JPH03225344A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。

特にＣＰＣ感光体として性能の優れたものに関する。

（従来の技術） 電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応して、種々の構成
をとる。

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。

支持体と少なくとも１つの光導電層から構成される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。

更には、ダイレクト製版用のオフセント原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
合樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着
樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。

しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、暗
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。

これらの問題を解決するために、結着樹脂として、酸性
基を重合体の側鎖にランダムに含有する重量平均分子量
１０３〜１０４の樹脂を用いる技術及び酸性基を重合体
主鎖の末端に含有する重量平均分子量１０３〜５Ｘ１０
’の樹脂を用いる技術が特開昭６３−２１７３５４号及
び特開昭６４−７０７６１号にそれぞれ開示されており
、これにより光導電層の平滑性及び静電特性が良好とな
り、しかも地汚れのない画質が得られることが記載され
ている。

また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び／又
は光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を
用いる技術が特開平１−１００５５４号、特願昭６３−
３９６９０号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又
は重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する
技術が特開平１−１０２５７３号、特願昭６３−３９６
９１号にそれぞれ開示され、更に該低分子量体（重量平
均分子量１０３〜１０４）を高分子量（重量平均分子量
１０４以上）の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭６４
−５６４号、同６３−２２０１４９号、同６３−２２０
１４０号、特願昭６２−２７３５４７号、特開平１−１
１６６４３号及び特開平１−１６９４５５号に、かかる
低分子量体を熱及び／又は光硬化性樹脂と組合せて用い
る技術が特開平１−２１１７６６号及び特願昭６３−２
６５６１号にそれぞれ開示されている。これらの技術に
より、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用いたこ
とによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層の膜強度
を充分ならしめ、機械的強度が増大されることが記載さ
れている。

（発明が解決しようとする課題） 通常、電子写真感光体の静電特性の評価として、表面電
位が’／を又は１八〇に減衰するまでの時間に対応する
露光量からそれぞれ求められるＥ１７２及びＥｌ／ｌ。

の値が取り扱われ、この両者の値は実際の撮像性におい
て原画の再現性に対応するものとして重要である。即ち
、このＥ１／２とＥ１７．。の値が小さく、かつ差が小
さい程、ボケのない鮮明な複写画像を再現できる。さら
に、Ｅｌ／１０の値が小さい程これを満足するのが一般
的である。

これに加えて、描像時に問題となるのは、露光後の露光
部（即ち非画像部）の電位の残留の程度であり、この残
留電位が大きいと描像時に複写画像の非画像部の地力ブ
リとなって現われる。

これに対応する静電特性として、Ｅ１７１゜。の値が重
要であり、これが小さい程、優良な撮像性を示すことに
なる。

特に近年の半導体レーザー光スキヤニング露光方式では
、該レーザー光の出力に制約があることから、従来の帯
電性（ｌＩ＋ｏ）、暗減衰保持率（Ｄ、１１．Ｒ，）、
Ｅｌ／１６の評価に加えて、Ｅｌ／Ｉｌ＋。の値が重要
なこととなってきた。

しかしながら、上記の公知技術において、低分子量の酸
性基含有樹脂に高分子量の樹脂あるいは熱及び／又は光
硬化性樹脂等を組合せて用いた場合には、上記のｖｌ。

、Ｄ、Ｒ，Ｒ，及びＥ１７１゜については実際上満足で
きるレベルに到達できるが、環境が変動したり、低出力
のレーザー光を使用したりする場合に、得られるＥ、７
１゜。の値が十分に満足できる領域になく、複写画像の
地力ブリの発生を引き起こすという問題のあることが判
明した。

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいｃｐｃ電子写真感光体を提供することである。

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。

本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
印刷物に地汚れの発生が見られず、且つ貼り込み跡が生
じない平版印刷原版を提供することである。

（課題を解決するための手段） 上記目的は、無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記で表わされる結着樹脂〔Ａ〕の少なくと
も１種及び結着樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有する
事を特徴とする電子写真感光体により達成されることが
見出された。

結着樹脂〔Ａ〕　： ｌＸｌ０’〜２×１０４の重量平均分子量を有し、下記
一般式（Ｉ）で示される重合成分を３０重量％以上含有
し、且つ重合体主鎖の片末端に−ＰＯＪｚＯＨ （Ｒは炭化水素基又は−ＣＯＯＨ基（Ｒ’は炭化水素基
を示す）を示す）及び環状酸無水物含有基から選択され
る少なくとも１種の酸性基を結合して成る樹脂。

一般式（１） ％式％ 〔式（１）中、ａｌ及びａオは各々、水素原子、ノλロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。

Ｒ１は炭化水素基を表わす、〕 結着樹脂〔Ｂ］　： ＰＯＪｚ基、−Ｃ０ＯＨ基、−ＳＯ！Ｈ基、フェノール
基（Ｒ’は炭化水素基）を示す）及び環状酸無水物含有
基から選択される少なくとも１つの酸性基を含有する重
合体成分を少なくとも１種含有するＡブロックと、下記
−船底（ＩＩ）で示される重合体成分を少なくとも含有
するＢブロックとから構成されるＡ−Ｂブロック共重合
体のＢブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基
を結合して成る重量平均分子量１×１０３〜２×１０４
の一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくとも１種共重
合成分として含有して成る重量平均分子量３Ｘ１０’〜
ｌＸｌ０’のグラフト型共重合体。

−船底（Ｉｔ） Ｌ　　Ｒｔ＋ 〔式（ｎ）中、ｂ、及びｂ２は各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。Ｘ、は−ｃｏ
ｏ　−−ｏｃｏ　−＋ＣＩ（ｚｉＯＣＯ−１＋　Ｃ）Ｉ
Ｊ７ＣＯＯ−（ｆ　ｌ　、　ｆｆｉ　２は１〜３の整数
を表わは炭化水素基を表わす）。

Ｒ２１は、炭化水素基を表わす。但し、Ｘ、が炭化水素
基を表わす。〕 即ち、本発明に供される結着樹脂は、特定の繰り返し単
位の重合体成分と重合体主鎖の片末端に酸性基（以下本
明細書中では特にことわらない限り酸性基の語の中に環
状酸無水物含有基も含むものとする）を結合して成る低
分子量の樹脂［Ａ）と、上記した特定の酸性基含有成分
を含有するＡブロックと上記の式（ＩＩ）で示される重
合体成分を含有するＢブロックとのＡＢ型共重合体のＢ
ブロックの重合体主鎖末端に重合性二重結合基を結合し
て成る一官能性マクロモノマー（Ｍ）を共重合体成分と
して少なくとも１種含有するグラフト型共重合体から成
る高分子量の樹脂ＣＢ）とから少なくとも構成される。

更には、低分子量の樹脂〔Ａ〕としては、下記−船底（
Ｉ　ａ）及び−船底（Ｉ　ｂ）で示される、２位に、及
び／又は２位と６位に特定の置換基を有するヘンゼン環
又は無置換のナフタレン環を含有する特定の置換基をも
つメタクリレート成分を含有する、末端に酸性基を結合
した樹脂〔Ａ）（以降、この低分子量体をとくに樹脂〔
Ａ′］とする）であることが好ましい。

一般式（Ｉａ） Ｈ３ 一般式（Ｉｂ） Ｈｚ 〔弐（Ｉ　ａ）および（Ｉ　ｂ）中、Ａｔ及びＡ２は互
いに独立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基
、塩素原子、臭素原子、　ＣＯＤ　＋及び−ＣＯＯＤｚ
（Ｄ＋及びＤ２は各々炭素数１−１０の炭化水素基を示
す）を表わす。但し、Ａ１とＡ２が共に水素原子を表わ
すことはない。

Ｂ＋及びＢ２は各々−ＣＯＯ−とヘンゼン環を結合する
、単結合又は連結原子数１〜４個の連結基を表わす。〕 更に、高分子量の樹脂〔Ｂ〕としては、上記のマクロ七
ツマ−（Ｍ）のうちの少なくとも１種を含み、且つ下記
−船底ＣＤＩ）で表わされる重合体成分を含有して成る
グラフト型共重合体であることが好ましい。

一般式（Ｉｌｌ） ｂ、　　ｂ。

−←Ｃ３−Ｃ→− １ｈ　　Ｒ２□ 〔式（Ｉｌｌ）中、ｂｌ、ｂ４、ｘ２及びｌ１ｚｚは式
（Ｉｆ）のｂｌ、ｂ２、χ、及びＲ２＋　とそれぞれ同
様の内容を表わす。〕 本発明では、特定の共重合成分を含有する末端に酸性基
を結合した低分子量の樹脂〔Ａ〕は、樹脂中に含有され
る酸性基が無機光導電体の化学量論的な欠陥に吸着し、
且つ低分子量体であることから、光導電体の表面の被覆
性を向上させることで光導電体のトラップを補償すると
共に湿度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電体の分
散が充分に行なわれ、凝集を抑制する。そして樹脂〔Ｂ
］は、樹脂［Ａ）を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂［Ａ）のみでは不充分な光
導電層の機械的強度を充分ならしめるとともに前記の如
き環境が変動したり、低出力のレーザー光を用いたりし
た場合でも十分に良好な撮像性を得ることができること
が判った。

本発明によれば、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂
〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに
樹脂中の酸性基の含有量及び結合位置を特定化すること
で、無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変
えることができたことによると推定される。即ち、相互
作用のより強い樹脂〔Ａ〕が選択的に無機光導電体に適
切に吸着し、一方で樹脂〔Ａ〕に比べて相互作用の弱い
樹脂ＣＢ）においては、樹脂中の重合体の主鎖に対して
特定の位置に結合した酸性基が電子写真特性を疎外しな
い程度に無機光導電体とゆるやかに相互作用し、且つ樹
脂〔Ｂ〕間においては長い分子鎖長及びグラフト部鎖長
の分子鎖同志が相互作用をすることで、上記した如く電
子写真特性及び膜の機械的強度をともに著しく向上させ
ることができたと推定される。

また、樹脂〔Ａ′〕を用いると樹脂〔Ａ〕の場合よりも
、より一層電子写真特性（特にｖｌ。、Ｄ、Ｒ，Ｒ。

Ｅ１７１゜）の向上が達成できる。

この事の理由は不明であるが、１つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。

また、本発明では、光導電体表面の平滑性が滑らかとな
る。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑
性の粗い感光体を用いると、光導電体である無機粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れを生してしまう。

本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。

樹脂〔Ａ〕において、重量平均分子量はｌＸｌ０”〜２
×１０４、好ましくは３Ｘ１０３〜１×１０４、式（１
）の繰り返し単位に相当する共重合成分の存在割合は３
０重量％以上、好ましくは５０〜９７重量％、主鎖末端
に結合する酸性基の存在割合は０．５〜１５重量％、好
ましくは１〜１０重量％である。

