JPH0760211A - 除塵装置 - Google Patents

除塵装置

Info

Publication number
JPH0760211A
JPH0760211A JP5240672A JP24067293A JPH0760211A JP H0760211 A JPH0760211 A JP H0760211A JP 5240672 A JP5240672 A JP 5240672A JP 24067293 A JP24067293 A JP 24067293A JP H0760211 A JPH0760211 A JP H0760211A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
nozzle
dust
work
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5240672A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2820599B2 (ja
Inventor
Hiroshi Uzawa
啓 宇澤
Shunji Hayashi
俊二 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Co Ltd
Original Assignee
Shinko Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Co Ltd filed Critical Shinko Co Ltd
Priority to JP5240672A priority Critical patent/JP2820599B2/ja
Priority to TW082109119A priority patent/TW231974B/zh
Priority to US08/169,206 priority patent/US5457847A/en
Priority to KR1019930030761A priority patent/KR970009001B1/ko
Priority to DE69409314T priority patent/DE69409314T2/de
Priority to EP94100511A priority patent/EP0640411B1/en
Publication of JPH0760211A publication Critical patent/JPH0760211A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2820599B2 publication Critical patent/JP2820599B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B08B5/023Cleaning travelling work
    • B08B5/026Cleaning moving webs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/04Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by a combination of operations
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/04Cleaning by suction, with or without auxiliary action

