴とする請求項
１又は２記載の反射防止フィルム。
【請求項４】前記高屈折率微粒子は、ＺｎＯ、ＴｉＯ
₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂から選ば
れた１種以上の微粒子である請求項３記載の反射防止フ
ィルム。
【請求項５】前記バインダー樹脂はその構成分子又は
原子として、（１）芳香族環、（２）Ｆ以外のハロゲン原子、（３）
Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、から選ばれた１種或いは２種以上の
分子及び／又は原子を含むことを特徴とする請求項１、
２、３又は４記載の反射防止フィルム。
【請求項６】前記バインダー樹脂は、熱硬化型樹脂及
び／又は電離放射線硬化型樹脂であることを特徴とする
請求項１、２、３、４又は５記載の反射防止フィルム。
【請求項７】前記低屈折率層は、ＳｉＯ_X（ｘは１．
５０≦ｘ≦４．００）で形成されていることを特徴とす
る請求項１、２、３、４、５又は６記載の反射防止フィ
ルム。
【請求項８】前記他の層が、接着剤層、プライマー層
又はハードコート層である請求項１、２、３、４、５、
６又は７記載の反射防止フィルム。
【請求項９】（１）透明基材フィルムの表裏面の少な
くとも一面に、直接又は他の層を介して、バインダー樹
脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有す
る高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ該
樹脂組成物の屈折率が最終製品としての反射防止フィル
ムの層構成における該樹脂組成物を使用する層の下側に
直接接する層の屈折率よりも高い屈折率である樹脂組成
物を塗工して塗膜を形成し、（２）該塗膜を硬化させて高屈折率ハードコート層と
し、（３）次いで、該高屈折率ハードコート層上に、該高屈
折率ハードコート層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折
率層を設けることを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。
【請求項１０】（１）表面が平滑な離型フィルム上
に、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも
高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物
であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品として
の反射防止フィルムの層構成における該樹脂組成物を使
用する層の下側に直接接する層の屈折率よりも高い屈折
率である樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（２）一方、透明基材フィルムの表裏面の少なくとも一
面に、直接又は他の層を介して、前記工程の塗膜が形成
された離型フィルムを、該塗膜を内側にしてラミネート
し、（３）このラミネート物に対して、加熱処理及び／又は
電離放射線照射処理を行なって、該塗膜を硬化させ、（４）塗膜の硬化したラミネート物から前記離型フィル
ムを剥離して高屈折率ハードコート層を前記透明基材フ
ィルム側に転写し、（５）次いで、該高屈折率ハードコート層上に、該高屈
折率ハードコート層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折
率層を設けることを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。
【請求項１１】（１）表面が平滑な離型フィルム上
に、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の屈折率よりも
高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含む樹脂組成物
であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が最終製品として
の反射防止フィルムの層構成における該樹脂組成物を使
用する層の下側に直接接する層の屈折率よりも高い屈折
率である樹脂組成物を塗工して塗膜を形成し、（２）該塗膜を硬化させて高屈折率ハードコート層と
し、（３）一方、透明基材フィルムの表裏面の少なくとも一
面に、接着剤層を介して、前記工程の高屈折率ハードコ
ート層が形成された離型フィルムを、該高屈折率ハード
コート層を内側にしてラミネートし、（４）前記接着剤層を硬化した後、ラミネート物から前
記離型フィルムを剥離して該高屈折率ハードコート層を
前記透明基材フィルム側に転写し、（５）次いで、該高屈折率ハードコート層上に、該高屈
折率ハードコート層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折
率層を設けることを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。
【請求項１２】前記低屈折率層を設ける方法は、気相
法により設けるものである請求項９、１０又は１１記載
の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１３】前記気相法がプラズマＣＶＤ法である
請求項１２記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１４】前記低屈折率層は、ＳｉＯ_X（ｘは
１．５０≦ｘ≦４．００）を用いて形成することを特徴
とする請求項９、１０、１１、１２又は１３記載の反射
防止フィルムの製造方法。
【請求項１５】前記低屈折率層を設ける方法は、塗布
により設けるものである請求項９、１０又は１１記載の
反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１６】前記他の層が、接着剤層、プライマー
層又はハードコート層である請求項９、１０、１２、１
３、１４又は１５記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１７】請求項１、２、３、４、５、６、７又
は８記載の反射防止フィルムが、偏光素子にラミネート
されていることを特徴とする偏光板。
【請求項１８】請求項１７記載の偏光板が、液晶表示
装置の構成要素として用いられていることを特徴とする
液晶表示装置。