樹脂〔Ａ′〕における、式（Ｉａ）及び／又は（Ｉ　ｂ
）の繰り返し単位に相当するメタクリレートの共重合成
分の存在割合は、３０重量％以上、好ましくは５０〜９
７重量％、重合体主鎖の末端に結合する酸性基の存在割
合は樹脂〔Ａ’）１００重量部に対して０．５〜１５重
置％、好ましくは１〜１０重量％である。

樹脂［Ａ）のガラス転移点は好ましくは一２０°Ｃ〜１
１０°Ｃ１より好ましくは一１０°Ｃ〜９０°Ｃである
。

一方、樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量３Ｘ１０’〜ｌＸ１
０’、好ましくは５Ｘ１０’〜５Ｘ１０’である。

樹脂ＣＢ）のガラス転移点は、好ましくは０゜〜１１０
″Ｃ１より好ましくは、２０°〜９０°Ｃである。

結着樹脂［Ａ）の分子量が１×ｌＯ３より小さくなると
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が２×１０４より大きくなると本発明の樹脂であって
も近赤外〜赤外光分光増感色素を用いた感光体において
高温・高温、低温・低湿の過酷な条件下での電子写真特
性（暗減衰保持率及び光感度Ｅ１７１゜）の変動が多少
大きくなり、安定した複写画像が得られるという本発明
の効果が薄れてしまう。

結着樹脂〔Ａ〕における酸性基含有量が０．５重量％よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができない。一方線酸性基含有量が１５重量％よりも
多いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、
膜平滑度及び電子写真特性の高温特性が低下し、更にオ
フセットマスターとして用いるときに地汚れが増大する
。

又、結着樹脂〔Ｂ〕の分子量が３Ｘ１０’より小さくな
ると、膜強度が充分に保てず、一方分子量がｌＸｌ０’
より大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、
複写画像の画質（特に、細線・文字の再現性が悪くなる
）が悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に
地汚れが著しくなってしまう。

又結着樹脂ＣＢ）におけるマクロモノマー含有量が１重
量％より少ないと電子写真特性（特に暗減衰率、光感度
）が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特に
近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにおいて、
大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノマーが
微かとなることで結果として従来のホモポリマーあるい
はランダム共重合体と殆んど同じ組成になってしまうこ
とによると考えられる。

一層マクロモノマーの含有量が４０重量％を越えると、
他の共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロ
モノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂とし
て用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしま
う。

次に本発明に供される結着樹脂ＣＡ）及び結着樹脂〔Ｂ
〕の詳細について説明する。

本発明の樹脂〔Ａ〕は、式（１）で示される繰り返し単
位を少なくとも１種重合成分として含有する。

一般式（１）において、ａｌおよびＲ２は、好ましくは
水素原子、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）
、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）　、Ｃｏｏ−
Ｒｚ又は炭化水素を介したＣ００Ｒ２（Ｒ２は、水素原
子又は炭素数１〜１８のアルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、脂環式基またはアリール基を表わし、これ
らは置換されていてもよく、具体的には、下記Ｒ，につ
いて説明したものと同様の内容を表わす）を表わす。

上記炭化水素を介したーＣ００−Ｒｚ基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。

Ｒ１は、炭素数１〜１８の置換されていてもよいアルキ
ル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、２−クロ
ロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基
、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエチル基、２
−エトキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基等）、
炭素数２〜１８の置換されていてもよいアルケニル基（
例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等）
、炭素数７〜１２の置換されていてもよいアラルキル基
（例えばヘンシル基、フェネチル基、ナフチルメチル基
、２−ナフチルエチル基、メトキシヘンシル基、エトキ
シヘンシル基、メチルベンジル基等）、炭素数５〜８の
置換されていてもよいシクロアルキル基（例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等）
、置換されていてもよいアリール基（例えばフェニル基
、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、フロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、ヨードフェニル基、
メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフ
ェニル基、シアノフェニル基、ニトロフェニル基等）等
が挙げられる。

更に、好ましくは一般式（１）の繰り返し単位に相当す
る共重合体成分が、−船底（Ｉａ）及び／又は（Ｉ　ｂ
）で示される特定のアリール基を含有するメタクリレー
ト成分で表わされる（樹脂ＣＡ’））。

一般式（Ｉａ） 一般式（Ｉｂ） Ｈ３ 式（ｌ　ａ）において、好ましいＡ１及びＡ２として、
それぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、
好ましい炭化水素基として、炭素数１〜４のアルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
）、炭素数７〜９のアラルキル基（例えばベンジル基、
フェネチル基、３−フェニルプロピル基、クロロベンジ
ル基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチル
ベンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベ
ンジル基等）及びアリール基（例えばフェニル基、トリ
ル基、キシリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等）、並
びに−ＣＯＤＩ及び−ｃｏｏｏ寞　（好ましいＤｌ及び
Ｄよとしては上記好ましい炭化水素基として記載したも
のを挙げることができる）を挙げることができる。但し
、Ａ１、Ａ２がともに水素原子を表わすことはない。

式（１ａ）において、Ｂ、は−ＣＯＯ−とベンゼン環を
結合する単結合又は 一＋ＣＨ２＋Ｔｒ−（ｎＩは１〜３の整数を表わす）、
ＣＨｚＯＣＯＣ）ＩｚＣＨｚＯＣＯ →ＣＨｚＯ＋］Ｔ（ｎｚは１または２の整数を表わす）
　、−ＣＨｚＣＨｚｏ− 等の如き連結原子数１〜４個の連結基を表わす。

弐（Ｉ　ｂ）におけるＢ２はＢ１と同一の内容を表わす
。

本発明の樹脂〔Ａ′〕で用いられる式（Ｉａ）又は（Ｉ
　ｂ）で示される繰り返し単位に相当する共重合成分の
具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれら
に限定されるものではない。

また、以下の各側において、Ｔ、およびＴ２は各々ＣＩ
、Ｂｒ又はＩを示し、ＲｏはＣＪＺｉ＋１又は示し、ｂ
は０又は１〜３の整数を示し、Ｃは１〜３の整数を示す
。

１） ４） Ｃ）Ｉ。

１３ ７） しａｌ１２１◆１ ９） Ｈ３ １ １３） ＣＨ３ １４） ＣＨ。

ｉ　　−１５） ＣＨ３ −←Ｃ１＋。

Ｃ→− １６） ＣＨ３ また、本発明の樹脂〔Ａ〕における重合体主鎖の片末端
に結合した酸性基において、好ましい酸性基として、　
ＰＯＪｚ基、　５Ｏ３Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、できる。

暑 （Ｒ”は炭化水素基を表わす）を表わし、Ｒ及びＲ゛は
好ましくは炭素数１〜２２の脂肪族基（例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、２
−クロロエチル基、２−メトキシエチル基、３−エトキ
シプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、
シクロヘキシル基、ヘンシル基、フェネチル基、３−フ
ェニルプロピル基、メチルヘンシル基、クロロベンジル
基、フロロヘンシル基、メトキシベンジル基等）、又は
置換されてもよいアリール基（例えば、フェニル基、ト
リル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、クロ
ロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、
クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メ
トキシフェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフ
ェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等
）等を表わす。

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも１つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−１，２−ジカルボン酸無水物環、２．３−ビシク
ロ（２，２，２）オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基（アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
）等が置換されていてもよい。

ＯＨ基としては、ビニル基またはアリル基含有のアルコ
ール類（例えばアリルアルコール、メタクリン酸エステ
ル、アクリルアミド等のエステル置換基、Ｎ−置換基中
に、−ＯＨ基を含有する化合物等）、ヒドロキシフェノ
ール又はヒドロキシフェニル基を置換基として含有する
メタクリル酸エステルもしくはアミド類を挙げることが
できる。

これらの酸性基は、重合体主鎖の末端に直接結合しても
よいし、連結基を介して結合してもよい。

連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、ｄ。

２ （ｄｔ、ｄ、は同じでも異なってもよく、各々水素原子
、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、０）１基、
−シアノ基、アルキル基（メチル基、エチル基、２−ク
ロロエチル基、２−ヒドロキシエチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基等）、アラルキル基（ベンジル基
、フェネチル基等）、フェニル基等を表わす）、 す（炭化水素基として具体的には炭素数１〜１２の炭化
水素基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基
、２−メトキシエチル基、２クロロエチル基、２−シア
ノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、クロロベ
ンジル基、メトキシベンジル基、フェネチル基、フェニ
ル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ブチルフェニル基等）が挙げられる））、Ｓｏｗ　
　　　ＮＨＣＯＮＨＮＨＣＯＯＮＨ３０ｚ＝−ＣＯＮＨ
ＣＯＯ−−ＣＯＮＩＣＯＮＨ−１複素環（ペテロ原子と
して、０、Ｓ、Ｎ等を少なくとも１種含有する５〜６員
環又はこれらの縮合環であればいずれでもよい：例えば
、チオフェン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾール
環、ピペリジン環、モル４ ｄり 同じでも異なってもよく、炭化水素基又は〜Ｏｄ＋＋（
ｄ・は炭化水素基）を表わす、これらの炭化水素基とし
ては、ｄ、で挙げたものと同一のものを挙げることがで
きる）等の結合基の単独又は、これらの組合せにより構
成された連結基等が挙げられる。

更に、結着樹脂〔Ａ〕では、上記一般式（Ｉ）で示され
る共重合成分（−船底（Ｉａ）又は（Ｉ　ｂ）で示され
るものも含む）および酸性基を含有する共重合成分に加
えて、更に、熱及び／又は光硬化性官能基を含有する共
重合成分を１〜２０重量％含有することが、より大きな
機械的強度を得る上で好ましい。

「熱及び／又は光硬化性官能基」とは、熱及び光のうち
の少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官
能基をいう。

光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」　（講談社、１９７７年刊）角田隆
弘、「新感光性樹脂」　（印刷学会出版部、１９８１’
年刊）　　％　Ｇ、Ｅ、Ｇｒｅｅｎ　ａｎｄ　Ｂ、Ｐ、
５ｔｒａｋ、Ｊ、Ｍａｃｒｏ。

Ｓｃｉ、Ｒｅａｓ、Ｍａｃｒｏ　Ｃｈｅｍ、、Ｃ２１（
２）、１８７〜２７３（１９８１〜８２）　、Ｃ，Ｇ、
Ｒａｔｔｅｙ＋　　’Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｉｒｉｚａ
ｔｉｏｎ　ｏｆＳｕｒｆａｃｅ　ＣｏｏｔｉｎｇｓＪ（
Ａ、Ｗｉｌｅｙ　ＩｎｔｅｒＳｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂ。

