CN100372620C - 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 title abstract description 11
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 title abstract description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 title abstract 7
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 68
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 96
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 96
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract 4
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 abstract 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000009514 concussion Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法，其中蒸镀机台包括一蒸镀室，一超音波清洁室以及至少一传输装置。蒸镀室内利用至少一遮罩对一基板进行蒸镀作业。传输装置用于在蒸镀室及超音波清洁室之间传递遮罩。超音波清洁室内，设有一除尘装置，该除尘装置包括一超音波产生器、一气流吹出器以及一吸尘器。清洁遮罩的方法是利用传输装置将遮罩由蒸镀室取出，送入超音波清洁室中，藉由除尘装置中的超音波产生器产生震波震动遮罩表面的微粒并使微粒易于松动，且由气流吹出器吹出气流将遮罩表面的微粒扬起，并以吸尘器将所扬起的微粒吸除。在遮罩清洁完成后，由传输装置将遮罩送至蒸镀室内进行蒸镀作业。
Description
技术领域
本发明涉及一种除尘装置及一种具有此除尘装置的蒸镀机台，并且还涉及一种利用此蒸镀机台对遮罩进行线上清洁的方法。
背景技术
现今，由于有机发光二极管(Organic Light Emitted Diode，以下简称OLED)显示器具有高亮度、高反应速度、直流低电压驱动、重量轻、无视角差及不需背光源等诸多优点，使其越来越受到人 们的重视，成为下一代显示器面板的发展重点。
而最常利用遮罩蒸镀法是选择性地在玻璃基板表面分别形成可发出红、蓝、绿三色光的发光薄膜层。
其中遮罩蒸镀法的主要作业方式，是将一表面已具有透明电极层(ITO)的玻璃基板送至蒸镀室中，并在蒸镀室内设有红、蓝、绿三色的有机发光材料源，每当进行其中一种颜色的薄膜层的蒸镀作业时，使此颜色的材料蒸发，同时利用一具有开孔的遮罩遮蔽基板，使汽化后的材料通过遮罩的开孔，附着成形于玻璃基板的透明电极层表面，并在此一颜色的薄膜层形成后，遮罩平行于基板移动，使遮罩的开孔位移动至下一颜色薄膜层预定形成的位置，以进行下一颜色的薄膜层的蒸镀。
如图1A所示，玻璃基板1，其表面已形成一透明电极层11，并利用阴极图案加工方法，在透明电极层11的表面形成一隔离柱12，其功用之一是用于支撑在蒸镀作业时所使用的遮罩2，使遮罩2在遮蔽透明电极层11时，不会直接碰触到透明电极层11而使透明电极层11发生毁损。
遮罩2具有复数个开孔21，当遮罩2与隔离柱12紧密贴合后，透明电极层11表面大部分区域被遮罩2所遮蔽，仅露出开孔21处的透明电极层11表面。
进行蒸镀作业时，使有机发光材料源蒸发为汽态，通过遮罩2的开孔21，附着于透明电极层11表面，而形成第一薄膜层R。
在完成第一薄膜层R的蒸镀作业后，略下移遮罩2，使遮罩2不再密合于隔离柱12，并平行于玻璃基板1移动遮罩2，将遮罩2准确的移动至其开孔21位于第二薄膜层G预定形成位置后，再与隔离柱12紧密贴合，进行材料蒸镀作业，使玻璃基板1的透明电极层11表面，形成第二薄膜层G后，再次重复前述动作，形成第三薄膜层B，如图1B所示。