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ワークに付着した塵を除去する洗浄効果に優
れ、かつ、騒音を低減できる除塵装置を提供する。 【構成】 エア排出室2とエア吸入室3とを有するケー
シング4の下面側に、相互に接近する方向に超音波エア
を噴出する第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12を、設
ける。かつ、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12の間
に、吸引ノズル9を配設する。第1噴出ノズル11と第2
噴出ノズル12とワークW表面との間に、合流乱流空室16
を形成する。吸引ノズル9の開口部を有する壁面17, 17
を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面24に形成す
る。凹面24の上流側端縁に第1噴出ノズル11を配設し、
かつ、凹面24の下流側端縁に第2噴出ノズル12を配設す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、除塵装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の除塵装置としては、図7に示すよ
うに、矢印a方向に走行するワークbの上方に、走行方
向に直交する方向に配設される除塵ヘッドmを備えてい
た。その除塵ヘッドmは、ケーシングc内を仕切壁dに
て下流側のエア排出室eと上流側のエア吸入室fとに分
けて、エア排出室eの底部に超音波発生器gを設けると
共にその超音波発生器gの下方に超音波エアを発生する
噴出ノズルhを開設し、かつ、エア吸入室fの底壁部に
吸引ノズルiを開設したものであった。
【0003】この装置を使用してワークbに付着した塵
j…を除去するには、塵j…が付着したワークbの表面
に噴出ノズルhから超音波エアを斜め下方へ噴出し、そ
の超音波kといわゆるエアナイフとの相乗効果により、
塵j…をワークbから剥離させ、そのエアと塵j…を吸
引ノズルiからエア吸入室f内に吸入していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
従来の除塵装置では、噴出ノズルhから出た超音波エア
がワークbの上流側へ一方向に進むため、ワークbの表
面に強力なエア境界層lが生じ易く、その境界槽lを完
全に破ることができなかった。
【0005】このため、塵j…がワークbから剥離しな
い場合があり、塵jがワークbに付着したまま下流側へ
流れてしまうことがあった。
【0006】そこで、本発明は、上述の問題を解決し
て、境界層を完全に破ることができると共に、ワークに
付着した塵を効率よく除去することができ、かつ、優れ
たワークの洗浄効果を有する除塵装置を提供することを
目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る除塵装置は、相互に接近する方向に
超音波エアを噴出する第1噴出ノズルと第2噴出ノズル
を、設けると共に、該第1噴出ノズルと第2噴出ノズル
の間に、吸引ノズルを配設したものである。
【0008】また、第1噴出ノズルと第2噴出ノズルと
ワーク表面との間に、合流乱流空室を形成するも好まし
い。
【0009】また、吸引ノズルの開口部を有する壁面
を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面に形成する
のも望ましい。
【0010】さらに、凹面の上流側端縁に第1噴出ノズ
ルを配設し、かつ、凹面の下流側端縁に第2噴出ノズル
を配設するのも好ましい。
【0011】また、第1噴出ノズルと第2噴出ノズルと
吸引ノズルとを、エア排出室とエア吸入室とを有するケ
ーシングの下面側に、配設するも好ましい。
【0012】
【作用】第1噴出ノズルと第2噴出ノズルの下方にてワ
ークを走行させれば、第1噴出ノズルと第2噴出ノズル
から噴出する超音波エアは、ワーク表面上を相互に接近
する方向に流れ、その後合流する。この超音波エアの合
流する部位にて、ワークに付着した塵に、180 °反対の
2方向から超音波エアが当たる。これにより、塵に浮力
が生じ、ワークから塵が剥離する。
【0013】また、超音波エアの合流により乱流が生じ
る。これにより、ワーク表面に生じる境界層が破壊され
る。あるいは、ワークに付着した塵の付着状態によって
は、除去され易い方向があることも考えられるが、本発
明では、異なる方向から噴出して、いずれかの方向の噴
出によって、塵が除去されることとなる。
【0014】合流した超音波エアは吸引ノズル内に吸入
される。このため、第1噴出ノズルの上流側と第2噴出
ノズルの下流側にエアと音が漏れなくなる。
【0015】第1噴出ノズルと第2噴出ノズルの間に、
合流乱流空室を形成すれば、合流乱流空室内に強い乱流
が発生する。
【0016】吸引ノズルの開口部を有する壁面を、側面
視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面に形成すれば、合流
したエアを吸引ノズル内に送り易くる。
【0017】凹面の上流側端縁に第1噴出ノズルを配設
し、かつ、凹面の下流側端縁に第2噴出ノズルを配設す
れば、強い乱流が生じると共に、合流したエアを吸引ノ
ズル内に送り易くなる。
【0018】第1噴出ノズルと第2噴出ノズルと吸引ノ
