JPH03223762A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
特にCPC感光体として性能の優れたものに関する。
(従来の技術)
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは通
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体−トに光
導電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられてい截 支持体と少なくとも1層の先導tNから構成される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち、帯
電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画
像形成に用いられる。
導電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられてい截 支持体と少なくとも1層の先導tNから構成される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち、帯
電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画
像形成に用いられる。
更には、ダイレクト製版用のオフセント原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着
樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着
樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、暗
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
これらの問題を解決するために、結着樹脂として酸性基
を共重合体の側鎖に含有する、又は重合体種鎖の末端に
含有する重量平均分子量103〜5×105の樹脂を用
いる技術が特開昭63−217354号及び特開昭64
−70761号にそれぞれ開示されており、これにより
光導電層の平滑性及び静電特性が良好となり、しかも地
汚れのない画質が得られることが記載されている。
を共重合体の側鎖に含有する、又は重合体種鎖の末端に
含有する重量平均分子量103〜5×105の樹脂を用
いる技術が特開昭63−217354号及び特開昭64
−70761号にそれぞれ開示されており、これにより
光導電層の平滑性及び静電特性が良好となり、しかも地
汚れのない画質が得られることが記載されている。
また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又
は光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を
用いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−
39690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又
は重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する
技術が特開平1−102573号、特願昭63−396
91号にそれぞれ開示され、更に該低分子量体(重量平
均分子量103〜104)を高分子量(重量平均分子量
10′以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64
−564号、同63−220149号、同63−220
140号、特願昭62−273547号、特開平1−1
16643号及び特開平1−169455号に、かかる
低分子量体を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用い
る技術が特開平1−211766号及び特願昭63−2
6561号にそれぞれ開示されている。これらの技術に
より、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用いたこ
とによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層の膜強度
を充分ならしめ、機械的強度が増大されることが記載さ
れている。
し、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又
は光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を
用いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−
39690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又
は重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する
技術が特開平1−102573号、特願昭63−396
91号にそれぞれ開示され、更に該低分子量体(重量平
均分子量103〜104)を高分子量(重量平均分子量
10′以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64
−564号、同63−220149号、同63−220
140号、特願昭62−273547号、特開平1−1
16643号及び特開平1−169455号に、かかる
低分子量体を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用い
る技術が特開平1−211766号及び特願昭63−2
6561号にそれぞれ開示されている。これらの技術に
より、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用いたこ
とによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層の膜強度
を充分ならしめ、機械的強度が増大されることが記載さ
れている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低ン!まで著しく変動した場合における
安定した性能の維持においてはいまだ不充分であること
が判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング
露光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に
比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約があ
ることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に
対して、より高い性能が要求される。
高温から低温・低ン!まで著しく変動した場合における
安定した性能の維持においてはいまだ不充分であること
が判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング
露光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に
比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約があ
ることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に
対して、より高い性能が要求される。
本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
題を改良するものである。
本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高温の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電気特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写
真感光体を提供することである。
いは高温高温の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電気特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写
真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいcpc を子写真怒光体を提供することである。
小さいcpc を子写真怒光体を提供することである。
本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することである
。
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することである
。
(課題を解決するための手段)
上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、 POJz基、−COOH基、(Rは炭化水素
基又は−OR’基(R’は炭化水素基)を示す)及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも1つの酸性
基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有するAブ
ロフクと、下記一般式(1)で示される重合体成分を少
なくとも含有するBブロックとから構成されるA−Bブ
ロック共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合
性二重結合基を結合して成る重量平均分子量1×10’
〜2×104の一官能性マクロモノマー(M)を少なく
とも1主弁重合成分として含有するグラせる一方、光導
電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制することを見
出した。
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、 POJz基、−COOH基、(Rは炭化水素
基又は−OR’基(R’は炭化水素基)を示す)及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも1つの酸性
基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有するAブ
ロフクと、下記一般式(1)で示される重合体成分を少
なくとも含有するBブロックとから構成されるA−Bブ
ロック共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合
性二重結合基を結合して成る重量平均分子量1×10’
〜2×104の一官能性マクロモノマー(M)を少なく
とも1主弁重合成分として含有するグラせる一方、光導
電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制することを見
出した。
本発明の結着樹脂に用いられる共重合体は、樹脂中に含
有される酸性基が、グラフト部分に存在し、且つ重合体
主鎖から離れた所に、ブロック(即ちAブロック)で存
在する様にした、著しくポリマー分子鎖の化学構造を特
定化したものである。
有される酸性基が、グラフト部分に存在し、且つ重合体
主鎖から離れた所に、ブロック(即ちAブロック)で存
在する様にした、著しくポリマー分子鎖の化学構造を特
定化したものである。
従って、重合体中のグラフト部の末端領域に偏在する酸
性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着
し、重合体主鎖を構成する他のブロック部分は、光導電
体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していると推定さ
れる。この無機光導電体表面への充分な吸着と、表面近
傍の被覆の効果が公知の樹脂に比らべ、より一層効果的
に行なわれることにより、無機光導電体の化学量論的な
欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をもつ事から
常に安定した無機光導電体と樹脂(A)との相互作用が
保たれるため、上記顕著な効果が得られるものと思われ
る。
性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着
し、重合体主鎖を構成する他のブロック部分は、光導電
体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していると推定さ
れる。この無機光導電体表面への充分な吸着と、表面近
傍の被覆の効果が公知の樹脂に比らべ、より一層効果的
に行なわれることにより、無機光導電体の化学量論的な
欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をもつ事から
常に安定した無機光導電体と樹脂(A)との相互作用が
保たれるため、上記顕著な効果が得られるものと思われ
る。
また、光導電層表面の平滑性が滑らかとなる。
電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑性の
粗い感光体を用いると、光導電体である酸化亜鉛粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れが生じてしまう。
粗い感光体を用いると、光導電体である酸化亜鉛粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れが生じてしまう。
本発明の結着樹脂のうち、重量平均分子量1×103〜
2×104の低分子量のグラフト共重合体のみを用いた
場合には良好な静電特性が得られ、膜強度もcpc感光
体としては充分であり、良好な画像特性を有することが
できる。
2×104の低分子量のグラフト共重合体のみを用いた
場合には良好な静電特性が得られ、膜強度もcpc感光
体としては充分であり、良好な画像特性を有することが
できる。
一方、本発明の結着樹脂は、重量平均分子量1×103
〜2×104で共重合体中に含有される該酸性基含有成
分の存在量が3〜30重量部から成る該グラフト型共重
合体(以降樹脂(L)と称する)と、重量平均分子量3
XIO’〜5×104で共重合体中に含有される該酸性
基含有成分の存在量が0.1〜10重量部から成る該グ
ラフト型共重合体(以降、樹脂〔H〕と称する)とを、
好ましくは存在比5〜50/95〜50(重量比)の割
合で併用するものが本発明の更に好ましい態様の一つで
ある。
〜2×104で共重合体中に含有される該酸性基含有成
分の存在量が3〜30重量部から成る該グラフト型共重
合体(以降樹脂(L)と称する)と、重量平均分子量3
XIO’〜5×104で共重合体中に含有される該酸性
基含有成分の存在量が0.1〜10重量部から成る該グ
ラフト型共重合体(以降、樹脂〔H〕と称する)とを、
好ましくは存在比5〜50/95〜50(重量比)の割
合で併用するものが本発明の更に好ましい態様の一つで
ある。
より好ましくは、樹脂〔L〕は重量平均分子量3X10
”〜1×103で、該酸性基成分の存在量は3〜15重
量部であり、樹脂〔H〕は、重量平均分子量5×104
〜3×104で該酸性基成分の存在量は0.5〜5重量
部である。
”〜1×103で、該酸性基成分の存在量は3〜15重
量部であり、樹脂〔H〕は、重量平均分子量5×104
〜3×104で該酸性基成分の存在量は0.5〜5重量
部である。
更には、樹脂(H)の含有される酸性基含有成分が、併
用される樹脂(L)に対し、その含有量が、樹脂〔L〕
の80重量%以下であるかあるいは、樹脂〔L)の含を
する酸性基のpKaより大きな値のpKaを有する酸性
基であることが好ましい。
用される樹脂(L)に対し、その含有量が、樹脂〔L〕
の80重量%以下であるかあるいは、樹脂〔L)の含を
する酸性基のpKaより大きな値のpKaを有する酸性
基であることが好ましい。
即ち、本発明の結着樹脂において樹脂(L)と樹脂(H
)とを併用する場合には、各々の樹脂中に含有される酸
性基含有成分量と酸性基の種類の違いによるpKaの差
とによって、各樹脂と無機光導電体との相互作用の強さ
を変えている事を特徴とするものである。
)とを併用する場合には、各々の樹脂中に含有される酸
性基含有成分量と酸性基の種類の違いによるpKaの差
とによって、各樹脂と無機光導電体との相互作用の強さ
を変えている事を特徴とするものである。
本発明の低分子量の樹脂(L)とともに好ましく供せら
れる高分子量体の樹脂[H)は樹脂(L)を用いたこと
による電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
L)のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。
れる高分子量体の樹脂[H)は樹脂(L)を用いたこと
による電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
L)のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。
この高分子量体(H)は、樹脂〔L〕に対して、電子写
真特性を疎外しない程度に無機光導体との相互作用の強
さを弱く調整されたものであり、高分子量体による長い
分子鎖長及びグラフト構造中等の分子鎖同志の相互作用
の効果で、上記した如き電子写真特性及びオフセット印
刷用原版としての不感脂化用の効果を何ら疎外すること
なく、光導電層の膜の機械的強度を向上させる作用をす
るものと推定される。
真特性を疎外しない程度に無機光導体との相互作用の強
さを弱く調整されたものであり、高分子量体による長い
分子鎖長及びグラフト構造中等の分子鎖同志の相互作用
の効果で、上記した如き電子写真特性及びオフセット印
刷用原版としての不感脂化用の効果を何ら疎外すること
なく、光導電層の膜の機械的強度を向上させる作用をす
るものと推定される。
更には、特に低分子量01w1X10コ〜2×104)
のグラフト型共重合体においてマクロモノマー(M)と
共重合する成分として、下記一般式(Ila)及び/又
は(nb)で表わされる単量体成分であることが好まし
い。
のグラフト型共重合体においてマクロモノマー(M)と
共重合する成分として、下記一般式(Ila)及び/又
は(nb)で表わされる単量体成分であることが好まし
い。
式(I[a)
CH。