在蒸镀作业中，环境中的细小尘粒粉屑，或是材料蒸镀过程中所累积在遮罩表面的多余材料，使得遮罩表面在蒸镀作业中会粘附有许多微粒。
而当遮罩表面附着有微粒时，则会造成许多可能问题，如图2A所示，当遮罩2的内表面附着有微粒3时，当遮罩2与隔离壁12相贴合时，微粒3可能会毁损隔离壁12，甚或压毁已形成的薄膜层。如图2B所示，当遮罩2外表面的开孔21处附着有微粒3时，微粒3将遮挡遮罩2的开孔21，使得预定形成的薄膜层范围缩小，甚或微粒3可能完全阻塞开孔21的情形。而这些都会造成产品严重的缺陷。
因此，微粒的清除，在蒸镀作业中实为极重要的一环，而在传统的清洁技术中，主要分为湿式清洁及干式清洁两种。
湿式清洁多是将遮罩移出蒸镀机台外，将遮罩置入化学液中，并佐以超音波震荡进行清洁，但此方法除了清洁时所需耗费的时间较长外，为了去除清洁后可能残存在遮罩表面的水气，尚须再行进行干燥程序，而在清洁过程中，遮罩须离线进行清洁，蒸镀作业无法继续进行，造成蒸镀机台的闲置。因此，实际使用时往往在数批产品进行蒸镀作业后，才对遮罩进行清洁作业，但如此一来，遮罩表面所附着的微粒极有可能在蒸镀时已对产品造成破坏，严重影响了蒸镀品质的稳定度。
而干式清洁是在蒸镀机台内，增设一电浆清洁室，用电浆对遮罩表面进行清洁，然而，电浆清洁对于遮罩表面所附着的较大微粒清除能力不佳，若为了提高清洁能力，而以高功率高温度进行清洁，则可能对遮罩产生损害。
因此，如何改进蒸镀机台与清洁方法，而有效进行蒸镀作业并能同时确保蒸镀品质的稳定度，是本发明中创作人员所研究的重要课题之一。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种除尘装置、具有此除尘装置的蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法，该方法可在蒸镀机台内对欲清洁的遮罩进行线上清洁，使蒸镀机台不须闲置，而能充分运用机台产能。
本发明的另一目的在于提供一种除尘装置、具有此除尘装置的蒸镀机台及以其进行清洁的方法，该方法可以不伤害遮罩的方式，而有效清洁遮罩表面所粘附的微粒，确保产品的品质。
本发明中的除尘装置，装设于蒸镀机台的腔室内，与蒸镀机台相结合，于蒸镀机台内利用传输装置的传输，对欲清洁的对象进行清洁。
本发明中具有所述除尘装置的蒸镀机台，用于一有机发光二极管显示器的蒸镀成膜制程中，包括一蒸镀室、一超音波清洁室及至少一传输装置：
蒸镀室内，设有蒸镀制程中所需使用的有机材料源，利用至少一遮罩对已具有透明电极表面的玻璃基板进行蒸镀作业；
传输装置，例如一机械手臂或其等效的装置，可在蒸镀室及超音波清洁室之间，传递所述遮罩；
超音波清洁室，其内部至少设有一所述除尘装置，其具有超音波产生器、一气流吹出器以及一吸尘器。
本发明中蒸镀机台遮罩的清洁方法，利用所述蒸镀机台，依实际需求及遮罩的清洁度，弹性调整进行清洁遮罩的频率，甚至可当遮罩每次完成蒸镀作业后，即利用传输装置将遮罩送入超音波清洁室中，进行清洁。
当传输装置将遮罩送入超音波清洁室进行清洁时，利用除尘装置中超音波产生器所产生的震波将遮罩表面的微粒震动，并减弱微粒与遮罩表面之间的附着结构，使微粒易于松动。同时气流吹出器吹出的气流会将遮罩表面的微粒扬起，并以吸尘器将所扬起的微粒吸除，达到清洁遮罩的目的。于清洁完成后，利用传输装置将遮罩送回蒸镀室内，再次进行蒸镀作业。
本发明中的蒸镀机台适用于OLED显示器蒸镀成膜制程中。
本发明中的除尘装置内，气流吹出器位于超音波产生器的一侧边，吸尘器位于超音波产生器的另一侧边，清洁时，在遮罩上方持续移动除尘装置，利用除尘装置对遮罩进行清洁。
为了使微粒更有效的被清除，本发明在超音波产生器与气流吹出器之间具有一第一夹角，同时在使超音波产生器与吸尘器之间具有一第二夹角，藉由此二夹角，气流吹出器所吹出的气流在流经遮罩后，带着所扬起的微粒，反射进入吸尘器中。