ズルとを、エア排出室とエア吸入室とを有するケーシン
グの下面側に、配設すれば、取扱が容易となる。
【0019】
【実施例】以下、実施例を示す図面に基づいて本発明を
詳説する。
【0020】図1は、本発明に係る除塵装置の一実施例
の断面側面図を示し、この装置は、除塵ヘッド1と、図
外のブロワーユニットと、プラスチックフィルム等の長
尺薄肉連続体やガラス板等の板状体(枚葉)からなるワ
ークWを矢印Aで示す如く上流側から下流側へ走行させ
る図示省略の搬送手段と、を備えている。
【0021】しかして、除塵ヘッド1は、ワークWの走
行方向に直交する方向に配設されるケーシング4と、そ
のケーシング4内に設けられる超音波発生器6,6と、
からなる。
【0022】ケーシング4内は、円筒状の仕切壁5に
て、その仕切壁5の外側のエア排出室2と、内側のエア
吸入室3とに分けられる。エア排出室2には、仮想線で
示すようにエア供給路7が連通連結され、かつ、エア吸
入室3には、図示省略のエア吸入路が連通連結される。
【0023】そして、ブロワーユニットからエア供給路
7を介してエア排出室2にエアが供給され、エア吸入室
3内のエアがエア吸入路を介してブロワーユニットに戻
るように構成されている。
【0024】また、ケーシング4の底壁8の上流側寄り
と下流側寄りに、相互に接近する方向に超音波エアを噴
出する第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12を、設ける
と共に、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12の間に、
吸引ノズル9を配設する。
【0025】具体的には、ケーシング4の底壁8と仕切
壁5との間に、ケーシング4と平行であって相互に平行
に並ぶ帯板状鉛直壁部10, 10を連続状に形成し、かつ、
その帯板状鉛直壁部10, 10の間の空間部をエア吸入室3
内とケーシング4の外部に連通させて、ケーシング4に
平行なスリット状の吸引ノズル9を形成する。
【0026】さらに、吸引ノズル9の開口部を有する壁
面17, 17を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面24
に形成する。
【0027】また、エア排出室2の下半部は、仕切壁5
と帯板状鉛直壁部10, 10により、上流側排出室2aと下
流側排出室2bとに分けられる。そして、上流側排出室
2aの底部と、下流側排出室2bの底部に、超音波発生
器6,6を固定する。
【0028】超音波発生器6は、図2に示すように、第
1噴出ノズル11又は第2噴出ノズル12に平行な連続溝13
を有するブロック体からなり、連続溝13は、鉛直部14と
該鉛直部14に連通連結される上下一対の水平部15, 15と
からなる。
【0029】前記第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12
は、夫々、上流側排出室2aの底壁部8aと、下流側排
出室2bの底壁部8bに、開設される。つまり、第1噴
出ノズル11と第2噴出ノズル12と吸引ノズル9とを、ケ
ーシング4の下面側に、配設する。さらに、第1噴出ノ
ズル11と第2噴出ノズル12は、超音波発生器6の連続溝
13に連通連結される。
【0030】また、凹面24の上流側端縁をなす角部に第
1噴出ノズル11を開口させ、かつ、凹面24の下流側端縁
をなす角部に第2噴出ノズル12を開口させる。つまり、
凹面24の上流側端縁に第1噴出ノズル11を配設し、か
つ、凹面24の下流側端縁に第2噴出ノズル12を配設す
る。
【0031】第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12は、
下方へ行くにつれて相互に接近する方向に傾斜する。な
お、図6に示すように、ワークWがローラー25に沿って
曲がりつつ送られるシート体(ウエブ)の場合、第1噴
出ノズル11と第2噴出ノズル12の傾斜角度θ1 ,θ2
実質的に各々θ1 ′,θ2 ′となる。つまり、θ1 ′=
(θ1 +θ/2),θ2 ′=(θ2 +θ/2)となる。
そして、第1噴出ノズル11の傾斜角度θ1 と、第2噴出
ノズル12の傾斜角度θ2 は、夫々、10°〜30°程度の範
囲とし、特に好ましくは約20°とする。
【0032】また、ケーシング4の下端面とワークW表
面との間の間隔寸法Sは、1〜2mm程度とするのが好ま
しい。さらに、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12の
下方開口部の相互間隔寸法Xは、30〜40mm程度とするの
が好ましい(図1参照)。
【0033】また、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル
12とワークW表面との間に、合流乱流空室16を形成す
る。即ち、ケーシング4の凹面24とその下方のワークW
の上面との間の空間が、合流乱流空室16となる。
【0034】なお、エア吸入室3の他端側にエア吸入路
が連通連結されてエアが他端側へ吸入される場合、吸引
ノズル9の吸引力が全長において略同一になるように、
吸引ノズル9の開口幅寸法Vをエア吸入室3の一端側か
ら他端側へ、段階的に又は無段階で、次第に縮幅させる
のも好ましい。
【0035】次に、上述の如く構成された除塵装置を使
用して、ワークWに付着した塵Rを除去する方法を説明
する。
【0036】ワークWを、図2の矢印A方向に0.01〜10