〔式Nra)又は(I[b)中、X、及びxxハ互イニ
独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜IOの炭化水素
基、塩素原子、臭素原子、−COZx又は−COOZ3
(z3は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表
わす。但し、Xlとx2がともに水素原子を表わすこと
はない。
独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜IOの炭化水素
基、塩素原子、臭素原子、−COZx又は−COOZ3
(z3は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表
わす。但し、Xlとx2がともに水素原子を表わすこと
はない。
CI及びL2はそれぞれ−000−とベンゼン環を結合
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
。〕 低分子量のグラフト型共重合体において、マクロモノマ
ー(M)と共重合する単量体として一般式(Ila)及
び/又は一般式(Ilb)で示される置換ベンゼン環又
はナフタレン環を含有する置換基含有のメタクリレート
単量体との共重合体とを少なくとも含有する樹脂(以降
この樹脂を樹脂〔L′〕と称する)の場合にはより一層
の電子写真特性(特kmV、o 、D、R,R,El/
l11)の向上が達成される。
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
。〕 低分子量のグラフト型共重合体において、マクロモノマ
ー(M)と共重合する単量体として一般式(Ila)及
び/又は一般式(Ilb)で示される置換ベンゼン環又
はナフタレン環を含有する置換基含有のメタクリレート
単量体との共重合体とを少なくとも含有する樹脂(以降
この樹脂を樹脂〔L′〕と称する)の場合にはより一層
の電子写真特性(特kmV、o 、D、R,R,El/
l11)の向上が達成される。
この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に1換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
クリレートのエステル成分である、オルト位に1換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
低分子量の共重合体の分子量が1×103より小さくな
ると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方
分子量が2 XIO’より大きくなると本発明の樹脂で
あっても高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電
子写真特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大
きくなり、安定した複写画像が得られるという本発明の
効果が薄れてしまう。
ると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方
分子量が2 XIO’より大きくなると本発明の樹脂で
あっても高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電
子写真特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大
きくなり、安定した複写画像が得られるという本発明の
効果が薄れてしまう。
又、高分子量の樹脂(J()の分子量が3×104より
小さくなると、膜強度が充分に保てず、一方分子量が5
×104より大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が
劣下し、複写画像の画質(特に、細線・文字の再現性が
悪くなる)が悪化し、更にオフセントマスターとして用
いる時に地汚れが著しくなってしまう。
小さくなると、膜強度が充分に保てず、一方分子量が5
×104より大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が
劣下し、複写画像の画質(特に、細線・文字の再現性が
悪くなる)が悪化し、更にオフセントマスターとして用
いる時に地汚れが著しくなってしまう。
低分子量の樹脂CL)と高分子量の樹脂[H)を組合せ
た場合における、該グラフト共重合体のマクロモノマー
含有量が1.0重置%より少ないと電子写真特性(特に
暗減衰率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写真
特性の変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み
合わせにおいて、大きくなる。これはグラフト部となる
マクロモノマーが微かとなることで結果として従来のホ
モポリマーあるいはランダム共重合体と殆んど同し組成
になってしまうことによると考えられる。
た場合における、該グラフト共重合体のマクロモノマー
含有量が1.0重置%より少ないと電子写真特性(特に
暗減衰率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写真
特性の変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み
合わせにおいて、大きくなる。これはグラフト部となる
マクロモノマーが微かとなることで結果として従来のホ
モポリマーあるいはランダム共重合体と殆んど同し組成
になってしまうことによると考えられる。
一方マクロモノマーの含有量が60%を越えると、他の
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロモノ
マーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として用
いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう。
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロモノ
マーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として用
いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう。
本発明のグラフト型共重合体に供される一官能性マクロ
七ツマー(M)について更に具体的に説明する。
七ツマー(M)について更に具体的に説明する。
マクロモノマ−(M)のA−ブロックを構成する成分中
に含有される酸性基としては、 PChHz基、−co
on基、−SOゴH基、フェノール性OH基、炭化水素
基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げられ
、好ましくは、−COOH基、−50s)I基、 1 フェノール性OH基、又は−P 0H基である。
に含有される酸性基としては、 PChHz基、−co
on基、−SOゴH基、フェノール性OH基、炭化水素
基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げられ
、好ましくは、−COOH基、−50s)I基、 1 フェノール性OH基、又は−P 0H基である。
1
P−0)1の場合、
−Rは炭化水素基又は=OR’
基(R’は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′
は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、
2−クロロエチル基、2メトキシエチル基、3−エトキ
シプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、
シクロへキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フ
ェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル
基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は
置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、ト
リル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、クロ
ロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、
クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メ
トキシフェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフ
ェニル基、アセチルフェニル基、ブトキンフェニル基等
)等を表わす。
は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、
2−クロロエチル基、2メトキシエチル基、3−エトキ
シプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、
シクロへキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フ
ェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル
基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は
置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、ト
リル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、クロ
ロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、
クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メ
トキシフェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフ
ェニル基、アセチルフェニル基、ブトキンフェニル基等
)等を表わす。
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキンカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキンカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
以上の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」は、
例えば、本発明のマクロモノマー(M)の他のブロック
成分を構成する重合体成分、即ち一般式(1)で示され
るメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物と共
重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。
例えば、本発明のマクロモノマー(M)の他のブロック
成分を構成する重合体成分、即ち一般式(1)で示され
るメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物と共
重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。
例えば、高分子データ「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキンメチル体
、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカ
ルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキンメチル体
、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカ
ルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各側において、aは−H,−C
H3、−CI、−Br 、−CN−1−C1bCOOC
Hi又は−C1hCOOHを示し、bは−H又は−C)
ltを示し、nは2〜18の整数を示し、mは1〜12
の整数を示し、2は1〜4の整数を示す。
ができる。但し、以下の各側において、aは−H,−C
H3、−CI、−Br 、−CN−1−C1bCOOC
Hi又は−C1hCOOHを示し、bは−H又は−C)
ltを示し、nは2〜18の整数を示し、mは1〜12
の整数を示し、2は1〜4の整数を示す。
(a−1)
COOH
0OH
(a−3)
(a−4)
(a−5)
(a−6)
(a−7)
〒
(a−8)
〒
(a−9)
(a−10)
(C41)
0NHCH
CI、C00)l
(a−13)
(a
14)
CL=C
C00(C1(z)*N)IcO(CHz)IIcOO
H(mは同しでも異なってもよい) (a−15) CH□=CHC)1tOCO(C)It)mcOOH(
a−16) CH−CH+CHt−+−C00I( (a−17) 〒 (a−18> テ (a−19) (a −20) (a−21) (a−22) (a−23) テ 〒 H (a−24) (a−25> (a−26) (a−27) 0■ H Of( (a−28) (a−29) (a−30) COO(CHz)msOJ (a−3C0 0(CHz) H (a−36) CON (C1lICIICOO)I) t(a−37
) r Coo(CHz)z C0N(CHzCHzCOOH)
t(a−38) 03M (a−39) (a−40) しυυH (a−41) (a−43) (a−44) (a−45) C2H5 H 上記の如き酸性基含有成分はAブロック中に2種以上含
有されていてもよ(、これら2種以上の酸性基含有成分
はAブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれで含有されていてもよい、 更に、酸性基
含有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例えば後
述式(1)で示される成分)をAブロック中に含有して
いてもよいが、酸性基含有成分はAブロック中において
30〜100重量%存在することが好ましい。
H(mは同しでも異なってもよい) (a−15) CH□=CHC)1tOCO(C)It)mcOOH(
a−16) CH−CH+CHt−+−C00I( (a−17) 〒 (a−18> テ (a−19) (a −20) (a−21) (a−22) (a−23) テ 〒 H (a−24) (a−25> (a−26) (a−27) 0■ H Of( (a−28) (a−29) (a−30) COO(CHz)msOJ (a−3C0 0(CHz) H (a−36) CON (C1lICIICOO)I) t(a−37
) r Coo(CHz)z C0N(CHzCHzCOOH)
t(a−38) 03M (a−39) (a−40) しυυH (a−41) (a−43) (a−44) (a−45) C2H5 H 上記の如き酸性基含有成分はAブロック中に2種以上含
有されていてもよ(、これら2種以上の酸性基含有成分
はAブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれで含有されていてもよい、 更に、酸性基
含有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例えば後
述式(1)で示される成分)をAブロック中に含有して
いてもよいが、酸性基含有成分はAブロック中において
30〜100重量%存在することが好ましい。
次に上記マクロモノマーにおいて、B−ブロックを構成
する成分即ち一般式(1)で表われる繰り返し単位につ
いて説明する。
する成分即ち一般式(1)で表われる繰り返し単位につ
いて説明する。
一般式(1) におイテv、は−coo−−oco−−
+ CHを丈OCO−+cuz鳩oco−(L、itは
1〜3の整数を表わす)、−O−−SO,−ここで、Z
Iは水素原子のほか、 好ましい炭化水 素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18
の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル
−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基
、■−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−
2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナ
フチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモヘンシル基
、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキンベン
ジル基、ジメチルペンシル基、ジメトキシヘンシル基等
)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば
、シクロヘキシル基、2−シクロへキシルエチル基、2
−シクロペンチルエチル基等)、又は、炭素数6〜12
の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基
、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフ
ェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、
シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブ
トキンカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基
、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフェ
ニル基等)があげられる。
+ CHを丈OCO−+cuz鳩oco−(L、itは
1〜3の整数を表わす)、−O−−SO,−ここで、Z