气流吹出器除可利用其本身具有的泵产生气流外，更可与一加压气体管路连结，并藉由加压气体管路提供气流吹出器氮气或洁净干燥空气或是其它不影响遮罩的气体。
同样的，吸尘器除可利用其本身具有的泵的作动来吸入气流外，更可与一负压管路连结，藉其吸力，将吸尘器所吸取的微粒排入负压管路内。
此外，为了维持蒸镀机台内部真空度，本发明中超音波清洁室更可设置一闸门及一真空抽气***，当遮罩送入超音波清洁室后，关闭闸门以进行清洁作业，并在清洁完成后，以真空抽气***将超音波清洁室内抽取至所需真空度后，打开闸门，以传输装置将遮罩送回蒸镀室中。
附图说明
图1A和图1B是现有遮罩蒸镀过程的示意图；
图2A和图2B是遮罩表面附着有微粒时的示意图；
图3是本发明中蒸镀机台实施例一的示意图；
图4A和图4B是图3中所示超音波清洁室的结构示意图和剖视图；
图5是本发明中蒸镀机台实施例二的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明中的具体实施例作进一步详细说明。
本发明中的除尘装置及具有此除尘装置的蒸镀机台使用于一有机发光二极管显示器的蒸镀成膜制程中。
实施例一
如图3所示，本发明中具有除尘装置的蒸镀机台包括有一蒸镀室41、一超音波清洁室42及一传输装置43。
在蒸镀室41中，利用遮罩2进行蒸镀作业。
传输装置43设于一真空腔室431中，此真空腔室431两侧分别与蒸镀室41及超音波清洁室42连接。
在每次蒸镀作业中，因环境的细微尘粒或因有机发光材料的污染，于遮罩2表面可能会逐渐粘附有微粒。
如图3所示，在本实施例中，每次当遮罩2完成蒸镀作业后，即利用传输装置43将遮罩2从蒸镀室41中取出，送入超音波清洁室42中进行清洁，并于清洁完成后，再次将遮罩2从超音波清洁室42中取出，送回蒸镀室41中继续进行蒸镀作业。
在此特别说明，本蒸镀机台内部空间更可增设其它腔室，例如基板卸载室、金属电极蒸镀室、基板前处理室、封装室(图中未示出)等等，利用传输装置于各腔室之间传递基板进行作业。由于这些都是本技术领域的公知技术，不再详细说明。而因水气及氧气极容易使OLED组件特性劣化，故在显示器封装完成前，各项作业皆须在真空环境中完成，所以蒸镀机台内部维持于所需的真空度下，而在本实施例中，是以不破坏蒸镀机台内部真空度之下，对遮罩进行清洁。
如图4A和图4B所示，超音波清洁室42中设有一除尘装置421、一闸门422、一真空抽气***423、一加压气体管路424以及一负压管路425。
除尘装置421中设有一超音波产生器4211、一气流吹出器4212以及一吸尘器4213。气流吹出器4212位于超音波产生器4211的左侧，两者间具有一第一夹角A1，吸尘器421 3位于超音波产生器4211的右侧边，两者间具有一第二夹角A2。
此外，气流吹出器4212与加压气体管路424相连通，藉由加压气体管路424提供气流吹出器4212吹出氮气。吸尘器4213则与负压管路425相连通，吸尘器4213可将吸入的微粒排入至负压管路中425。
本发明中清洁遮罩的方法，是当欲对遮罩2进行清洁时，传输装置43将遮罩2送入超音波清洁室41，为了维持蒸镀机台内部真空度，关闭闸门422，使超音波清洁室41与蒸镀机台其它腔室隔绝后，进行清洁作业。
进行清洁时，除尘装置421于遮罩2上方来回移动以进行清洁。在除尘装置421于遮罩2上方以X方向来回移动的同时，超音波产生器4211所产生的震波，可震动遮罩2表面的微粒，并减弱了微粒3与遮罩2表面两者之间的附着结构，使得微粒3更容易松动而被移除。同时，藉由加压气体管路424所提供的氮气，气流吹出器4212以第一夹角A1将气体吹向遮罩2表面，将遮罩2表面已松动的微粒3扬起吹除，并挟带着被扬起的微粒3，经由遮罩2表面的反射，进入以第二夹角A2设置的吸尘器4213中，将微粒3排入负压管路425中，完成对遮罩2的清洁。
在完成清洁后，以真空抽气***423将超音波清洁室42内抽取至所需真空度后，打开闸门422，用传输装置43将遮罩2送回蒸镀室41中，进行下一次的蒸镀作业。
在其它实施例中，本发明具有除尘装置的蒸镀机台及以其进行清洁的方法，更可使用复数个传输装置及复数个遮罩来增进效率。
实施例二