m/sec 程度の速度で走行させる。この際、ブロワーユ
ニットから除塵ヘッド1のエア排出室2に1200〜1800mm
Aq程度の圧力のエアを供給する。
【0037】エア排出室2に供給されたエアは高速( 1
40〜 200m/sec 程度)で、上流側と下流側の超音波発
生器6,6の連続溝13,13を通過し、この連続溝13,13
を通過したエアは、超音波エアE1 ,E2 (30〜 120K
Hz 程度の周波数の超音波が乗ったエア流)となって、
第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12から、傾斜角度θ
1 ,θ2 に平行に吹き出される。
【0038】そして、超音波エアE1 ,E2 は、相互に
接近する方向に流れて合流乱流空室16の中間部で合流す
る。これにより、合流乱流空室16内にエアの乱流が生じ
る。
【0039】ところで、ワークW表面をエアが一方向に
高速で流れるとワークW表面に境界層20が生じる。この
ため、ワークWに付着している微小な塵R(例えば直径
1〜10μm)は、境界層20内に閉じ込められる。
【0040】しかし、合流乱流空室16内ではエアの乱流
により、境界層20が生じ難く、かつ、生じた境界層20も
破壊される。
【0041】しかも、図3の略図で示すように、境界層
20は超音波21, 21によっても破壊される。これにより、
ワークW表面にエアが直接当たり、いわゆるエアナイフ
の効果により塵RをワークW表面から剥離させることが
できる。
【0042】さらに、図4に拡大して示すように、超音
波エアE1 ,E2 の合流点では、塵Rに 180°反対の2
方向(ワークWの上流側と下流側)から超音波エア
1 ,E2 が当たり、塵Rに矢印B方向の浮力が生じ
る。これにより、塵RをワークW表面から確実に剥離さ
せることができる。
【0043】図2にもどって、ワークW表面から剥離し
た塵Rは、吸引ノズル9を通り、エア吸入室3内に吸入
される。こうして、塵Rが除去される。
【0044】図5は、本発明の除塵装置の他の実施例を
示し、この場合、2個の除塵ヘッド1,1を上流側と下
流側に平行に隣接させて設けている。
【0045】このようにすれば、ワークW表面から塵R
を除去する効率をより高くすることができ、かつ、より
確実に塵Rを除去し得る。
【0046】なお、上記2個の除塵ヘッド1,1を一体
状に形成するも自由である。そして、その場合、上流側
の除塵ヘッド1の下流側エア排出室2bと、下流側の除
塵ヘッド1の上流側エア排出室2aとの間の壁部を省略
して相互に連通状とするのも好ましい。
【0047】次に実験例を示す。
【0048】図6に示すように、長方形のガラス板23に
2mm平方のポイントP1 〜P8 を1列に等間隔にマーキ
ングした。そして、液晶表示板に使用される直径5μm
のスペーサビーズを、各ポイントP1 〜P8 に300 〜40
0 個ずつ散布した。
【0049】上記のようにスペーサビーズを散布したガ
ラス板23を6枚作成し、これをワークWとして、図7に
示した従来の除塵装置と、図1に示した本発明の除塵装
置にて、夫々、3枚ずつ除塵を行った。なお、噴出する
エアの圧力を1600mmAqに設定し、除塵ヘッドとワーク表
面との間の間隔寸法を4〜5mmに設定した。
【0050】上述の除塵終了後、ガラス板23の各ポイン
トP1 〜P8 に残留したスペーサビーズの個数を数えた
結果を次の表1に示す。
【0051】
【表1】
【0052】表1から、本発明の除塵装置は、従来のも
のよりも優れた除塵能力を有することが分かった。
【0053】
【発明の効果】本発明は上述の如く構成されているの
で、次に記載する効果を奏する。
【0054】(図7に示すように)ワークWに対して付
着位置26にて付着した塵RはワークWから除去され易い
方向と除去され難い方向とを有する(方向性を有する)
ことがある。つまり、図7の左の塵は図の左方向からの
超音波エアE2 にて吹き飛ばされ易く、また、同図の右
の塵は逆に右方向からの超音波エアE1 にて吹き飛ばさ
れ易い。このような塵Rの付着状態にあって、本発明で
は異なる方向から超音波エアE1 ,E2 が吹き付けられ
るので、確実に除去が行なわれる。従って、ワークWに
付着した塵Rを効率良く除去することができ、優れたワ
ークWの洗浄効果を有するものとし得る。
【0055】また、第1噴出ノズル11の上流側と第2噴
出ノズル12の下流側にエアが漏れないようにすることが
でき、ワークWから剥離した塵Rを、確実に吸引ノズル
9内に送ることができる。さらに、外部への音漏れを防
止でき、騒音を低減させ得る。
【0056】第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12と吸
引ノズル9とを、エア排出室2とエア吸入室3とを有す
るケーシング4の下面側に、配設すれば、除塵装置の組
立てが容易となり、かつ、第1噴出ノズル11,第2噴出
ノズル12,吸引ノズル9の位置決めを容易に行い得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の断面側面図である。
【図2】要部拡大断面側面図である。
【図3】使用状態を説明する簡略図である。
【図4】使用状態を説明する要部拡大断面図である。
【図5】他の実施例の要部断面側面図である。
【図6】別の使用状態を説明する要部拡大断面図であ
る。
【図7】作用を説明する簡略図である。
【図8】実験例のワークを示す平面図である。
