JP6994654B1 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1に記載のものは、槽型の超音波洗浄装置であって、内部に洗浄液を収容して被洗浄基板を浸漬する洗浄容器と、この洗浄容器内の洗浄液に超音波を付与する帯板状の超音波振動子と長方形の振動板との組からなる超音波照射手段とを備えて概略構成されている。この構成において、上記洗浄容器内の洗浄液を伝達媒体として、洗浄液の液中に漬かる上記被洗浄基板に対して超音波振動を照射すると、超音波の洗浄作用によって、残滓や汚れが基板表面の隅々から剥離(以下、超音波剥離ともいう)し、洗浄液の液中で浮遊分散状態となって除去される。
その理由は、次の通りである。すなわち、被洗浄物が基板のように薄厚の場合、一般に、表裏面とも、超音波振動の影響を受けて発熱するが、特許文献2に記載の構成では、冷却媒体でもある洗浄液の噴流に晒されるのは、被洗浄物の表面側だけであるため、表面側は安定温度に保たれるものの、裏面側は、過熱状態となりがちである。
図1は、この発明の第1の実施形態であるフレキソ印版用の超音波洗浄装置の概略構成を示す模式的な垂直断面図、図2は、同超音波洗浄装置の概略構成を示す模式的な平面図、また、図3は、同実施形態に供される被洗浄物としてのフレキソ印版の概略構成を示す模式的な垂直断面図である。
洗浄槽2内に洗浄液(たとえば、アルカリ水溶液)Lを供給して、超音波槽(超音波照射設備)3をすっぽり洗浄液Lの液面下に沈めると、スリット状の開口部32を介して、下方の超音波槽3内の洗浄液Lと上方の洗浄槽2の洗浄液Lとの間が連通状態になる。さらに、完全に水没した状態でのフレキソ印版100の搬送が可能となるまで、洗浄槽2内に洗浄液Lを注入する。なお、洗浄液Lは、アルカリ水溶液に限定されない。
図3は、この発明の第2の実施形態である超音波洗浄装置の概略構成を示す模式的な垂直断面図である。
この第2の実施形態の超音波洗浄装置1Bが、第1の実施形態の超音波洗浄装置1Aと大きく異なるところは、超音波洗浄装置1Bには、図3に示すように、超音波洗浄済みのフレキソ印版100(樹脂凸版101,101,…)に対して、仕上げ洗浄として、洗浄槽2内の同じ洗浄液Lで高圧噴射洗浄するための高圧洗浄設備(高圧洗浄手段)6が付加されている点である。図3において、図1の構成部分と同一の各部については、同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。
上記高圧洗浄設備6は、図3に示すように、高圧の洗浄液Lを供給するための高圧ポンプ61と、フレキソ印版100の搬出方向と直交する方向(図3中紙面垂直方向)に延びる高圧の洗浄液Lを噴出するスリット状のノズル62と、送液管63と、還流管64と、還流される洗浄液Lをろ過するためのフィルタ装置65とを備えている。
上記構成において、超音波洗浄処理後のフレキソ印版100(樹脂凸版101,101,…)が、搬送ローラ51,51によって、搬出ガイド手段53の案内の下で、洗浄液Lの液外へ引き上げられると、すぐに、スリット状のノズル62から噴出される高圧の洗浄液Lによって、さらなる洗浄処理を受ける。
2 洗浄槽
3 超音波槽
31 天井部、流れ規制部
32 スリット状の開口部
33 超音波照射部
34 超音波集中室
4 循環ポンプ(噴流発生手段)
5 搬送手段
51 搬送ローラ
52 搬入ガイド手段
53 搬出ガイド手段
6 高圧洗浄設備(高圧洗浄手段)
100 フレキソ印版(被洗浄物)
101 樹脂凸版
102 キャリア用フィルム
L 洗浄液
J 噴流
F 衝突後の噴流
Claims (6)
- 洗浄液が収容された洗浄槽内において、前記洗浄液の液中に浸漬された状態の被洗浄物に対して超音波洗浄を行う超音波洗浄装置であって、
超音波を付与された洗浄液の噴流の供給を受けて、前記被洗浄物に対して、前記超音波洗浄を行う場を提供する浅底の槽域と、該浅底の槽域内で前記被洗浄物の超音波洗浄に供せられた使用後の洗浄液を収容する深底の槽域とを有する前記洗浄槽と、
前記浅底の槽域の底部に穿設され、前記浅底の槽域内の液中に浸漬された前記被洗浄物に向けて、前記超音波を付与された前記洗浄液の噴流を噴射する開口部と、
前記噴流に用いられる前記洗浄液を収容すると共に、前記開口部から噴射される前記洗浄液の噴流に前記超音波を付与する超音波照射設備を備える、天井部付きの超音波槽と、
該超音波槽内の前記洗浄液に流動力を与えて、前記開口部から前記浅底の槽域内に、前記超音波を付与された前記洗浄液の前記噴流を噴射させ、前記被洗浄物に衝突させる噴流発生手段と、
前記深底の槽域に収容された前記使用後の洗浄液を排出するための排出部と、
を備えてなると共に、
前記超音波槽の上部に位置する前記天井部の上面が、前記浅底の槽域の底面をなすように構成されていると共に、前記天井部に穿設された開口部によって、前記浅底の槽域の底部に穿設されている前記開口部が構成されている
ことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記被洗浄物と前記浅底の槽域の底面である前記天井部の上面との間隙を調整して狭めることで、当該間隙を前記深底の槽域側に向かって流れる前記使用後の洗浄液の流速を速める構成になされていることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記被洗浄物と前記浅底の槽域の底面である前記天井部の上面との間隙が、1~3mmに設定されていることを特徴とする請求項1又は2記載の超音波洗浄装置。
- 前記被洗浄物が、搬送手段によって、前記浅底の槽域内を所定の方向に液中搬送され、前記開口部の直上を通過する際に、前記超音波を付与された前記洗浄液の噴流の衝突を受けて、前記超音波洗浄が行われる構成になされていることを特徴とする請求項1、2又は3記載の超音波洗浄装置。
- 前記開口部は、前記浅底の槽域の底面に、前記所定の方向と交差する方向に延設されたスリット状の開口部であることを特徴とする請求項4記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波洗浄を終えて、前記洗浄槽内の洗浄液の液中から大気中に出された前記被洗浄物に対して、前記洗浄槽内の前記洗浄液を高圧で噴射して仕上げ洗浄をするための高圧洗浄手段がさらに付加されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1に記載の超音波洗浄装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN117840126A (zh) * | 2024-01-18 | 2024-04-09 | 芯朋半导体科技(如东)有限公司 | 一种超声波清洗构件及半导体清洗设备 |
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CN117840126B (zh) * | 2024-01-18 | 2024-06-25 | 芯朋半导体科技(如东)有限公司 | 一种超声波清洗构件及半导体清洗设备 |
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