如图5所示，本实施例与第一实施例中基本相同，且对相同部分不再详细说明，而其不同处在于，其是利用第一传输装置43a及第二传输装置43b及第一遮罩2a、第二遮罩2b进行蒸镀作业。当以第一遮罩2a于蒸镀室41完成蒸镀作业后，利用第一传输装置43a将第一遮罩2a从蒸镀室41中取出，送入超音波清洁室42中进行清洁，同时以第二传输装置43b将第二遮罩2b送入蒸镀室41中，在第一遮罩2a于超音波清洁室43进行清洁的同时，第二遮罩2b可在蒸镀室41内继续进行另一次蒸镀作业，如此依序轮流以第一遮罩2a及第二遮罩2b进行蒸镀作业，而可充分发挥蒸镀机台的产能。
综上所述，本发明具有下列优点：
1.将遮罩的清洁过程对蒸镀机台产出的影响降至最低。因遮罩的清洁过程，为一线上清洁过程，不须将遮罩取出蒸镀机台外，亦不须破坏蒸镀机台内部的真空度，即可完成清洁，甚至可如第二实施例所述，利用复数个遮罩同时进行线上清洁及蒸镀作业，而发挥蒸镀机台最大的产能。
2.利用多种手段同时对遮罩进行清洁，确保遮罩的洁净及蒸镀品质的稳定度。本发明在同时利用超音波将微粒震动后，以气流将其吹除，并同时以吸尘器将其抽离，可在不伤害遮罩的环境下，有效除去附着于遮罩上较大的微粒。更因可将清洁遮罩对蒸镀机台产能的影响降到最低，而不须在进行数批产品的蒸镀后才进行清洁，可依需要调整清洁的频率，确保了蒸镀品质的稳定。
另外，上述虽然本发明中的多个较佳实施例作了详细说明，但并不能作为本发明的保护范围，因作为本领域的技术人员对其作出相应的修改与修饰是可以的，因此，凡是依据本发明的设计精神而作出的等效变化或修饰，均应认为落入本发明的保护范围。
Claims (22)
1.一种除尘装置，适用于一蒸镀机台中，所述除尘装置包括相互独立且相邻的一超音波产生器、一气流吹出器以及一吸尘器；
其中所述超音波产生器产生震波将对象表面的微粒震动并使该微粒松动，同时所述气流吹出器吹出气流将该微粒扬起，并由所述吸尘器将该微粒吸除。
2.根据权利要求1中所述的除尘装置，其特征在于：所述气流吹出器位于所述超音波产生器的一侧，所述吸尘器位于所述超音波产生器的另一侧。
3.根据权利要求1中所述的除尘装置，其特征在于：所述超音波产生器、气流吹出器以及吸尘器可于所述对象上方移动。
4.根据权利要求1中所述的除尘装置，其特征在于：所述超音波产生器与气流吹出器之间具有一第一夹角，并在超音波产生器与吸尘器之间具有一第二夹角；利用该二夹角，使气流吹出器所吹出的气流流经对象后，反射进入吸尘器中。
5.根据权利要求1中所述的除尘装置，其特征在于：所述气流吹出器与一加压气体管路连结。
6.根据权利要求5中所述的除尘装置，其特征在于：所述加压气体管路可提供气流吹出器一洁净干燥空气。
7.根据权利要求5中所述的除尘装置，其特征在于：所述加压气体管路可提供气流吹出器一氮气。
8.根据权利要求1中所述的除尘装置，其特征在于：所述吸尘器与一负压管路连结，使吸尘器所吸取的微粒，排入所述负压管路内。
9.根据权利要求1中所述的除尘装置，其特征在于：所述蒸镀机台用于有机发光二极管显示器蒸镀制程中，所述对象为一用于蒸镀作业的遮罩。
10.一种蒸镀机台，其特征在于包括：
一蒸镀室，用以利用一遮罩对一基板进行蒸镀作业；
一超音波清洁室，其内部设有一超音波产生器、一气流吹出器以及一吸尘器；以及
一传输装置，用以在所述蒸镀室及超音波清洁室之间传递所述遮罩；
当传输装置将遮罩送入超音波清洁室进行清洁时，所述超音波产生器产生的震波将所述遮罩表面的微粒震动并使微粒松动，同时所述气流吹出器吹出气流将所述微粒扬起，并由所述吸尘器将该微粒吸除。
11.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述气流吹出器位于所述超音波产生器的一侧，所述吸尘器位于所述超音波产生器的另一侧。
12.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述超音波产生器、气流吹出器以及吸尘器可于遮罩上方移动。
13.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述超音波产生器与气流吹出器之间具有一第一夹角，并在所述超音波产生器与所述吸尘器之间具有一第二夹角；利用该二夹角，使气流吹出器所吹出的气流流经遮罩后，反射进入吸尘器中。
14.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述气流吹出器与一加压气体管路连结。
15.根据权利要求13中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述加压气体管路可提供气流吹出器一洁净干燥空气。
16.根据权利要求13中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述加压气体管路可提供气流吹出器一氮气。
17.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述吸尘器与一负压管路连结，所述吸尘器所吸取的微粒，排入所述负压管路内。
18.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：所述超音波清洁室具有一闸门及一真空抽气***，可在不影响蒸镀机台内部腔室的真空度下，对遮罩进行清洁作业。
19.根据权利要求10中所述的蒸镀机台，其特征在于：该蒸镀机台适用于一有机发光二极管显示器的蒸镀成膜制程中。
20.一种蒸镀机台遮罩的清洁方法，在一蒸镀机台内对一蒸镀用的遮罩进行线上清洁，包括下列步骤：
利用一传输装置将一遮罩由一蒸镀室取出，送入一超音波清洁室；
用一超音波产生器产生震波震动该遮罩表面的微粒并使该微粒松动；
用一气流吹出器吹出气流将该微粒扬起；
用一吸尘器将所扬起的微粒吸除；
完成清洁后，由传输装置将遮罩送至蒸镀室内。
21.根据权利要求20中所述的利用蒸镀机台清洁遮罩的方法，其特征在于：每当遮罩进行蒸镀作业后，即对遮罩进行清洁。
22.根据权利要求20中所述的利用蒸镀机台清洁遮罩的方法，其特征在于：在将遮罩送入超音波清洁室时的步骤，是在不破坏蒸镀机台内部的真空度下进行。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2004100839376A CN100372620C (zh) | 2004-10-12 | 2004-10-12 | 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2004100839376A CN100372620C (zh) | 2004-10-12 | 2004-10-12 | 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1600454A CN1600454A (zh) | 2005-03-30 |
| CN100372620C true CN100372620C (zh) | 2008-03-05 |
Family
ID=34667019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2004100839376A Active CN100372620C (zh) | 2004-10-12 | 2004-10-12 | 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN100372620C (zh) |
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| TWI576657B (zh) * | 2014-12-25 | 2017-04-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 光罩清潔設備以及光罩清潔方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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