【図9】従来例を示す断面側面図である。
【符号の説明】
9 吸引ノズル 11 第1噴出ノズル 12 第2噴出ノズル 16 合流乱流空室 17 壁面 24 凹面 E1 超音波エア E2 超音波エア W ワーク
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年10月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正内容】
【0002】
【従来の技術】従来の除塵装置としては、図に示すよ
うに、矢印a方向に走行するワークbの上方に、走行方
向に直交する方向に配設される除塵ヘッドmを備えてい
た。その除塵ヘッドmは、ケーシングc内を仕切壁dに
て下流側のエア排出室eと上流側のエア吸入室fとに分
けて、エア排出室eの底部に超音波発生器gを設けると
共にその超音波発生器gの下方に超音波エアを発生する
噴出ノズルhを開設し、かつ、エア吸入室fの底壁部に
吸引ノズルiを開設したものであった。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】図に示すように、長方形のガラス板23
に2mm平方のポイントP〜Pを1列に等間隔にマ
ーキングした。そして、液晶表示板に使用される直径5
μmのスペーサビーズを、各ポイントP〜Pに30
0〜400個ずつ散布した。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0049
【補正方法】変更
【補正内容】
【0049】上記のようにスペーサビーズを散布したガ
ラス板23を6枚作成し、これをワークWとして、図
に示した従来の除塵装置と、図1に示した本発明の除塵
装置にて、夫々、3枚ずつ除塵を行った。なお、噴出す
るエアの圧力を1600mmAqに設定し、除塵ヘッド
とワーク表面との間の間隔寸法を4〜5mmに設定し
た。
【手続補正4】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 相互に接近する方向に超音波エアE1 ,
    2 を噴出する第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12
    を、設けると共に、該第1噴出ノズル11と第2噴出ノズ
    ル12の間に、吸引ノズル9を配設したことを特徴とする
    除塵装置。
  2. 【請求項2】 第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12と
    ワークW表面との間に、合流乱流空室16を形成した請求
    項1記載の除塵装置。
  3. 【請求項3】 吸引ノズル9の開口部を有する壁面17,
    17を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面24に形成
    した請求項1記載の除塵装置。
  4. 【請求項4】 凹面24の上流側端縁に第1噴出ノズル11
    を配設し、かつ、凹面24の下流側端縁に第2噴出ノズル
    12を配設した請求項3記載の除塵装置。
  5. 【請求項5】 第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12と
    吸引ノズル9とを、エア排出室2とエア吸入室3とを有
    するケーシング4の下面側に、配設した請求項1記載の
    除塵装置。
JP5240672A 1993-08-31 1993-08-31 除塵装置 Expired - Fee Related JP2820599B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5240672A JP2820599B2 (ja) 1993-08-31 1993-08-31 除塵装置
TW082109119A TW231974B (en) 1993-08-31 1993-11-02 Dust sweeping device
US08/169,206 US5457847A (en) 1993-08-31 1993-12-20 Dust removing system
KR1019930030761A KR970009001B1 (ko) 1993-08-31 1993-12-29 제진장치
DE69409314T DE69409314T2 (de) 1993-08-31 1994-01-14 System zum Entfernen von Staub
EP94100511A EP0640411B1 (en) 1993-08-31 1994-01-14 Dust removing system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5240672A JP2820599B2 (ja) 1993-08-31 1993-08-31 除塵装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23408394A Division JPH0768226A (ja) 1994-09-02 1994-09-02 除塵装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0760211A true JPH0760211A (ja) 1995-03-07
JP2820599B2 JP2820599B2 (ja) 1998-11-05