Iは水素原子のほか、 好ましい炭化水 素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18
の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル
−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基
、■−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−
2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナ
フチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモヘンシル基
、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキンベン
ジル基、ジメチルペンシル基、ジメトキシヘンシル基等
)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば
、シクロヘキシル基、2−シクロへキシルエチル基、2
−シクロペンチルエチル基等)、又は、炭素数6〜12
の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基
、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフ
ェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、
シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブ
トキンカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基
、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフェ
ニル基等)があげられる。
R+は炭化水素基を表わし、好ましくは上記Z、で好ま
しいとして挙げたものと同様のものを挙げることができ
る。
しいとして挙げたものと同様のものを挙げることができ
る。
V、が−Hを表わす場合、R+は上記炭化水素の池水素
原子を表わし、更にベンゼン環は置換基を有してもよい
、置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭
素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
原子を表わし、更にベンゼン環は置換基を有してもよい
、置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭
素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
a、及びalは、互いに同しでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−COOZ、又は炭化水素を介したC00ZZ
(Ztは、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリ
ール基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体
的には、上記Z、について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−COOZ、又は炭化水素を介したC00ZZ
(Ztは、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリ
ール基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体
的には、上記Z、について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
上記炭化水素を介したーcoo−z、基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
更に好ましくは、
一般式(1)
%式%
ってもよく、水素原子、メチル基、 C00Z!又はC
HzCOOZt (Zはより好ましくは水素原子又は炭
素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす)を表
わす。更により好ましくは、al、 alにおいていず
れか一方が水素原子を表わす。
HzCOOZt (Zはより好ましくは水素原子又は炭
素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす)を表
わす。更により好ましくは、al、 alにおいていず
れか一方が水素原子を表わす。
更にはiB−ブロック中に式(1)の単量体以外の重合
体成分が含有されていてもよく、式(1)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−ブロッ
クの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい、Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
筒便さよりランダムに含有されることが好ましい。
体成分が含有されていてもよく、式(1)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−ブロッ
クの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい、Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
筒便さよりランダムに含有されることが好ましい。
次に本発明のマクロモノマー(M)において上記した酸
性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1)
で示される重合体成分を含有することから成るBブロッ
クをA−B型で連結し且っAブロックと連結するBブロ
ックの他の末端に連結される重合性二重合基について説
明する。
性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1)
で示される重合体成分を含有することから成るBブロッ
クをA−B型で連結し且っAブロックと連結するBブロ
ックの他の末端に連結される重合性二重合基について説
明する。
具体的には下記一般式(III)で示される重合性二重
結合基が例として挙げられる。
結合基が例として挙げられる。
一般式(Iff)
2−
〔式(I[I)中、v2は式(I)中のVlと同一の内
容を表わす、b、bzは互いに同一でも異なってもよく
、式(1)中のal+ atと同一の内容を表わす、〕
即ち、一般(I[I)で示される重合性二重結合基と■ して、より具体的には、CH,=CH−C−0CHzC
OOC)Is CHICOOH CIl、=C C1h=C CHz””C)I C0NH− O=C−O− 0=C − CHz=CH−(CHz)z Coo−C)1. =
CH Co− CHx=CH4C1b)z OC−等が挙げられる。
容を表わす、b、bzは互いに同一でも異なってもよく
、式(1)中のal+ atと同一の内容を表わす、〕
即ち、一般(I[I)で示される重合性二重結合基と■ して、より具体的には、CH,=CH−C−0CHzC
OOC)Is CHICOOH CIl、=C C1h=C CHz””C)I C0NH− O=C−O− 0=C − CHz=CH−(CHz)z Coo−C)1. =
CH Co− CHx=CH4C1b)z OC−等が挙げられる。
本発明に供されるマクロモノマー(M)は上述き如きB
−ブロックの片末端に、一般式(III)で示される如
き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
−ブロックの片末端に、一般式(III)で示される如
き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
連結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるい
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ペテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)へテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の
組合せで構成されるものである。即ち、具体的には、3 ■ 単なる結合または、+C+[R1,R4はそれぞ4 れ水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基等)等
を示す]、 − 子、前記式(I)におけるR1と同様の内容を表わす炭
化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ペテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)へテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の
組合せで構成されるものである。即ち、具体的には、3 ■ 単なる結合または、+C+[R1,R4はそれぞ4 れ水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基等)等
を示す]、 − 子、前記式(I)におけるR1と同様の内容を表わす炭
化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104を
超えると、他のモノマー(例えば式(It)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、1×103以上であることが好ましい。
超えると、他のモノマー(例えば式(It)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、1×103以上であることが好ましい。
本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合成方法
よって製造することができる。例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
よって製造することができる。例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
例えば、P、Lutz、 P、Masson etal
、 Polym、Bull。
、 Polym、Bull。
H,79(1984) B、C,Anderson、
G、D、^ndrews etal+Macrom
olecules、 14. 160H1981)
K、Hatada、 K。
G、D、^ndrews etal+Macrom
olecules、 14. 160H1981)
K、Hatada、 K。
Ute、etal、 Po1y−、J、ll、 9
77(1985)、、lfi、1037(1986)。
77(1985)、、lfi、1037(1986)。
右手浩−1畑田耕−1高分子加工、並、 366(19
87)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、lft、
189(1989) M、Kuroki+ T、
Aida、 T、jlw、Che−、Soc、jJl
l。
87)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、lft、
189(1989) M、Kuroki+ T、
Aida、 T、jlw、Che−、Soc、jJl
l。
4737 (1987)、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、43、300(1985) D、Y、Sog
ah、 if、R,Hertler etal。
成化学、43、300(1985) D、Y、Sog
ah、 if、R,Hertler etal。
Macromdecules、20.1473(198
7)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポリマ
ーを合成することができる。又、該リビングポリマーの
末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、従来
公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本発明
のマクロ七ツマ−とすることができる。
7)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポリマ
ーを合成することができる。又、該リビングポリマーの
末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、従来
公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本発明
のマクロ七ツマ−とすることができる。
具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk、εncycl。
irk、εncycl。
Polym、Sci、Eng、、 1.5501987
)、 P、F、Re+Ipp。
)、 P、F、Re+Ipp。
E、Franta、 Adu、、 Polym、Sci
、58.1(1984)、V、Percec、Appl
、、 Polym、Sci、、2」15よ 95(1
984)、 11.Asami。
、58.1(1984)、V、Percec、Appl
、、 Polym、Sci、、2」15よ 95(1
984)、 11.Asami。
M、TakaRi、 Makvag+o1.Ches、
5upp1.ll、 163(1985)P、Remp
p、etal、 Makvas+o1.Chem、5
upp1.11.3(1984)用上雄資、化学工業、
別、 56(1987)、山下雄也、高分子、■、 9
88(1982) 、小林四部、高分子、別。
5upp1.ll、 163(1985)P、Remp
p、etal、 Makvas+o1.Chem、5
upp1.11.3(1984)用上雄資、化学工業、
別、 56(1987)、山下雄也、高分子、■、 9
88(1982) 、小林四部、高分子、別。
625(1981) 、東村敏延、日本接着協会誌 1
fi、536(1982)、伊藤浩−1高分子加工、刹
、262(1986)、来貢四部、津田隆、機能材料、
皿!’to、10.5等の総説及びそれに引例の文献・
特許等に記載の方法に従って合成することができる。
fi、536(1982)、伊藤浩−1高分子加工、刹
、262(1986)、来貢四部、津田隆、機能材料、
皿!’to、10.5等の総説及びそれに引例の文献・
特許等に記載の方法に従って合成することができる。
又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱II(脱保護反応)については、従来公知の知
見を利用して容易に行なうことができる。例えば前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉貴男
、栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年
) 、TJ、Greene’Protective G
roups in Organic 5ynthesi
s」、John Wiley & 5ous(1981
年) 、J、FJ、McOs+ie。
護基の脱II(脱保護反応)については、従来公知の知
見を利用して容易に行なうことができる。例えば前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉貴男
、栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年
) 、TJ、Greene’Protective G
roups in Organic 5ynthesi
s」、John Wiley & 5ous(1981
年) 、J、FJ、McOs+ie。
’Protective Groups in
Organic Chesistry」Plenum
Press、(1973年)等の総説に詳細に記載さ
れている方法を適宜選択して行なうことができる。
Organic Chesistry」Plenum
Press、(1973年)等の総説に詳細に記載さ
れている方法を適宜選択して行なうことができる。
他のA−B型ブロック共重合体の合成法としては、ジシ
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる0例えば、大津随
行、高分子、釘、 248(198B)、檜森俊−1大
津隆−1Polym、Rep、Jap、fi、 350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる0例えば、大津随
行、高分子、釘、 248(198B)、檜森俊−1大
津隆−1Polym、Rep、Jap、fi、 350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。
のマクロモノマーを得ることができる。
本発明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない、但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、−Hl−
CH,又は−C)IxCOOCHzを示し、fは−H又
は−CH,を示し、Rltは一〇、1lz2.1(pは
1〜18の整数) 、−(cHl)qc6H5(qは1
〜CI、 、−oc++、又は−COCH,を示す)又
はを示し、Rlt は s、Ht、、+(Sは1〜8の整数)又は (CH□)−C61(Sを示し、Y2はOH。
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない、但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、−Hl−
CH,又は−C)IxCOOCHzを示し、fは−H又
は−CH,を示し、Rltは一〇、1lz2.1(pは
1〜18の整数) 、−(cHl)qc6H5(qは1
〜CI、 、−oc++、又は−COCH,を示す)又
はを示し、Rlt は s、Ht、、+(Sは1〜8の整数)又は (CH□)−C61(Sを示し、Y2はOH。