１９８２年刊）、等の総説に引例された光硬化性樹脂と
して従来公知の感光性樹脂等に用いられる官能基が用い
られる。

また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子ノ精密化Ｊ　（Ｃ，Ｍ、Ｃ■、１９８６年刊）、
原崎勇次　「最新バインダー技術便覧」第１１−１章（
総合技術センター、１９８５年刊）、大津隆行「アクリ
ル樹脂の合成・設計と新用途開発」（中部経営開発セン
ター出版部、１９８５年刊）、大森英三「機能性アクリ
ル系樹脂」　（テクノシステム、　１９８５年刊）等の
総説に引例の官能基を用いることができる。

例えば−ＯＨ基、−５Ｈ基、−ＮＨ，基、　ＮＨＲ３基
ｒｐｚは炭化水素基を表わし、例えば炭素数１〜１゜の
置換されてもよいアルキル基（例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、２−クロロエチル基、２メトキシエチル基、
２−シアノエチル基等）、炭素数４〜８の置換されても
よいシクロアルキル基（例えばシクロへブチル基、シク
ロヘキシル基等）、炭素数７〜１２の１換されてもよい
アラルキル基（例えばヘンシル基、フェネチル基、３−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基等）、置換されてもよいアリ
ール基（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル
基、ナフチル基等）等が挙げられる］、 Ｃ０ＮＨＣＨｚＯＲ４［Ｒａは水素原子又は炭素数１〜
８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等）（ｅ＋＋
　Ｃ２は、各々水素原子、ハロゲン原子（例えば塩素原
子、臭素原子等）又は炭素数１〜４のアルキル基（例え
ばメチル基、エチル基等）を表わす）等を挙げることが
できる。又該重合性二重結合基として、 具体的には、Ｃ１１，・ＣＨ １ＣＨｚ＝ＣＪＩ−ＣＨｔ ＣＨ！＝ＣＨ−ＮＨＣＯ−１ＣＴｏ＝ＣＩ−ＣＴｏ−１
ＮＨＣＯ−ＣＨ，・Ｃｌ−３Ｏ□−１ＣＨｆｆｉ＝ＣＨ
−ＣＯ−１ＣＨ２：ＣＨ−ＯＣＨ，・ＣＨ−５−等を挙
げることができる。

本発明において、結着樹脂に該硬化性官能基の群から選
択される官能基を少なくとも１種含有させる方法として
、重合体に高分子反応で導入する方法、又は該官能基を
１種又はそれ以上含有する１種又はそれ以上の単量体と
前記した一般式（１）（一般式（Ｉａ）又は（Ｉ　ｂ）
も含む）の繰り返し単位に相当する単量体及び「酸性基
含有の共重合体成分」に相当する単量体と共重合反応す
る方法等により得られる。

高分子反応は、従来公知の低分子合成反応の方法をその
まま用いることができ、例えば、日本化学会編、「新実
験化学講座１４巻、有機化合物の合成と反応ＣＩ）〜〔
Ｖ］」、（丸善株式会社刊）、岩倉義勇、栗田恵輔著「
反応性高分子」等の総説引例の公知文献等に詳細に記載
されている。

一方、該［光及び／又は熱硬化反応を行なう官能基Ｊを
含有する単量体の例としては、例えば一般式（Ｉ）の繰
り返し単位に相当する単量体と共重合し得る、該官能基
を含有するビニル系化合物を挙げることができる。具体
的には、前記した「酸性基含有の化合物」と同様の化合
物の置換基中に該官能基を含有するもの等が挙げられる
。

「熱／光硬化性官能基」含有の繰返し単位について例示
する。ここで、Ｒ＋＋　ｓ　ａは前記と同様の内容を示
し、Ｐ、およびＲ２は各々Ｈ又はＣＨ，を示し、ＲＩ２
は−Ｃ）ｌ＝ｃＨ，又は−Ｃ）ＩｚＣＨ＝ＣＨｚを示し
、Ｒ１１はＣＨｔ ＣＢ＝ＣＨｚ　、Ｃ＝ＣＨｚ又は−ＣＨ＝ＣＨＣ）Ｉ３
を示し、示し、Ｔ、はＯＨ又はＮＨｚ を示し、 ｄは２〜１１の整数 を示し、 ｅは１〜１１の整数を示し、 ｆは１〜１１の 整数を示し、 ｇは１〜ｌＯの整数を示す。

１ １） １ 一←ＣＨ２ Ｃ→−− Ｃ００ＣＨ＝Ｃ）Ｉｔ ｉｉ　−２） Ｐ。

＋　ｃ　Ｈｚ　−ｃ← Ｃ００ＣＨＩＣＨ＝ＣＨ２ ！１ ３） １ −（−ＣＯ。

Ｃ→− Ｃ００（ＣＨｚ）、−Ｃｏｏ−Ｒ＋ｚ ｉｉ　−４） Ｐ。

一＋−ＣＵ、−Ｃ← Ｃｏｏ（ＣＨｔ）−０ＣＯ（ＣＨｚ）ｖ−Ｃｏｏ−Ｒ＋
ｔｉｉ　−６） １ ２ ＣＯＮＨ（ＣＨｚ）−０ＣＯ−Ｒ ｉｉ　−１０） ｚ ＋ＣＨ−Ｃ→−− ＣＯＮＨ（ＣＨＩ）、Ｃ００ＣＨＩＣＨＣＨ２００Ｃ−
Ｒ１３Ｈ τ ｉｉ　−１２） １ ２ ＣＯＮＨＣＨｚＯＲ＋＋ ｉｉ　−２０） ＣＯＯ（ＣＨｚ）ａ Ｔ。

更に、本発明の樹脂〔Ａ〕は、前記した一般式（１）（
−船底（Ｉａ）および（Ｉｂ）も含む）の共重合体成分
に相当する単量体とともに、これら以外の他の単量体を
共重合成分として含有してもよい。

例えば、一般式（Ｉ）で説明した以外の置換基を含有す
るメタクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、ク
ロトン酸エステル類に加え、α−オレフィン類、アルカ
ン酸ビニル又はアリルエステル類（例えばアルカン酸と
して、酢酸プロピオン酸、酪酸、吉草酸等）、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、イ
タコン酸エステル類（例えばジメチルエステル、ジエチ
ルエステル等）、アクリルアミド類、メタクリル７ミＶ
類、スチレン類（例えばスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレン、ヒドロキシスチレン、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、
メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン等
）、複素環ビニル類（例えばビニルピロリドン、ビニル
ピリジン、ビニルイミダシリン、ビニルチオフェン、ビ
ニルイミダシリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサ
ン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオキ
サジン等）等が挙げられる。

これら他の単量体は樹脂〔Ａ〕中３０重量％を趙えない
ことが好ましい。

樹脂〔Ａ〕において、重合体主鎖の片末端に該酸性基を
結合する方法としては、従来公知のアニオン重合あるい
はカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させる方法（イオン重合法による
方法）、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤及
び／又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法（
ラジカル重合法による方法）、あるいは以上の如きイオ
ン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた末端
に反応性基（例えばアミノ基、ハロゲン原子、エポキシ
基、酸ハライド基等）含有の重合体を高分子反応によっ
て本発明の特定の酸性基に変換する方法等の合成法によ
って容易に製造することができる。

具体的には、Ｐ、　Ｄｒｅｙｆｕｓｓ　、　Ｒ，Ｐ、　
　Ｑｕｉｒｋ。

Ｅｎｃｙｃｌ　、　　Ｐｏ１ｙ＊、　　Ｓｃｉ、　　Ｅ
ｎｇ、　ｌ、５５１（１９８７）、中條善樹、山下雄也
「染料と薬品」、■、２３２　（１９ＢＳＬ上田明、永
井進「科学と工業ＪＪＬＪＬ、５７　（１９８６）等の
総説及びそれに引用の文献等に記載の方法によって製造
することができる。

具体的には、用いる連鎖移動剤としては、例えば、該酸
性基あるいは、上記反応性基（即ち該酸性基に誘導しう
る基）を含有するメルカプト化合物（例えばチオグリコ
ール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２−メルカプ
トプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メ
ルカプト酪酸、Ｎ−（２−メルカプトプロピオニル）グ
リシン、２−メルカプトニコチン酸、３−（Ｎ（２−メ
ルカプトエチル）カルバモイル）プロピオン酸、３−　
（Ｎ−（２−メルカプトエチル）アミノコプロピオン酸
、Ｎ−（３−メルカプトプロピオニル）アラニン、２−
メルカプトエタンスルホン酸、３−メルカプトプロパン
スルホン酸、４−メルカプドブタンスルホン酸、２−メ
ルカプトエタノール、３−メルカプト−１，２−プロパ
ンジオール、１−メルカプト−２−プロパツール、３−
メルカプト−２−ブタノール、メルカプトフェノール２
−メルカプトエチルアミン、２−メルカプトイミダゾー
ル、２−メルカプト−３ビリジノール、４−（２−メル
カプトエチルオキシカルボニル）フタル酸無水物、２−
メルカプトエチルホスホノ酸、２〜メルカプトエチルホ
スホノ酸モノメチルエステル等）、あるいは上記極性基
又は置換基を含有するヨード化アルキル化合物（例えば
ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２−ヨードエタノー
ル、２−ヨードエタンスルホン酸、３−ヨードプロパン
スルホン酸等）が挙げられる。好ましくはメルカプト化
合物が挙げられる。

該酸性基あるいは、特定の反応性基を含有する重合開始
剤としては、具体的には、４，４°−アゾビス（４−シ
アノ吉草酸）　、４．４°−アゾビス（４−シアノ吉草
酸クロライド）　、２．２°−アゾビス（２シアツブロ
バノール）　、２．２’−アゾビス（２−シアノペンタ
ノール）、２．２°−アゾビス〔２−メチル−Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）−プロピオアミド）　、２．２’
−アゾビス（２−メチル−Ｎ−〔１，１−ビス（ヒドロ
キシメチル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオアミド
）　、２．２’−アゾビス（２−（１−（２−ヒドロキ
シエチル）−２−イミダシリン−２−イル〕プロパン）
　、２．２’−アゾビス（２−（２イミダシリン−２−
イル）プロパン）２，２°−アゾビス（２−（４，５，
６，７−テトラヒドロ−１１１−１，３−ジアゾビン−
２−イル）プロパン〕等が挙げられる。

これらの連鎖移動側あるいは重合開始剤は、各々全単量
体１００重量部に対して、０．５〜１５重量部であり、
好ましくは２〜１０重量部である。

次に樹脂〔Ｂ〕の好ましい゛態様について以下説明する
。

本発明の樹脂〔Ｂ〕に供される一官能性マクロモノマー
（Ｍ）について更に具体的に説明する。

マクロモノマー（Ｍ）のＡブロックを構成する成分中に
含有される酸性基としては、　ＰＯＪｔ基、−Ｃ０ＯＨ
基、 一３Ｏ３０基、 フェノール性ＯＨ基、 占 炭化水素基を示す）を示す）又は環状酸無水物含有基が
挙げられ、好ましくは、−ｃｏｏｎ基、−３０３１１具
体的には、樹脂〔Ａ〕において説明したと同様の内容を
表わす、また、−０１１基はフェノール性ＯＨ基のもの
である。

以上の如き、「特定の酸性基を含有する重合体成分」は
、例えば、本発明のマクロモノマー（Ｍ）の他のブロッ
ク成分を構成する重合体成分即ち、一般式（Ｉ）で示さ
れるメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物と
共重合する該酸性基を含有するビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。

例えば、高分子学会！「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館（１９８６刊）等に記載されている。

具体的には、アクリル酸、α及び／又はβ置換アクリル
酸（例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−（２−アミノ）メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等）、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、２−アルケニルカルボン酸ＩＩ
（例えば２−ペンテン酸、２〜メチル−２−ヘキセン酸
、２−オクテン酸、４−メチル−２−ヘキセン酸、４−
エチル−２−オクテン酸等）、マレイン酸、マレイン酸
半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼン
カルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又は
アリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各偶において、Ｑｌは−Ｈ，−
ＣＨ３、−ＣＩ、　−Ｂｒ　、−ＣＮ−１−ＣＩＩｔＣ
ＯＯＣｌｌｓ又は−Ｃ１１，Ｃ０ＯＨを示し、ｑｔは−
）又は−ＣＨ，を示し、ｎは２〜１８の整数を示し、ｍ
は１〜１２の整数を示し、ｌは１〜４の整数を示す。

（ａ １） Ｑ。

ＣＨｚ＝Ｃ ０ＯＨ （ａ−２） ＣＨ３ Ｃ８＝　ＣＨ ０ＯＨ （ａ−３） 口。

（ａ−４） ２ ＣＨ２ Ｃｏｏ（ＣＨｔ）ｎｃＯＯＨ （ａ−５） 口２ ＩＩ Ｃ０ＮＨ（ＣＨｚ）ｎｃＯＯＨ （ａ−６） ２ ＣＨ２ Ｃｏｏ（ＣＨｚ）ｎｏｃｏ（ＣＨｔ）ｍｃＯＯＨ（ａ−
７） 口２ ＨＩ Ｃ００（ＣＨｔ）ｎｃＯｏ（ＣＨｚ）ｓ＋ｃＯＯＨ（ａ
−８） Ｘ ＣＨ２ Ｃ０ＮＨ（ＣＨｚ）ｎｏｃｏ（Ｃｕｔ）ＩＩＣＯＯＨ（
ａ−９） Ｑ。

ＣＨ２ Ｃ０ＮＨＣＯＯ（ＣＨｚ）ｎｃＯＯＨ （ａ １０） ｚ ＣＨ。

Ｃ０ＮＨＣＯＮＨ（ＣＨｚ）ｎｃＯＯｔ（（ａ−１１） ７ ＣＨｔ ＣＨｚＣＯＯＩＩ （（ａ−１３） ｔ （ａ １４） ｔ ＣＨｔ＝Ｃ Ｃｏｏ（ＣＨｚ）＋ｓＮＨＣＯ（ＣＨｚ）ｍｃＯＯＨ（
ｍは同じでも異なってもよい） （ａ−１５） ｃｎｚ＝ｃｉ ＣＨｚＯＣＯ（ＣＨｇ）ｍｃＯＯＨ （ａ−１６） ＣＨ２ ＣＨ−（−ＣＨＩ　−）ｒｃＯＯＨ （ａ １７） ２ （ａ−１８） ｔ ｃｎｚ＝ｃ Ｃｏｏ（ＣＨｚ）ｎＯｃｏ）Ｉ＝ＣＨ ０ＯＨ （ａ４９） ２ （ａ−２０） ｚ （ａ−２１） Ｑ！ （ａ−２３） Ｑ。

（ａ−２４） Ｑ！ Ｈ （ａ−２５） Ｘ Ｈ （ａ−２６） Ｈ （ａ−２７） （ａ−２８） （ａ−２９） （ａ−３０） ｔ ＣＩｂ＝Ｃ Ｃｏｏ（ＣＨｚ）ｍｓＯＪ （ａ−３１） Ｑ。

（ａ−３２） （ａ−３６） Ｉ ＣＨｚ Ｃ０Ｎ（ＣＨｚＣｌｈＣＯＯ）１）ｚ （ａ−３７） ２ Ｈ２ Ｃ００（ＣＨｚ）ｌＣＯＮ（ＣＨｚＣＨｚＣＯＯＨ）ｚ
（ａ−３８） （ａ−３９） （ａ ４０） しＵＵＨ （ａ ４１） （ａ ４２） （ａ ４３） （ａ ４４） （ａ ４５） υＨ 上記の如き特定の酸性基を含有する重合成分はＡブロッ
ク中に２種以上含有されていてもよく、その場合におけ
る該２種以上の酸性基含有成分はＡブロック中において
ランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含
有されていてもよい。

また、該酸性基を含有しない成分がＡブロック中に含ま
れていてもよく、該成分の例としては後述の一般式（Ｉ
Ｉ）で示される成分等があげられる。

かかる酸性基非含有成分の含有量はＡブロック中好まし
くは０〜５０重量％、より好ましくは０〜２０重量％で
あり、最も好ましくは、かかる酸性基非含有成分はＡブ
ロック中に含まれない。

次にグラフト型共重合体の一官能性マクロモノマー（Ｍ
）において、他のＢブロック成分を構成する重合成分に
ついて詳しく説明する。

本発明では、Ｂ−ブロックを構成する成分として、少な
くとも前記−船底（Ｕ）で表わされる繰り返し単位が含
まれる。

一般式（ＩＩ）　ニおいてＸ、は−ＣＯＯ−１−ＯＣＯ
−÷ＣＨｚテ０ＣＯ−１千ＣＨｔテＣＯＯ（ｊ！＋　、
　ｊ！ｔは１〜３の整数を表わす）、 ０〜 ＳＯ□− ここで、Ｒ１３は水素原子のほか、好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜１８の置換されてもよいアルキル
基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−ク
ロロエチル基、２ブロモエチル基、２−シアノエチル基
、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチ
ル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の置
換されてもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１
−プロペニル基、２−ブテニル基、２ペンテニル基、３
−メチル−２−ペンテニル基、１−ペンテニル基、１−
へキセニル基、２−へキセニル基、４−メチル−２−へ
キセニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいア
ラルキル基（例えば、ヘンシル基、フェネチル基、３−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチル
エチル基、クロロヘンシル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基
、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭
素数５〜Ｂの置換されてもよい脂環式基（例えば、シク
ロヘキシル基、２シクロヘキシルエチル基、２−シクロ
ペンチルエチル基等）、又は、炭素数６〜１２の置換さ
れてもよい芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基
、トリル基、キシリル基、プロビルフェニル基、ブチル
フェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基
、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシ
フェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフ
ェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカ
ルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピ
オアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフヱニル基等
）があげられる。

Ｒ□は炭化水素基を表わし、好ましくは上記１ｈｓで好
ましいとして記載した炭化水素基と同様のものである。

素基のほか水素原子を表わす、更に該ベンゼン環は置換
基を有していてもよい、置換基としては、ハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメ
チル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基（例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等）等が挙げられる。

ｂｌ及びｂｌは、互いに同しでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子（例えば、塩素原子
、臭素原子等）、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等）　、−ＣＯＯ１ｈ４又は炭化水素を介したＣ００Ｒ
ｔａ　（Ｒｔａは、水素原子又は炭素数１〜１８のアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記Ｒ２３について説明したものと同様の
内容を表わす）を表わす。

上記炭化水素を介した一Ｃｏｏ−Ｒ１４基における炭化
水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基
等が挙げられる。

更に好ましくは、−船底（ｎ）において、ＸＩはＣｏｏ
　　　　ＯＣＯＣＨＺＯＣＯＣ）Ｉ　ＺＣＯＯＯ−−Ｃ
ＯＮＩＩ−−ＳＯ□ＮＨ−又はってもよく、水素原子、
メチル基、　Ｃ００Ｒｚａ又はＣＨｚＣＯＯＲｔａ　　
（Ｒｔａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基（
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基等）を表わす）を表わす、更により好ましくは
、ｂ＋、　ｂｚにおいていずれか一方が水素原子を表わ
す。

前記の特定の酸性基を含有する重合成分から成るＡブロ
ックとは別に構成されるＢブロックにおいて、前記式（
ＩＩ）で示される繰り返し単位は２種以上含有されてい
てもよく、更にこれら以外の他の重合成分を含有してい
てもよい。酸性基を含有しないＢブロックにおいて２種
以上の重合成分が含有される場合には、該共重合成分は
該Ｂブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれの態様で含有されていてもよいが、ランダ
ムに含有されることが好ましい。

前記した式（ＩＩ）で示される繰り返し単位から選ばれ
た重合成分とともにＢブロック中に含有され得る他の重
合成分は、これらと共重合する成分であればいずれでも
よい。

該Ｂブロック中に含有される重合体成分として式（ＩＩ
）に示される重合体成分とともに共重合しうる他の繰り
返し単位に相当する単量体として、例えばアクリロニト
リル、メタクリロニトリル、複素環ビニル類（例えばビ
ニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン
、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキ
サン、ビニルオキサジン等）等が挙げられる。これら他
の単量体はＢブロックの全重合体成分１００重量部中２
０重量部を越えない範囲で用いられる。又、該Ｂブロッ
ク中には、該Ａブロックの構成成分である酸性基を含有
する重合体成分を含有しない事が好ましい。

次に本発明のマクロモノマー（Ｍ）において上記した酸
性基を含有する成分から成るＡブロックと一般式（ｎ）
で示される重合体成分から成るＢブロックをＡ−Ｂ型で
連結し且っＡブロックと連結するＢブロックの他の末端
に連結される重合性二重結合基について説明する。

具体的には下記一般式（［Ｖ）で示される重合性二重結
合基が挙げられる。

一般式（ＩＶ） 式（ＩＶ）中、Ｘ、は式（ＩＩ）中のＬと同一の内容を
表わすｅ　ｂｓｒ　ｂ＆はお互いに異なってもよく、式
％式％ ｂ！と同一の内容を表わす。

即ち、 一般（ＴＶ）で示される重合性二重結合基と−０− ＣＦＩ。

ＣＩ（（ＣＴｏ）ｔ　　Ｃｏ。

Ｃ１，＝ＣＨ−Ｃ０ 本発明において供されるマクロモノマー（Ｍ）は上述き
如きＢブロックの片末端に、一般式（ＩＶ）で示される
重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任意
の連結基で結合された化学構造を有するものである。連
結する基としては、炭素−炭素結合（−重結合あるいは
二重結合）、炭素へテロ原子結合（ヘテロ原子としては
例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等）、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。即ち、具体的には、Ｒ１
＆ ぞれ水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子等）、シアノ基、ヒドロキシル基、ア
ルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基等）
等を示す〕、 Ｒ言７ Ｒｔｍ 前記式（ｎ）におけるＲ１＋と同様の内容を表わす炭化
水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基
もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。

マクロモノマー（Ｍ）の重量平均分子量が２×１０４を
趨えると、他の単量体との共重合性が低下するため好ま
しくない。他方、重量平均分子量が小さすぎると、感光
層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、ｌＸｌ
０”以上であることが好ましい。

本発明のマクロモノマー（Ｍ）は、従来公知の合成方法
よって製造することができる０例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物（
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等）あるいはヨウ化
水素／ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でＡ
−Ｂブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その１つの例を下記の反応ス
キーム（１）に示した。

例えば、Ｐ、Ｌｕｔｚ、　Ｐ、Ｍａｓｓｏｎ　ｅｔａｌ
、　Ｐｏｌｙｍ、Ｂｕｌｌ、。

１２＋　　７９（１９８４）　　Ｂ、Ｃ，Ａｎｄｅｒｓ
ｏｎｔ　　Ｇ、Ｄ、Ａｎｄｒｅｗｓ　ｅｔａｌ＋Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、　１４．　１６０１（１９８
１）　　Ｋ、１Ｉａｔａｄａ、　　Ｋ。

Ｕｔｅ、ｅｔａｌ、　　Ｐｏ１ｙｓ、Ｊ４１．　９７？
（１９８５）、１旦、１０３７（１９８６）。

右手浩−１畑田耕−１高分子加工、皿、　３６６（１９
８７）東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４６．１８
９（１９８９）　　　Ｍ、Ｋｕｒｏｋｉ、　　Ｔ、Ａｉ
ｄａ、　　Ｔ、＾ｍ、ｃｈｅ−，ｓｏｃ、　−１ｑ旦。

４７３７　（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、Ｑ、　３００（１９８５）　　Ｄ、Ｙ、Ｓｏｇ
ａｈ、　Ｗ、Ｒ，Ｈｅｒｔｌｅｒ　ｅｔａｌ。

Ｍａｃｒｏｓｏｌｅｃｕｌｅｓ、　２０．１４７３（１
９８７）等に記載の合成方法に従って容易にリビングポ
リマーを合成することができる。又、該リビングポリマ
ーの末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、
従来公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本
発明のマクロモノマーとすることができる。

具体的には、Ｐ、Ｄｒｅｙｆｕｓｓ　＆　Ｒ，Ｐ、Ｑｕ
ｉｒｋ、　Ｅｎｃｙｃｌ。

Ｐｏｌｙｍ、Ｓｃｉ、Ｅｎｇ、、　７．５５Ｈ１９８７
）、　Ｐ、Ｆ、Ｒｅｍｐｐ。

Ｅ、ＦｒａｎＬａ＋　Ａｄｕ、、　Ｐｏ１ｙ＋ｍ、Ｓｃ
ｉ、Ｊ５＋　１（１９８４）、Ｖ、Ｐｅｒｃｅｃ、Ａｐ
ｐｌ、＋　　Ｐｏ１ｙ曽、Ｓｃｉ、＋２４１５１９５（
１９８４）＋　　Ｒ，＾ｓａｍｉ。

Ｍ、ＴａｋａＲｉ、　Ｍａｋｖａｓｏｌ、Ｃｈｅｍ、５
ｕｐｐＩＪｌ、　１６３（１９８５）＋Ｐ、Ｒｅｍｐｐ
、ｅｔａｌ、　　Ｍａｋｖａｓ＋ｏ１．Ｃｈｅ＋ｗ、５
ｕｐｐ１．Ｉｊ、　３（１９８４）用上雄資、化学工業
、井、　５６（１９８７）、山下雄也、高分子、■、　
９８８（１９８２）　、小林四部、高分子、別。

６２５（１９８１）　、東村敏延、日本接着協会誌　ｌ
ｆｉ、５３６（１９８２）、伊藤浩−１高分子加工、井
、２６２（１９８６）、東貴四部、津田隆、機能材料、
１ｉｌｌｆｌｌ　　Ｎｏ、１０．５等の総説及びそれに
引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成すること
ができる。

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱離（脱保護反応）については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉貴男、
栗田恵輔、［反応性高分子」■講談社刊（１９７７年）
　　Ｔ、Ｗ、ＧｒｅｅｎｅｒＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇ
ｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ」、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｕｓ（１９８１
年）　、Ｊ、ＦＪ、ＭｃＯｍ＋ｅ＋ｒＰｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ　Ｐｒｅｓｓ、（１９７３年
）等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択して
行なうことができる。

他のＡ−Ｂ型ブロック共重合体の合成法としては、ジシ
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる。例えば、大津隆
行、高分子、釘、　２４８（１９８Ｂ）、檜森俊−１大
津隆−１Ｐｏｌｙｍ、Ｒｅｐ、Ｊａｐ、３７．３５０８
（１９８８）、特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２
６６１９号等に記載の合成方法に従って合成される。こ
れを上記したマクロ七ツマー合成法を利用して本発明の
マクロモノマー（Ｍ）を得ることができる。

本発明のマクロモノマー（Ｍ）は、具体的には、下記の
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。

以下の各側において、口３、Ｑ４及びＱ、は各々−Ｈｌ
ＣＨ，又は−ＣＨ，ＣＯＯＣＨ３を示し、口、は−Ｈ又
は−ＣＨｊを示し、ｌｈｌは−ＣｎＬａ−＋Ｉ　（ｎは
１〜１８の整数を示す）　、−（ＣＨｚ）ｔＣＪｓ　（
ｔは１〜３の整数を示す）、（ｐはＯ又は１〜３の整数
を示す） を示し、Ｒ３！ は （、Ｈｌｑ−＋（Ｑは１〜８の整数を示す）又は−（Ｃ
Ｈ＊すＬ　　ｃ、ｏ。

を示し、Ｙ、は ＯＨ。

Ｃ００■、 を示し、 ｒ＝２〜１２の整数を示し、 Ｓは２〜６の 整数を示す。

（ト１） 口。

（Ｍ−２） ０゜ （ト３） Ｑ− （Ｍ−６） Ω。

（Ｍ−７） （Ｍ−８） Ｑ。

（Ｍ−９） Ω１ （Ｍ １０） ３ （Ｍ １１） ０番 （Ｍ−１２） Ｈ３ （Ｍ４４） ６ （Ｍ １５） （Ｍ−１６） 前記したマクロモノマー（Ｍ）と共重合する単量体は一
般式（ＩＩＩ）で示されるものが好ましい。

式（Ｉ［ｌ）において、ｂ３、ｂ４、Ｘ２及びＲ２□は
式（Ｉｔ）中のｂｌ、ｂ２、Ｘ、及びＲｚ＋　とそれぞ
れ同一の内容を表わす。特に好ましくはす、は水素原子
を表わし、ｂ４はメチルを表わし、×２は一〇〇〇−を
表わす。

本発明の樹脂ＣＢ）において、Ａブロック／Ｂブロック
比は１〜３０／９９〜７０（重量比）であることが好ま
しく、また樹脂ＣＢ）中における酸性基含有成分の存在
量は、０．１〜２０重量％、特に０．５〜１０重量％で
あることが好ましい。またミマクロマ−（Ｍ）を繰り返
し単位とする共重合成分と、−船底（Ｉｌｌ）で示され
る単量体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、
好ましくは１〜４０／９９〜６０（重量組成比）、より
好ましくは５〜５０／９５〜５０（重量組成比）である
。

又、重合体主鎖中には、　ＰＯＪｉ基、−５０，）Ｉ基
、Ｃ０ＯＨ基、−ＯＨ基、−ＳＨ基及び−ＰＯ３ＲＨ基
の極性基を含有する共重合成分を含有しないものが好ま
しい。

本発明の結着樹脂ＣＢ）は、相当する一官能性重合性化
合物を所望の割合で共重合させることによって製造する
ことができる０重合方法としては溶液重合、懸濁重合、
沈殿重合、乳化重合等の公知の方法を用いることにより
製造することができる。例えば溶液重合ではベンゼン、
トルエン等の溶媒中、単量体を所定の割合で添加し、ア
ゾビス系化合物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤に
よって重合せしめ共重合体溶液を得ることができる。こ
れを乾燥または負溶剤に添加することにより所望の共重
合体を得ることができる。また、懸濁重合ではポリビニ
ル、アルコール、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存
在下、単量体を懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下
で共重合せしめ共重合体を得ることができる。

本発明の光導電層の結着樹脂として、本発明の結着樹脂
とともに、従来、電子写真用結着樹脂として用いられて
いるものを組合せて使用することもできる０例えば、宮
原晴視、武井秀彦、［イメージングＪ　１９７Ｂ　　Ｎ
ｏ、８．９〜１２、栗田隆治、石渡次部、「高分子、　
　１７．２７８〜２８４　（１９６Ｂ）等の総説引用の
材料が挙げられる。

具体的にば、オレフィン重合体及び共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、ブタジェン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリルアミド
共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリル
酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステル
重合体及び共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、イ
タコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイン
酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミ
ド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタアクリル酸エステ
ル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、
窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体（複素
環として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チ
オフェン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクトン
環、ヘンシフラン環、ベンゾチオフェン環、１．３−ジ
オキセタン環等）、エポキシ樹脂等が挙げられる。

しかし、これらの樹脂は、全結着樹脂量の３０重量％を
越えない範囲で用いる事が好ましい。

樹脂〔Ａ〕及び（Ｂ３の使用する割合は特に制限はない
が、樹脂〔Ａ〕／　ＣＢ）比５〜５０／９５〜５０、特
に１０〜４０／９０〜６０（重量比）であることが好ま
しい。

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電体１００重量部に対して、結着樹脂を１０〜１００重
量部なる割合、好ましくは１５〜５０重量部なる割合で
使用する。

本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる０例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング１９７２　（ＮｌｌＢ　）　第１２頁、
Ｃ，Ｊ、Ｙｏｕｎｇ等、　ＲＣＡ　Ｒｅｖｉｅｗｌ、１
．４６９　（１９５４）。

清田航平等、電気通信学会論文誌り競虹（Ｎ　ｏ　、　
２　）　。

９７　（１９８０）　、原崎勇次等、工業化学雑誌朋　
７８及び１８Ｂ　　（１９６３）　、谷忠昭１日本写真
学会誌剥。

２０Ｂ　　（１９７２）等の総説引例のカーボニウム系
色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素
、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色
素（例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素等）、フ
タロシアニン色素（金属含有してもよい）等が挙げられ
る。

更に具体的には、カーポニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭５１４５２号、特開昭５
０−９０３３４号、特開昭５０−１１４２２７号、特開
昭５３−３９１３０号、特開昭５３−８２３５３号、米
国特許第３，０５２，５４０号、米国特許第４，０５４
，４５０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のもの
が挙げられる。

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、Ｆ、Ｍ
、Ｈａｒｍｓａｒ　　ｒＴｈｅ　Ｃｙａｎｉｎｅ　Ｄｙ
ｅｓ　ａｎｄＲｅｌａｔｅｄ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　Ｊ
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第３，０４７，３８４号、米国特許第３，１１
０，５９１号、米国特許第３．１２１゜００８号、米国
特許第３．１２５．４４７号、米国特許第３、１２８．
１７９号、米国特許第３．１３２．９４２号、米国特許
第３，６２２．３１７号、英国特許第１，２２６，８９
２号、英国特許第１，３０９，２７４号、英国特許第１
，４０５，８９８号、特公昭４Ｂ−７８１４号、特公昭
５５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。

更に、７００ｎ−以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭４７８４０号
、特開昭４７−４４１８０号、特公昭５１−４１０６１
号、特開昭４９−５０３４号、特開昭４９−４５１２２
号、特開昭５７４６２４５号、特開昭５６−３５１４１
号、特開昭５７−１５７２５４号、特開昭６１−２６０
４４号、特開昭６１−２７５５１号、米国特許第３．６
１９．１５４号、米国特許第４，１７５，９５６号、ｒ
Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　Ｊ　１９８
２年、２１６、第１１７〜１１Ｂ頁等に記載のものが挙
げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させ
ても、その性能が増感色素により変動しにくい点におい
て優れている。更には、必要に応じて、化学増感剤等の
従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用す
ることもできる。例えば、前記した総説：イメージング
皿（Ｎ（１８）第１２真等の総説引例の電子受容性化合
物（例えば、ハロゲン、ヘンゾキノン、クロラニル、酸
無水物、有機カルボン酸等）小門宏等、「最近の光導電
材料と感光体の開発・実用化」第４章〜第６章：日本科
学情報（株）出版部（１９８６年）の総説引例のポリア
リールアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、
ｐ−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。

これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体１００重量部に対して０．０００１〜２．
０重量部である。

光導電層の厚さは１〜１００μ、特には１０〜５０μが
好適である。

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は０．０１〜１μ、特には０．０５〜０．５μが好適で
ある。

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。

この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。

後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０μ、特には、１
０〜５０μに設定される。

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ビラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。

電荷輸送層の厚さとしては５〜４０μ、特には１０〜３
０μが好適である。

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真窓光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面（感光層を設ける面と反対面
）に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも１層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも１層以上のプレコート層が設
けられたもの、ＡＩ等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。

具体的に、導電体基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、　１４．（Ｎα１）、ｐ２〜１１
　（１９７５）　、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高
分子刊行会（１９７５）　、　Ｍ、Ｆ、Ｈｏｏｖｅｒ、
　　Ｊ、　Ｍａｃｒ。

ｍｏｌ、　Ｓｃｉ、　Ｃｈｅｍ、　Ａ　−４（６）　＋
　第１３２７〜１４１７頁（１９７０）等に記載されて
いるもの等を用いる。

（実施例） 以下本発明を実施例により例証する。

本発明の樹脂〔Ａ〕の合成例１：（Ａ−１）ヘンシルメ
タクリレート９６ｇ、チオサリチル酸４ｇ及びトルエン
２００ｇの混合溶液を窒素気流下に温度７５°Ｃに加温
した。

２．２゛−アゾビスイソブチロニトリル（略称Ａ、Ｉ。

Ｂ、Ｎ、）　１．ｏｇを加え４時間反応した。更に、Ａ
、１．Ｂ。

Ｎ、　０．４ｇを加え２時間；その後、更にＡ、１．Ｂ
、Ｎｏ、２ｇを加え３時間攪拌した。得られた共重合体
の重量平均分子量（略称〜）は６．８　Ｘ　１０’であ
った。

（Ａ−１） 本発明の樹脂〔Ａ〕の合成例２〜１３　：　［Ａ−２１
〜［Ａ−１３］樹脂〔Ａ〕の合成例１において、ベンジ
ルメタクリレート９６ｇの代わりに下記表−１の単量体
を用いて、合成例１と同様にして各樹脂〔Ａ〕を合成し
た。各樹脂の重量平均分子量は６．０Ｘ１０’〜８Ｘ１
０”であった。

表 表 １ （続 き） 本発明の樹脂［Ａ］の合成例１４〜２４：　［Ａ−１４
１〜［Ａ−２４１４６（脂〔Ａ〕の合成例１において、
ヘンシルメタクリレート９６ｇ、チオサリチル酸４ｇの
代わりに下記表−２のメタクリレートおよびメルカプト
化合物を各々用い、又トルエン２００ｇの代わりにトル
エン１５０ｇ及びイソプロパツール５０ｇとした他は、
合成例１と同様にして反応して、各樹脂〔Ａ〕を合成し
た。

本発明の樹脂［＾］の合成例２５　：　［Ａ−２５１１
−ナフチルメタクリレート１００ｇ、　）ルエン１５０
ｇ及びイソプロパツール５０ｇの混合溶液を、窒素気流
下に温度８０°Ｃに加温した。

４．４゛−アゾビス（４−シアノ吉草酸）（略称Ａ、Ｃ
，Ｖ、）５．０ｇを加え５時間攪拌した。更ニＡ、Ｃ，
Ｖ。

１ｇを加え２時間、その後更にＡ、Ｃ，Ｖ、　１　ｇを
加え３時間攪拌した。得られた共重合体の重量平均分子
量は７．５Ｘ１０’であった。

（Ａ−２５） 本発明の樹脂［ＡＩ　の合成例２６　：　［Ａ−２６１
メチルメタクリレ一ト５０ｇ及び塩化メチレン１５０ｇ
の混合溶液を窒素気流下に一２０℃に冷却した。

直前に調製した、１０％１．１−ジフェニルヘキシルリ
チウムヘキサン溶液を５ｇ加え、５時間攪拌した。

これに二酸化炭素を流量１０Ｗ１７ｃｃで１０分間攪拌
下に流した後、冷却をやめて反応混合物が室温になるま
で、攪拌放置した。

次に、この反応混合物を、ＩＮ塩酸５０ｃｃをメタノー
ルｌｌ中に浮かした溶液中に再沈し、白色粉末を濾葉し
た。この粉末を中性になるまで水洗した後、減圧乾燥し
た。収量１８ｇで重量平均分子量６．５　ＸＩＯ’であ
った。

（Ａ−２６） ＣｂＨｓ　　　　　　Ｃ００ＣＩｈ 本発明の樹脂［ＡＩ　の合成例２７　：　［Ａ−２７１
ｎ−ブチルメタクリレート９５ｇ２チオグリコル酸４ｇ
及びトルエン２００ｇの混合溶液を、窒素気流下に温度
７５°Ｃに加温した。

Ａ、Ｃ，Ｖ、　１．０ｇを加え、６時間反応した後、Ａ
、　Ｉ。

Ｂ、Ｎ、　０．４ｇを加え３時間反応した。得られた共
重合体の〜は７．８Ｘ１０’であった。

（Ａ−２７） １ Ｈｓ マクロモノマ−（Ｍ）の合成例１：（Ｍ−１）トリフェ
ニルメチルメタ２リレー）Ｌｏｇ及びトルエン１００ｇ
の混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一２０℃に冷却
した。１．１−ジフェニルブチルリチウム０．０２ｇを
加え１０時間反応した。

更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート９０ｇ及び
トルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に１０時間反応した。

この混合物を０°Ｃにした後炭酸ガスを６０ＩＲ１／ａ
＋ｉｎの流量で３０分間通気し、重合反応を停止させた
。

得られた反応液を攪拌下に、温度２５°Ｃとし、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート６ｇを加え、更に、ジシ
クロへキシルカルボジイミド１０ｇ、４Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン０．２ｇ及び塩化メチレン３０ｇの混
合溶液を３０分間で滴下し、そのまま３時間攪拌した。

析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に、３０重量％
塩化水素エタノール溶液１０Ｉｄを加え１時間攪拌した
０次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分にな名まで
溶媒を留去した後、石油エーテル１ｊ２中に再沈した。

沈殿物を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、Ｆｌ
ｗ　６．５Ｘ１０’で収量５６ｇであった。

（Ｍ−１） Ｈａ マクロモノマ−（Ｍ）の合成例１（Ｍ−２）ヘンシルメ
タクリレート５ｇ、（テトラフェニルボルフイナート）
アルミニウムメチル０．０１　ｇ及び塩化メチレン６０
ｇの混合溶液を窒素気流下に温度３０°Ｃとした。これ
に３００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィルターを通
して２５ｃ＋ｓの距離から光照射し、１２時間反応した
。この混合物に更にブチルメタクリレート４５ｇを加え
、同様に８時間光照射した後、この反応混合物に４−ブ
ロモメチルスチレン５ｇを加え、３０分間攪拌し反応を
停止させた。

次にこの反応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温度２５℃で１
時間接触還元反応を行なった。

不溶物を濾別した後石油エーテル５００ｄ中に再沈し、
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量３３ｇ
でＦ１ｗ７Ｘ１０”であった。

（Ｍ−２） マクロモノマー（Ｍ）の合成例３：（Ｍ−３）４−ビニ
ルフェニルオキシトリメチルシラン２０ｇ及びトルエン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気し、０
°Ｃに冷却した。１．１−ジフェニル３−メチルペンチ
ルリチウムＯ，Ｉｇを加え、６時間攪拌した。更にこの
混合物に２−クロロ−６−メチルフェニルメタクリレー
ト８０ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下
に充分脱気した後、添加して８時間反応した。この反応
混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを３０
ｄ／ｓｉｎの流量で３０分間通気した後、温度１５°Ｃ
に冷却しメタクリル酸クロライド８ｇを３０分間で滴下
し、更にそのまま３時間攪拌した。

次にこの反応混合物に３０％塩化水素エタノール溶液１
０ｇを加え、２５°Ｃで１時間攪拌した後、石油エーテ
ル１！中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテル
３００ｍで２回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収
量５５ｇで〜７．８　Ｘ　１０”であった。

（Ｍ−３） マクロモノマー（Ｍ）の合成例４：　（Ｍ−４）トリフ
ェニルメチルアクリレ−日５ｇ及びトルエン１００ｇの
混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、２０°Ｃに冷却
した。

５ｅｃ−ブチルリチウム０．１ｇを加え１０時間反応し
た。

次に、この混合溶液に、スチレン８５ｇ及びトルエン１
００ｇの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添
加し１２時間反応した。この混合物を０゛Ｃにした後、
ヘンシルブロマイド８ｇを加え１時間反応し、温度２５
°Ｃで更に２時間反応させた。

この反応混合物に３０％塩水素含有エタノール溶液１０
ｇを加え、２時間攪拌した。不溶物を濾別後、ｎ−ヘキ
サンｌｌ中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。

得られた重合体の収量は５８ｇでＦ１ｗ４．５　Ｘ　１
０’であった。

マクロモノマー（Ｍ）の合成例５：　（Ｍ−５）フェニ
ルメタクリレート８０ｇ１ベンジル−Ｎ−ヒドロキシエ
チル−Ｎ−エチルジチオカーバメー）４．８ｇの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度６０℃に加温した
。これに４００−の高圧水銀灯で１０ＣＩＩの距離から
ガラスフィルターを通して、１０時間光照射し光重合し
た。これにアクリル酸２０ｇ及びメチルエチルケトン１
８０ｇを加えた後、窒素置換し再び１０時間光照射した
。

得られた反応混合物に、２−イソシアナートエチルメタ
クリレート６ｇを、温度３０℃で１時間で滴下し、更に
２時間攪拌した。

得られた反応物をヘキサン１．５１に再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体は、６８ｇ？’〜６．０×１０３
であった。

（Ｍ−５） 樹脂［Ｂ）の合成例１　：　（Ｂ−１）エチルメタクリ
レ−）８０ｇ、マクロモノマー（Ｍ−１）２０ｇ、トル
エン１５０ｇの混合溶液を窒素気流下に温度６５°Ｃに
加温した。２．２’−アゾビス（イソブチロニトリル）
　（ＡＩＢＮ）０．８ｇを加え４時間反応し更に３時間
毎にＡ、１．Ｂ、Ｎ　Ｏ，４ｇを加え反応した。

得られた共重合体の〜は８Ｘ１０’であった。

（Ｂ−１） ＣＨ３ｃｎｓ 樹脂ＣＢ）の合成例２：（Ｂ−２） ベンジルメタクリレート７０ｇ１マクロモノマー（Ｍ−
１）３０ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流
下に温度８５°Ｃに加温した。１．１’−アゾビス（シ
クロヘキサン−１−カルボニトリル）（Ａ、Ｂ、Ｃ。

Ｃ）１．０ｇを加え５時間反応し、更にＡ、Ｂ、Ｃ，Ｃ
，０，５ｇを加え５時間反応した０次にＡ、Ｂ、Ｃ，Ｃ
，０，４ｇを加え温度９０℃に加温して３時間反応した
。得られた共重合体の〜は１×１０Ｓであった。

（Ｂ−２） 樹脂〔Ｂ〕の合成例３〜１８　：　［Ｂ−３］〜［Ｂ−
１８］樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様の重合条件で、エチ
ルメタクリレートを他の単量体に代えて下記表３の共重
合体を合成した。得られた各重合体の〜は７Ｘ１０’〜
９Ｘ１０’であった。

表−３ ｘ　十ｙ　＋２０＝１００（重量比） 樹脂〔Ｂ］の合成例１９〜３５　：　［Ｂ−１９］〜［
Ｂ−３５１樹脂ＣＢ）の合成例２において、マクロモノ
マー（Ｍ−１）の代わりに他のマクロモノマー（Ｍ）を
用いた他は、合成例２と同様の重合条件で下記表−４の
共重合体を合成した。得られた各重合体の〜は７Ｘ１０
’〜１．２　ＸＩＯ’であった。

実施例１〜２及び比較例Ａ−Ｂ 樹脂（Ａ−２）６ｇ（固形分量として）、樹脂ＣＢ−１
）３４ｇ（固形分量として）、下記構造のシアニン色素
（１）　０．０１８ｇ、サリチル酸０．１０ｇ及びトル
エン３００ｇの混合物をボールミル中で３時間分散して
、感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に、乾
燥付着量が１８８／ｒｒｆとなる様に、ワイヤーバーで
塗布し、１１０℃で３０秒間乾燥し、ついで暗所で２０
℃６５％ＲＨの条件下で２４時間放置することにより、
電子写真感光材料を作製した。

シアニン色素〔１〕 実施例２ 実施例１において、樹脂（Ａ−２）６ｇの代わりに樹脂
［Ａ−４）６ｇを用いる以外は、実施例１と同様の操作
で、写真感光材料を作製した。

比較例Ａ： 実施例１において、結着樹脂として用いた樹脂ＣＢ−１
）３４ｇの代わりに、ポリ（エチルメタクリレート）　
　（ＰＭ２．４Ｘ１０’；樹脂（Ｒ−１））３４ｇを用
いる他は、実施例１と同様に操作して、電子写真感光材
料を作製した。

比較例Ｂ： 実施例１において結着樹脂として用いた樹脂ＣＥ−１３
３４ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ２）３４ｇを用い
た他は、実施例１と同様の操作で電子写真感光材料を作
製した。

比較用樹脂（Ｒ−２） 〜：　８　ＸＩＯ’　　　　　（１１ｔ比）これらの感
光材料の皮膜性（表面の平滑度）、静電特性、撮像性及
び環境条件を３０°Ｃ９８０％ＲＨとした時の撮像性を
調べた。更に、これらの感光材料をオフセットマスター
用原版として用いた時の光導電性の不惑脂化性（不感脂
化処理後の光導電層の水との接触角で表わす） れ、耐剛性等）を調べた。

以上の結果をまとめて、表 及び印刷性（地汚 ５に示す。

表 表−５に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。

注１）光導電層の平滑性： 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機（熊谷理工■
製）を用い、空気容量１　ｃｃの条件にて、その平滑度
（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定した。

注２）光導電層の機械的強度： 得られた感光材料面をヘイトン−１４型表面性試験材（
新東化学■製）を用いて荷重６０ｇ／ｃｄのものでエメ
リー紙（１１０００）で１０００回繰り返し探り摩耗粉
を取り除き感光層の重量減少から残膜率（％）を求め機
械的強度とした。

注３）静電特性： 温度２０°Ｃ１６５％ＲＨの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー（川口電機■製ペーパーアナライザ
ー５Ｐ−４２８型）を用イア−６ｋＶテ２０秒間コロナ
放電をさせた後、１０秒間放置し、この時の表面電位Ｖ
、。を測定した。次いでそのまま暗中で１８０秒間静置
した後の電位ν、。を測定し、１８０秒間暗減衰させた
後の電位の保持性即ち、暗減衰保持率（ＤＲＲ（χ）を
（Ｖ＋ｉｏ／Ｖ＋ｏ）　ｘｌＯＯ（％）で求めた。

又コロナ放電により光導電層表面を−５００Ｖに帯電さ
せた後、波長７８５ｒ＋＋ｗの単色光で照射し、表面電
位（Ｖｉａ）が１／１０に減衰するまでの時間を求め、
これから露光量Ｅ１／、。（ｅｒｇ　／ｃｊ）を算出す
る。

更にＥｌ／＋６測定と同様にコロナ放電により一５００
Ｖに帯電させた後、波長７８５ｔ＋＋ｗの単色光で照射
し、表面電位（ｖｌ。）が１八。。に減衰するまでの時
間を求めこれから露光量Ｅｌ／ｌ。。（ｅｒｇ／ｃＪ）
を算出する。

注４）撮像性： 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した。

次に一５ｋＶで帯電し、光源として２．ｈＷ出力のガリ
ウムーアルミニウムーヒ素、半導体レーザー（発振波長
７８０ｎｍ　）を用いて、感光材料表面上で５０ｅｒｇ
／ｃ１ｉの照射量下、ピッチ２５．ｃｍ及びスキャニン
グ速度３３０ｍ／ｓｅｃのスピード露光後液体現像剤と
して、ＥＬＰ−Ｔ　　（富士写真フィルム■製）を用い
て現像し、定着することで得られた複写画像（カブリ、
画像の画質）を目視評価した。

盪像時の環境条件は２０℃６５％ＲＨと３０°Ｃ８０％
ＲＨで実施した。複写原稿として、ワープロの文字及び
ワラ版紙の文字を切り抜いて貼り込んだものを用いた。

注５）水との接触角： 各感光材料を不感脂化処理液ＥＬＰ−ＥＸ　（富士写真
フィルム■製）を蒸留水で２倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセンサーに１回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水２μｌの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。

注６）耐刷性 各感光材料を、上記性４）と同条件で、製版して、トナ
ー画像を形成し、上記性５）と同条件で不感脂化処理し
、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
（桜井製作所■製オリバー５２型）にかけ、印刷物の非
画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生しないで印
刷できる枚数を示す（印刷枚数が多い程、耐剛性が良好
なことを表わす）。

表−５に示す様に、本発明の各感光材料は、光導電層の
平滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像
も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が１０度以下と小さく、充分に親水化
されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地汚れ
を観察しても地汚れは全く認められなかった。本発明の
感光材料で実施例２に示す様な、特定の置換基を有する
メタクリレート成分含有の樹脂〔Ａ〕を共存すると、更
に電子写真特性（特に、感度：　Ｅｌ／ｌ。、Ｅｌ／ｌ
。。）が著しく良化した。

又比較例Ａ及びＢは、Ｄ、　Ｒ，Ｒ，が低く、且つＥ、
７１゜も大きくなってしまい、更に、高温・高温の条件
下では、Ｄ、Ｒ，Ｒ，ＥＩ／ｌ。の低下傾向が見られた
。又、Ｅ１７１゜。は更に低下が大きくなった。Ｅｌ／
Ｉ。。値は、実際の撮像性において、露光後、非画像部
（既に露光された部位）にどれだけの電位が残っている
かを示すものであり、この値が小さい程現像後の非画像
部の地汚れが生じなくなる事を示す。

具体的には一１０Ｖ以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはＶ＊　　ＩＯＶ以下とするために、
どれだけ露光量が必要となるかということで、半導体レ
ーザー光によるスキャニング露光方式では、小さい露光
量で■１を一１０Ｖ以下にすることは、複写機の光学系
の設計上（装置のコスト、光学系光路の精度等）非常に
重要なことである。

この事より、露光照射量を少し少なくした装置で実際に
逼像すると、比較例Ａ及びＢの感光材料は、特ムこ高温
高温で非画像部に地力プリが発生してしまった。

又、オフセットマスター原版として用いた場合、各感光
材料から得られた原版は、いずれも１０”以下と小さく
充分に親水化されていた。しかし、実際に製版後の原版
を不感脂化処理して印刷した所、地汚れのない鮮明な印
刷物を得ることができるものは、本発明の感光材料のみ
であった。比較例Ａ及びＢは、版上の地力プリそのまま
印刷物に発生したり、あるいは、原稿の貼り込み跡が非
画像部にカプリとして発生した。

又、本発明の原版は１万枚まで鮮明な印刷物を得ること
ができた。

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られる
。

実施例３〜１９ 実施例１において、樹脂（Ａ−２）及び樹脂（Ｂ−１）
に代えて、下記表−６の各樹脂〔Ａ〕各樹脂ＣＢ）に代
えた他は、実施例１と同様に操作して、各電子写真感光
体を作製した。

表 ６ 静電特性は（３０℃、８０χＲＨ） の条件下での値を示す。

又、オフセットマスター原版として用いて、実施例１と
同様にして印刷した所、いずれも１万枚以上印刷するこ
とができる。

以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。

実施例２０〜２７ 実施例１において結着樹脂として下記表−７の樹脂〔Ａ
〕６．５ｇ及び各樹脂〔Ｂ〕３３．５ｇに代え、又、シ
アニン色素（Ｉ　）　０．０２ｇの代わりに下記構造の
色素（Ｕ　）　０．０１８ｇに代えた他は、実施例１と
同様の条件で電子写真感光材料を作製した。

色素（ｎ） （しｔＩｔ）、＋Ｕ。

表 本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の（３０°
Ｃ−８０％ＲＨ）の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。

更に、これをオフセットマスターの原版として用いて印
刷した所、地力ブリのない鮮明な画質の印刷物を１万枚
以上印刷できた。

実施例２８及び比較例Ｃ−Ｄ 樹脂（Ａ−１３６，５ｇ　（固形分量として）、樹脂（
Ｂ　−９）　３３．５ｇ　（固形分量として）、酸化亜
鉛２００ｇ、ウラニン０．０３　ｇ　、ローズヘンガ、
ル０．０７５ｇ。

ブロムフェノールブルー０．０４５ｇ、無水フタル酸０
．１ｇ及ヒｌ−ルエン２４０ｇの混合物をボールミル中
で３時間分散した。これを導電処理した紙に、乾燥付着
量２０ｇ／ｒｒｆとなる様にワイヤーバーで塗布し１１
０°Ｃで３０秒間加熱した。次いで２０°Ｃ１６５％Ｒ
Ｈノ条件下で２４時間放置することにより電子写真感光
材料を作製した。

比較例Ｃ 実施例２８において、樹脂ＣＢ　−９）　３３．５ｇの
代わりに前記比較例Ａで用いた樹脂ＣＲ−１）３３．５
ｇを用いた他は、実施例２８と同様にして電子写真感光
材料を作製した。

比較例り 実施例２８において、樹脂ＣＢ　−９）　３３．５ｇの
代わりに前記比較例Ｂで用いた樹脂ＣＲ−２）３３．５
ｇを用いた他は、実施例２日と同様にして、電子写真感
光材料を作製した。

これらの感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、膜強度、
静電特性、撮像性及び環境条件を３０″ｃ８０％ＲＨと
した時の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオ
フセットマスター用原版として用いた時の光導電性の不
感脂化性（不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で
表わす）及び印刷性（地汚れ、耐剛性等）を調べた。

以上の結果をまとめて、表−８に示す。

表 但し、静電特性及び撮像性は以下の通りにして行なった
。

注７）静電特性： 温度２０℃、６５％ＲＨの暗室中で、各感光材料にペー
パーアナライザー（川口電機■製ペーパーアナライザー
Ｓ　Ｐ−４２８型）を用いて６Ｋｖで２０秒間コロナ放
電をさせた後、１０秒間放置し、この時の表面電位■１
゜を測定した０次いでそのまま暗中で６０秒間静置した
後の電位Ｖ、。を測定し、６０秒間暗減衰させた後の電
位の保持性、即ち、暗減衰保持率（ＤＲＲ（Ｘ）　）を
（Ｖ？＠／Ｌｌｌ）　Ｘ１００（％）で求めた。又コロ
ナ放電により光導電層表面を一５００■に帯電させた後
、該光導電層表面を照度２．０ルツクスの可視光で照射
し、表面電位（ｖｌ。）が１７１０に減衰するまでの時
間を求め、これら露光量Ｅ、／１゜（ルックス・秒）を
算出する＊　Ｅ＋７＋ｏｏ（１ｕｘ、５ｅｃ）は、Ｅｌ
／１１と同様に、コロナ数帯で一５００ｖに帯電後、光
照射し、表面電位（Ｖ、。）が１／１００に減衰するま
での時間を求め、これから露光量Ｅ１７１６゜（ｌｕｘ
・５ｅｃ）を算出する。

注８）　撮像性 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自
動製版機ＥＬＰ−４０４Ｖ　（富士写真フィルム■製）
でＥＬＰ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像（カプリ、画像の画質）を目視評価した。撮像時
の環境条件は、２０℃６５％Ｒ１１（１）と３０℃８０
％ＲＨ（Ｉｆ）で実施した。複写画像として、ワープロ
文字及びワラ板紙の文字を切り抜いて貼り込んだ原稿を
用いた。

本発明の感光材料は、光導電層の平滑性・膜強度とも充
分であり静電特性も、環境条件の変動に対しても、値の
変化が殆どな（、実際の複写画像も、安定して良好な、
地力ブリのない鮮明な画像が得られた。一方、比較例Ｃ
及びＤは、本発明の感光材料に比べ静電特性が低下し、
特に、Ｌｚ＋ｏ。

の環境条件での変動に差が生じた。実際の複写画像でも
、高温高温条件下で細線のカスレや地汚れの発生が見ら
れる欅になった。

一方、各感光材料をオフセット印刷用原版として用いて
印刷した所、比較例Ｃ及びＤは、刷り出しから地汚れが
発生してしまった０本発明の材料は、１万枚以上印刷し
ても、印刷物の画像は、地汚れのない鮮明な画像のもの
であった。

以上から、本発明の感光材料のみが光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。

実施例２９〜３４ 実施例２８において、樹脂（Ａ−１）及び樹脂（［３−
９）の代わりに下記表−９の各樹脂〔Ａ〕：　６．Ｏｇ
　（固形分量として）及び樹脂〔Ｂ〕　：３４．０ｇ（
固形分量として）を各々用いた他は、実施例２８と同様
にして、各電子写真感光材料を作製した。

表 本発明の各感光材料は帯電性、暗電荷保持率、光感度に
優れ、実際の複写画像も高温高温（３０℃、８０％ＲＨ
）の過酷な条件においても地力プリの発生や細線飛びの
発生等のない鮮明な画像を与えた。

更に、オフセットマスター原版として印刷した所、非画
像部に地力ブリのない、鮮明な画像の印刷物を１万枚以
上印刷することができた。

（発明の効果） 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャニング露光方式に有効である。

（ばか３名）

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有する
   光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
   が、下記で表わされる結着樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種
   及び結着樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有する事を特
   徴とする電子写真感光体。 結着樹脂〔Ａ〕： １×１０＾３〜２×１０＾４の重量平均分子量を有し、
   下記一般式（ I ）で示される重合成分を３０重量％以
   上含有し、且つ重合体主鎖の片末端に−ＰＯ＿３Ｈ＿２
   基、−ＳＯ＿３Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−ＯＨ基、▲数式
   、化学式、表等があります▼基｛Ｒは炭化水素基又は−
   ＯＲ′基（Ｒ′は炭化水素基を示す）を示す｝及び環状
   酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の酸性基
   を結合して成る樹脂。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式（ I ）中、ａ＿１、ａ＿２は各々、水素原子、ハロ
   ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。Ｒ＿１は
   炭化水素基を表わす。 結着樹脂〔Ｂ〕： −ＰＯ＿３Ｈ＿２基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ＿３Ｈ基、
   フェノール性ＯＨ基、▲数式、化学式、表等があります
   ▼基｛Ｒは炭化水素基又は−ＯＲ′基（Ｒ′は炭化水素
   基）を示す｝及び環状酸無水物含有基から選択される少
   なくとも１つの酸性基を含有する重合体成分を少なくと
   も１種含有するＡブロックと、下記一般式（II）で示さ
   れる重合体成分を少なくとも含有するＢブロックとから
   構成されるＡ−Ｂブロック共重合体のＢブロックの重合
   体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成る重量平
   均分子量１×１０＾３〜２×１０＾４の一官能性マクロ
   モノマー（Ｍ）を少なくとも１種共重合成分として含有
   して成る重量平均分子量３×１０＾４〜１×１０＾６の
   グラフト型共重合体。 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式（II）中、ｂ＿１及びｂ＿２は各々水素原子、ハロ
   ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。Ｘは−Ｃ
   ＯＯ−、−ＯＣＯ−、▲数式、化学式、表等があります
   ▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ｌ＿１、ｌ＿２は
   １〜３の整数を表わす）、−Ｏ−、−ＳＯ＿２−、−Ｃ
   Ｏ−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
   学式、表等があります▼、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯ
   ＮＨＣＯＮＨ−又は▲数式、化学式、表等があります▼
   を表わす。（ここでＲ＿２＿３は水素原子又は炭化水素
   基を表わす）。 Ｒ＿２＿１は、炭化水素基を表わす。但し、Ｘ＿１が▲
   数式、化学式、表等があります▼を表わす場合、Ｒ＿２
   ＿１は水素原子、又は炭化水素基を表わす。〕
2. （２）該樹脂〔Ａ〕において、一般式（ I ）で示され
   る共重合成分として、下記一般式（ I ａ）及び（ I ｂ
   ）で示される、アリール基含有のメタクリレート成分の
   うちの少なくとも１つを含有することを特徴とする請求
   項（１）記載の電子写真感光体。 一般式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式（ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式〔 I ａ〕および〔 I ｂ〕中、Ａ＿１及びＡ＿２は
   互いに独立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素
   基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＤ＿１又は−ＣＯＯＤ
   ＿２（Ｄ＿１及びＤ＿２は各々炭素数１〜１０の炭化水
   素基を示す）を表わす。但し、Ａ＿１とＡ＿２が共に水
   素原子を表わすことはない。 Ｂ＿１及びＢ＿２は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合
   する、単結合又は連結原子数１〜４個の連結基を表わす
   。〕
3. （３）該結着樹脂〔Ｂ〕において、該マクロモノマー（
   Ｍ）とともにグラフト型共重合体を構成する一官能性単
   量体として、下記一般式（III）で表わされる単量体を
   少なくとも１種含有する事を特徴とする請求項（１）又
   は（２）記載の電子写真感光体。 一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式（III）中、ｂ＿３、ｂ＿４、Ｘ＿２及びＲ＿２＿
   ２は式（II）のｂ＿１、ｂ＿２、Ｘ＿１及びＲ＿２＿１
   とそれぞれ同様の内容を表わす。〕