Family

ID=17062992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5240672A Expired - Fee Related JP2820599B2 (ja) 1993-08-31 1993-08-31 除塵装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5457847A (ja)
EP (1) EP0640411B1 (ja)
JP (1) JP2820599B2 (ja)
KR (1) KR970009001B1 (ja)
DE (1) DE69409314T2 (ja)
TW (1) TW231974B (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6522480B2 (en) 2001-06-15 2003-02-18 Fuji Photo Optical Co., Ltd. Taking lens apparatus
US6924842B2 (en) 2001-03-30 2005-08-02 Fujinon Corporation Focusing state determining adapter for taking lens
US7030927B2 (en) 2001-03-28 2006-04-18 Fujinon Corporation Apparatus for detecting focusing status of taking lens
US7262805B2 (en) 2002-03-13 2007-08-28 Fujinon Corporation Focus detecting system
CN100372620C (zh) * 2004-10-12 2008-03-05 友达光电股份有限公司 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法
US8399795B2 (en) 2007-05-11 2013-03-19 Force Technology Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves
KR101341452B1 (ko) * 2011-12-27 2013-12-13 씨티에스(주) 플라즈마 애싱 건식 초음파세정기 및 그 플라즈마 헤드
JP2014083538A (ja) * 2012-10-18 2014-05-12 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd プリント回路基板の異物除去装置及びプリント回路基板の異物除去方法
US9089829B2 (en) 2004-08-13 2015-07-28 Force Technology Method and device for enhancing a process involving a solid object and a gas
JP2017164676A (ja) * 2016-03-15 2017-09-21 大日本印刷株式会社 異物除去装置
KR20170139470A (ko) * 2017-11-29 2017-12-19 동우 화인켐 주식회사 필름 클리닝 장치
KR101875715B1 (ko) * 2017-06-27 2018-07-06 윤중식 필름 이물질 건식 제거 장치