−COOH。
を示し、
t=2〜12の整数を示し、
Uは2〜6の
整数を示す。
(ト1)
(L2)
(M−3)
(L4)
(?l−5)
(門−6)
(?l−7)
(M−8)
R目
しUU)
しUU(しl′IztTY3
(L9)
f
(M−10)
(門−11)
(L12)
CHl
(?I−14)
l−14)(
CHl
0ト16)
前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は例
えば一般式(n)で示される。式(n)においてR,は
式(1)中のl?、と同一の内容を表わす。
えば一般式(n)で示される。式(n)においてR,は
式(1)中のl?、と同一の内容を表わす。
又、重合体主鎖中には、 POsH□基、−5O3H基
、−COOH基、−OH基、−PO3RH基及び環状酸
無水物基の酸性基を含有する共重合成分を含有しないも
のが好ましい。
、−COOH基、−OH基、−PO3RH基及び環状酸
無水物基の酸性基を含有する共重合成分を含有しないも
のが好ましい。
更に、本発明の低分子量の樹脂(L〕は、一般式(Il
a)及び/又は一般式(Ilb)で示される2位又は2
.6−位に特定の置換基を有するベンゼン環又はナフタ
レン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを
共重合成分として含有するグラフト共重合体〔L′〕で
ある事が好ましい。
a)及び/又は一般式(Ilb)で示される2位又は2
.6−位に特定の置換基を有するベンゼン環又はナフタ
レン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを
共重合成分として含有するグラフト共重合体〔L′〕で
ある事が好ましい。
一般式(ITa)において、好ましいX、及びXアとし
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベン
ジル基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−
ベンジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、ト
リル基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並
びに−COZs及び−COOZ3 (好ましいZ、と
しては上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙
げることができる)を挙げることができる。但し、X、
とx2がともに水素原子を表わすことはない。
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベン
ジル基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−
ベンジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、ト
リル基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並
びに−COZs及び−COOZ3 (好ましいZ、と
しては上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙
げることができる)を挙げることができる。但し、X、
とx2がともに水素原子を表わすことはない。
弐(Ila)において、L、は−COO−とベンゼン環
を結合する、単結合又は + CHZ上圧(−1は1〜
3の整数を表わす) 、CHzCHxOCO−1ncH
zo)yr(−2は1又は2の整数を表わす) 、−C
IdtCHzO−等の如き連結原子数1〜4個の連結基
を表わす。
を結合する、単結合又は + CHZ上圧(−1は1〜
3の整数を表わす) 、CHzCHxOCO−1ncH
zo)yr(−2は1又は2の整数を表わす) 、−C
IdtCHzO−等の如き連結原子数1〜4個の連結基
を表わす。
式(nb)におけるL2はLlと同一の内容を表わす。
本発明の樹脂〔L′〕で用いられる、式(Ila)又は
(II b)で示される単量体の具体例を以下に挙げる
。しかし、本発明の範囲は、これらに限定さされるもの
ではない。
(II b)で示される単量体の具体例を以下に挙げる
。しかし、本発明の範囲は、これらに限定さされるもの
ではない。
n−1) cut
■−2)
Hff
It−3)
CH3
■−4)
■−6)
C)Is
CI(s
■−8)
■−9)
n−10)
n−11)
r
CH。
しI
CH3
■
12)
■
15)
Hs
Hi
I[−16)
■
17)
■
18)
■
19)
CI(3
CI
CI。
しI
CH3
n−20)
n−21)
If−22)
■
23)
CH8
CH8
Hx
わr
CH3
n−24)
し!
If−25)
CH。
l−267
r
n−27)
CH。
■
28)
CH3
■
29)
n−30)
CI。
CHz=C
n −31)
CH。
ll−32)
CH。
CHt=C
1t−33)
Hff
■
34)
CH3
■
35)
lh
■
36)
n−37)
n−38)
■
39)
L
CH。
CH。
C)I。
0CHx
II−40)
CH8
更には、本発明のグラフト型共重合体において上記マク
ロモノマー(M)と共重合する成分としては、一般式(
It)、(IIa)又は(I[b)以外の単量体であっ
てもよく、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニ
ル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例え
ば窒素原子以外の非金属原子CM素原子、イオウ原子等
)を1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、具
体的な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオキ
サン、ビニルフラン等]等が挙げられる。
ロモノマー(M)と共重合する成分としては、一般式(
It)、(IIa)又は(I[b)以外の単量体であっ
てもよく、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニ
ル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例え
ば窒素原子以外の非金属原子CM素原子、イオウ原子等
)を1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、具
体的な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオキ
サン、ビニルフラン等]等が挙げられる。
好ましい例としては、例えば、炭素1〜3のアルカン酸
ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、スチレン及びスチレン誘導体(例えば
ビニルトルエン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
エトキシスチレン等)等が挙げられる。
ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、スチレン及びスチレン誘導体(例えば
ビニルトルエン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
エトキシスチレン等)等が挙げられる。
本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー(M)及び他
の単量体(例えば一般式(II)で示される単量体)の
うちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割
合で共重合させることによって製造することができる0
重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる0例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物
、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せし
め共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または
負溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ること
ができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸
濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共
重合体を得ることができる。
の単量体(例えば一般式(II)で示される単量体)の
うちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割
合で共重合させることによって製造することができる0
重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる0例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物
、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せし
め共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または
負溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ること
ができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸
濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共
重合体を得ることができる。
更には、本発明の結着樹脂において、好ましいll様で
ある、低分子量である樹脂(L)及び高分子量体である
樹脂(H)の合成は、従来公知の如く、開始剤の種tl
l(温度により半減期が異なる)、開始剤の量、重合開
始温度あるいは、連鎖移動剤の併用等の方法により容易
に調節することができる。
ある、低分子量である樹脂(L)及び高分子量体である
樹脂(H)の合成は、従来公知の如く、開始剤の種tl
l(温度により半減期が異なる)、開始剤の量、重合開
始温度あるいは、連鎖移動剤の併用等の方法により容易
に調節することができる。
本発明の光導電層の結着樹脂として、本発明の結着樹脂
とともに、従来、電子写真用結着樹脂として用いられて
いるものを組合せて使用することもできる0例えば、宮
原晴視、武井秀彦、「イメージングJ 1978 M
o、8.9〜12、栗田隆治、石渡次部、[高分子J
、17.278〜284 (1968)等の総説引用の
材料が挙げられる。
とともに、従来、電子写真用結着樹脂として用いられて
いるものを組合せて使用することもできる0例えば、宮
原晴視、武井秀彦、「イメージングJ 1978 M
o、8.9〜12、栗田隆治、石渡次部、[高分子J
、17.278〜284 (1968)等の総説引用の
材料が挙げられる。
具体的には、オレフィン重合体及び共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、ブタジェン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリルアミド
共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリル
酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステル
重合体及び共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、イ
タコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイン
酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミ
ド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタアクリル酸エステ
ル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、
窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複素
環として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チ
オフェン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクトン
環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジ
オキサン環等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、ブタジェン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリルアミド
共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリル
酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステル
重合体及び共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、イ
タコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイン
酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミ
ド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタアクリル酸エステ
ル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、
窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複素
環として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チ
オフェン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクトン
環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジ
オキサン環等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。
しかし、これらの樹脂は、全結着樹脂量の30重量%を
越えない範囲で用いる事が好ましい。
越えない範囲で用いる事が好ましい。
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛等が挙げられる。
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛等が挙げられる。
無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感荊とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング、11(Nn8)第12頁、C,J、Y
oung等、 RCA Review15.469 (
1954)清田航平等、電気通信学会論文誌、し旦其−
(No、2)97 (1980) 、原崎勇次等、工業
化学雑誌並 78及び188 (1963) 、谷忠
昭1日本写真学会誌刹。
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング、11(Nn8)第12頁、C,J、Y
oung等、 RCA Review15.469 (
1954)清田航平等、電気通信学会論文誌、し旦其−
(No、2)97 (1980) 、原崎勇次等、工業
化学雑誌並 78及び188 (1963) 、谷忠
昭1日本写真学会誌刹。
208 (1972)等の総説引例のカーボニウム系
色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素
、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色
素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素等)、フ
タロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられ
る。
色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素
、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色
素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素等)、フ
タロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられ
る。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50414227号、特開昭
53−39130号、特開昭53−82353号、米国
特許諾3.052.540号、米国特許諾4.054,
450号、特開昭57−16456号等に記載のものが
挙げられる。
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50414227号、特開昭
53−39130号、特開昭53−82353号、米国
特許諾3.052.540号、米国特許諾4.054,
450号、特開昭57−16456号等に記載のものが
挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、Harmmer ’The Cyan:ne Dy
es andRelated Compour+ds
」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許諾3,047,384号、米国特許諾3.1
10,591号、米国特許諾3.121008号、米国
特許諾3.125.447号、米国特許諾3、128.
179号、米国特許諾3,132.942号、米国特許
諾3,622,317号、英国特許諾1,226.89
2号、英国特許第1,309,274号、英国特許諾1
.405,898号、特公昭48−7814号、特公昭
55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、Harmmer ’The Cyan:ne Dy
es andRelated Compour+ds
」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許諾3,047,384号、米国特許諾3.1
10,591号、米国特許諾3.121008号、米国
特許諾3.125.447号、米国特許諾3、128.
179号、米国特許諾3,132.942号、米国特許
諾3,622,317号、英国特許諾1,226.89
2号、英国特許第1,309,274号、英国特許諾1
.405,898号、特公昭48−7814号、特公昭
55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭47840号
、特開昭47−44180号、特公昭51−41061
号、特開昭49−5034号、特開昭49−45122
号、特開昭57−46245号、特開昭56−3514
1号、特開昭57457254号、特開昭61−260
44号、特開昭61−27551号、米国特許第3.6
19.154号、米国特許第4,175,956号、r
Research Disclosure J 198
2年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙
げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させ
ても、その性能が増感色素により変動しにくい点におい
て優れている。更には、必要に応じて、化学増感剤等の
従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用す
ることもできる。例えば、前記した総説:イメージング
■n(Na8)第12頁等の総説引例の電子受容性化合
物(例えば、ハロゲン、ヘンゾキノン、クロラニル、酸
無水物、有機カルボン酸等)小門宏等、rl近の光導電
材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科
学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のボリア
リールアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、
p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
光増感するポリメチン色素として、特開昭47840号
、特開昭47−44180号、特公昭51−41061
号、特開昭49−5034号、特開昭49−45122
号、特開昭57−46245号、特開昭56−3514
1号、特開昭57457254号、特開昭61−260
44号、特開昭61−27551号、米国特許第3.6
19.154号、米国特許第4,175,956号、r
Research Disclosure J 198
2年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙
げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させ
ても、その性能が増感色素により変動しにくい点におい
て優れている。更には、必要に応じて、化学増感剤等の
従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用す
ることもできる。例えば、前記した総説:イメージング
■n(Na8)第12頁等の総説引例の電子受容性化合
物(例えば、ハロゲン、ヘンゾキノン、クロラニル、酸
無水物、有機カルボン酸等)小門宏等、rl近の光導電
材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科
学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のボリア
リールアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、
p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが
好適である。
好適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適で
ある。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適で
ある。
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
0〜50μに設定される。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
0μが好適である。
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、祇、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、へ1等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、祇、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、へ1等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14.(随1)、p2〜11 (
1975) 、森賀弘之、「入門特殊紙の化学J高分子
刊行会(’1975) 、 M、F、Hoover+
J、 Macro−mol、 Sci、 Chew、
A −4(6) r 第1327〜1417頁(19
70)等に記載されているもの等を用いる。
坂本幸男、電子写真、14.(随1)、p2〜11 (
1975) 、森賀弘之、「入門特殊紙の化学J高分子
刊行会(’1975) 、 M、F、Hoover+
J、 Macro−mol、 Sci、 Chew、
A −4(6) r 第1327〜1417頁(19
70)等に記載されているもの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
マクロ七ツマ−(M)の合成例1 : (M−1)ト
リフェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン1
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20°
Cに冷却した。1.1−ジフェニルブチルリチウム1.
0gを加え10時間反応した。
リフェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン1
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20°
Cに冷却した。1.1−ジフェニルブチルリチウム1.
0gを加え10時間反応した。
更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート70g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
この混合物を0℃にした後炭酸ガスを60m/■inの
流量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
流量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
得られた反応液を撹拌下に、温度25°Cとし、2ヒド
ロキシ工チルメタクリレート6gを加え、更に、ジシク
ロへキシルカルボジイミド12g、4N、N−ジメチル
アミノピリジン1.Og及び塩化メチレン20gの混合
溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間撹拌した。
ロキシ工チルメタクリレート6gを加え、更に、ジシク
ロへキシルカルボジイミド12g、4N、N−ジメチル
アミノピリジン1.Og及び塩化メチレン20gの混合
溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間撹拌した。
析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に、30%塩化
水素エタノール溶e、lodを加え1時間攪拌した。次
に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒
を留去した後、石油エーテルIl中に再沈した。沈殿物
を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、?1w 6
.5×105で収量56gであった。
水素エタノール溶e、lodを加え1時間攪拌した。次
に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒
を留去した後、石油エーテルIl中に再沈した。沈殿物
を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、?1w 6
.5×105で収量56gであった。
(M−1)
L
マクロモノマー(M)の合成例2:(M−2)ベンジル
メタクリレート5g1 (テトラフェニルボルフイナー
ト)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレン60
gの混合溶液を窒素気流下に温度30’Cとした。これ
に300−一キセノンランプ光をガラスフィルターを通
して25CIの距離から光照射し、12時間反応した。
メタクリレート5g1 (テトラフェニルボルフイナー
ト)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレン60
gの混合溶液を窒素気流下に温度30’Cとした。これ
に300−一キセノンランプ光をガラスフィルターを通
して25CIの距離から光照射し、12時間反応した。
この混合物に更にブチルメタクリレ−)45gを加え、
同様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−ブロ
モメチルスチレン10gを加え、30分間撹拌し反応を
停止させた。
同様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−ブロ
モメチルスチレン10gを加え、30分間撹拌し反応を
停止させた。
次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25℃で1
時間接触還元反応を行なった。
時間接触還元反応を行なった。
不溶物を濾別した後石油エーテル500戚中に再沈し、
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
でFIw7×104であった。
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
でFIw7×104であった。
(M−2)
マクロモノマー(M)の合成例3 : (M−3)4
−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びト
ルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気
し、0°Cに冷却した。1,1−ジフェニル3−メチル
ペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロ−6メチルフ工ニルメタクリレー
ト80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下
に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反応
混合物に充分に撹拌しながらエチレンオキサイドを30
d/+sinのi量で30分間通気した後、温度15°
Cに冷却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で
滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。
−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びト
ルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気
し、0°Cに冷却した。1,1−ジフェニル3−メチル
ペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロ−6メチルフ工ニルメタクリレー
ト80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下
に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反応
混合物に充分に撹拌しながらエチレンオキサイドを30
d/+sinのi量で30分間通気した後、温度15°
Cに冷却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で
滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。
次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液l
ogを加え、25°C8で1時間撹拌した後、石油エー
テルll中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテ
ル300Idで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は
、収量55gで〜7.8 X 10’であった。
ogを加え、25°C8で1時間撹拌した後、石油エー
テルll中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテ
ル300Idで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は
、収量55gで〜7.8 X 10’であった。
(M−3)
CH。
マクロモノマー(M)の合成例41M−4)トリフェニ
ルメチルアクリレート40g及びトルエン100gの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、20゛Cに冷却し
た。
ルメチルアクリレート40g及びトルエン100gの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、20゛Cに冷却し
た。
5ec−ブチルリチウム2gを加え10時間反応した。
次に、この混合溶液に、スチレン60g及びトルエン1
00gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添
加し12時間反応した。この混合物をO″Cにした後、
ベンジルブロマイドl1gを加え1時間反応し、温度2
5°Cで更に2時間反応させた。
00gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添
加し12時間反応した。この混合物をO″Cにした後、
ベンジルブロマイドl1gを加え1時間反応し、温度2
5°Cで更に2時間反応させた。
この反応混合物に30%塩水素含有エタノール溶液10
gを加え、2時間攪拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキ
サンll中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。
gを加え、2時間攪拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキ
サンll中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。
得られた重合体の収量は58gでF1w4.5 X 1
0’であった。
0’であった。
(M−4)
マクロモノマー(M)の合成例5 : (M−5)フ
ェニルメタクリレート70g1ベンジル−Nヒドロキシ
ルエチル−N−エチルジチオカーバメ−)4.8gの混
合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60°Cに加
温した。これに400Wの高圧水銀灯で10c層の距離
からガラスフィルターを通して、10時間光照射し光重
合した。これにアクリル酸30g及びメチルエチルケト
ン180gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射
した。
ェニルメタクリレート70g1ベンジル−Nヒドロキシ
ルエチル−N−エチルジチオカーバメ−)4.8gの混
合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60°Cに加
温した。これに400Wの高圧水銀灯で10c層の距離
からガラスフィルターを通して、10時間光照射し光重
合した。これにアクリル酸30g及びメチルエチルケト
ン180gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射
した。
得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレート12gを、温度30”C’t’1時間で滴下
し、更に2時間攪拌した。
クリレート12gを、温度30”C’t’1時間で滴下
し、更に2時間攪拌した。
得られた反応物をヘキサン1.51に再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体は、68gで)Sw 6.ox1
03であった。
した。得られた重合体は、68gで)Sw 6.ox1
03であった。
(M−5)
樹脂CL)の合成例1 : (L−1)エチルメタク
リレート80g、マクロモノマ−(M−1)20g、ト
ルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温度95°C
に加温した。2.2′−アゾビス(イソブチロニトリル
) (AIBN) 6 gを加え3時間反応し、更に2
時間毎にA、i、B、N 2 gを加え反応した。
リレート80g、マクロモノマ−(M−1)20g、ト
ルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温度95°C
に加温した。2.2′−アゾビス(イソブチロニトリル
) (AIBN) 6 gを加え3時間反応し、更に2
時間毎にA、i、B、N 2 gを加え反応した。
得られた共重合体のMwは9XIO3であった。
(L−1〕
樹脂(L)の合成例2:(L−2)
2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(M −2) 30g、 n−ドデシルメルカプタ
ン2g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に
温度80°Cに加温した。2.2’−アゾビス(イソバ
レロニトリル) (AIVN) 3 gを加え3時
間反応し、更にA、1.V、N、 1 gを加え2時間
反応した。
マー(M −2) 30g、 n−ドデシルメルカプタ
ン2g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に
温度80°Cに加温した。2.2’−アゾビス(イソバ
レロニトリル) (AIVN) 3 gを加え3時
間反応し、更にA、1.V、N、 1 gを加え2時間
反応した。
次に A、lB、11. l gを加え温度90°Cに
加温して3時間反応した。得られた共重合体の〜は7.
6X103であった。
加温して3時間反応した。得られた共重合体の〜は7.
6X103であった。
(L−2)
C)13
樹脂(L)の合成例3〜18 : [L−31〜[L4
B]樹脂(L)の合成例1と同様の重合条件で、エチル
メタクリレートを他の単量体に代えて下記表1の共重合
体を合成した。得られた各重合体の〜は5×104〜9
XIO”であった。
B]樹脂(L)の合成例1と同様の重合条件で、エチル
メタクリレートを他の単量体に代えて下記表1の共重合
体を合成した。得られた各重合体の〜は5×104〜9
XIO”であった。
表−1
co、 CH。
χ+y +20=100(重量比)
樹脂〔L〕の合成例19〜35 : [L−191〜[
L−351樹脂CL)の合成例2において、マクロモノ
マ−(M−2)の代わりに他のマクロモノマー(M)を
用いた他は、合成例2と同様の重合条件で下記表−2の
共重合体を合成した。得られた各重合体の〜は1×10
3〜2×104であった。
L−351樹脂CL)の合成例2において、マクロモノ
マ−(M−2)の代わりに他のマクロモノマー(M)を
用いた他は、合成例2と同様の重合条件で下記表−2の
共重合体を合成した。得られた各重合体の〜は1×10
3〜2×104であった。
樹脂[)()の合成例1 : (H−11工チルメタ
クリレート80g、下記構造のマクロモノマー(M−6
)20g、トルエン150gの混合溶液を窒素気流下に
温度85℃に加温した。1.1’−アヅビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)(略称A、B、C,C)
0.8gを加え5時間反応し、更に^、B、C,C、
0,5gを加え5時間反応した。
クリレート80g、下記構造のマクロモノマー(M−6
)20g、トルエン150gの混合溶液を窒素気流下に
温度85℃に加温した。1.1’−アヅビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)(略称A、B、C,C)
0.8gを加え5時間反応し、更に^、B、C,C、
0,5gを加え5時間反応した。
得られた共重合体の8wは2.0×104であった。
(M−6)
Hs
[H−1)
CH3
CH3
樹脂[H)の合成例2:〔H
2]
ブチルメタクリレート80g、
下記構造のマクロ
モノマー(M−7)20g、トルエン150gの混合溶
液を窒素気流下に温度70°Cに加温した。A、1.B
、N。
液を窒素気流下に温度70°Cに加温した。A、1.B
、N。
0.5gを加え6時間反応し更に4時間毎にA、1.B
、11゜0、3gを加え8時間反応した。
、11゜0、3gを加え8時間反応した。
得られた共重合体の〜は8.5’×104であった。
(M−7)
CH。
〔H
2〕
樹脂(H)の合成例3〜9 : [H−31〜[1(−
91樹脂(H)の合成例2と同様の重合条件で、下記表
−3の共重合体を合成した。得られた重合体の8wは、
各々7 XIO’ 〜9 XIO’であった。
91樹脂(H)の合成例2と同様の重合条件で、下記表
−3の共重合体を合成した。得られた重合体の8wは、
各々7 XIO’ 〜9 XIO’であった。
樹脂(H)の合成例10〜20 : [H−101〜[
H−201樹脂(H)の合成例1と同様の重合条件で、
下記表−4の共重合体を合成した。得られた重合体の〜
は、各々9×104〜2×104であった。
H−201樹脂(H)の合成例1と同様の重合条件で、
下記表−4の共重合体を合成した。得られた重合体の〜
は、各々9×104〜2×104であった。
実施例1及び比較例A−C
下記構造の樹脂(A−1)40g、酸化亜鉛200g、
下記構造のメチン色素(1) 0.018g、無水フタ
ル1m0.10 g 及びトルエン300gの混合物を
ボールミル中で2時間分散して、感光層形成物を調製し
、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が18 g /
rdとなる様に、ワイヤーバーで塗布し、110°C
で30秒間乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの
条件下で24時間放置することにより、電子写真感光材
料を作製した(実施例1)。
下記構造のメチン色素(1) 0.018g、無水フタ
ル1m0.10 g 及びトルエン300gの混合物を
ボールミル中で2時間分散して、感光層形成物を調製し
、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が18 g /
rdとなる様に、ワイヤーバーで塗布し、110°C
で30秒間乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの
条件下で24時間放置することにより、電子写真感光材
料を作製した(実施例1)。
樹脂(A−1)
(重量組成比)
〜:
3.8×104
メチン色素(N
比較例A
実施例1において、樹脂(A−1)40gの代わりに、
下記構造の樹脂(R−1〕40gを用いる以外は、実施
例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
下記構造の樹脂(R−1〕40gを用いる以外は、実施
例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂(R−1)
CHゴ CHゴ
] 1
Flw:8X10″(ランダム共重合体)比較例B
実施例1において、樹脂CA−1)40gの代わりに、
下記構造の樹脂(R−2)40gを用いる以外は、実施
例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
下記構造の樹脂(R−2)40gを用いる以外は、実施
例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂(R−2)
〜:8×104(ランダム共重合体)
比較例C
実施例1において、樹脂(A−1340gの代わりに、
下記構造の樹脂(R−3)(仕込み組成比エチルメタク
リレート/β−メルカプトプロピオン酸 (95/ 5
)重量比)40gを用いる以外は、実施例1と同様の
操作で電子写真感光材料を作製した。
下記構造の樹脂(R−3)(仕込み組成比エチルメタク
リレート/β−メルカプトプロピオン酸 (95/ 5
)重量比)40gを用いる以外は、実施例1と同様の
操作で電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂(R−3)
L
HOOC(C)It)□S+CI+、−C−ヒーC00
C!)Is ?Nニア、5X+o3 これらの各感光材料の静電特性、撮像性について環境条
件を(20’C165%RH)及び(30°C180%
RH)とした場合において、調べた。
C!)Is ?Nニア、5X+o3 これらの各感光材料の静電特性、撮像性について環境条
件を(20’C165%RH)及び(30°C180%
RH)とした場合において、調べた。
以上の結果を表−5に示した。
表
表−5に示す評価項目の実施の態様は以下の通りである
。
。
注1)静電特性:
温度20°C165%R)Iの暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライ
ザーSP −428型)を用イテ−6kVテ20秒間コ
ロナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電
位■1゜を測定した0次いでそのまま暗中で90秒間静
置した後の電位V、。。を測定し、90秒間減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(X)
を(Loo/V+++) X100(%)で求めた。
ペーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライ
ザーSP −428型)を用イテ−6kVテ20秒間コ
ロナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電
位■1゜を測定した0次いでそのまま暗中で90秒間静
置した後の電位V、。。を測定し、90秒間減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(X)
を(Loo/V+++) X100(%)で求めた。
又、コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電
させた後、波長780n−の単色光で照射し、表面電位
(V+。)が1/10に減衰するまでの時間を求め、こ
れから露光量E171゜(erg/d)を算出する。
させた後、波長780n−の単色光で照射し、表面電位
(V+。)が1/10に減衰するまでの時間を求め、こ
れから露光量E171゜(erg/d)を算出する。
注2)撮像性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。
次に−5にνで帯電し、光源として2.8−出力のガリ
ウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波長7
50r+s+ )を用いて、感光材料表面上で、64e
rg/c−の照射量下、ピッチ25I#及びスキャニン
グ速度300m/seeのスピードで露光後、液体現像
剤として、ELP−T (富士写真フィルム■製)を
用いて現像し、定着することで得られた複写画像(カブ
リ、画像の画質)を目視評価した。
ウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波長7
50r+s+ )を用いて、感光材料表面上で、64e
rg/c−の照射量下、ピッチ25I#及びスキャニン
グ速度300m/seeのスピードで露光後、液体現像
剤として、ELP−T (富士写真フィルム■製)を
用いて現像し、定着することで得られた複写画像(カブ
リ、画像の画質)を目視評価した。
邊像時の環境条件は、20’C65%RHと30℃80
%I?Hで実施した。
%I?Hで実施した。
表−5の結果から判るように、本発明の感光材料は、環
境条件が著しく変動しても、良好な静電特性及び撮像性
を示した。
境条件が著しく変動しても、良好な静電特性及び撮像性
を示した。
これに比べ、比較例A−Cは、いずれも実用するには、
不満足な性能を示した。
不満足な性能を示した。
実施例2〜4
実施例1において、樹脂(A−1) 40gの代わりに
表−6に示す各樹脂40gを用いる以外は実施例1と同
様の操作で電子写真感光材料を作製した。
表−6に示す各樹脂40gを用いる以外は実施例1と同
様の操作で電子写真感光材料を作製した。
実施例5及び比較例D−F
樹脂〔L〕の合成例1の樹脂(L−1)6.0g(固形
分量として)、樹脂CH)合成例1の樹脂[H−1]
334.0g(固形分量として)、酸化亜鉛200g、
下記構造のシアニン色素(II ) 0.018g、無
水フタル酸0.10 g及びトルエン300gの混合物
をボールミル中で3時間分散して、感光層形成物を調製
し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が18g/r
rfとなる様に、ワイヤーバーで塗布し、110゛Cで
30秒間乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料
を作製した(実施例5)。
分量として)、樹脂CH)合成例1の樹脂[H−1]
334.0g(固形分量として)、酸化亜鉛200g、
下記構造のシアニン色素(II ) 0.018g、無
水フタル酸0.10 g及びトルエン300gの混合物
をボールミル中で3時間分散して、感光層形成物を調製
し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が18g/r
rfとなる様に、ワイヤーバーで塗布し、110゛Cで
30秒間乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料
を作製した(実施例5)。
シアニン色素(II)
比較例り
実施例5において、樹脂CL−1)6.0g及び樹脂(
H−1,) 34.0gの代わりに前記の樹脂〔R1)
6.0g及び樹脂1:R−2) 34.0gを用いる
以外は、実施例5と同様の操作で電子写真窓光体を作製
した。
H−1,) 34.0gの代わりに前記の樹脂〔R1)
6.0g及び樹脂1:R−2) 34.0gを用いる
以外は、実施例5と同様の操作で電子写真窓光体を作製
した。
比較例E
比較例りにおいて、樹脂(R−1)6.0gの代わりに
前記の樹脂[R−336,Ogを用いる以外は、比較例
りと同様の操作で電子写真感光材料を作製した。
前記の樹脂[R−336,Ogを用いる以外は、比較例
りと同様の操作で電子写真感光材料を作製した。
比較例F
実施例5において、樹脂(L−1)6g及び樹脂(H−
1)34gの代わりに下記構造の樹脂〔R4)40gを
用いる以外は、実施例5と同様の操作で電子写真感光材
料を作製した。
1)34gの代わりに下記構造の樹脂〔R4)40gを
用いる以外は、実施例5と同様の操作で電子写真感光材
料を作製した。
比較用樹脂(R−4)
H3cow
1
?1w : 4.3xlO’ (ランダム共重合体)
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、膜強度、
静電特性、撮像性及び環境条件を30″C80%RHと
した時の撮像性を調べた。
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、膜強度、
静電特性、撮像性及び環境条件を30″C80%RHと
した時の撮像性を調べた。
以上の結果をまとめて、表−7に示した。
表
表−7に示した評価項目の実施の11様は以下の通りで
ある。
ある。
注3)光導電層の平滑性:
得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/Cc)を測定した。
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/Cc)を測定した。
注4)光導電層の機械的強度:
得られた感光材料表面をヘイトン−14型表面性試験材
(新東化学■製)を用いて荷重50g/cdのものでエ
メリー紙(11000)で1000回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め
機械的強度とした。
(新東化学■製)を用いて荷重50g/cdのものでエ
メリー紙(11000)で1000回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め
機械的強度とした。
注5)静電特性(El/I。。)
前記性1)におけるR17.。測定と同様にして露光後
、表面電位(V+。)が1/100に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量E、/1゜。(erg/d)
を算出する。
、表面電位(V+。)が1/100に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量E、/1゜。(erg/d)
を算出する。
注6)水との接触角:
各感光材料を不感脂化処理液ELP−EX (富士写真
フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2plの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2plの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
注7)耐刷性
各感光材料を上記注2)と同条件で、製版してトナー画
像を形成し、上記注6)と同条件で不感脂化処理し、こ
れをオフセットマスターとして、オフセント印刷機(桜
井製作所■製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画像
部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷で
きる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこ
とを表わす)。
像を形成し、上記注6)と同条件で不感脂化処理し、こ
れをオフセットマスターとして、オフセント印刷機(桜
井製作所■製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画像
部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷で
きる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこ
とを表わす)。
表−7に示すように光導電層の平滑性は各感光材料とも
、はぼ同程度であった。しかし、静電特性は、本発明の
感光材料のみが最良となり、特に各比較例に比べ光感度
でEl/I。。値が著しく改良された。この事は、露光
後の非画像部に相当する領域に残留する電位が小さくな
らない事を表わす。
、はぼ同程度であった。しかし、静電特性は、本発明の
感光材料のみが最良となり、特に各比較例に比べ光感度
でEl/I。。値が著しく改良された。この事は、露光
後の非画像部に相当する領域に残留する電位が小さくな
らない事を表わす。
実際に撮像してみるとこれは非画像部の地力ブリ現象と
して発生してしまう。
して発生してしまう。
揚傷性においても本発明の感光材料が最良であった。比
較例り及びEは、比較例Fに比べこれも著しく良化して
いるが、低出力の半導体レーザー光スキヤニング露光方
式で且つ、高速で撮像する条件では、未だ満足すべきも
のではなかった。
較例り及びEは、比較例Fに比べこれも著しく良化して
いるが、低出力の半導体レーザー光スキヤニング露光方
式で且つ、高速で撮像する条件では、未だ満足すべきも
のではなかった。
更に不感脂化処理によって印刷用原版として、各感光材
料の水との接触角及び印刷を行なった。
料の水との接触角及び印刷を行なった。
製版しない感材を不惑脂化処理した時の非画像部の水と
の接触角は、比較例Fでは値も大きく且つバラツキがあ
ったが、他の原版は、いずれも10゜以下と小さく充分
に親水化されていた。しかし、実際に製版後の原版を不
感脂化処理して印刷した所、地汚れのない鮮明な印刷物
を得ることができるものは、本発明の感光材料のみであ
った。比較例り及びEは、版上の地力ブリがそのまま印
刷物に発生したり、あるいは画像部の欠落が生してしま
った。又本発明の原版は、1万枚まで鮮明な印刷物を得
ることができた。
の接触角は、比較例Fでは値も大きく且つバラツキがあ
ったが、他の原版は、いずれも10゜以下と小さく充分
に親水化されていた。しかし、実際に製版後の原版を不
感脂化処理して印刷した所、地汚れのない鮮明な印刷物
を得ることができるものは、本発明の感光材料のみであ
った。比較例り及びEは、版上の地力ブリがそのまま印
刷物に発生したり、あるいは画像部の欠落が生してしま
った。又本発明の原版は、1万枚まで鮮明な印刷物を得
ることができた。
実施例6及び7
結着樹脂として樹脂(L−3)6.5g(実施例6)又
は樹脂(L−8)6.5g(実施例7)と樹脂〔H−2
) 33.5gとを用い、他に酸化亜鉛200g、下記
構造のシアニン色素(III ) 0.018 g、サ
リチル酸0.20g及ヒドルエン300gの混合物をボ
ールミル中で3時間分散して、感光層形成物を調製し、
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/イとな
る様に、ワイヤーバーで塗布し、110 ”Cで30秒
間乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの条件下で
24時間放置することにより、各電子写真感光材料を作
製した。
は樹脂(L−8)6.5g(実施例7)と樹脂〔H−2
) 33.5gとを用い、他に酸化亜鉛200g、下記
構造のシアニン色素(III ) 0.018 g、サ
リチル酸0.20g及ヒドルエン300gの混合物をボ
ールミル中で3時間分散して、感光層形成物を調製し、
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/イとな
る様に、ワイヤーバーで塗布し、110 ”Cで30秒
間乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの条件下で
24時間放置することにより、各電子写真感光材料を作
製した。
シアニン色素CI[I]
実施例1及び5と同様の操作で、各感光材料の平滑性、
膜強度及び静電特性を測定した。
膜強度及び静電特性を測定した。
更に、これら感光材料を、オフセットマスター原版とし
て用いて不感脂化処理した後、印刷を行なった。表−7
と同様に評価して得られた結果を表−8にまとめて記し
た。
て用いて不感脂化処理した後、印刷を行なった。表−7
と同様に評価して得られた結果を表−8にまとめて記し
た。
表−8
いずれの感光材料も、良好な電子写真特性を示した。特
に、特定の置換基を有するメタクリレート成分から構成
される樹脂を用いた実施例7は、更に光感度、暗減衰保
持率を示し、より良好であった。
に、特定の置換基を有するメタクリレート成分から構成
される樹脂を用いた実施例7は、更に光感度、暗減衰保
持率を示し、より良好であった。
又、オフセントマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく充分に親水化さ
れている。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても
、全く認められなかった。
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく充分に親水化さ
れている。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても
、全く認められなかった。
実施例8〜14
下記表−9の樹脂(L ) 6.0g及び樹脂(H)3
4g、fa化亜鉛200g、下記構造のシアニン色素C
PJ〕0.010g、無水マレイン酸0.20g及びト
ルエン300gの混合物を、ボールミル中で3時間分散
して感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に乾
燥付着量が22g/cdとなる様にワイヤーバーで塗布
し110 ’Cで30秒間乾燥しついで暗所で20°C
65%IIHの条件下で24時間放置することにより各
電子写真感光材料を作製した。
4g、fa化亜鉛200g、下記構造のシアニン色素C
PJ〕0.010g、無水マレイン酸0.20g及びト
ルエン300gの混合物を、ボールミル中で3時間分散
して感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に乾
燥付着量が22g/cdとなる様にワイヤーバーで塗布
し110 ’Cで30秒間乾燥しついで暗所で20°C
65%IIHの条件下で24時間放置することにより各
電子写真感光材料を作製した。
シアニン色素〔■〕
実施例5と同様にして、静電特性、撮像性及び印刷特性
を調べた。その結果を表−9にまとめた(但し、静電特
性、撮像性については過酷な条件である(30°C18
0%I?ll)下の結果を記載した)。
を調べた。その結果を表−9にまとめた(但し、静電特
性、撮像性については過酷な条件である(30°C18
0%I?ll)下の結果を記載した)。
本発明の各感光材料はいずれも光導電層の強度、静電特
性のいずれも良好であり、実際の複写画像も高温高温(
30°C80%R1()下でさえ、地力ブリのない鮮明
画質であった。更にオフセットマスター原版として印刷
した所、その耐刷枚数は1万枚と良好であった。
性のいずれも良好であり、実際の複写画像も高温高温(
30°C80%R1()下でさえ、地力ブリのない鮮明
画質であった。更にオフセットマスター原版として印刷
した所、その耐刷枚数は1万枚と良好であった。
実施例15〜22
下記表−10で示される樹脂(L)6.5g(固形分量
として)及び樹脂(H)34g、下記構造式で示される
メチン色素〔V)0.02g、フタル酸無水物0、15
g及びトルエン300gの混合物をボールミル中で3
時間分散して感光層形成物を調整した。以下は、実施例
5と同様に操作して電子写真窓光体を作製した。
として)及び樹脂(H)34g、下記構造式で示される
メチン色素〔V)0.02g、フタル酸無水物0、15
g及びトルエン300gの混合物をボールミル中で3
時間分散して感光層形成物を調整した。以下は、実施例
5と同様に操作して電子写真窓光体を作製した。
メチン色素(V)
これらの各感光材料を実施例5と同様にして各特性を調
べた。
べた。
表−10
本発明の各感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率
、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30°C
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を与えた。
、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30°C
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を与えた。
更に実施例5と同様にして製版した後オフセントマスタ
ー原版として印刷した所1万枚印刷しても地汚れの発生
のない鮮明な画質の印刷物が得られた。
ー原版として印刷した所1万枚印刷しても地汚れの発生
のない鮮明な画質の印刷物が得られた。
実施例23及び24並びに比較例G
樹脂〔L−13(実施例23)又は樹脂CL−2)(実
施例24)のいずれか6.5 g 、樹脂()I−2)
33.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、
ローズベンガル0.04 g 、ブロムフェノールブル
ー0.03g無水フタル酸0.20 g及びトルエン3
00gの混合物をボールミル中で2時間分散して感光層
形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量
が20g/ifとなる様にワイヤーバーで塗布し110
°Cで1分間乾燥した0次いで暗所で20’C,65%
RHの条件下で24時間放置することにより各電子写真
感光体を作製した。
施例24)のいずれか6.5 g 、樹脂()I−2)
33.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、
ローズベンガル0.04 g 、ブロムフェノールブル
ー0.03g無水フタル酸0.20 g及びトルエン3
00gの混合物をボールミル中で2時間分散して感光層
形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量
が20g/ifとなる様にワイヤーバーで塗布し110
°Cで1分間乾燥した0次いで暗所で20’C,65%
RHの条件下で24時間放置することにより各電子写真
感光体を作製した。
比較例G
実施例23において、樹脂(L−2)6.5g及び樹脂
(H−2) 33.5gの代わりに、前記比較用樹脂(
R−3)6.5g及び樹脂(R−2) 33.5gを用
いた他は、実施例23と同様にして、感光材料を作製し
た。
(H−2) 33.5gの代わりに、前記比較用樹脂(
R−3)6.5g及び樹脂(R−2) 33.5gを用
いた他は、実施例23と同様にして、感光材料を作製し
た。
実施例5と同様にして、各感光材料の各特性を調べた。
その結果を下記表−11にまとめた。
表
1
上記の各測定において、静電特性及び撮像性については
下記の操作に従った他は、実施例5と同様の操作で行な
った。
下記の操作に従った他は、実施例5と同様の操作で行な
った。
注8)静電特性のE1/、。及びE、7、。。の測定方
法コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電さ
せた後、該光導電層表面を照度2.0ルンクスの可視光
で照射し、表面電位(V+o)が1710又はEl/l
@。に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E、
71゜又はEl/I11゜(ルックス・秒)を算出する
。
法コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電さ
せた後、該光導電層表面を照度2.0ルンクスの可視光
で照射し、表面電位(V+o)が1710又はEl/l
@。に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E、
71゜又はEl/I11゜(ルックス・秒)を算出する
。
注9) 撮像性
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機ELP−404V (富士写真フィルム■製)
でELP−Tをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時
の環境条件は、20°C65%R11(1)と30°C
80%l?)I(II)で実施した。
動製版機ELP−404V (富士写真フィルム■製)
でELP−Tをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時
の環境条件は、20°C65%R11(1)と30°C
80%l?)I(II)で実施した。
但し、複写用の原稿(即ち、版下原稿)には、他の原稿
を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したものを用い
た。
を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したものを用い
た。
各感光材料において、光導電層の平滑性及び強度におい
て、その差は認められなかった。しかし、静電特性にお
いて、比較例Gは、特に光感度E、71゜。
て、その差は認められなかった。しかし、静電特性にお
いて、比較例Gは、特に光感度E、71゜。
が値が大きく、これは高温高温になるとより一層助長さ
れ、劣化してしまった8本発明の感光材料の静電特性は
良好であり、更に特定の置換基を有する樹脂(L)を用
いた実施例24は、非常に良好であり、特にE171゜
。の値が小さくなった。
れ、劣化してしまった8本発明の感光材料の静電特性は
良好であり、更に特定の置換基を有する樹脂(L)を用
いた実施例24は、非常に良好であり、特にE171゜
。の値が小さくなった。
実際の撮像性を調べて見ると、比較例Gは、複写画像と
して原稿の画像以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠
(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認めら
れた。しかし、本発明のものは、いずれも地汚れのない
、鮮明な画像のものが得られた。
して原稿の画像以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠
(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認めら
れた。しかし、本発明のものは、いずれも地汚れのない
、鮮明な画像のものが得られた。
更にこれらをオフセット印刷用原版として不感脂化処理
して印刷した所、本発明のものは、いずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし比較例
Gは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去され
ず、刷り出しの印刷物から発生をしてしまった。
して印刷した所、本発明のものは、いずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし比較例
Gは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去され
ず、刷り出しの印刷物から発生をしてしまった。
以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特性
を与えることができた。
を与えることができた。
実施例25〜36
実施例23において、樹脂(L−2) 6.5g、及び
樹脂(H−2333,5gの代わりに、下記表−12の
樹脂(L)6.5g及び樹脂(H)33.5gを用いた
他は、実施例23と同様にして各感光材料を作製した。
樹脂(H−2333,5gの代わりに、下記表−12の
樹脂(L)6.5g及び樹脂(H)33.5gを用いた
他は、実施例23と同様にして各感光材料を作製した。
表−12
本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光
感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30°C58
0%RH)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細
線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30°C58
0%RH)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細
線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
更にオフセントマスター原版として印刷した所、1万枚
印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得
られた。
印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得
られた。
(発明の効果)
本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャニング露光方式に有効である。
性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャニング露光方式に有効である。
更に、本発明のグラフト型共重合体の低分子量体と高分
子量体とを併用して結着樹脂として用いることにより、
更に得られる電子写真感光体の機械的強度が向上する。
子量体とを併用して結着樹脂として用いることにより、
更に得られる電子写真感光体の機械的強度が向上する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が、−PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3
H基、フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基、{Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は
炭化水素基)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択
される少なくとも1つの酸性基を含有する重合体成分を
少なくとも1種含有するAブロックと、下記一般式(
I )で示される重合体成分を少なくとも含有するBブロ
ックとから構成されるA・Bブロック共重合体のBブロ
ックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して
成る重量平均分子量1×10^3〜2×10^4の一官
能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種共重合成分
として含有するグラフト型共重合体を少なくとも1種含
有して成る事を特徴とする電子写真感光体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、a_1及びa_2はそれぞれ水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。 V_1は−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表
等があります▼ (l_1、l_2は1〜3の整数を 表わす)、−O−、−SO_2−、−CO−、▲数式、
化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があり
ます▼、−CONHCOO−、−CONHCONH−又
は▲数式、化学式、表等があります▼を表わす(ここで
Z_1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。 R_1は、炭化水素基を表わす。但しV_1が▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす場合、R_1は水素
原子又は炭化水素基を表わす。〕 (2)該グラフト型共重合体が、該マクロノマー(M)
とともに下記一般式(II)で表わされる単量体を少なく
とも1種共重合成分として含有する事を特徴とする請求
項(1)記載の電子写真感光体。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式(II)中、R_2は炭化水素基を表わす。)(3)
該結着樹脂が、重量平均分子量5×10^3〜1×10
^5の該グラフト型共重合体を少なくとも1種含有する
ことを特徴とする請求項(1)又は(2)記載の電子写
真感光体。 (4)該結着樹脂が、グラフト型共重合体における酸性
基含有成分の存在量が3〜30重量%である重量平均分
子量1×10^3〜2×10^4の該グラフト型共重合
体の少なくとも1種と、グラフト型共重合体における酸
性基含有成分の存在量が0.1〜10重量%である重量
平均分子量3×10^4〜5×10^5の該グラフト型
共重合体の少なくとも1種とを含有することを特徴とす
る請求項(1)又は(2)記載の電子写真感光体。 (5)重量平均分子量1×10^3〜2×10^4のグ
ラフト型共重合体が、マクロモノマー(M)とともに下
記一般式(IIa)及び一般式(IIb)で示される単量体
のうちの少なくとも1種を共重合成分として30重量%
以上含有する事を特徴とする請求項(3)又は(4)記
載の電子写真感光体。 一般式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式( I b) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(IIa)又は(IIb)中、X_1及びX_2は互い
に独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水
素基、塩素原子、臭素原子、−COZ_3又は−COO
Z_3(Z_3は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示
す)を表わす。但し、X_1とX_2がともに水素原子
を表わすことはない。 L_1及びL_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
わす。〕
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1797490A JP2722125B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 電子写真感光体 |
US07/642,955 US5089368A (en) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Electrophotographic light-sensitive material |
DE69118417T DE69118417T2 (de) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Lichtempfindliches elektrofotografisches Material |
EP91100595A EP0439072B1 (en) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Electrophotographic light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1797490A JP2722125B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03223762A true JPH03223762A (ja) | 1991-10-02 |
JP2722125B2 JP2722125B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
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Family Applications (1)
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