JPH0425850A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 189
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 189
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 31
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 12
- -1 cyclic acid anhydride Chemical class 0.000 claims description 100
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 80
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 48
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 37
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 37
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 33
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 30
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 23
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 13
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 10
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 9
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 16
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 10
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 9
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 41
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 36
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 27
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 24
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 20
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 19
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 18
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 16
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 9
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 8
- 238000012552 review Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 7
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 7
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 6
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N chloroform Substances ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 4
- LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthine Chemical compound O=C1NC(=O)NC2=C1NC=N2 LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 4
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 4
- HMYXKHZCEYROAL-UHFFFAOYSA-N (4-chloro-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=C(F)C(F)=C(Cl)C(F)=C1F HMYXKHZCEYROAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 3
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N alpha-Butylen-alpha-carbonsaeure Natural products CCC=CC(O)=O YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006278 bromobenzyl group Chemical group 0.000 description 3
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N trans-pent-2-enoic acid Chemical compound CC\C=C\C(O)=O YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDYRHGGXBLRFHS-SNAWJCMRSA-N (e)-4-methylhex-2-enoic acid Chemical compound CCC(C)\C=C\C(O)=O QDYRHGGXBLRFHS-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 2
- WTOFYLAWDLQMBZ-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-thiophen-2-ylpropanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CC1=CC=CS1 WTOFYLAWDLQMBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 2
- WJCCNRRUTSLHLJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,4-dioxane Chemical compound C=CC1COCCO1 WJCCNRRUTSLHLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006040 2-hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptopropanoic acid Chemical compound CC(S)C(O)=O PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 2
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 2
- ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 2-vinylthiophene Chemical compound C=CC1=CC=CS1 ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006050 3-methyl-2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 2
- QDYRHGGXBLRFHS-UHFFFAOYSA-N 4-Methyl-2-hexenoic acid Natural products CCC(C)C=CC(O)=O QDYRHGGXBLRFHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N alpha-cyano-4-hydroxycinnamic acid Chemical group OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=C(O)C=C1 AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000006182 dimethyl benzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCO DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 235000013861 fat-free Nutrition 0.000 description 2
- GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N fluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- CNPHCSFIDKZQAK-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-enamide Chemical compound C=CCNC(=O)C=C CNPHCSFIDKZQAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N phthalic anhydride Chemical group C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTVDYMGQGCNETM-UHFFFAOYSA-N trityl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(OC(=O)C(=C)C)C1=CC=CC=C1 PTVDYMGQGCNETM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075420 xanthine Drugs 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUDJQIVGLDQNOB-UHFFFAOYSA-N (2-chloro-6-methylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=C(C)C=CC=C1Cl YUDJQIVGLDQNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Cl YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRIQBMPGESVAMQ-UHFFFAOYSA-N (2-ethenoxy-2-oxoethyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(=O)OC=C SRIQBMPGESVAMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWMPPVPFLSZGCY-VOTSOKGWSA-N (2E)-oct-2-enoic acid Chemical compound CCCCC\C=C\C(O)=O CWMPPVPFLSZGCY-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- JIAFOCJABIEPNM-BYPYZUCNSA-N (2s)-2-(3-sulfanylpropanoylamino)propanoic acid Chemical compound OC(=O)[C@H](C)NC(=O)CCS JIAFOCJABIEPNM-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- SOSNAIPTFXTNRU-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenoxy)-trimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)OC1=CC=C(C=C)C=C1 SOSNAIPTFXTNRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tris(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1C=C WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(N=C=O)C=C1N=C=O FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTPQLJUADNBKRM-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound BrCC1=CC=C(C=C)C=C1 VTPQLJUADNBKRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZHIYEINSCNALY-UHFFFAOYSA-N 1-aminobutan-1-ol Chemical compound CCCC(N)O OZHIYEINSCNALY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPEIGRBGMUJNFE-UHFFFAOYSA-N 1-aminohexan-1-ol Chemical compound CCCCCC(N)O NPEIGRBGMUJNFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVLWNRIJQBINQL-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-oxopent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(=O)C(C)=C BVLWNRIJQBINQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXZROAOUCUVNHX-UHFFFAOYSA-N 2-Aminopropanol Chemical compound CCC(N)O MXZROAOUCUVNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWMPPVPFLSZGCY-UHFFFAOYSA-N 2-Octenoic Acid Natural products CCCCCC=CC(O)=O CWMPPVPFLSZGCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCBPETKZIGVZRE-UHFFFAOYSA-N 2-aminobutan-1-ol Chemical compound CCC(N)CO JCBPETKZIGVZRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQBUHYQVKJQAOB-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylfuran Chemical compound C=CC1=CC=CO1 QQBUHYQVKJQAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethenylbenzene Chemical compound CCOC=CC1=CC=CC=C1 FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXZZSDCLSLACNC-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCI RXZZSDCLSLACNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSECPQCFCWVBKM-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethanol Chemical compound OCCI QSECPQCFCWVBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZLYQYPURWXOEW-UHFFFAOYSA-N 2-iodopropanoic acid Chemical compound CC(I)C(O)=O KZLYQYPURWXOEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940006193 2-mercaptoethanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KWTKVFXDPKATDW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-oxopent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(=O)C=C KWTKVFXDPKATDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYKHFQKONWMWQM-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1h-pyridine-3-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1S WYKHFQKONWMWQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1S VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran-2,6(3H)-dione Chemical group O=C1CC=CC(=O)O1 SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJQWABQELVFQJL-UHFFFAOYSA-N 3-Mercapto-2-butanol Chemical compound CC(O)C(C)S MJQWABQELVFQJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZPSEGIMBGXXFB-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxycarbonylbut-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC(=C)C(=O)OC=C UZPSEGIMBGXXFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXFHZSFZCQPLPW-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-2h-oxazine Chemical compound C=CC1=CC=CON1 KXFHZSFZCQPLPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLTPHPWPIJQBCE-UHFFFAOYSA-N 3-iodopropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCI WLTPHPWPIJQBCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBDVFOBWBHMJDG-UHFFFAOYSA-N 3-mercapto-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCS OBDVFOBWBHMJDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSSFGJUSMXZBDD-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-4-pentenoic acid Chemical compound OC(=O)CC(=O)C=C KSSFGJUSMXZBDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMSRALOLNIBERV-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,6a-tetrahydro-3ah-cyclopenta[c]furan-1,3-dione Chemical group C1CCC2C(=O)OC(=O)C21 NMSRALOLNIBERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical group C1CCCC2=C1C(=O)OC2=O HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRUKRHLZDVJJSX-UHFFFAOYSA-N 4-cyanopentanoic acid Chemical compound N#CC(C)CCC(O)=O XRUKRHLZDVJJSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- YXUZCBUYNVYMEZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3-oxopent-4-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)CC(O)=O YXUZCBUYNVYMEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISOQNEPBGIJCLU-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbutane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCCS ISOQNEPBGIJCLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPIINMAYDTYYSQ-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-1h-pyrazole Chemical compound C=CC=1C=CNN=1 YPIINMAYDTYYSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003341 7 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000272201 Columbiformes Species 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium on carbon Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTGJWQPHMWSCST-UHFFFAOYSA-N Tiopronin Chemical compound CC(S)C(=O)NCC(O)=O YTGJWQPHMWSCST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- LUTSRLYCMSCGCS-BWOMAWGNSA-N [(3s,8r,9s,10r,13s)-10,13-dimethyl-17-oxo-1,2,3,4,7,8,9,11,12,16-decahydrocyclopenta[a]phenanthren-3-yl] acetate Chemical compound C([C@@H]12)C[C@]3(C)C(=O)CC=C3[C@@H]1CC=C1[C@]2(C)CC[C@H](OC(=O)C)C1 LUTSRLYCMSCGCS-BWOMAWGNSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- IDVDAZFXGGNIDQ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][2]benzofuran-1,3-dione Chemical group C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)OC2=O IDVDAZFXGGNIDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALAJLRXZAKKBRH-UHFFFAOYSA-N benzyl n-ethyl-n-(2-hydroxyethyl)carbamodithioate Chemical compound OCCN(CC)C(=S)SCC1=CC=CC=C1 ALAJLRXZAKKBRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDSAIICHUKSCKT-UHFFFAOYSA-N bromophenol blue Chemical compound C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1C1(C=2C=C(Br)C(O)=C(Br)C=2)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 UDSAIICHUKSCKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- YFRNYWVKHCQRPE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enoic acid Chemical compound C=CC=C.OC(=O)C=C YFRNYWVKHCQRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910000011 cadmium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L cadmium(2+);carbonate Chemical compound [Cd+2].[O-]C([O-])=O GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- QCDMKVKJOHXJQS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenoxyethene Chemical compound ClC=C.C=COC=C QCDMKVKJOHXJQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000006849 chlorophenylene group Chemical group 0.000 description 1
- ZNEWHQLOPFWXOF-UHFFFAOYSA-N coenzyme M Chemical compound OS(=O)(=O)CCS ZNEWHQLOPFWXOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- VBWIZSYFQSOUFQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarbonitrile Chemical compound N#CC1CCCCC1 VBWIZSYFQSOUFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000006286 dichlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical class NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAFZUUSLSMXAKW-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,4-dimethyl-3-oxopent-4-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)C(C)C(=O)OC=C PAFZUUSLSMXAKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC=C FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N ethenyl dihydrogen phosphate Chemical class OP(O)(=O)OC=C BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCQOWYALZVKMAR-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyridine-5,7-dione Chemical group C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 MCQOWYALZVKMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108700039708 galantide Proteins 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N hexahydrophthalic anhydride Chemical group C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21 MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- JDNTWHVOXJZDSN-UHFFFAOYSA-N iodoacetic acid Chemical compound OC(=O)CI JDNTWHVOXJZDSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229960003151 mercaptamine Drugs 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- NRQNMMBQPIGPTB-UHFFFAOYSA-N methylaluminum Chemical compound [CH3].[Al] NRQNMMBQPIGPTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N pent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical compound C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 238000012673 precipitation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- BRHQMPOFCRGJCM-UHFFFAOYSA-N sbb007645 Chemical group C1CC2C3C(=O)OC(=O)C3C1CC2 BRHQMPOFCRGJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical group O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- FIDKFEIEZJGDBE-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-c]furan-4,6-dione Chemical group S1C=CC2=C1C(=O)OC2=O FIDKFEIEZJGDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical class CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
特にCPC感光体として性能の優れたものに関する。
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応して、種々の構成
をとる。
用される電子写真プロセスの種類に応して、種々の構成
をとる。
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
更には、ダイレクト製版用のオフセント原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着
樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着
樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、暗
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
これらの問題を解決するために、結着樹脂として酸性基
を重合体の側鎖に含有する共重合体成分を0.05〜1
0重量%含存する含量子量の樹脂又は酸性基を重合体主
鎖の末端に結合する低分子量の樹脂(Rw 10’〜1
0’)を用いることにより、光導電層の平滑性及び静電
特性を良好にし、しかも地汚れのない画質を得ることが
それぞれ特開昭63−217354号及び同64−70
761号及び特開平2−67563号に記載されている
。
を重合体の側鎖に含有する共重合体成分を0.05〜1
0重量%含存する含量子量の樹脂又は酸性基を重合体主
鎖の末端に結合する低分子量の樹脂(Rw 10’〜1
0’)を用いることにより、光導電層の平滑性及び静電
特性を良好にし、しかも地汚れのない画質を得ることが
それぞれ特開昭63−217354号及び同64−70
761号及び特開平2−67563号に記載されている
。
また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋側と併用する技
術が特開平1−102573号、同2−874号にそれ
ぞれ開示され、更に該樹脂の低分子量体(重量平均分子
!103〜10’ )を高分子I41平均分子量10’
以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64−56
4号、同63−220149号、同63−220148
号、特開平1−280761号、同1−116643号
及び同1−169455号に、かかる低分子量体を熱及
び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特開平1
−211766号及び同2−34859号に、かかる低
分子量体をクシ型ポリマーと組合せて用いる技術が特開
平2−53064号、同2−56558号及び特願昭6
3−254786号にそれぞれ開示されている。これら
の技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を
用いたことによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層
の膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大されること
が記載されている。
し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋側と併用する技
術が特開平1−102573号、同2−874号にそれ
ぞれ開示され、更に該樹脂の低分子量体(重量平均分子
!103〜10’ )を高分子I41平均分子量10’
以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64−56
4号、同63−220149号、同63−220148
号、特開平1−280761号、同1−116643号
及び同1−169455号に、かかる低分子量体を熱及
び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特開平1
−211766号及び同2−34859号に、かかる低
分子量体をクシ型ポリマーと組合せて用いる技術が特開
平2−53064号、同2−56558号及び特願昭6
3−254786号にそれぞれ開示されている。これら
の技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を
用いたことによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層
の膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大されること
が記載されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
更には、電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電特
性が不満足であるとともに、特にEl/□とE17.。
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電特
性が不満足であるとともに、特にEl/□とE17.。
との差が大きく複写画像の階調が軟調となり、更には露
光後の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像
のカブリが顕著となってしまい、又、オフセットマスタ
ーとして印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が
出てしまう等の重大な問題となって現れた。
光後の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像
のカブリが顕著となってしまい、又、オフセットマスタ
ーとして印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が
出てしまう等の重大な問題となって現れた。
本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
題を改良するものである。
本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいcpct子写真感光体を提供することである。
小さいcpct子写真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
本発明の更なる目的は、電子写真式平版印刷原版として
、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原
画に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全
面−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず
、また耐剛性が優れ、貼り込み跡が生じない平版印刷原
版を提供することである。
、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原
画に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全
面−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず
、また耐剛性が優れ、貼り込み跡が生じない平版印刷原
版を提供することである。
(SIRを解決するための手段)
上記目的は、無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記で表わされる樹脂〔A〕の少なくとも1
種及び樹脂CB)の少なくとも1種を含有する事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記で表わされる樹脂〔A〕の少なくとも1
種及び樹脂CB)の少なくとも1種を含有する事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。
樹脂〔A] :
lXIO3〜2×104の重量平均分子量を有し、PO
sHx基、−Cool基、−5OffH基、フェノール
性基(R’は炭化水素基)を示す)及び環状酸無水物含
有基から選択される少なくとも1つの酸性基を含有する
重合体成分を少なくとも1種含有するAブロックと、下
記−形成(1)で示される重合体成分を少なくとも含有
するBブロックとから構成されるA−Bブロック共重合
体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基
を結合して成る一官能性マクロモノマー(M)を少な(
とも1種共重合成分として含有するグラフト型共重合体
。
sHx基、−Cool基、−5OffH基、フェノール
性基(R’は炭化水素基)を示す)及び環状酸無水物含
有基から選択される少なくとも1つの酸性基を含有する
重合体成分を少なくとも1種含有するAブロックと、下
記−形成(1)で示される重合体成分を少なくとも含有
するBブロックとから構成されるA−Bブロック共重合
体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基
を結合して成る一官能性マクロモノマー(M)を少な(
とも1種共重合成分として含有するグラフト型共重合体
。
−形成(1)
〔式(1)
中、a、及びC2はそれぞれ水素原子、ロゲン原子、
シアノ基又は炭化水素基を表わす。
は
C0
+−c H2)F OCO−
+CHZ脣000−
(X+
は1〜3の整数を
01N
−CONHCOO−
−CON)IcONH
又は
化水素基を表わす)。
を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わす
。
。
〕
樹脂〔B〕 :
5XIO’
以上の重量平均分子量を有し、下記−
形成
で示される繰り返し単位を重合体成分
として少なくとも含有し、且つ光導電層形成用分散物調
整前に予め架橋構造を有する樹脂。
整前に予め架橋構造を有する樹脂。
−形成(III)
HVs Rs
〔式中、v3は−COOOCOCH20CH2OC0C
t1− −0−又は−502−を表わす。
t1− −0−又は−502−を表わす。
R3は炭素数1〜22の炭化水素基を表わす。
d、及びd2は、互いに同じでも異なってもよく、各々
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭
化水素基、−COO−23又は炭素数1〜8の炭化水素
基を介した一〇〇〇−Zs (Lは炭素数1〜18の炭
化水素基を表わす)を表わす。〕即ち、本発明に供され
る結着樹脂は、酸性基含有のAブロックと、−形成(1
)で示される重合体成分として含有するBブロックとか
ら構成されるA、Bブロック共重合体を含有して成るグ
ラフト型共重合体の樹脂〔A〕と、予め架橋構造を有す
る高分子量の樹脂〔B〕とから少なくとも構成される。
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭
化水素基、−COO−23又は炭素数1〜8の炭化水素
基を介した一〇〇〇−Zs (Lは炭素数1〜18の炭
化水素基を表わす)を表わす。〕即ち、本発明に供され
る結着樹脂は、酸性基含有のAブロックと、−形成(1
)で示される重合体成分として含有するBブロックとか
ら構成されるA、Bブロック共重合体を含有して成るグ
ラフト型共重合体の樹脂〔A〕と、予め架橋構造を有す
る高分子量の樹脂〔B〕とから少なくとも構成される。
前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させるとし
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものとして、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダ
ムに存在する樹脂あるいは重合体主鎖の片末端にのみ酸
性基を結合して成る樹脂が挙げられる。これに対し、本
発明の結着樹脂〔A〕は樹脂中に含有される酸性基が、
グラフト部分に存在し、且つ重合体主鎖から離れた所に
ブロック(即ちAブロック)で存在する様にした、著し
くポリマー分子鎖の化学構造を特定化したものである。
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものとして、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダ
ムに存在する樹脂あるいは重合体主鎖の片末端にのみ酸
性基を結合して成る樹脂が挙げられる。これに対し、本
発明の結着樹脂〔A〕は樹脂中に含有される酸性基が、
グラフト部分に存在し、且つ重合体主鎖から離れた所に
ブロック(即ちAブロック)で存在する様にした、著し
くポリマー分子鎖の化学構造を特定化したものである。
本発明の樹脂〔A〕は重合体中のグラフト部の末端領域
に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥
に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他の成分は、無
機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆している
と推定される。この無機光導電体表面への充分な吸着と
表面近傍の被覆の効果が公知の樹脂に比べより一層効果
的に行なわれることにより、無機光導電体の化学量論的
な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域をもつ事から
、常に安定した無機光導電体と樹脂〔A〕との相互作用
が保たれると推論され、本発明に従えば従来公知の酸性
基含有樹脂に比べて一段と良好に光導電体のトラップを
充分に補償すると共に湿度特性を向上させる一方、光導
電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制することを見
出した。
に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥
に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他の成分は、無
機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆している
と推定される。この無機光導電体表面への充分な吸着と
表面近傍の被覆の効果が公知の樹脂に比べより一層効果
的に行なわれることにより、無機光導電体の化学量論的
な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域をもつ事から
、常に安定した無機光導電体と樹脂〔A〕との相互作用
が保たれると推論され、本発明に従えば従来公知の酸性
基含有樹脂に比べて一段と良好に光導電体のトラップを
充分に補償すると共に湿度特性を向上させる一方、光導
電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制することを見
出した。
従って、電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の
平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸化
亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が
存在する状態で光導TH,Nが形成されるため、不感脂
化処理液による不感脂化処理をしても非画像部の親水化
が均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着
を引き起こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが
生してしまう。
平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸化
亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が
存在する状態で光導TH,Nが形成されるため、不感脂
化処理液による不感脂化処理をしても非画像部の親水化
が均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着
を引き起こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが
生してしまう。
そして、樹脂CB)は、樹脂[A)を用いたことによる
電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕の
みでは不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめる
とともに前記の如き環境が変動したり、低出力のレーザ
ー光を用いたりした場合でも十分に良好な撮像性を得る
ことができることが判った。
電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕の
みでは不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめる
とともに前記の如き環境が変動したり、低出力のレーザ
ー光を用いたりした場合でも十分に良好な撮像性を得る
ことができることが判った。
本発明の樹脂〔A〕における該マクロモノマ−(M)中
の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブロ
ックとから構成されるが、このAブロック/B−ブロッ
クの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30(重
量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜50(
重量比)である。
の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブロ
ックとから構成されるが、このAブロック/B−ブロッ
クの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30(重
量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜50(
重量比)である。
本発明のグラフト共重合体〔A〕において、マクロモノ
マー(M)と他の単量体(例えば式(n)の単量体)の
存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であり、
好ましくは5〜40/95〜60(重量比)である。
マー(M)と他の単量体(例えば式(n)の単量体)の
存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であり、
好ましくは5〜40/95〜60(重量比)である。
本発明の樹脂〔A〕における、マクロモノマー(M)中
に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂〔A〕1
00重量部中に1〜20重量部であり、好ましくは3〜
15重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性基
の存在割合は、マクロモノマー(M)中でのA−ブロッ
クの組成比及び樹脂〔A〕でのマクロモノマー(M)の
共重合比によって、好ましい比率に調整することができ
るものである。
に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂〔A〕1
00重量部中に1〜20重量部であり、好ましくは3〜
15重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性基
の存在割合は、マクロモノマー(M)中でのA−ブロッ
クの組成比及び樹脂〔A〕でのマクロモノマー(M)の
共重合比によって、好ましい比率に調整することができ
るものである。
更にこの樹脂〔A〕において、マクロモノマー(M)と
共重合する成分として、下記−形成(It)で示される
単量体が好ましく、特に下記−形成(I[a)及び/又
は(Ilb)から選ばれる単量体が好ましい。
共重合する成分として、下記−形成(It)で示される
単量体が好ましく、特に下記−形成(I[a)及び/又
は(Ilb)から選ばれる単量体が好ましい。
式(1) CI(3
cuz=c
Coo Rt
〔式(n)中、R2は炭化水素基を表わす。〕式(Il
a) C1l。
a) C1l。
H3
〔式中、Xl及びX!は互いに独立に、それぞれ水素
原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原
子、−COZ!又は−COOZz (Zzは各々炭素数
1〜10の炭化水素基を示す)を表わす、但し、Lとχ
。
子、−COZ!又は−COOZz (Zzは各々炭素数
1〜10の炭化水素基を示す)を表わす、但し、Lとχ
。
がともに水素原子を表わすことはない。
L、及びL2はそれぞれ−000−とベンゼン環を結合
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
。〕 樹脂〔A〕においてマクロモノマー(M)と共重合する
単量体として上記−形成(I[a)及び/又は−形成(
I[b)で示される置換ベンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少なくとも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂〔A′]と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特ニV+o 、D、R,R,El/l11)の
向上が達成される。
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
。〕 樹脂〔A〕においてマクロモノマー(M)と共重合する
単量体として上記−形成(I[a)及び/又は−形成(
I[b)で示される置換ベンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少なくとも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂〔A′]と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特ニV+o 、D、R,R,El/l11)の
向上が達成される。
この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
結着樹脂[A)の分子量がlXl0”より小さくなると
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が2×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が2×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。
樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは一40°C〜1
10℃である。
10℃である。
更に、高分子量の樹脂〔B〕が、更に、少なくとも1つ
の重合体主鎖の片末端のみに−POJz基、SOsH基
、−Cool基、−OH基、−5H基、 P R。
の重合体主鎖の片末端のみに−POJz基、SOsH基
、−Cool基、−OH基、−5H基、 P R。
OH
基(tillはRと同一の内容を表わす)、環状酸無水
物含有基、−COO基、 C0NHz基、 5OJHt
基及水素原子又は炭化水素基を表わす)から選択される
少なくとも1つの極性基を結合して成る樹脂(以下この
樹脂を特に樹脂(B′)と称することもある。)である
ことが好ましく、更には樹脂CB)は、樹脂〔A〕で示
される酸性基又は環状酸無水物含有基を含有する繰り返
し単位を重合体成分として含有しない樹脂であることが
より好ましい。
物含有基、−COO基、 C0NHz基、 5OJHt
基及水素原子又は炭化水素基を表わす)から選択される
少なくとも1つの極性基を結合して成る樹脂(以下この
樹脂を特に樹脂(B′)と称することもある。)である
ことが好ましく、更には樹脂CB)は、樹脂〔A〕で示
される酸性基又は環状酸無水物含有基を含有する繰り返
し単位を重合体成分として含有しない樹脂であることが
より好ましい。
結着樹脂〔A〕におけるマクロモノマー含有量が1.0
重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、光感
度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特
に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにおいて
、大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノマー
が微かとなることで結果として従来のホモポリマーある
いはランダム共重合体と殆んど同じ組成になってしまう
ことによると考えられる。
重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、光感
度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特
に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにおいて
、大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノマー
が微かとなることで結果として従来のホモポリマーある
いはランダム共重合体と殆んど同じ組成になってしまう
ことによると考えられる。
一層マクロモノマーの含有量が60%を越えると、他の
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロモノ
マーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として用
いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう。
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロモノ
マーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として用
いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう。
結合樹脂〔A〕と高分子量体対樹脂CB)の使用割合は
5〜60重量部重量部−95〜40であり、好ましくは
10〜50重量部対90〜50重量部である。
5〜60重量部重量部−95〜40であり、好ましくは
10〜50重量部対90〜50重量部である。
本発明によれば、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂
〔A〕と樹脂CB)を各々樹脂の重量平均分子量並びに
樹脂中の酸性基の含有量及び結合位置等を特定化するこ
とで、無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に
変えることができたことによると推定される。即ち、相
互作用のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に
適切に1着し、一方で本発明の樹脂〔B〕は、適度に架
橋され、更に、樹脂(B′)は主鎖の片末端にのみ極性
基を結合した共重合体であることから、高分子鎖間の相
互作用、更には極性基と光導電性粒子との弱い相互作用
等が相乗作用して、電子写真特性及び膜強度において著
しく優れた性能を両立しているものと考えられる。
〔A〕と樹脂CB)を各々樹脂の重量平均分子量並びに
樹脂中の酸性基の含有量及び結合位置等を特定化するこ
とで、無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に
変えることができたことによると推定される。即ち、相
互作用のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に
適切に1着し、一方で本発明の樹脂〔B〕は、適度に架
橋され、更に、樹脂(B′)は主鎖の片末端にのみ極性
基を結合した共重合体であることから、高分子鎖間の相
互作用、更には極性基と光導電性粒子との弱い相互作用
等が相乗作用して、電子写真特性及び膜強度において著
しく優れた性能を両立しているものと考えられる。
また、樹脂〔B〕の重合体成分中に樹脂[A)の主鎖末
端に任意に含有されると同様の極性基が含有されると光
導電体の分散が破壊され、凝集物あるいは沈澱物が生成
するかあるいはたとえ塗膜ができたとしても、得られた
光導電体の静電特性は著しく低下してしまったり、感光
体表面の平滑度が粗くなり機械的摩耗に対する強度等が
悪化してしまうため好ましくない。
端に任意に含有されると同様の極性基が含有されると光
導電体の分散が破壊され、凝集物あるいは沈澱物が生成
するかあるいはたとえ塗膜ができたとしても、得られた
光導電体の静電特性は著しく低下してしまったり、感光
体表面の平滑度が粗くなり機械的摩耗に対する強度等が
悪化してしまうため好ましくない。
本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画質
が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有される
。しかし、ここで本発明の如く樹脂〔B〕を共存させる
ことで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹脂
〔A〕のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強度を
より向上させることができた。従って、本発明の感光体
は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且つ、
膜強度も充分であり、過酷な印刷1条件下(例えば、大
型印刷J !IIで印圧が強くなる場合など)でも80
00枚以上の印刷枚数が可能となった。
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画質
が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有される
。しかし、ここで本発明の如く樹脂〔B〕を共存させる
ことで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹脂
〔A〕のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強度を
より向上させることができた。従って、本発明の感光体
は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且つ、
膜強度も充分であり、過酷な印刷1条件下(例えば、大
型印刷J !IIで印圧が強くなる場合など)でも80
00枚以上の印刷枚数が可能となった。
以下、本発明の結着樹脂〔A〕について説明する。
本発明のグラフト型共重合体に供される一官能性マクロ
千ツマー(M)について更に具体的に説明する。
千ツマー(M)について更に具体的に説明する。
マクロモノマー(M)のA−ブロックを構成する成分中
に含有される酸性基としては、 POJz基、−PO3
H2基、−5O3H基、フェノール性OH基、炭化水素
基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げられ
、好ましくは、−PO3H2基、−5o、H(R’は炭
化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは
炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル
基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロへキ
シル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されて
もよいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エ
チルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル
基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メ
チル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、
アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わ
す。
に含有される酸性基としては、 POJz基、−PO3
H2基、−5O3H基、フェノール性OH基、炭化水素
基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げられ
、好ましくは、−PO3H2基、−5o、H(R’は炭
化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは
炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル
基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロへキ
シル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されて
もよいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エ
チルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル
基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メ
チル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、
アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わ
す。
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
fli無水物を含有する基であり、含有される環状酸無
水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカ
ルボン酸無水物が挙げられる。
fli無水物を含有する基であり、含有される環状酸無
水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカ
ルボン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
以上の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」は、
例えば、本発明のマクロモノマー(M)の他のブロック
成分を構成する重合体成分、即ち−S式(1)で示され
るメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物と共
重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。
例えば、本発明のマクロモノマー(M)の他のブロック
成分を構成する重合体成分、即ち−S式(1)で示され
るメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物と共
重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。
例えば、高分子学会!llAr高分子データ・ハンドブ
ック(基礎編〕j培風館(1986刊)等に記載されて
いる。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換ア
クリルM(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメ
チル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、
α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体
、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−ク
ロロ−β−メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタ
クリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタ
コン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボ
ン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキ
セン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸
、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレ
イン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベ
ンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニル
スルホン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル
基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカル
ボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体
の置換基中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
ック(基礎編〕j培風館(1986刊)等に記載されて
いる。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換ア
クリルM(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメ
チル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、
α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体
、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−ク
ロロ−β−メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタ
クリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタ
コン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボ
ン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキ
セン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸
、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレ
イン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベ
ンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニル
スルホン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル
基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカル
ボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体
の置換基中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各側において、aは一■、−C
113、−CI、−Br 、−CN−1−CHtCOO
CJIs又は−CHgCOOHを示し、bは一■又は−
C113を示し、nは2〜18の整数を示し、mは1〜
12の整数を示し、Eは1〜4の整数を示す。
ができる。但し、以下の各側において、aは一■、−C
113、−CI、−Br 、−CN−1−CHtCOO
CJIs又は−CHgCOOHを示し、bは一■又は−
C113を示し、nは2〜18の整数を示し、mは1〜
12の整数を示し、Eは1〜4の整数を示す。
(a
OOH
0OH
(a−3)
(a−4)
C00(CHz)ncOOFI
(a−5)
(a−6)
C00(CHz)nOcCoo(CHz)nOcO(C
ut) COOCCIh) ncOO(CHt) mcOOH(
a−8) C)12=C CONH(CI(z)nOcO(Ctlz)wcOOH
(a−9) C0NHCOO(CIlt)ncOOH(a C0NIC0NH(CHz)ncOOH(a C1(tcOOH (a 〒 (a (mは同じでも異なってもよい) (a CH,=CH CHzOCO(CL)鋼C00H (a CHz−C)I+CHz→−COOH (a CH,=C CH COOCH2CHCH200C(CH2)■C00H(
a−18) C112=C COO(CHz)nocOFl=cH oon (a (a−20) 〒 (a−21) 〒 (a−22) (a−23) CH (a CH (a−25) CH (a ■ CH (a CH・=C)I−(−CH・+−Coo (CI・)m
O−!H (a (a (a−30) C00(CHz)ssOJ (a−31) (a (a 〒 C0N(CToCH雪GOON)t (a CH,=C Coo(CHりIC0N(CHICHrCOOH)!(
a 0J (a−39) (a ? しυυH (a (a (a−43) (a (a CI(。
ut) COOCCIh) ncOO(CHt) mcOOH(
a−8) C)12=C CONH(CI(z)nOcO(Ctlz)wcOOH
(a−9) C0NHCOO(CIlt)ncOOH(a C0NIC0NH(CHz)ncOOH(a C1(tcOOH (a 〒 (a (mは同じでも異なってもよい) (a CH,=CH CHzOCO(CL)鋼C00H (a CHz−C)I+CHz→−COOH (a CH,=C CH COOCH2CHCH200C(CH2)■C00H(
a−18) C112=C COO(CHz)nocOFl=cH oon (a (a−20) 〒 (a−21) 〒 (a−22) (a−23) CH (a CH (a−25) CH (a ■ CH (a CH・=C)I−(−CH・+−Coo (CI・)m
O−!H (a (a (a−30) C00(CHz)ssOJ (a−31) (a (a 〒 C0N(CToCH雪GOON)t (a CH,=C Coo(CHりIC0N(CHICHrCOOH)!(
a 0J (a−39) (a ? しυυH (a (a (a−43) (a (a CI(。
H
上記の如き酸性基含有成分はAブロック中に2種以上含
有されていてもよく、これら2種以上の酸性基含有成分
はAブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれで含有されていてもよい、更に、酸性基含
有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例えば後述
式〇)で示される成分)をAブロック中に含有していて
もよいが、酸性基金を成分はAブロック中において30
〜100重量%存在することが好ましい。
有されていてもよく、これら2種以上の酸性基含有成分
はAブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれで含有されていてもよい、更に、酸性基含
有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例えば後述
式〇)で示される成分)をAブロック中に含有していて
もよいが、酸性基金を成分はAブロック中において30
〜100重量%存在することが好ましい。
次に上記マクロモノマーにおいて、B−ブロックを構成
する成分即ち一般式(1)で表わされる繰り返し単位に
ついて説明する。
する成分即ち一般式(1)で表わされる繰り返し単位に
ついて説明する。
一般式(1)においてvlは−C00−1−〇CO+C
Hz+jl−:0CO−1+CB!鳩coo −(1+
、 1.zは1〜3の整数を表わす)、−0−1−S
O□P+ P+ COCON 5OzN C0NHC
OOここで、P、は水素原子のほか、好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基
、3−メチル−2−ペンテニル基、lペンテニル基、1
−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−2−
へキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置換
されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフェニルl
[)があげられる。
Hz+jl−:0CO−1+CB!鳩coo −(1+
、 1.zは1〜3の整数を表わす)、−0−1−S
O□P+ P+ COCON 5OzN C0NHC
OOここで、P、は水素原子のほか、好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基
、3−メチル−2−ペンテニル基、lペンテニル基、1
−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−2−
へキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置換
されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフェニルl
[)があげられる。
R4は炭化水素基を表わし、好ましくは上記P1で好ま
しい炭化水素基として挙げたものと同様のものである。
しい炭化水素基として挙げたものと同様のものである。
の池水素原子を表わし、更にベンゼン環は置換基ををし
てもよい、置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。
てもよい、置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。
a、及びa、は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−cooz、又は炭化水素を介したC00Z+
(Z+は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または了り
−ル基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体
的には、上記2.について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−cooz、又は炭化水素を介したC00Z+
(Z+は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または了り
−ル基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体
的には、上記2.について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
上記炭化水素を介したーCoo−Z+基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
更に好ましくは、
一般式(1)
%式%
りてもよく、水素原子、メチル基、−COOZI又はC
)ItCOOZ+ (Z+はより好ましくは水素原子又
は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす)
を表わす、更により好ましくは、aI+ agにおいて
いずれか一方が水素原子を表わす。
)ItCOOZ+ (Z+はより好ましくは水素原子又
は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす)
を表わす、更により好ましくは、aI+ agにおいて
いずれか一方が水素原子を表わす。
更には該B−ブロック中に式(1)の単量体以外の重合
体成分が含有されていてもよく、式(r)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−ブロッ
クの全重合体成分100311部中20重量部を越えな
い範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−
ブロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分
を含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以
上の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の
共重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブ
ロック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成
の簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。
体成分が含有されていてもよく、式(r)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−ブロッ
クの全重合体成分100311部中20重量部を越えな
い範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−
ブロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分
を含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以
上の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の
共重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブ
ロック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成
の簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。
次に本発明のマクロモノマー(M)において上記した酸
性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1)
で示される重合体成分を含有することから成るBブロッ
クをA−B型で連結し且つA−ブロックと連結するBブ
ロックの他の末端に連結される重合性二重合基について
説明する。
性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1)
で示される重合体成分を含有することから成るBブロッ
クをA−B型で連結し且つA−ブロックと連結するBブ
ロックの他の末端に連結される重合性二重合基について
説明する。
具体的には下記−形成(IV)で示される重合性二重結
合基が例として挙げられる。
合基が例として挙げられる。
−形成(IV)
b+ bx
CJl、=(i
t−
〔式(IV)
中、V、は式(1)
中のV、と同一の内容
を表わす。
b、は互いに同一でも異なってもよ
く、式(1)中のal+
a2と同一の内容を表わす。
〕
即ち、
一般式(IV)
で示される重合性二重結合基
として、より具体的には、CH2=CH−C−0−lh
CH!−CCON+(−
CHx
■
CH=C1l−CONH−
CL=CH
coon 。
t 1i
CH2=CCHx C0
CHt =CIIACHt)I
OO
CH2−CH
CL=C)I責CHxh OC−等が挙げられる。
本発明に供されるマクロモノマー(M)は上述の如きB
〜ブロックの片末端に、−形成(IV)で示される如き
重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任意
の連結基で結合された化学構造を有するものである。連
結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるいは
二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子として
は例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原
子等)へテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。即ち、具体的には、p。
〜ブロックの片末端に、−形成(IV)で示される如き
重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任意
の連結基で結合された化学構造を有するものである。連
結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるいは
二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子として
は例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原
子等)へテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。即ち、具体的には、p。
ってもよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、アルキル基(例えはメチル基、エチル基、プロピ
ル基等)等を示す〕、5−−C− N R1 SOx CON SOJ
NHCOORs R5 R3 れ 子、前記式(I)におけるR1と同様の内容を表わす膨
化水素基等を示す〕等の原子団がら遺ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、アルキル基(例えはメチル基、エチル基、プロピ
ル基等)等を示す〕、5−−C− N R1 SOx CON SOJ
NHCOORs R5 R3 れ 子、前記式(I)におけるR1と同様の内容を表わす膨
化水素基等を示す〕等の原子団がら遺ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104を
超えると、他のモノマー(例えば式(II)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、1×103以上であることが好ましい。
超えると、他のモノマー(例えば式(II)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、1×103以上であることが好ましい。
本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合成方法
よって製造することができる0例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
よって製造することができる0例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
例えば、P、Lutz+ P、Masson etal
、 Po1y*、Bull、。
、 Po1y*、Bull、。
、l;+ 79(1984) B、C,Anders
on、 G、D、Andre@s etal。
on、 G、D、Andre@s etal。
Nacromolecules、 ↓4. 1601
(1981) K、Hatada、 K。
(1981) K、Hatada、 K。
tlte、etal、 Polym、J41.977
(1,985)、lfi、1037(1986)。
(1,985)、lfi、1037(1986)。
右手浩−1畑田耕−1高分子加工、皿、 366(19
B?)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、観、 18
9(1989) M、Kurokj、 丁、At
da、 T、Am、Chem、Soc、 109゜
4737 (1987)、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、Q、 300(1985) D、Y、Sog
ah、 W、R,Bertler etal。
B?)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、観、 18
9(1989) M、Kurokj、 丁、At
da、 T、Am、Chem、Soc、 109゜
4737 (1987)、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、Q、 300(1985) D、Y、Sog
ah、 W、R,Bertler etal。
Macrosolecules、 赳、 1473(1
987)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポ
リマーを合成することができる。又、該リビングポリマ
ーの末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、
従来公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本
発明のマクロモノマーとすることができる。
987)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポ
リマーを合成することができる。又、該リビングポリマ
ーの末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、
従来公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本
発明のマクロモノマーとすることができる。
具体的には、P、Dreyfuss −& R,P、Q
ufrk+ Encycl。
ufrk+ Encycl。
Po1ys、Sci、Eng、+ h 55H1987
)、 P、F、Rempp。
)、 P、F、Rempp。
E、Franta、 Adu、、 Polym、Sci
、J5.1(1984)+V、Per−CfIC1^p
p1.、 Polym、Sct、、3J15.95(
1984)、 R,Asami。
、J5.1(1984)+V、Per−CfIC1^p
p1.、 Polym、Sct、、3J15.95(
1984)、 R,Asami。
M、TakaR4,Makvamol、Chem、5u
pp1.[+ 163(1985)P、Re5pp、e
tal、 Makvaaol、Chem、5upp1.
i 3(1984)用上雄資、化学工業、井、 56(
1987)、山下雄也、高分子、31.988(198
2) 、小林四部、高分子、創625(1981) 、
東村敏延、日本接着協会誌 18,536(1982)
、伊藤浩−1高分子加工、皿、262(1,986)、
東貴四部、津田隆、機能材料1.ufLZNo、10.
5等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法
に従って合成することができる。
pp1.[+ 163(1985)P、Re5pp、e
tal、 Makvaaol、Chem、5upp1.
i 3(1984)用上雄資、化学工業、井、 56(
1987)、山下雄也、高分子、31.988(198
2) 、小林四部、高分子、創625(1981) 、
東村敏延、日本接着協会誌 18,536(1982)
、伊藤浩−1高分子加工、皿、262(1,986)、
東貴四部、津田隆、機能材料1.ufLZNo、10.
5等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法
に従って合成することができる。
又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年)
、TJ、Greene’Protectivs Gr
oups tn Organic 5ynthesis
」、John Wiley & 5ous(19
81年) 、 J、FJ、McOmie。
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年)
、TJ、Greene’Protectivs Gr
oups tn Organic 5ynthesis
」、John Wiley & 5ous(19
81年) 、 J、FJ、McOmie。
’Protective Groups in
Organic Chemistry」Plenum
Press、 (1973年)等の総説に詳細に記載
されている方法を適宜選択して行なうことができる。
Organic Chemistry」Plenum
Press、 (1973年)等の総説に詳細に記載
されている方法を適宜選択して行なうことができる。
他のA−B型ブロック共重合体の合成法とじては、ジン
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる。例えば、大津除
行、高分子、釘、 248(1988)、檜森俊−1大
津隆−1Polym、Rep、Jap、fi、 350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる。例えば、大津除
行、高分子、釘、 248(1988)、檜森俊−1大
津隆−1Polym、Rep、Jap、fi、 350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。
のマクロモノマーを得ることができる。
本発明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、−H,−
CH3又は−CHzCOOCHsを示し、fは−H又は
−CHffを示し、R11は−CpHzp−+(pは1
〜18の整数) 、(CHz)ecJs (qは1〜C
B、 、−0C113又は−COCHxを示す)又はを
示す、Rlg は C,I+!、、、(Sは1〜8の整数)又は−(Cl(
□)acJsを示し、 Y!は 0■、 C00H1 H H を示し、 t=2〜I2の整数を示し、 Uは2〜6の 整数を示す。
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、−H,−
CH3又は−CHzCOOCHsを示し、fは−H又は
−CHffを示し、R11は−CpHzp−+(pは1
〜18の整数) 、(CHz)ecJs (qは1〜C
B、 、−0C113又は−COCHxを示す)又はを
示す、Rlg は C,I+!、、、(Sは1〜8の整数)又は−(Cl(
□)acJsを示し、 Y!は 0■、 C00H1 H H を示し、 t=2〜I2の整数を示し、 Uは2〜6の 整数を示す。
(Ll)
(?I−2)
(M−3)
f
(M−6)
(M−7)
(M−8)
(?I−9)
(l−9)(
L
(M
(M−15)
CHゴ
(−一16)
前記したマクロ七ツマ−(M)と共重合する単量体は例
えば−形成(■)で示される0式(II)においてR2
は式(1)中のR1と同一の内容を表わす。
えば−形成(■)で示される0式(II)においてR2
は式(1)中のR1と同一の内容を表わす。
又、重合体主鎖中には、 POsHz基、−5Osl(
基、−cook基、−OH基、−5H基及び−PO,R
1(基の酸性基を含有する共重合成分を含有しないもの
が好ましい。
基、−cook基、−OH基、−5H基及び−PO,R
1(基の酸性基を含有する共重合成分を含有しないもの
が好ましい。
更に、本発明の低分子量の樹脂〔A〕は、−形成(Il
a)及び/又は−形成(I[b)で示される2位又は2
.6−位に特定の置換基を有するベンゼン環又はナフタ
レン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを
共重合成分として含有するグラフト共重合体〔A′〕で
ある事が好ましい。
a)及び/又は−形成(I[b)で示される2位又は2
.6−位に特定の置換基を有するベンゼン環又はナフタ
レン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを
共重合成分として含有するグラフト共重合体〔A′〕で
ある事が好ましい。
−形成(I[a)において、好ましいxl及びχ2とし
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベン
ジル基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−
ベンジル基等)及び了り−ル基(例えばフェニル基、ト
リル基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並
びに−COZ、及び−COOZ3 (好ましい2.と
しては上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙
げることができる)を挙げることができる。但し、xI
とに2がともに水素原子を表わすことはない。
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベン
ジル基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−
ベンジル基等)及び了り−ル基(例えばフェニル基、ト
リル基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並
びに−COZ、及び−COOZ3 (好ましい2.と
しては上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙
げることができる)を挙げることができる。但し、xI
とに2がともに水素原子を表わすことはない。
式(I[a)において、L+は−COO−とベンゼン環
を結合する、単結合又は +CHz +−Tr(s+は
1〜3の整数を表わす) 、−CHzCtlzOCO−
2−(CHtO)yr(++1は1又は2の整数を表わ
す)、〜cIIzcuzo −等の如き連結原子数1〜
4個の連結基を表わす。
を結合する、単結合又は +CHz +−Tr(s+は
1〜3の整数を表わす) 、−CHzCtlzOCO−
2−(CHtO)yr(++1は1又は2の整数を表わ
す)、〜cIIzcuzo −等の如き連結原子数1〜
4個の連結基を表わす。
式(n b)におけるL8はLlと同一の内容を表わす
。
。
本発明の樹脂〔A′〕で用いられる、式(Ila)又は
(Ilb)で示される単量体の具体例を以下に挙げる。
(Ilb)で示される単量体の具体例を以下に挙げる。
しかし、本発明の範囲は、これらに限定さされるもので
はない。
はない。
II −1) CH。
■−2)
CH。
し!tls
■−4)
■−5)
■−6)
B3
CI(3
C,H。
■−7)
■
■−9)
II−10)
CH3
しI
CH。
r
1ls
CHl
■
II−12)
II−13)
n−14)
CH。
r
CH。
CH3
CH。
U−15>
■
■
It−18)
CH。
CH。
CH。
しI
CH。
■
I[−20)
It −21)
!!−22)
CH5
II3
しl
Hj
H3
■
II =24)
■
■
CH。
しI
CH3
しI
CHl
しl
CH。
■
CH。
CH,千〇
■
CHl
CH,=C
ll−33)
CH3
II−34)
CHl
II−35)
II−36)
I[−37)
I[−38)
L
L
Hi
CI。
しUL;6115
II −40) CI+3更には、本発
明のグラフト型共重合体において上記マクロモノマー(
M)と共重合する成分としては、−形成(II)、(I
[a)又は(I[b)以外の単量体であってもよく、例
えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリル
エステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルアミ
ド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例えば窒素原子以
外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子等)を1〜3個
含有する5員〜7員環の複素環であり、具体的な化合物
として、ビニルチオフェン、ビニルジオキサン、ビニル
フラン等〕等が挙げられる。
明のグラフト型共重合体において上記マクロモノマー(
M)と共重合する成分としては、−形成(II)、(I
[a)又は(I[b)以外の単量体であってもよく、例
えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリル
エステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルアミ
ド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例えば窒素原子以
外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子等)を1〜3個
含有する5員〜7員環の複素環であり、具体的な化合物
として、ビニルチオフェン、ビニルジオキサン、ビニル
フラン等〕等が挙げられる。
好ましい例としては、例えば、炭素数1〜3のアルカン
酸ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、スチレン及びスチレン誘導体(例え
ばビニルトルエン、ブチルスチレン、メトキシスチレン
、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン
、エトキシスチレン等)等が挙げられる。
酸ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、スチレン及びスチレン誘導体(例え
ばビニルトルエン、ブチルスチレン、メトキシスチレン
、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン
、エトキシスチレン等)等が挙げられる。
本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー(M)及び他
の単量体(例えば−形成(II)で示される単量体)の
うちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割
合で共重合させることによって製造することができる0
重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる0例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物
、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せし
め共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または
負熔荊に添加することにより所望の共重合体を得ること
ができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸
濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共
重合体を得ることができる。
の単量体(例えば−形成(II)で示される単量体)の
うちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割
合で共重合させることによって製造することができる0
重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる0例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物
、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せし
め共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または
負熔荊に添加することにより所望の共重合体を得ること
ができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸
濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共
重合体を得ることができる。
樹脂〔A〕において、A−B型ブロック共重合体中にお
ける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、
樹脂〔A〕100重量部中、好ましくは1〜20重量%
で、より好ましくは3〜15重量%である。
ける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、
樹脂〔A〕100重量部中、好ましくは1〜20重量%
で、より好ましくは3〜15重量%である。
樹脂〔A〕の重量平均分子量は好ましくは3×10’〜
1×104である。
1×104である。
一方、樹脂CB)は−形成(I[I)で示される繰り返
し単位を少なくとも1積台をする重合体で、かつ重合体
の一部が架橋された重量平均分子量が5X10’以上の
樹脂であり、より好ましくは重量平均分子量8 XIO
’〜6X10’である。
し単位を少なくとも1積台をする重合体で、かつ重合体
の一部が架橋された重量平均分子量が5X10’以上の
樹脂であり、より好ましくは重量平均分子量8 XIO
’〜6X10’である。
樹脂CB)のガラス転移点は好ましくは0℃〜120°
Cの範囲、より好ましくは10’C〜95“Cである。
Cの範囲、より好ましくは10’C〜95“Cである。
樹脂〔B〕の重量平均分子量が5X10’未満となると
、膜強度が不充分となってくる。又、樹脂CB)の重量
平均分子量が上記の好ましい上限値を超えると、有機溶
媒の溶解性が殆んどなくなり、実際上使用できなくなる
ため、好ましくない。
、膜強度が不充分となってくる。又、樹脂CB)の重量
平均分子量が上記の好ましい上限値を超えると、有機溶
媒の溶解性が殆んどなくなり、実際上使用できなくなる
ため、好ましくない。
本発明の樹脂CB)は、前記した物性を満たし、重合体
の一部分が架橋され、更に、−形成(1[[)で示され
る繰返し単位の中から選ばれた重合体成分を、ホモ重合
体成分としてまたは一般式(Ill)で示される繰返し
単位に相当する単量体と共重合し得る他の単量体との共
重合体成分として含有する重合体又は共重合体である。
の一部分が架橋され、更に、−形成(1[[)で示され
る繰返し単位の中から選ばれた重合体成分を、ホモ重合
体成分としてまたは一般式(Ill)で示される繰返し
単位に相当する単量体と共重合し得る他の単量体との共
重合体成分として含有する重合体又は共重合体である。
一形成CII+)で示される繰返し単位において、炭化
水素基は置換されていてもよい。
水素基は置換されていてもよい。
−形成(II)において、V、は好ましくは−C0〇−
−OCOCIItOCO−Cl1xCOO−又は−〇−
を表わし、より好ましくは−Coo CHgCO
O−又は−〇−を表わす。
−OCOCIItOCO−Cl1xCOO−又は−〇−
を表わし、より好ましくは−Coo CHgCO
O−又は−〇−を表わす。
R8は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよ
い炭化水素基を表わす、置換基としては上記重合体主鎖
の片末端に結合し得る極性基以外の置換基であればいず
れでもよく、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等) 、−0−2,、−Coo
−Z4、0CO−Z4、(Z4は、炭素数6〜22のア
ルキル基を表わし、例えばヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
等である)等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18
の置換されてもよいアルケニル& (Nえば、2−メ′
チルー1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテ
ニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニ
ル基、l−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチ
ル−2−へキセニル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル、I(例えば、ベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、
2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベン
ジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジ
ル基等〕、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(
例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜1
2の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基
、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基
、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、
ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル
基、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフ
ェニル基等)が挙げられる。
い炭化水素基を表わす、置換基としては上記重合体主鎖
の片末端に結合し得る極性基以外の置換基であればいず
れでもよく、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等) 、−0−2,、−Coo
−Z4、0CO−Z4、(Z4は、炭素数6〜22のア
ルキル基を表わし、例えばヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
等である)等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18
の置換されてもよいアルケニル& (Nえば、2−メ′
チルー1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテ
ニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニ
ル基、l−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチ
ル−2−へキセニル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル、I(例えば、ベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、
2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベン
ジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジ
ル基等〕、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(
例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜1
2の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基
、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基
、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、
ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル
基、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフ
ェニル基等)が挙げられる。
dt、 dtは、互いに同じでも異なってもよく、好ま
しくは水素原子、ハロゲン原子(例えばフン素原子、塩
素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のアル
キル基、−COO−Zs又は−CHICoo−Z3(Z
sは好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基を表わす)を
表わす、より好ましくは、dt、 dtは、互いに同じ
でも異なってもよ(、水素原子、炭素数1〜3のアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)
、−COO−Zs又は−CHzCOO−Zx(Zsハよ
り好ましくは炭素数1〜18のアルキル基又はアルケニ
ル基を表わし、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
オクテニル基、デセニル基等が挙げられ、これらアルキ
ル基、アルケニル基は前記りで示したと同様の置換基を
有していてもよい)を表わす。
しくは水素原子、ハロゲン原子(例えばフン素原子、塩
素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のアル
キル基、−COO−Zs又は−CHICoo−Z3(Z
sは好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基を表わす)を
表わす、より好ましくは、dt、 dtは、互いに同じ
でも異なってもよ(、水素原子、炭素数1〜3のアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)
、−COO−Zs又は−CHzCOO−Zx(Zsハよ
り好ましくは炭素数1〜18のアルキル基又はアルケニ
ル基を表わし、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
オクテニル基、デセニル基等が挙げられ、これらアルキ
ル基、アルケニル基は前記りで示したと同様の置換基を
有していてもよい)を表わす。
樹脂CB)において、重合体中に架橋構造を導入する方
法としては通常知られている方法を利用することができ
る。即ち、単量体の重合反応において多官能性単量体を
共存させて重合する方法及び重合体中に架橋反応を進行
する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である
。
法としては通常知られている方法を利用することができ
る。即ち、単量体の重合反応において多官能性単量体を
共存させて重合する方法及び重合体中に架橋反応を進行
する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である
。
本発明の樹脂〔B〕は、製造方法が簡便なこと(例えば
、長時間の反応を要する、反応が定量的でない、反応促
進助剤を用いる等で不純物が混入する等の問題が少ない
)等から、自己橋かけ反応をする官能基: −CONH
CHzOR3+ (Rff+は水素原子又はアルキル基
を表わす)による、あるいは、重合による橋かけ反応が
有効である。
、長時間の反応を要する、反応が定量的でない、反応促
進助剤を用いる等で不純物が混入する等の問題が少ない
)等から、自己橋かけ反応をする官能基: −CONH
CHzOR3+ (Rff+は水素原子又はアルキル基
を表わす)による、あるいは、重合による橋かけ反応が
有効である。
重合反応性基の場合には、好ましくは重合性官能基を2
個以上有する単量体を上記した式(III)の単量体と
とに重合することでポリマー鎖間を橋架けする方法が好
ましい。
個以上有する単量体を上記した式(III)の単量体と
とに重合することでポリマー鎖間を橋架けする方法が好
ましい。
重合性官能基として具体的に、CHt・CH−CHt=
CH−CHt−1CHt=CH−C−U−1Ut+z=
t;−u−U −CHz=CI−CH2−0−C−1C
H*llCH−Nl(Co−CHlCH−CHz−NH
CO−1CI(z=cH−3ow−2CI、、Cll−
Co −Cll=C1l−0−1CH,=C[l−5−
等を挙げることができるが、上記の重合性官能基を2個
以上有する単量体は、これらの重合性官能基を同一のも
のあるいは異なったものを2個以上有する単量体であれ
ばよい。
CH−CHt−1CHt=CH−C−U−1Ut+z=
t;−u−U −CHz=CI−CH2−0−C−1C
H*llCH−Nl(Co−CHlCH−CHz−NH
CO−1CI(z=cH−3ow−2CI、、Cll−
Co −Cll=C1l−0−1CH,=C[l−5−
等を挙げることができるが、上記の重合性官能基を2個
以上有する単量体は、これらの重合性官能基を同一のも
のあるいは異なったものを2個以上有する単量体であれ
ばよい。
重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例え
ば同一の重合性官能基を存する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、番400、」600.1,3−ブ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリス
リトールなど)又はポリヒドロキシフェノール(例えば
ヒドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの
誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸の
エステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテルを二
塩基酸(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン
酸等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニル
アミド類又はアリルアミドW:ポリアミン(例えばエチ
レンジアミン、1.3−プロピレンジアミン、1.4−
ブチレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
ば同一の重合性官能基を存する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、番400、」600.1,3−ブ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリス
リトールなど)又はポリヒドロキシフェノール(例えば
ヒドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの
誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸の
エステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテルを二
塩基酸(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン
酸等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニル
アミド類又はアリルアミドW:ポリアミン(例えばエチ
レンジアミン、1.3−プロピレンジアミン、1.4−
ブチレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
又、異なる重合性官能基を有する単量体として、例えば
、ビニル基を含有するカルボン酸(例えば、メタクリル
酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢
酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピ
オン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオ
ン酸、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反応
体(例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリ
ルオキシカルボニル酢酸、2−アルリオキシカルボニル
安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸等)等
〕のビニル基を含有するエステル誘導体又はアミド誘導
体(例えば、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル、
イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸ア
リル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル、
メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイルプ
ロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボニ
ルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカルボニル
メチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−アリル
アクリルアミド、N−アリルアクリルアミド、トアリル
イタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸アリル
アミド等)又はアミノアルコールI!(例えばアミンエ
タノール、1−アミノプロパツール、1−アミノブタノ
ール、l−アミノヘキサノール、2−アミノブタノール
等)と、ビニル基を含有したカルボン酸の縮合体などが
挙げられる。
、ビニル基を含有するカルボン酸(例えば、メタクリル
酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢
酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピ
オン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオ
ン酸、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反応
体(例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリ
ルオキシカルボニル酢酸、2−アルリオキシカルボニル
安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸等)等
〕のビニル基を含有するエステル誘導体又はアミド誘導
体(例えば、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル、
イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸ア
リル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル、
メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイルプ
ロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボニ
ルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカルボニル
メチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−アリル
アクリルアミド、N−アリルアクリルアミド、トアリル
イタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸アリル
アミド等)又はアミノアルコールI!(例えばアミンエ
タノール、1−アミノプロパツール、1−アミノブタノ
ール、l−アミノヘキサノール、2−アミノブタノール
等)と、ビニル基を含有したカルボン酸の縮合体などが
挙げられる。
本発明では、これらの2個以上の重合性官能基を有する
単量体を、全単量体の20重量%以下用いて重合するこ
とにより本発明の部分的に架橋された樹脂〔B〕を形成
することができる。更に好ましくは該単量体を、後述の
連鎖移動剤で末端に極性基を導入する方法で合成する樹
脂の場合には15重量%以下、それ以外の場合には5重
量%以下とすることが好ましい。
単量体を、全単量体の20重量%以下用いて重合するこ
とにより本発明の部分的に架橋された樹脂〔B〕を形成
することができる。更に好ましくは該単量体を、後述の
連鎖移動剤で末端に極性基を導入する方法で合成する樹
脂の場合には15重量%以下、それ以外の場合には5重
量%以下とすることが好ましい。
一方、樹脂(E)が末端極性基を含有しない場合(後述
の樹脂〔B°〕でない場合)には、熱及び/又は光で硬
化反応を起こす架橋性官能基を含有する樹脂を用いて樹
脂CB)に架橋構造を形成させてもよい。
の樹脂〔B°〕でない場合)には、熱及び/又は光で硬
化反応を起こす架橋性官能基を含有する樹脂を用いて樹
脂CB)に架橋構造を形成させてもよい。
該官能基は、分子間で化学反応を生じ化学結合を形成し
得るものであればいずれでもよい、即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。
得るものであればいずれでもよい、即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。
具体的には、解離性の水素原子を有する官能基υN
は炭素数1〜18のアルキル基、好ましくは炭素数1〜
6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基等)、炭素数7〜11のア
ラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチル
ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、
等)もしくは炭素数6〜12のアリール基(例えばフェ
ニル基、) IJ )し基、キシリル基、メシチレン基
、クロロフエニJし基、エチルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ナフチル基等)又は−0R31基(Rstは
l1siで示した上記炭化水素基と同一の内容)を表わ
す) 、−0115、−5l!基、 NH−Rss基C
R55’は、水素原子又はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等の如き炭素数1〜4のアルキル基を表
わす)〕との群から各々選ばれた官能基の組合せを少な
くとも1組含有する場合あるいは、=C0NHCHtO
Rsa(Rsaは水素原子又はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の如き炭素数1〜6
のアルキル基を表わす)又は重合性二重結合基等を含有
する場合が挙げられる。
6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基等)、炭素数7〜11のア
ラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチル
ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、
等)もしくは炭素数6〜12のアリール基(例えばフェ
ニル基、) IJ )し基、キシリル基、メシチレン基
、クロロフエニJし基、エチルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ナフチル基等)又は−0R31基(Rstは
l1siで示した上記炭化水素基と同一の内容)を表わ
す) 、−0115、−5l!基、 NH−Rss基C
R55’は、水素原子又はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等の如き炭素数1〜4のアルキル基を表
わす)〕との群から各々選ばれた官能基の組合せを少な
くとも1組含有する場合あるいは、=C0NHCHtO
Rsa(Rsaは水素原子又はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の如き炭素数1〜6
のアルキル基を表わす)又は重合性二重結合基等を含有
する場合が挙げられる。
該重合性二重結合基として具体的には、前記の重合性官
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。
更には、例えば、遠藤剛、「熱硬化性高分子の精密化J
(C,M、C,Il、1986年刊)、原崎勇次、
「最新バインダー技術便覧」第n−1章(総合技術セン
ター、1985年刊)、大津除行「アクリル樹脂の合成
・設計と新用途開発」 (中部経営開発センター出版部
、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂J
(テクノシステム1985年刊)乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田
隆弘、「新・感光性樹脂」 (印刷学会出版部、198
1年刊) 、G、E、Green and+ B、P。
(C,M、C,Il、1986年刊)、原崎勇次、
「最新バインダー技術便覧」第n−1章(総合技術セン
ター、1985年刊)、大津除行「アクリル樹脂の合成
・設計と新用途開発」 (中部経営開発センター出版部
、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂J
(テクノシステム1985年刊)乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田
隆弘、「新・感光性樹脂」 (印刷学会出版部、198
1年刊) 、G、E、Green and+ B、P。
5tar R,J、門1lcro、sci Rev
s Macro、Ches、+ C21(2L18
7〜273(1981〜B2)、 C,G、Roff
ey、 rPhotopoly−marjzation
of 5urface Coatingsノ
(AJiley Interscience Pub
、 1982年刊)等の総説に引例された官能基・化合
物等を用いることができる。
s Macro、Ches、+ C21(2L18
7〜273(1981〜B2)、 C,G、Roff
ey、 rPhotopoly−marjzation
of 5urface Coatingsノ
(AJiley Interscience Pub
、 1982年刊)等の総説に引例された官能基・化合
物等を用いることができる。
これらの架橋性官能基は、一つの共重合体成分中に含有
されていてもよいし、別個の共重合体成分中に含有させ
て架橋反応を行なってもよい。
されていてもよいし、別個の共重合体成分中に含有させ
て架橋反応を行なってもよい。
これらの架橋性官能基を含有する共重合体成分に相当す
る単量体の具体的なものとしては、例えば、−形成(E
l)の単量体と共重合し得る該官能基を含有するビニル
系化合物を挙げることができる。
る単量体の具体的なものとしては、例えば、−形成(E
l)の単量体と共重合し得る該官能基を含有するビニル
系化合物を挙げることができる。
例えば、高分子データ「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載さている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸If(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル2−ヘキセン酸、4−エチル
−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エス
テル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボ
ン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル
基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はス
ルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に
該架橋性官能基を含有する化合物等が挙げられる。
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載さている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸If(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル2−ヘキセン酸、4−エチル
−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エス
テル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボ
ン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル
基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はス
ルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に
該架橋性官能基を含有する化合物等が挙げられる。
本発明の樹脂CB)における上記「架橋性官能基を含有
する共重合体成分」の割合は、該樹脂中好ましくは1〜
80重量%である。より好ましくは、5〜50重量%で
ある。
する共重合体成分」の割合は、該樹脂中好ましくは1〜
80重量%である。より好ましくは、5〜50重量%で
ある。
かかる樹脂を製造する際には、架橋反応を促進させるた
めに、必要に応じて反応促進側を添加してもよい0例え
ば、酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン
酸、P−トルエンスルホン酸等)、過酸化物、アゾビス
系化合物、架橋剤、増感剤、光重合性単量体等が挙げら
れる。架橋剤としては、具体的には、山下晋三、金子東
助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等
に記載されている化合物等を用いることができる。
めに、必要に応じて反応促進側を添加してもよい0例え
ば、酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン
酸、P−トルエンスルホン酸等)、過酸化物、アゾビス
系化合物、架橋剤、増感剤、光重合性単量体等が挙げら
れる。架橋剤としては、具体的には、山下晋三、金子東
助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等
に記載されている化合物等を用いることができる。
例えば、通常用いられる、有機シラン、ポリウレタン、
ポリイソシアナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂の如き硬化剤等を用いることができる。
ポリイソシアナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂の如き硬化剤等を用いることができる。
光架橋反応性の官能基を含有する場合には、前記した感
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。
また、樹脂〔B〕は、前記した一般式(I)で示される
繰返し単位に相当する単量体及び前記した多官能性単量
体とともに、これら以外の他の単量体〔例えば樹脂〔A
〕にて含有され得る他の単量体として前記したもの)を
共重合成分として含有してもよい。
繰返し単位に相当する単量体及び前記した多官能性単量
体とともに、これら以外の他の単量体〔例えば樹脂〔A
〕にて含有され得る他の単量体として前記したもの)を
共重合成分として含有してもよい。
以上の如く、本発明の樹脂CB)は、架橋構造を重合体
の少なくとも1部に有することを特徴とするが、更に無
機光導電体及び該結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層形成用分散物調整時の有機溶媒に可溶性であることを
必要とする。具体的には、例えばトルエン溶媒100重
量部に対して、温度25℃において、樹脂CB)が少な
くとも5重量部以上溶解するものであればよい、これら
塗布用の溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロホルム、メチルクロロホルム、トリクレン等
のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロ
ピオン酸メチル等のエステル類、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート等の
グリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類等が挙げられ、
これらは単独で又は混合して使用することができる。
の少なくとも1部に有することを特徴とするが、更に無
機光導電体及び該結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層形成用分散物調整時の有機溶媒に可溶性であることを
必要とする。具体的には、例えばトルエン溶媒100重
量部に対して、温度25℃において、樹脂CB)が少な
くとも5重量部以上溶解するものであればよい、これら
塗布用の溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロホルム、メチルクロロホルム、トリクレン等
のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロ
ピオン酸メチル等のエステル類、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート等の
グリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類等が挙げられ、
これらは単独で又は混合して使用することができる。
更に、樹脂CB)の好ましい態様として、−形成(II
I)で示される繰返し単位を少なくとも1種含有する重
合体で、一部が架橋されており、且つ、少なくとも1つ
の主鎖の片末端にのみ、 P(hHx基、−5Os)I
基、−PO3H2基、−OH基、−5l(基、OH 状酸無水物含有基、−CuO基、−CONBg基−8O
□NH2てもよく、水素原子又は炭化水素基を示す)か
ら選ばれる少なくとも一つの極性基を結合して成る重量
平均分子量5XIO’以上の好ましくは重量平均分子量
8X10’〜6X10’の重合体(以下樹脂〔B′〕と
する)を挙げることができる。
I)で示される繰返し単位を少なくとも1種含有する重
合体で、一部が架橋されており、且つ、少なくとも1つ
の主鎖の片末端にのみ、 P(hHx基、−5Os)I
基、−PO3H2基、−OH基、−5l(基、OH 状酸無水物含有基、−CuO基、−CONBg基−8O
□NH2てもよく、水素原子又は炭化水素基を示す)か
ら選ばれる少なくとも一つの極性基を結合して成る重量
平均分子量5XIO’以上の好ましくは重量平均分子量
8X10’〜6X10’の重合体(以下樹脂〔B′〕と
する)を挙げることができる。
樹脂〔B′〕のガラス転移点は好ましくはθ℃〜120
℃の範囲、より好ましくは10℃〜95℃である。
℃の範囲、より好ましくは10℃〜95℃である。
ここで、−01f基としては、ビニル基又はアリル基含
有のアルコールI!(例えば、アリルアルコール、メタ
クリル酸エステル、アクリルアミド等のエステル置換基
、N−置換基中に−OF+基を含有する化合物等)、ヒ
ドロキシフェノール又はヒドロキシフェニル基を置換基
として含有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類
を挙げることができる。
有のアルコールI!(例えば、アリルアルコール、メタ
クリル酸エステル、アクリルアミド等のエステル置換基
、N−置換基中に−OF+基を含有する化合物等)、ヒ
ドロキシフェノール又はヒドロキシフェニル基を置換基
として含有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類
を挙げることができる。
環状酸無水物含有基としては、前記樹脂〔A〕にて前記
したものと同様のものを挙げることができる。
したものと同様のものを挙げることができる。
el及びC8の具体例としては、水素原子のほか炭素数
1−10の置換されてもよい脂肪族(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、2−シアノエチル基、2−クロロエチル基、2−
エトキシカルボニルエチルL べ7ジ)LiLフェネチ
ル基、クロロベンジル基等)、置換されてもよい了り−
ル基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、シアノフェニル基等)等が挙げられる。
1−10の置換されてもよい脂肪族(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、2−シアノエチル基、2−クロロエチル基、2−
エトキシカルボニルエチルL べ7ジ)LiLフェネチ
ル基、クロロベンジル基等)、置換されてもよい了り−
ル基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、シアノフェニル基等)等が挙げられる。
また、樹脂CB)における好ましい末端極性基は、 P
O3H!基、−COO11基、−SO,U基、−OH基
、OH ある。
O3H!基、−COO11基、−SO,U基、−OH基
、OH ある。
重合体主鎖の片末端のみに結合する前記特定の極性基は
重合体主鎖の一方の末端に直接結合するか、あるいは任
意の連結基を介して結合した化学構造を有する。
重合体主鎖の一方の末端に直接結合するか、あるいは任
意の連結基を介して結合した化学構造を有する。
結合基としては炭素−炭素結合(−重結合あるいは二重
結合)、炭素−ヘテb原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
わせで構成されるも83% のである0例えば、汁C+−(Rss、Roは水素原子
、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す〕
、 →CH=CH←、Rat
Rs〒−N−、−Coo−、−5
o□−5−CON−〔ここでRo、Roは各々水素原子
、炭素数1〜8の炭化水素基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、トリル基等)
又は−0Rs* (Ratは、Rstの炭化水素基と同
一の内容を表す)を表わす〕等が挙げられる。
結合)、炭素−ヘテb原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
わせで構成されるも83% のである0例えば、汁C+−(Rss、Roは水素原子
、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す〕
、 →CH=CH←、Rat
Rs〒−N−、−Coo−、−5
o□−5−CON−〔ここでRo、Roは各々水素原子
、炭素数1〜8の炭化水素基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、トリル基等)
又は−0Rs* (Ratは、Rstの炭化水素基と同
一の内容を表す)を表わす〕等が挙げられる。
重合体主鎖の少なくとも1つの片末端にのみ特定の極性
基を結合して成る本発明の樹脂CB)は、従来公知のア
ニオン重合あるいはカチオン重合によって得られるリビ
ングポリマーの末端に種々の試薬を反応させる方法(イ
オン重合法による方法)、分子中に特定の極性基を含有
する重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を欅いてラジカル
重合させる方法(ラジカル重合法による方法)、あるい
は以上の如きイオン重合法もしくはラジカル重合法によ
って得られた末端に反応性基含有の重合体を高分子反応
によって本発明の特定の極性基に変換する方法等の合成
法によって容易に製造することができる。
基を結合して成る本発明の樹脂CB)は、従来公知のア
ニオン重合あるいはカチオン重合によって得られるリビ
ングポリマーの末端に種々の試薬を反応させる方法(イ
オン重合法による方法)、分子中に特定の極性基を含有
する重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を欅いてラジカル
重合させる方法(ラジカル重合法による方法)、あるい
は以上の如きイオン重合法もしくはラジカル重合法によ
って得られた末端に反応性基含有の重合体を高分子反応
によって本発明の特定の極性基に変換する方法等の合成
法によって容易に製造することができる。
具体的には、P、Dreyfuss、 R,P、Qui
rk+ Encycl。
rk+ Encycl。
Polym、Sci、Eng、、 l: 551(19
87) 、中條善樹、山下雄也「染料と薬品」、川、−
232(1985) 、上田明、永井進「科学と工業」
雌、57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等
に記載の方法によって製造することができる。
87) 、中條善樹、山下雄也「染料と薬品」、川、−
232(1985) 、上田明、永井進「科学と工業」
雌、57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等
に記載の方法によって製造することができる。
本発明に用いられる樹脂〔B′〕の重合体は、具体的に
は、−形成(II[)で示される繰返し単位に相当する
単量体、前記した架橋構造を形成させるための多官能性
単量体及び片末端に結合させるべき極性基を含有する連
鎖移動剤の混合物を重合開始剤(例えばアゾビス系化合
物、過酸化物等)により重合する方法、あるいは上記連
鎖移動剤を用いずに、該極性基を含有する重合開始剤を
用いて重合する方法、あるいは連鎖移動剤及び重合開始
剤のいずれにも該極性基を含有する化合物を用いる方法
、更には、前記3つの方法において、連鎖移動剤あるい
は重合開始剤の置換基として、アミノ基、ハロゲン原子
、エポキシ基、酸ハライド基等を含有する化合物を用い
て重合反応後、更に高分子反応でこれらの官能基と反応
させることで該極性基を導入する方法、等を用いて製造
することができる。用いる連鎖移動剤としては、例えば
該極性基あるいは該極性基に誘導しうる置換基を含有す
るメルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリ
ンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸
、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト醋酸、
N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メ
ルカプトニコチン酸、3− CN (2−メルカプトエ
チル)カルバモイル〕プロピオン酸、3− (N−(2
−メルカプトエチル)アミノコプロピオン酸、N−(3
−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプト
エタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸
、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプトエ
タノール、3−メルカプト1.210パンジオール、1
−メルカプト−2−プロパツール、3−メルカプト−2
−ブタノール、メルカプトフェノール2−メルカプトエ
チルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカ
プト−3ビリジノール等)、あるいは上記極性基又は置
換基を含有するヨード化アルキル化合物(例えばヨード
酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2
−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホ
ン酸等)が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物が
挙げられる。
は、−形成(II[)で示される繰返し単位に相当する
単量体、前記した架橋構造を形成させるための多官能性
単量体及び片末端に結合させるべき極性基を含有する連
鎖移動剤の混合物を重合開始剤(例えばアゾビス系化合
物、過酸化物等)により重合する方法、あるいは上記連
鎖移動剤を用いずに、該極性基を含有する重合開始剤を
用いて重合する方法、あるいは連鎖移動剤及び重合開始
剤のいずれにも該極性基を含有する化合物を用いる方法
、更には、前記3つの方法において、連鎖移動剤あるい
は重合開始剤の置換基として、アミノ基、ハロゲン原子
、エポキシ基、酸ハライド基等を含有する化合物を用い
て重合反応後、更に高分子反応でこれらの官能基と反応
させることで該極性基を導入する方法、等を用いて製造
することができる。用いる連鎖移動剤としては、例えば
該極性基あるいは該極性基に誘導しうる置換基を含有す
るメルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリ
ンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸
、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト醋酸、
N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メ
ルカプトニコチン酸、3− CN (2−メルカプトエ
チル)カルバモイル〕プロピオン酸、3− (N−(2
−メルカプトエチル)アミノコプロピオン酸、N−(3
−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプト
エタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸
、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプトエ
タノール、3−メルカプト1.210パンジオール、1
−メルカプト−2−プロパツール、3−メルカプト−2
−ブタノール、メルカプトフェノール2−メルカプトエ
チルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカ
プト−3ビリジノール等)、あるいは上記極性基又は置
換基を含有するヨード化アルキル化合物(例えばヨード
酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2
−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホ
ン酸等)が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物が
挙げられる。
これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単量
体100重量部に対して、0.5〜15重量部であり、
好ましくは1〜10重量部である。
体100重量部に対して、0.5〜15重量部であり、
好ましくは1〜10重量部である。
本発明では、本発明に従う樹脂CA〕及び樹脂CB)(
CB’ )も含む)の他に他の樹脂を併用させることも
できる。それらの樹脂としては、例えば、アルキッド樹
脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン類、エチレン
−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン−ブタジェン
樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル
樹脂等が挙げられる。
CB’ )も含む)の他に他の樹脂を併用させることも
できる。それらの樹脂としては、例えば、アルキッド樹
脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン類、エチレン
−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン−ブタジェン
樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル
樹脂等が挙げられる。
上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用量の割合
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂〔A〕と樹脂CB)の用いる
割合は5〜60対95〜40 (重量比)であり、好ま
しくは10〜50対90〜50(重量比)である。
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂〔A〕と樹脂CB)の用いる
割合は5〜60対95〜40 (重量比)であり、好ま
しくは10〜50対90〜50(重量比)である。
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛等が挙げられる。
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛等が挙げられる。
好ましくは、酸化亜鉛、酸化チタン等が挙げられる。無
機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導電
体100重量部に対して結着樹脂を10〜100重量部
なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用
する。
機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導電
体100重量部に対して結着樹脂を10〜100重量部
なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用
する。
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる0例えば、宮本晴視:武井秀彦
;イメージング土豆1主(Ncc8)第12頁、C,J
、 Young等、RCA Revie−エエ、46
9 (1954L清田航平等、電気通信学会論文詰q(
NcL2)、97 (1980)、原崎勇次等、工業化
学雑誌旦旦、78及び188(1963)、谷忠昭、日
本゛写真学会誌主l、20B (1972)等の総説引
例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリ
フェニルメタン色素、キサンチン系色素、フタレイン系
色素、ポリメチン色素(例えばオキソノール、メロシア
ニン色素、シアニン色素、ログシアニン色素、スチリル
色素年)、フタロシアニン色素(金属を含有していても
よい)等が挙げられる。
て併用することができる0例えば、宮本晴視:武井秀彦
;イメージング土豆1主(Ncc8)第12頁、C,J
、 Young等、RCA Revie−エエ、46
9 (1954L清田航平等、電気通信学会論文詰q(
NcL2)、97 (1980)、原崎勇次等、工業化
学雑誌旦旦、78及び188(1963)、谷忠昭、日
本゛写真学会誌主l、20B (1972)等の総説引
例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリ
フェニルメタン色素、キサンチン系色素、フタレイン系
色素、ポリメチン色素(例えばオキソノール、メロシア
ニン色素、シアニン色素、ログシアニン色素、スチリル
色素年)、フタロシアニン色素(金属を含有していても
よい)等が挙げられる。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン系色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開
昭50−90334号、特開昭50−114227号、
特開昭53−39130号、特開昭53−82353号
、米国特許第3052540号、米国特許第40544
50号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。
タン系色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開
昭50−90334号、特開昭50−114227号、
特開昭53−39130号、特開昭53−82353号
、米国特許第3052540号、米国特許第40544
50号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としてはF、 M
、 Hammer 、 rThe Cyanine
Dyes andRelated Co5pound
a」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3047384号、米国特許第3110
591号、米国特許第3121008号、米国特許第3
125447号、米国特許第3128179号、米国特
許第3132942号、米国特許第3622317号、
英国特許第1226892号、英国特許第130927
4号、英国特許第1405898号、特公昭4B−78
14号、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙
げられる。
ログシアニン色素等のポリメチン色素としてはF、 M
、 Hammer 、 rThe Cyanine
Dyes andRelated Co5pound
a」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3047384号、米国特許第3110
591号、米国特許第3121008号、米国特許第3
125447号、米国特許第3128179号、米国特
許第3132942号、米国特許第3622317号、
英国特許第1226892号、英国特許第130927
4号、英国特許第1405898号、特公昭4B−78
14号、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙
げられる。
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭47−840
号、特開昭47−44180号、特公昭51−4106
1号、特開昭49−5034号、特開昭49−4512
2号、特開昭57−46245号、特開昭56−351
41号、特開昭57−157254号、特開昭61−2
6044号、特開昭61−27551号、米国特許第3
619154号、米国特許第4175956号、rRe
search Disclosure J 19 B
2年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙
げられる。
光増感するポリメチン色素として、特開昭47−840
号、特開昭47−44180号、特公昭51−4106
1号、特開昭49−5034号、特開昭49−4512
2号、特開昭57−46245号、特開昭56−351
41号、特開昭57−157254号、特開昭61−2
6044号、特開昭61−27551号、米国特許第3
619154号、米国特許第4175956号、rRe
search Disclosure J 19 B
2年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙
げられる。
本発明の感光体は種々の増感色素を併用させても、その
性能が増感色素により変動しにくい点でも優れている。
性能が増感色素により変動しにくい点でも優れている。
更には、必要に応じて、化学増感剤等の従来知られてい
る電子写真感光層用各種添加剤を併用することもできる
。Nえば、前記した総説:イメージング上1 (Nct
8 )第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例
えばハロゲン、ベンゾキノン、クラニル、酸無水物、有
機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感
光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科学情報(
株)出版部(1986年)の総説引例のポリアリールア
ルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、P−フェ
ニレンジアミン化合物等が挙げられる。
る電子写真感光層用各種添加剤を併用することもできる
。Nえば、前記した総説:イメージング上1 (Nct
8 )第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例
えばハロゲン、ベンゾキノン、クラニル、酸無水物、有
機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感
光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科学情報(
株)出版部(1986年)の総説引例のポリアリールア
ルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、P−フェ
ニレンジアミン化合物等が挙げられる。
これら各種添加剤の添加量は特に限定的ではないが、通
常光導電体100重量部に対して0.001〜2.0重
量部である。
常光導電体100重量部に対して0.001〜2.0重
量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μ、が
好適である。
好適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.O1〜1μ、特に0.05〜0.5μ、が好適で
ある。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.O1〜1μ、特に0.05〜0.5μ、が好適で
ある。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0aが好適である。
0aが好適である。
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂の熱可塑性樹
脂および硬化性樹脂が適宜用いられる。
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂の熱可塑性樹
脂および硬化性樹脂が適宜用いられる。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に言って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性分質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止t−図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、AI等を蒸着した基体導電化プラスチ
ックを紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
ことができる。一般に言って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性分質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止t−図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、AI等を蒸着した基体導電化プラスチ
ックを紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14、(Nlll)、第2〜11
頁(1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分
子刊行会(1975)、11.F。
坂本幸男、電子写真、14、(Nlll)、第2〜11
頁(1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分
子刊行会(1975)、11.F。
Hooverr J、 Macrosol、 S
ci、 Chet A −4(6) 。
ci、 Chet A −4(6) 。
第1327〜1417頁(1970)等に記載されてい
るもの等を用いる。
るもの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
マクロ七ツマ−(M)の合成例1: (M−1)トリフ
ェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン100
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20℃に冷
却した。1.1−ジフェニルブチルリチウム1゜Ogを
加え10時間反応した。
ェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン100
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20℃に冷
却した。1.1−ジフェニルブチルリチウム1゜Ogを
加え10時間反応した。
更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート70g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
この混合物を0℃にした後炭酸ガスを60m/+win
の流量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
の流量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
得られた反応液を攪拌下に、温度25℃とし、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート6gを加え、更に、ジシク
ロへキシルカルボジイミド12g、4−N、N−ジメチ
ルアミノピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの混
合溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間攪拌した。
ロキシエチルメタクリレート6gを加え、更に、ジシク
ロへキシルカルボジイミド12g、4−N、N−ジメチ
ルアミノピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの混
合溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間攪拌した。
析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に、30%塩化
水素エタノール溶液10dを加え1時間攪拌した0次に
、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を
留去した後、石油エーテル12中に再沈した。沈殿物を
補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、〜6.5X1
0’で収量56gであった。
水素エタノール溶液10dを加え1時間攪拌した0次に
、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を
留去した後、石油エーテル12中に再沈した。沈殿物を
補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、〜6.5X1
0’で収量56gであった。
(M−1) C113
マクロモノマー(M)の合成例2: (M〜2)ベンジ
ルメタクリレート5g、(テトラフェニルボルフイナー
ト)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレン60
gの混合溶液を窒素気流下に温度30℃とした。これに
300−一キセノンランプ光をガラスフィルターを通し
て25cmの距離から光照射し、12時間反応した。こ
の混合物に更にブチルメタクリレート45gを加え、同
様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−ブロモ
メチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反応を停
止させた。
ルメタクリレート5g、(テトラフェニルボルフイナー
ト)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレン60
gの混合溶液を窒素気流下に温度30℃とした。これに
300−一キセノンランプ光をガラスフィルターを通し
て25cmの距離から光照射し、12時間反応した。こ
の混合物に更にブチルメタクリレート45gを加え、同
様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−ブロモ
メチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反応を停
止させた。
次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25℃で1
時間接触還元反応を行なった。
時間接触還元反応を行なった。
不溶物を濾別した後石油エーテル500d中に再沈し、
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
で〜7X10”であった。
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
で〜7X10”であった。
(M−2)
マクロモノマー(M)の合成例3: (M−3)4−ビ
ニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びトルエ
ン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気し、
0℃に冷却した。1.1−ジフェニル−3−メチルペン
チルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこの混
合物に2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート
80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に
充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反応混
合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを30d
/winの流量で30分間通気した後、温度15℃に冷
却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で滴下し
、更にそのまま3時間攪拌した。
ニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びトルエ
ン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気し、
0℃に冷却した。1.1−ジフェニル−3−メチルペン
チルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこの混
合物に2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート
80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に
充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反応混
合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを30d
/winの流量で30分間通気した後、温度15℃に冷
却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で滴下し
、更にそのまま3時間攪拌した。
次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液L
ogを加え、25℃で1時間撹拌した後、石油エーテル
1!中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテル3
00dで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量
55gで〜7.8X10’であった。
ogを加え、25℃で1時間撹拌した後、石油エーテル
1!中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテル3
00dで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量
55gで〜7.8X10’であった。
(M−3)
IIs
マクロモノマー(M)の合成例4:(M−4)トリフェ
ニルメチルメタクリレ−)40g及びトルエン100g
の混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に冷
却した。
ニルメチルメタクリレ−)40g及びトルエン100g
の混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に冷
却した。
5ec−ブチルリチウム2gを加え10時間反応した。
次に、この混合溶液に、スチレン60g及びトルエン1
00gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添
加し12時間反応した。この混合物を0℃にした後、ベ
ンジルブロマイドl1gを加え1時間反応し、温度25
℃で更に2時間反応させた。
00gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添
加し12時間反応した。この混合物を0℃にした後、ベ
ンジルブロマイドl1gを加え1時間反応し、温度25
℃で更に2時間反応させた。
この反応混合物に30%塩水素含有エタノール溶液10
gを加え、2時間撹拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキ
サン1j!中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した
。得られた重合体の収量は58gで〜4.5 X 10
”であった。
gを加え、2時間撹拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキ
サン1j!中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した
。得られた重合体の収量は58gで〜4.5 X 10
”であった。
(M−4)
マクロモノマ−(M)の合成例5:(M−5)フェニル
メタクリレート70g1ベンジル−N−ヒドロキシルエ
チル−N−エチルジチオカーバメート4.8gの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加温した
。これに400−の高圧水銀灯で101の距離からガラ
スフィルターを通して、10時間光照射し光重合した。
メタクリレート70g1ベンジル−N−ヒドロキシルエ
チル−N−エチルジチオカーバメート4.8gの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加温した
。これに400−の高圧水銀灯で101の距離からガラ
スフィルターを通して、10時間光照射し光重合した。
これにアクリル酸30g及びメチルエチルケトン180
gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射した。
gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射した。
得られた反応混合物に、2−インシアナートエチルメタ
クリレート12gを、温度30℃で1時間で滴下し、更
に2時間攪拌した。
クリレート12gを、温度30℃で1時間で滴下し、更
に2時間攪拌した。
得られた反応物をヘキサン1.52に再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体は、68gで−6,0×10’で
あった。
した。得られた重合体は、68gで−6,0×10’で
あった。
(M−5)
樹脂(A、lの合成例1: [A〜1]エチルメタクリ
レ−) 80 g 、マクロモノマ−(M−1)120
g、 トルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温
度95℃に加温した。2.■−アゾビス(イソブチロニ
トリル) (AIBN> 6 gを加え3時間反応し、
更に2時間毎に^、1.B、N 2 gを加え反応した
。
レ−) 80 g 、マクロモノマ−(M−1)120
g、 トルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温
度95℃に加温した。2.■−アゾビス(イソブチロニ
トリル) (AIBN> 6 gを加え3時間反応し、
更に2時間毎に^、1.B、N 2 gを加え反応した
。
得られた共重合体の〜は9X10”であった。
(A−1)
樹脂〔A〕の合成例2:(A−2)
2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(M−2)30g、n−ドデシルメルカプタン2g
及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に温度8
0℃に加温した。2.■−アゾビス(イソバレロニトリ
ル)(All)3 gを加え3時間反応し、更にA、1
.V、N、 1 gを加え2時間反応した。
マー(M−2)30g、n−ドデシルメルカプタン2g
及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に温度8
0℃に加温した。2.■−アゾビス(イソバレロニトリ
ル)(All)3 gを加え3時間反応し、更にA、1
.V、N、 1 gを加え2時間反応した。
次にA、1.B、N、 1 gを加え温度90℃に加温
して3時間反応した。得られた共重合体の〜は7.6X
103であった。
して3時間反応した。得られた共重合体の〜は7.6X
103であった。
(A−2)
C1’s
樹脂〔A〕の合成例3〜18 : [A−31〜[A−
181樹脂〔A〕の合成例1と同様の重合条件で、エチ
ルメタクリレートを他の単量体に代えて下記表−1の共
重合体を合成した。得られた各重合体の〜は5X103
〜9X10”であった。
181樹脂〔A〕の合成例1と同様の重合条件で、エチ
ルメタクリレートを他の単量体に代えて下記表−1の共
重合体を合成した。得られた各重合体の〜は5X103
〜9X10”であった。
表−1
H3
H3
x + y +2O−100(重量比)樹脂〔A〕の合
成例19〜35 : (A−19]〜[A−351樹脂
〔A〕の合成例2において、マクロモノマー(M−2)
の代わりに他のマクロモノマー(M)を用いた他は、合
成例2と同様の重合条件で下記表−2の共重合体を合成
した。得られた各重合体の〜は2X10”〜1×103
であった。
成例19〜35 : (A−19]〜[A−351樹脂
〔A〕の合成例2において、マクロモノマー(M−2)
の代わりに他のマクロモノマー(M)を用いた他は、合
成例2と同様の重合条件で下記表−2の共重合体を合成
した。得られた各重合体の〜は2X10”〜1×103
であった。
B の 二 B−
エチルメタクリレートioo g 、エチレングリコー
ルジメタクリレー) 1.0g及びトルエン200 g
の混合溶液を窒素気流下75℃の温度に加温した後、ア
ゾビスイソブチロニトリル1.0gを加え、10時間反
応させた。得られた共重合体[B−13の重量平均分子
量は4.2 X 10’であった。
ルジメタクリレー) 1.0g及びトルエン200 g
の混合溶液を窒素気流下75℃の温度に加温した後、ア
ゾビスイソブチロニトリル1.0gを加え、10時間反
応させた。得られた共重合体[B−13の重量平均分子
量は4.2 X 10’であった。
B の 〜 二 B−〜B−9樹脂〔
B〕の合成例1と同様の重合条件でモノマーと、架橋モ
ノマーを下記表−3の化合物を用いて、樹脂〔B〕を製
造した。
B〕の合成例1と同様の重合条件でモノマーと、架橋モ
ノマーを下記表−3の化合物を用いて、樹脂〔B〕を製
造した。
(以下余白)
B のA Q: B−20
エチルメタクリレート99gエチレングリコールジメタ
クリレート1gトルエン150g及びメタノール50g
の混合溶液を窒素気流下70℃の温度に加温した後、4
,4′−アゾビス(4−シアノペンタン酸)1.ogを
加え、8時間反応した。
クリレート1gトルエン150g及びメタノール50g
の混合溶液を窒素気流下70℃の温度に加温した後、4
,4′−アゾビス(4−シアノペンタン酸)1.ogを
加え、8時間反応した。
得られた共重合体の〜は1.OX 10’であった。
B の人 : B−2〜B−24上記樹脂〔B
〕の合成例20において、重合開始剤: 4.4’−ア
ゾビス(4−シアノベンクン酸)の代わりに下記表−4
の化合物を用いて、合成例2゜と同様の条件で樹脂〔B
〕を各々製造した。各樹脂の〜は1.0X10’〜3×
105であった。
〕の合成例20において、重合開始剤: 4.4’−ア
ゾビス(4−シアノベンクン酸)の代わりに下記表−4
の化合物を用いて、合成例2゜と同様の条件で樹脂〔B
〕を各々製造した。各樹脂の〜は1.0X10’〜3×
105であった。
(以下余白)
B のム 25: B−5
エチルメタクリレ−)99g、チオグリコール酸1.0
g、ジビニルベンゼン2.0g及びトルエン200gの
混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度80℃に加温し
た。2,2°−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボ
ニトリル)(略称A、C,)1.N、) 0.8gを加
え4時間反応し、更に、A、C,H,N、を0.4g加
えて2時間、その後A、C,H,N、を0.2g加えて
、2時間反応した。
g、ジビニルベンゼン2.0g及びトルエン200gの
混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度80℃に加温し
た。2,2°−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボ
ニトリル)(略称A、C,)1.N、) 0.8gを加
え4時間反応し、更に、A、C,H,N、を0.4g加
えて2時間、その後A、C,H,N、を0.2g加えて
、2時間反応した。
得られた共重合体の〜は1.2×104であった。
B のA 〜3:B−6〜B−
樹脂CB)の合成例25において、架橋用多官能性単量
体であるジビニルベンゼン2.0gの代わりに、下記表
−5の多官能性単量体又はオリゴマーを用いる他は、合
成例25と同様に操作して、樹脂CB)を製造した。
体であるジビニルベンゼン2.0gの代わりに、下記表
−5の多官能性単量体又はオリゴマーを用いる他は、合
成例25と同様に操作して、樹脂CB)を製造した。
(以下余白)
B の人 39〜45 : B−39〜B−46メ
チルメタクリレ一ト39g、エチルメタクリレトロ0g
、下記表−6のメルカプト化合物1.0gエチレングリ
コールジメタクリレート2gトルエン150g及びメタ
ノール50gの混合溶液を窒素気流下70°Cの温度に
加温した後、2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル
) 0.8gを加え4時間反応し、更に、2.2°−ア
ゾビス(イソブチロニトリル) 0.4gを加えて4時
間反応した。
チルメタクリレ一ト39g、エチルメタクリレトロ0g
、下記表−6のメルカプト化合物1.0gエチレングリ
コールジメタクリレート2gトルエン150g及びメタ
ノール50gの混合溶液を窒素気流下70°Cの温度に
加温した後、2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル
) 0.8gを加え4時間反応し、更に、2.2°−ア
ゾビス(イソブチロニトリル) 0.4gを加えて4時
間反応した。
得られた各重合体の〜は9.5X10’〜2XlO’で
あった。
あった。
表−6
表
(続き)
11 び 六 A−B樹脂(A−2)
6g (固形分量として)、樹脂CB −20) 34
g (固形分量として)、下記構造のシアニン色素[1
) 0.018g及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で3時間分散して、感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/がとなる
様に、ワイヤーバーで塗布し、110°Cで30秒間乾
燥し、ついで暗所で20°C65%R11の条件下で2
4時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。
6g (固形分量として)、樹脂CB −20) 34
g (固形分量として)、下記構造のシアニン色素[1
) 0.018g及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で3時間分散して、感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/がとなる
様に、ワイヤーバーで塗布し、110°Cで30秒間乾
燥し、ついで暗所で20°C65%R11の条件下で2
4時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。
シアニン色素〔1)
此ILへ:
実施例1において用いた結着樹脂(A、−2)6gの代
わりに下記に示す樹脂(R−1)6gを用いる以外は、
実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した
。
わりに下記に示す樹脂(R−1)6gを用いる以外は、
実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した
。
蓋C1(2
CL C1h
Cat丁六C1−1,−C片−
COOCJs COCo
0H6,5xlO’
(重量比)
此1u1W:
実施例1において用いた結着樹脂(A−2)6gの代わ
りに下記に示す樹脂(R2)6gを用いる以外は、実施
例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
りに下記に示す樹脂(R2)6gを用いる以外は、実施
例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
〔R−2]
CL
HOOC−(Jlz−5−cell□−CトーC00C
,)l。
,)l。
Frw 6.0X10”
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、撮像性及び環境条件を30°C180%RHとした時
の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセッ
トマスター用原版として用いた時の光導電性の不感脂化
性(不惑脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす
)及び印刷性(地汚れ、耐H1l性等)を調べた。
、撮像性及び環境条件を30°C180%RHとした時
の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセッ
トマスター用原版として用いた時の光導電性の不感脂化
性(不惑脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす
)及び印刷性(地汚れ、耐H1l性等)を調べた。
以上の結果をまとめて表−7に示す。
表
表−7に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
る。
注1)光導電層の平滑性:
得られた感光材料は、ヘンク平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
注2〕光導電層の機械的強度:
得られた感光材料面をヘイトン−14型表面性試験材(
新東化学蛛製)を用いて荷重60g/cilのものでエ
メリー紙(11000)で1000回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め
機械的強度とした。
新東化学蛛製)を用いて荷重60g/cilのものでエ
メリー紙(11000)で1000回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め
機械的強度とした。
注3)静電特性:
温度20°C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロナ
放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位v1
゜を測定した。次いでそのまま暗中で120秒間静置さ
せた後の電位vex。を測定し、120秒間暗減衰させ
た後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率[DRR(X
))を(V+*o/V+o)X100(%)で求めた。
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロナ
放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位v1
゜を測定した。次いでそのまま暗中で120秒間静置さ
せた後の電位vex。を測定し、120秒間暗減衰させ
た後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率[DRR(X
))を(V+*o/V+o)X100(%)で求めた。
又コロナ放電により光導電層表面を一500■に帯電さ
せた後、波長785nmの単色光で照射し、表面電位(
V+。)が1/lOに減衰するまでの時間を求め、これ
から露光量E+7+o(erg/c4)を算出する。
せた後、波長785nmの単色光で照射し、表面電位(
V+。)が1/lOに減衰するまでの時間を求め、これ
から露光量E+7+o(erg/c4)を算出する。
更にEl/I。測定と同様にコロナ放電により一500
■に帯電させた後、波長785nmの単色光で照射し、
表面電位(V+。)が1 /100に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量E17、。。(erg/cn
)を算出する。
■に帯電させた後、波長785nmの単色光で照射し、
表面電位(V+。)が1 /100に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量E17、。。(erg/cn
)を算出する。
注4)揚傷性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。
次に一5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガ
リウムーアルミニウムーヒ素、半導体レーザー(発振波
長785n+w )を用いて、感光材料表面上で50e
rg/cjの照射量下、ピンチ25−及びスキャニング
速度300s/secのスピード露光後液体現像剤とし
て、ELP−T (富士写真フィルム■製)を用いて
現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、画
像の画質)を目視評価した。
リウムーアルミニウムーヒ素、半導体レーザー(発振波
長785n+w )を用いて、感光材料表面上で50e
rg/cjの照射量下、ピンチ25−及びスキャニング
速度300s/secのスピード露光後液体現像剤とし
て、ELP−T (富士写真フィルム■製)を用いて
現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、画
像の画質)を目視評価した。
撮像時の環境条件は20’C65%R)1と30°C8
0%IIHで実施した。
0%IIHで実施した。
注5)水との接触角:
各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX (富士写真
フィルム■製)を芸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エンチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2p!の水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
フィルム■製)を芸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エンチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2p!の水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
注6)耐刷性:
各感光材料を、上記注4)と同条件で、製版して、トナ
ー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し
、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、印刷物の非画
像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷
できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良好な
ことを表わす)。
ー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し
、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、印刷物の非画
像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷
できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良好な
ことを表わす)。
表−7に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も
地力ブリがなく複写h’lも鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化
されていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れ
を観察しても地汚れは全く認められなかった。
滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も
地力ブリがなく複写h’lも鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化
されていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れ
を観察しても地汚れは全く認められなかった。
又、比較例A、Bは、静電特性が低下し、特に高温・高
湿下では、D、R,R,値が更に低下した。
湿下では、D、R,R,値が更に低下した。
(E値が小さくなっているが、これはり、R,R,値が
小さくなるため、見かけ玉串さい値となる)。
小さくなるため、見かけ玉串さい値となる)。
これらのレベルでは、撮像条件によっては、実用可能な
レベルになるが、環境条件の変動あるいは粗悪な原稿(
例えば、文字が薄い、背景が白地でない等)等の場合に
は、複写画像は悪化して、実用に供しえなくなる。
レベルになるが、環境条件の変動あるいは粗悪な原稿(
例えば、文字が薄い、背景が白地でない等)等の場合に
は、複写画像は悪化して、実用に供しえなくなる。
更には、本発明の感光体と比較例の感光体とではE17
.。。値が大きく異なる。El/□。。値は、実際の撮
像性において、露光後、非画像部(既に露光された部位
)にどれだけの電位が残っているかを示すものであり、
この値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生しなく
なる事を示す。
.。。値が大きく異なる。El/□。。値は、実際の撮
像性において、露光後、非画像部(既に露光された部位
)にどれだけの電位が残っているかを示すものであり、
この値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生しなく
なる事を示す。
具体的には一10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはV*−tOV以下とするために、ど
れだけ露光量が必要となるかということで、半導体レー
ザー光によるスキャンニング露光方式では、小さい露光
量で■、を一10V以下にすることは、複写機の光学系
の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度等)非常に
重要なことである。
なり、即ち実際にはV*−tOV以下とするために、ど
れだけ露光量が必要となるかということで、半導体レー
ザー光によるスキャンニング露光方式では、小さい露光
量で■、を一10V以下にすることは、複写機の光学系
の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度等)非常に
重要なことである。
以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実際
に撮像すると、比較例A、Bの感光材料は、画像部に細
線等のカスレ部分又非西像部に地力ブリが発生してしま
った。又、オフセットマスター原版として用いた場合で
も、本発明の感光材料が1万枚以上印刷できる印刷条件
で、比較例ABでは複写画像の地力ブリが、刷り出しか
らの印刷物の地汚れとして発生してしまった。
に撮像すると、比較例A、Bの感光材料は、画像部に細
線等のカスレ部分又非西像部に地力ブリが発生してしま
った。又、オフセットマスター原版として用いた場合で
も、本発明の感光材料が1万枚以上印刷できる印刷条件
で、比較例ABでは複写画像の地力ブリが、刷り出しか
らの印刷物の地汚れとして発生してしまった。
以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られる
。
特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られる
。
尖施拠l二且
実施例1において、樹脂[A−2)及び樹脂CB−20
)に代えて、下記表−8の各樹脂(A3及び各樹脂rB
)に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電子写
真感光体を作製した。
)に代えて、下記表−8の各樹脂(A3及び各樹脂rB
)に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電子写
真感光体を作製した。
実施例1と同様にして静電特性を測定した。結果を表−
8に示す。
8に示す。
(以下余白)
表−8
静電特性は、
(30°C180%R)l)条件下での測定値又、オフ
セットマスター原版として用いて、実施例1と同様にし
て印刷した所、いずれも1万枚以上印刷することができ
た。
セットマスター原版として用いて、実施例1と同様にし
て印刷した所、いずれも1万枚以上印刷することができ
た。
以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。
さらに、樹脂[A′]を用いることにより静電特性がさ
らに向上することが判った。
らに向上することが判った。
実隻孤■二F
実施例1において結着樹脂として下記表−9の樹脂〔A
〕6g及び樹脂CB〕34gに代え、又、シアニン色素
(1) 0.02gの代わりに下記構造の色素(If)
0.019gに代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
〕6g及び樹脂CB〕34gに代え、又、シアニン色素
(1) 0.02gの代わりに下記構造の色素(If)
0.019gに代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
色素(If)
(C)+2)4S03θ
表
本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写直像も高温・高湿の(30°
C180%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
光感度に優れ、実際の複写直像も高温・高湿の(30°
C180%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
更に、これをオフセントマスターの原版として用いて印
刷した所、地力ブリのない鮮明な画質の印刷物を1万枚
以上印刷できた。
刷した所、地力ブリのない鮮明な画質の印刷物を1万枚
以上印刷できた。
28 び29 びに C
樹脂(A−1)(実施例28)又は樹脂(A−2)(実
施例29)のいずれか6.5g、樹脂(B−21)33
.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、下記
構造のメチン色素CD 〕00.03g、下記構造のメ
チン色素CE ) 0.03g P−ヒドロキシ安息香
酸0.18g及びトルエン300gの混合物をホモジナ
イザ=(日本精機棟製)中、I X10’ r、p、m
、で】5分間分散して感光層形成物を調整し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量が25g/rrfとなる様
にワイヤバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥した。
施例29)のいずれか6.5g、樹脂(B−21)33
.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、下記
構造のメチン色素CD 〕00.03g、下記構造のメ
チン色素CE ) 0.03g P−ヒドロキシ安息香
酸0.18g及びトルエン300gの混合物をホモジナ
イザ=(日本精機棟製)中、I X10’ r、p、m
、で】5分間分散して感光層形成物を調整し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量が25g/rrfとなる様
にワイヤバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥した。
次いで暗所で20°C165%R)lの条件下で24時
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
メチン色素CD)
(”z)asOffθ (CL) 4SO3にメチ
ン色素(E) (CH2) 4503 e (CI+2)
4SO3に此l11q 実施例28において、樹脂(B−1)6.5gの代わり
に、前記樹脂(R−2)6.5gを用いた他は、実施例
28と同様にして、感光材料を作製した。
ン色素(E) (CH2) 4503 e (CI+2)
4SO3に此l11q 実施例28において、樹脂(B−1)6.5gの代わり
に、前記樹脂(R−2)6.5gを用いた他は、実施例
28と同様にして、感光材料を作製した。
実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べた。その
結果を下記表−10にまとめた。
結果を下記表−10にまとめた。
上記の測定において、静電特性及び1最像性については
下記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行な
った。
下記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行な
った。
注7)静電特性のE17.。及びEl/1G。の測定方
法コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、該光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視光
で照射し、表面電位(V、。)が1710又はEl/l
。。に減衰するまでの時間を求め、これから露光I E
+ y +。又はE+、’+。。(ルックス・秒)を
算出する。
法コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、該光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視光
で照射し、表面電位(V、。)が1710又はEl/l
。。に減衰するまでの時間を求め、これから露光I E
+ y +。又はE+、’+。。(ルックス・秒)を
算出する。
注8)撮像性
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V (富士写真フィルム■製)
でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時
の環境条件は、20’C65%R)l(I)と30℃8
0%RH(n)で実施した。但し、複写用の原稿(即ち
、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込み
を行なって作成したものを用いた。
動製版機EPL−404V (富士写真フィルム■製)
でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時
の環境条件は、20’C65%R)l(I)と30℃8
0%RH(n)で実施した。但し、複写用の原稿(即ち
、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込み
を行なって作成したものを用いた。
各感光材料において、光導電層の平滑性及び強度におい
て、その差は認められなかった。しかし、静電特性にお
いて、比較例Cは、特に光学層E、71゜。の値が大き
く、これは高温、高湿になるとより一層助長され、劣化
してしまった。本発明の感光材料の静電特性は良好であ
り、更に、特定の置換基ををする樹脂〔A〕を用いた実
施例29は、非常に良好であり、特にE171゜。の値
が小さくなった。
て、その差は認められなかった。しかし、静電特性にお
いて、比較例Cは、特に光学層E、71゜。の値が大き
く、これは高温、高湿になるとより一層助長され、劣化
してしまった。本発明の感光材料の静電特性は良好であ
り、更に、特定の置換基ををする樹脂〔A〕を用いた実
施例29は、非常に良好であり、特にE171゜。の値
が小さくなった。
実際の撮像性を調べて見ると、比較例Cは、複写画像と
して原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即ち
、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められた。
して原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即ち
、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められた。
しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮
明な画像のものが得られた。
明な画像のものが得られた。
更に、これらをオフセット印刷用原版として不惑脂化処
理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比較
例Cは、上記の貼り込み跡が、不惑脂化処理でも餘去さ
れず、刷り出しの印刷物から発生してしまった。
理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比較
例Cは、上記の貼り込み跡が、不惑脂化処理でも餘去さ
れず、刷り出しの印刷物から発生してしまった。
以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特性
を与えることができた。
を与えることができた。
1差1園吋→↓
実施例28において、樹脂CA−1)6.5g及び樹脂
(B −2]、) 33.5gの代わりに、下記表−1
1の樹脂〔A)6.5g及び樹脂CB133.5gを用
いた他は、実施例28と同様にして各感光材料を作製し
た。
(B −2]、) 33.5gの代わりに、下記表−1
1の樹脂〔A)6.5g及び樹脂CB133.5gを用
いた他は、実施例28と同様にして各感光材料を作製し
た。
表−11
本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光
悪魔に優れ、実際の複写画像も高温高温(30’C18
0%l1l()の過酷な条件においても地力ブリの発生
や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
悪魔に優れ、実際の複写画像も高温高温(30’C18
0%l1l()の過酷な条件においても地力ブリの発生
や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
更にオフセットマスター原版として印刷した所、少なく
とも7000枚以上印刷しても地汚れの発生のない鮮明
な画質の印刷物が得られた。
とも7000枚以上印刷しても地汚れの発生のない鮮明
な画質の印刷物が得られた。
尖隻炭婬
下記構造の樹脂(A−36)7g、樹脂(B−1,8)
31g、酸化亜鉛200 g、ウラニン0.02g、ロ
ーズベンガル0.04 g、ブロムフェノールブルー0
.03 g、無水フタル酸0.20g及びトルエン30
0gの混合物をボールミル中で3時間分散した。次にこ
の分散物に1,3−キシリレンジイソシアナート2.5
gを加え、更にボールミルで10分間分散した。
31g、酸化亜鉛200 g、ウラニン0.02g、ロ
ーズベンガル0.04 g、ブロムフェノールブルー0
.03 g、無水フタル酸0.20g及びトルエン30
0gの混合物をボールミル中で3時間分散した。次にこ
の分散物に1,3−キシリレンジイソシアナート2.5
gを加え、更にボールミルで10分間分散した。
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/rrf
となる様にワイヤーバーで塗布し、110’Cで1分間
乾燥し、更に120°Cで1.5時間加熱した。次いで
暗所で20°C165%l?Hの条件下で24時間放置
することにより各電子写真感光体を作製した。
となる様にワイヤーバーで塗布し、110’Cで1分間
乾燥し、更に120°Cで1.5時間加熱した。次いで
暗所で20°C165%l?Hの条件下で24時間放置
することにより各電子写真感光体を作製した。
これらの感光材料を実施例2日と同様にして、静電特性
及び逼像性を調べたところ、良好な性能を示した。
及び逼像性を調べたところ、良好な性能を示した。
更に、オフセット印刷用原版として印刷した所、樹脂C
B)を用いても、1万枚以上の印刷が可能となった。
B)を用いても、1万枚以上の印刷が可能となった。
これは、樹脂CA、’J中の硬化性基が成膜後の加熱処
理で架橋し、膜強度が向上したものと考えられる (発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と@械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効である。
理で架橋し、膜強度が向上したものと考えられる (発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と@械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効である。
(ほか3名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電槽を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂〔
B〕の少なくとも1種を含有して成ることを特徴とする
電子写真感光体。 樹脂〔A〕; 1×10^3〜2×10^4の重量平均分子量を有し、
−PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素
基)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1つの酸性基を含有する重合体成分を少なくと
も1種含有するAブロックと、下記一般式( I )で示
される重合体成分を少なくとも含有するBブロックとか
ら構成されるA・Bブロック共重合体のBブロックの重
合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成る一官
能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種共重合成分
として含有するグラフト型共重合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、a_1及びa_2はそれぞれ水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。 V_1は−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼(
l_1、l_2は1〜3の整数を 表わす)、−O−、−SO_2−、−CO−、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、−CONHCOO−、−CONHCONH−
又は▲数式、化学式、表等があります▼を表わす(ここ
でP_1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。 R_1は、炭化水素基を表わす、但しV_1が▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす場合、R_1は水素
原子又は炭化水素基を表わす。〕 樹脂〔B〕; 5×10^4以上の重量平均分子量を有し、下記一般式
(III)で示される繰り返し単位を重合体成分として少
なくとも含有し、且つ光導電層形成用分散物調整前に予
め架橋構造を有する樹脂。 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、V_3は−COO−、−OCO−、−CH_2
OCO−、−CH_2COO−、−O−又は−SO_2
−を表わす。 R_3は炭素数1〜22の炭化水素基を表わす。 d_1及びd_2は、互いに同じでも異なってもよく、
各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8
の炭化水素基、−COO−Z_3又は炭素数1〜8の炭
化水素基を介した−COO−Z_3(Z_3は炭素数1
〜18の炭化水素基を表わす)を表わす。〕 (2)該樹脂〔A〕において、該マクロノマー(M)と
ともに下記一般式(II)で表わされる単量体を少なくと
も1種共重合成分として含有する事を特徴とする請求項
(1)記載の電子写真感光体。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(II)において、R_2は炭化水素基を表わす。〕
(3)該樹脂〔A〕において、該マクロモノマー(M)
とともに、下記一般式(IIa)及び一般式(IIb)で示
される単量体のうちの少なくとも1種を共重合成分とし
て30重量%以上含有する事を特徴とする請求項(2)
記載の電子写真感光体。 一般式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1及びX_2は互いに独立に、それぞれ水
素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素
原子、−COZ_2又は−COOZ_2(Z_2は各々
炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、
X_1とX_2がともに水素原子を表わすことはない。 L_1及びL_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
わす。〕 (4)樹脂〔B〕が、更に、少なくとも1つの重合体主
鎖の片末端のみに−PO_3H_2基、−SO_3H基
、−COOH基、−OH基、−SH基、▲数式、化学式
、表等があります▼基(R_0はRと同一の内容を表わ
す)、環状酸無水物含有基、−CHO基、−CONH_
2基、−SO_2NH_2基及び▲数式、化学式、表等
があります▼基(e_1、e_2は同じでも異なっても
よく、各々水素原子または炭化水素基を表わす)から選
択される少なくとも1つの極性基を結合して成る樹脂で
ある請求項(1)〜(3)項のいずれかに記載の電子写
真感光体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2129264A JP2622772B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 電子写真感光体 |
US07/703,651 US5198319A (en) | 1990-05-21 | 1991-05-21 | Electrophotographic light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2129264A JP2622772B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0425850A true JPH0425850A (ja) | 1992-01-29 |
JP2622772B2 JP2622772B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=15005277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2129264A Expired - Fee Related JP2622772B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 電子写真感光体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5198319A (ja) |
JP (1) | JP2622772B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5873244A (en) * | 1997-11-21 | 1999-02-23 | Caterpillar Inc. | Positive flow control system |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3231446B2 (ja) * | 1993-01-14 | 2001-11-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式平版印刷用原版 |
WO2003074575A1 (en) * | 2002-03-06 | 2003-09-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymerizable compound, polymer compound, composition using such compound, and image forming method and apparatus |
JP2004176036A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-06-24 | Canon Inc | 重合性化合物、高分子化合物、それらを用いた組成物及び記録方法並びに記録装置 |
JP3890266B2 (ja) * | 2002-07-03 | 2007-03-07 | キヤノン株式会社 | ブロックポリマー化合物、インク組成物、分散性組成物及び画像形成方法並びに画像形成装置 |
JP4455149B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2010-04-21 | キヤノン株式会社 | トナーの製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3909261A (en) * | 1970-09-25 | 1975-09-30 | Xerox Corp | Xerographic imaging member having photoconductive material in interlocking continuous paths |
US3870516A (en) * | 1970-12-01 | 1975-03-11 | Xerox Corp | Method of imaging photoconductor in change transport binder |
US5030534A (en) * | 1988-08-18 | 1991-07-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
EP0361514B1 (en) * | 1988-09-30 | 1995-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
DE68925330T2 (de) * | 1988-10-04 | 1996-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Elektrophotographischer Photorezeptor |
US5110701A (en) * | 1989-05-12 | 1992-05-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Binder for electrophotographic light-sensitive material containing recurring ester units |
EP0439072B1 (en) * | 1990-01-19 | 1996-04-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP2129264A patent/JP2622772B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-05-21 US US07/703,651 patent/US5198319A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5873244A (en) * | 1997-11-21 | 1999-02-23 | Caterpillar Inc. | Positive flow control system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2622772B2 (ja) | 1997-06-18 |
US5198319A (en) | 1993-03-30 |
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