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI95611C (fi) * 1994-05-16 1996-02-26 Valmet Paper Machinery Inc Menetelmä ja laite paperikoneella tai sen jälkikäsittelylaitteella rainasta irtoavan pölyn keräämiseksi ja poistamiseksi
JP3122370B2 (ja) * 1996-05-29 2001-01-09 株式会社伸興 除塵装置
US6148831A (en) * 1996-10-25 2000-11-21 Valmet Corporation Method for cleaning a web
FI104099B (fi) * 1996-10-25 1999-11-15 Valmet Corp Menetelmä ja laite paperikoneella tai vastaavalla tai sen jälkikäsittelylaitteella pölyn poistamiseksi
AT408462B (de) * 1999-11-18 2001-12-27 Andritz Ag Maschf Verfahren und vorrichtung zur staubabtrennung von einer laufenden papierbahn
US6490746B1 (en) * 2000-07-24 2002-12-10 Eastman Kodak Company Apparatus and method for cleaning objects having generally irregular, undulating surface features
US6543078B1 (en) * 2000-07-24 2003-04-08 Eastman Kodak Company Apparatus and method for cleaning object having generally irregular surface features
WO2002053300A1 (en) * 2001-01-04 2002-07-11 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for critical flow particle removal
US6868785B2 (en) * 2002-03-13 2005-03-22 Goss International Corporation De-Duster for a moving printing material web and cutting device, folder and printing press having the de-duster
DE10211309A1 (de) * 2002-03-13 2003-09-25 Heidelberger Druckmasch Ag Schneidvorrichtung mit Entstaubungsvorrichtung im Falzapparat einer bahnverarbeitenden Druckmaschine
JP2005034782A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Sony Corp 洗浄装置及び洗浄方法
US20050126605A1 (en) * 2003-12-15 2005-06-16 Coreflow Scientific Solutions Ltd. Apparatus and method for cleaning surfaces
US7111797B2 (en) * 2004-03-22 2006-09-26 International Business Machines Corporation Non-contact fluid particle cleaner and method
US8118942B2 (en) * 2004-09-17 2012-02-21 David Featherson Dust removal apparatus and method
GB2419276B (en) * 2004-10-22 2007-08-15 Polar Light Ltd Cleaning head for a surface cleaning apparatus
JP4710368B2 (ja) * 2005-03-18 2011-06-29 富士フイルム株式会社 塗膜硬化方法及び装置
IES20050297A2 (en) * 2005-05-10 2006-10-04 Lifestyle Foods Ltd Material recovery system
ES2273587B1 (es) * 2005-07-29 2008-04-16 Forgestal, S.L. Dispositivo para la limpieza bajo bloques de sobresolera para vagonetas de hornos tunel.
KR200437869Y1 (ko) * 2006-12-04 2008-01-04 씨티에스(주) 제진노즐 내의 공기토출구 구조
AU2008275133A1 (en) * 2007-07-09 2009-01-15 S.C. Johnson & Son, Inc. Handheld portable devices for touchless particulate matter removal
JP5268097B2 (ja) * 2008-09-04 2013-08-21 ヒューグルエレクトロニクス株式会社 除塵装置
KR101341013B1 (ko) * 2008-09-04 2013-12-13 엘지디스플레이 주식회사 세정 장치
MX2011005951A (es) 2008-12-03 2011-08-17 Johnson & Son Inc S C Aparatos portatiles para la remocion de materia particulada sin hacer contacto.
EP2311580B1 (en) 2009-10-16 2012-08-08 Shinko Co., Ltd. Dust-removing apparatus
CN102039613B (zh) * 2009-10-22 2014-04-30 株式会社伸兴 除尘装置
US8695156B2 (en) * 2010-02-10 2014-04-15 Jeffrey S. Marshall Aeroacoustic duster
JP5162612B2 (ja) * 2010-03-26 2013-03-13 三星ダイヤモンド工業株式会社 エア集塵装置
TW201250014A (en) * 2011-06-15 2012-12-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Coating umbrella stand
CN102886370A (zh) * 2012-03-09 2013-01-23 李小川 一种粉尘捕收方法与装置
US20140007372A1 (en) * 2012-07-09 2014-01-09 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Cleaning device
CN202725553U (zh) * 2012-07-09 2013-02-13 深圳市华星光电技术有限公司 清洁装置
CN103341405B (zh) * 2013-07-24 2015-09-09 深圳市华星光电技术有限公司 玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置
US10112223B2 (en) * 2013-07-26 2018-10-30 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Method for cleansing glass substrate and device for performing the method
JP6700150B2 (ja) * 2016-10-03 2020-05-27 東京エレクトロン株式会社 パーティクル捕集装置、パーティクル捕集方法、およびパーティクル捕集システム
EP3418450B1 (de) * 2017-06-21 2020-05-06 Brügger HTB GmbH Tunnelreinigungsvorrichtung
CN111299245A (zh) * 2018-12-11 2020-06-19 韶阳科技股份有限公司 气体循环装置
US11541434B2 (en) * 2019-01-09 2023-01-03 Raytheon Technologies Corporation Vortex assisted powder removal end effector
TWI711495B (zh) * 2019-08-27 2020-12-01 勵威電子股份有限公司 一種乾式超聲波清洗頭及清洗機
IT202000012211A1 (it) * 2020-05-25 2021-11-25 F M Srl Sistema di captazione e processo di produzione di tale sistema di captazione

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3420710A (en) * 1964-09-03 1969-01-07 Du Pont Process and apparatus for cleaning webs utilizing a sonic air blast
US3678534A (en) * 1970-07-06 1972-07-25 Rohr Corp Vacuum cleaner head with supersonic gas jets
US3915739A (en) * 1974-07-12 1975-10-28 Montreal Method of cleaning foreign matter from a cavity in a semiconductor
DE2938863A1 (de) * 1979-09-26 1981-04-09 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Einrichtung zum kontaktlosen entfernen von staub
SE8107374L (sv) * 1981-12-09 1983-06-10 Kelva Ab Banrenare
EP0127618A1 (en) * 1982-11-29 1984-12-12 HOWARD, Paul Clifford Paperboard edge buffer and cleaner
US4677704A (en) * 1986-04-22 1987-07-07 Huggins Richard A Cleaning system for static charged semiconductor wafer surface
DE3711777A1 (de) * 1987-04-08 1988-10-27 Claus G Dipl Ing Wandres Verfahren und vorrichtung zum entstauben von folien o. dgl.
DE4120973A1 (de) * 1991-06-25 1993-01-07 Eltex Elektrostatik Gmbh Vorrichtung zum abfuehren von staub
JP2567191Y2 (ja) * 1992-04-13 1998-03-30 株式会社伸興 パネル体の除塵装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7030927B2 (en) 2001-03-28 2006-04-18 Fujinon Corporation Apparatus for detecting focusing status of taking lens
US6924842B2 (en) 2001-03-30 2005-08-02 Fujinon Corporation Focusing state determining adapter for taking lens
US6522480B2 (en) 2001-06-15 2003-02-18 Fuji Photo Optical Co., Ltd. Taking lens apparatus
US7262805B2 (en) 2002-03-13 2007-08-28 Fujinon Corporation Focus detecting system
US9089829B2 (en) 2004-08-13 2015-07-28 Force Technology Method and device for enhancing a process involving a solid object and a gas
CN100372620C (zh) * 2004-10-12 2008-03-05 友达光电股份有限公司 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法
US8399795B2 (en) 2007-05-11 2013-03-19 Force Technology Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves
KR101341452B1 (ko) * 2011-12-27 2013-12-13 씨티에스(주) 플라즈마 애싱 건식 초음파세정기 및 그 플라즈마 헤드
JP2014083538A (ja) * 2012-10-18 2014-05-12 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd プリント回路基板の異物除去装置及びプリント回路基板の異物除去方法
JP2017164676A (ja) * 2016-03-15 2017-09-21 大日本印刷株式会社 異物除去装置
KR101875715B1 (ko) * 2017-06-27 2018-07-06 윤중식 필름 이물질 건식 제거 장치
KR20170139470A (ko) * 2017-11-29 2017-12-19 동우 화인켐 주식회사 필름 클리닝 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR970009001B1 (ko) 1997-06-03
KR950005390A (ko) 1995-03-20
EP0640411B1 (en) 1998-04-01
DE69409314T2 (de) 1998-09-03
DE69409314D1 (de) 1998-05-07
JP2820599B2 (ja) 1998-11-05
US5457847A (en) 1995-10-17
TW231974B (en) 1994-10-11
EP0640411A1 (en) 1995-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0760211A (ja) 除塵装置
US4594748A (en) Apparatus for cleaning particles from a web
JP5268097B2 (ja) 除塵装置
KR970052718A (ko) 기판세정장치 및 기판세정방법
TW201420219A (zh) 除塵裝置
JP2567191Y2 (ja) パネル体の除塵装置
JP7014933B2 (ja) 印刷機械
JPH10309553A (ja) 除塵装置
JP2003243811A (ja) プリント回路板のスプレー処理装置
JP3559256B2 (ja) 枚葉ワークの異物除去装置
JPH0768226A (ja) 除塵装置
JP6994654B1 (ja) 超音波洗浄装置
JP3009694U (ja) 除塵装置
JP2004167494A (ja) 枚葉ワークの異物除去装置
JP7120688B1 (ja) クリーニングヘッド
JP4256510B2 (ja) サンドブラスト加工における被加工物のクリーニングユニット
JPH0938608A (ja) 除塵装置
JP7044618B2 (ja) エッチング装置
JP6841633B2 (ja) 気液除塵装置
JP3809229B2 (ja) 水滴・塵等付着物除去装置
JP3766535B2 (ja) 超音波発生用ノズル
JPH08257520A (ja) 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置
JP3152197U (ja) シート状ワーク洗浄装置
JP6110111B6 (ja) 除塵装置
KR960001964Y1 (ko) 패널체의 제진장치

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070828

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080828

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080828

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090828

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100828

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110828

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110828

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130828

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees